JPH0649529B2 - 真空室内における物体の搬送方法 - Google Patents
真空室内における物体の搬送方法Info
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- JPH0649529B2 JPH0649529B2 JP61281915A JP28191586A JPH0649529B2 JP H0649529 B2 JPH0649529 B2 JP H0649529B2 JP 61281915 A JP61281915 A JP 61281915A JP 28191586 A JP28191586 A JP 28191586A JP H0649529 B2 JPH0649529 B2 JP H0649529B2
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- Japan
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- wafer
- vacuum chamber
- magnetic levitation
- transfer arm
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- Non-Mechanical Conveyors (AREA)
- Warehouses Or Storage Devices (AREA)
- Feeding Of Articles By Means Other Than Belts Or Rollers (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、真空室内における物体の搬送方法、特に真空
プロセス装置における半導体ウエハ（以下、単にウエハ
という）の搬送方法に関する。
プロセス装置における半導体ウエハ（以下、単にウエハ
という）の搬送方法に関する。
（従来の技術） 公知のウエハ真空プロセス装置においては、ウエハの搬
送（例えば、ステージからステージへの）はベルトによ
り行なわれ、そして、ウエハの、ステージからベルナ上
への受渡し又はベルトからステージへの受渡しは、ステ
ージ又はベルトの昇降により行なわれている。
送（例えば、ステージからステージへの）はベルトによ
り行なわれ、そして、ウエハの、ステージからベルナ上
への受渡し又はベルトからステージへの受渡しは、ステ
ージ又はベルトの昇降により行なわれている。
（発明が解決しようとする問題点） 前記従来公知のものにおいては、ステージ又はベルトの
昇降装置を必要とし、装置の構造が複雑になるという欠
点がある。本発明の目的は、かかる欠点のないウエハな
どの搬送方法を提供することにある。また、本発明は、
ウエハなどの搬送過程におけるダストの発生が著しく減
少するウエハなどの搬送方法を提供することを目的とす
る。
昇降装置を必要とし、装置の構造が複雑になるという欠
点がある。本発明の目的は、かかる欠点のないウエハな
どの搬送方法を提供することにある。また、本発明は、
ウエハなどの搬送過程におけるダストの発生が著しく減
少するウエハなどの搬送方法を提供することを目的とす
る。
（問題点を解決するための手段） 上記した目的を達成するために、本発明の真空室内にお
ける物体の搬送方法は、真空室外に設けた電磁石の作用
で真空室内で浮上する磁気浮上体に搬送用アームを取り
付け、前記磁気浮上体を垂直方向に動かすことにより搬
送アームで搬送すべき物体を保持し、かつ、磁気浮上体
を水平方向に動かすことにより搬送アームで保持した物
体を移動させ、所望の位置で磁気浮上体を再度動かすこ
とにより搬送すべき物体を載置するようにした真空室内
における物体の搬送方法において、磁気浮上体の垂直方
向の移動を前記電磁石を制御して行うことを特徴とする
ものである。
ける物体の搬送方法は、真空室外に設けた電磁石の作用
で真空室内で浮上する磁気浮上体に搬送用アームを取り
付け、前記磁気浮上体を垂直方向に動かすことにより搬
送アームで搬送すべき物体を保持し、かつ、磁気浮上体
を水平方向に動かすことにより搬送アームで保持した物
体を移動させ、所望の位置で磁気浮上体を再度動かすこ
とにより搬送すべき物体を載置するようにした真空室内
における物体の搬送方法において、磁気浮上体の垂直方
向の移動を前記電磁石を制御して行うことを特徴とする
ものである。
（実施例） 以下、本発明に係る搬送方法の一実施例を添付図面につ
いて説明する。
いて説明する。
第１図は、本発明の搬送方法の一実施例を示す説明図で
ある。図中、１はマニユピレータ、２は該マニユピレー
タ１内の真空室と連通する直線通路３内を浮上走行する
磁気浮上体である。磁気浮上体２は、真空室外に設けら
れそしてリニアパルスモータにより駆動される案内子
４，４により、直線通路３内を浮上走行する。５は真空
室内に設けたウエハカセツト、６は真空室内に設けたウ
エハステージ、７はウエハカセツト５内において重積状
に支持されているウエハ、８は磁気浮上体２に一端を固
着され磁気浮上体２の直線運動方向にのびる搬送用アー
ムである。直径７６〜２００mm位のウエハを真空室内の
ウエハカセツト（又はステージ）からステージ上に搬送
する場合、搬送用アーム８としては厚さ0.5〜１０mm、
長さ３００〜１８００mmの金属又は合成樹脂製長尺材が
用いられる。
ある。図中、１はマニユピレータ、２は該マニユピレー
タ１内の真空室と連通する直線通路３内を浮上走行する
磁気浮上体である。磁気浮上体２は、真空室外に設けら
れそしてリニアパルスモータにより駆動される案内子
４，４により、直線通路３内を浮上走行する。５は真空
室内に設けたウエハカセツト、６は真空室内に設けたウ
エハステージ、７はウエハカセツト５内において重積状
に支持されているウエハ、８は磁気浮上体２に一端を固
着され磁気浮上体２の直線運動方向にのびる搬送用アー
ムである。直径７６〜２００mm位のウエハを真空室内の
ウエハカセツト（又はステージ）からステージ上に搬送
する場合、搬送用アーム８としては厚さ0.5〜１０mm、
長さ３００〜１８００mmの金属又は合成樹脂製長尺材が
用いられる。
第２図は、第１図に示す実施例におけるウエハの搬送過
程を示す説明図である。第２図（イ）は磁気浮上体２及
び搬送用アーム８から成る搬送具９がマニユピレータ１
の直線通路内において浮上静止している状態を示す。同
図（ロ）は、真空室外に設けられリニアモータにより駆
動される案内子４，４により、磁気浮上体２が前進さ
れ、搬送用アーム８の先端部がウエハカセツト５内の被
搬送ウエハ７の下側に挿入された状態を示す。同図
（ハ）は、真空室外に設けた浮上制御回路（図示されて
いない）の制御により磁気浮上体を上昇し、搬送アーム
上にウエハをのせた状態を示す。搬送用アーム上にウエ
ハがのるまでの時間、すなわち、搬送用アームの上昇時
間は数秒と長くし、搬送用アームとウエハの接触による
塵埃の発生を防止する。同図（ニ）は、搬送用アーム８
を前進させ、搬送用アームに支持されたウエハをウエハ
ステージ６上に位置させた状態を示す。同図（ホ）は、
浮上制御回路の制御により搬送用アーム８を下降させ、
搬送用アーム上のウエハをウエハステージ上にのせた状
態を示す。搬送用アーム８の下降も、ゆつくりと行ない
塵埃の発生を防止するようにする。ついで、搬送用アー
ムは同図（イ）の状態に復帰される。
程を示す説明図である。第２図（イ）は磁気浮上体２及
び搬送用アーム８から成る搬送具９がマニユピレータ１
の直線通路内において浮上静止している状態を示す。同
図（ロ）は、真空室外に設けられリニアモータにより駆
動される案内子４，４により、磁気浮上体２が前進さ
れ、搬送用アーム８の先端部がウエハカセツト５内の被
搬送ウエハ７の下側に挿入された状態を示す。同図
（ハ）は、真空室外に設けた浮上制御回路（図示されて
いない）の制御により磁気浮上体を上昇し、搬送アーム
上にウエハをのせた状態を示す。搬送用アーム上にウエ
ハがのるまでの時間、すなわち、搬送用アームの上昇時
間は数秒と長くし、搬送用アームとウエハの接触による
塵埃の発生を防止する。同図（ニ）は、搬送用アーム８
を前進させ、搬送用アームに支持されたウエハをウエハ
ステージ６上に位置させた状態を示す。同図（ホ）は、
浮上制御回路の制御により搬送用アーム８を下降させ、
搬送用アーム上のウエハをウエハステージ上にのせた状
態を示す。搬送用アーム８の下降も、ゆつくりと行ない
塵埃の発生を防止するようにする。ついで、搬送用アー
ムは同図（イ）の状態に復帰される。
ウエハをウエハステージ上からウエハカセツトに搬送す
る場合には、搬送用アーム８を前記の逆に作動させれば
よい。
る場合には、搬送用アーム８を前記の逆に作動させれば
よい。
前記実施例では、ウエハカセツトとウエハステージ間に
おけるウエハの搬送方法を示したが、この方法は、ウエ
ハカセツトとウエハカセツト間、ウエハステージとウエ
ハステージ間におけるウエハの搬送にも、もちろん同様
に使用可能である。また、この方法は、３個以上のウエ
ハステージ間、ウエハカセツト間、又はウエハステージ
とウエハカセツト間のウエハの搬送にも使用可能であ
る。
おけるウエハの搬送方法を示したが、この方法は、ウエ
ハカセツトとウエハカセツト間、ウエハステージとウエ
ハステージ間におけるウエハの搬送にも、もちろん同様
に使用可能である。また、この方法は、３個以上のウエ
ハステージ間、ウエハカセツト間、又はウエハステージ
とウエハカセツト間のウエハの搬送にも使用可能であ
る。
（発明の効果） 本発明の方法によれば、ウエハ搬送のために動かされる
磁気浮上体及び搬送用アームが、真空室内を無接触で動
くため、ウエハ搬送に伴う塵埃の発生を著しく減少させ
ることができる。
磁気浮上体及び搬送用アームが、真空室内を無接触で動
くため、ウエハ搬送に伴う塵埃の発生を著しく減少させ
ることができる。
本発明の方法によれば、ウエハステージの昇降機構が不
要になるので、装置の構造を簡単にすることができる。
また、搬送用アームの上下移動は磁気浮上装置により行
なわれるので、そのための追加の装置を必要としない。
要になるので、装置の構造を簡単にすることができる。
また、搬送用アームの上下移動は磁気浮上装置により行
なわれるので、そのための追加の装置を必要としない。
第１図は本発明に係る半導体ウエハ等の搬送方法の一実
施例の説明図、第２図は第１図に示す実施例におけるウ
エハの搬送過程を示す説明図である。 １：マニピユレータ ２：磁気浮上体 ３：直線通路 ４：案内子 ５：ウエハカセツト ６：ウエハステージ ７：ウエハ ８：搬送用アーム
施例の説明図、第２図は第１図に示す実施例におけるウ
エハの搬送過程を示す説明図である。 １：マニピユレータ ２：磁気浮上体 ３：直線通路 ４：案内子 ５：ウエハカセツト ６：ウエハステージ ７：ウエハ ８：搬送用アーム
Claims (1)
- 【請求項１】真空室外に設けた電磁石の作用で真空室内
で浮上する磁気浮上体に搬送用アームを取り付け、前記
磁気浮上体を垂直方向に動かすことにより搬送アームで
搬送すべき物体を保持し、かつ、磁気浮上体を水平方向
に動かすことにより搬送アームで保持した物体を移動さ
せ、所望の位置で磁気浮上体を再度動かすことにより搬
送すべき物体を載置するようにした真空室内における物
体の搬送方法において、磁気浮上体の垂直方向の移動を
前記電磁石を制御して行うことを特徴とする真空室内に
おける物体の搬送方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61281915A JPH0649529B2 (ja) | 1986-11-28 | 1986-11-28 | 真空室内における物体の搬送方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61281915A JPH0649529B2 (ja) | 1986-11-28 | 1986-11-28 | 真空室内における物体の搬送方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63139844A JPS63139844A (ja) | 1988-06-11 |
| JPH0649529B2 true JPH0649529B2 (ja) | 1994-06-29 |
Family
ID=17645726
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61281915A Expired - Fee Related JPH0649529B2 (ja) | 1986-11-28 | 1986-11-28 | 真空室内における物体の搬送方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0649529B2 (ja) |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63274308A (ja) * | 1987-04-28 | 1988-11-11 | Mitsubishi Electric Corp | 磁気浮上搬送装置 |
| US5397212A (en) * | 1992-02-21 | 1995-03-14 | Ebara Corporation | Robot with dust-free and maintenance-free actuators |
| JP4354039B2 (ja) * | 1999-04-02 | 2009-10-28 | 東京エレクトロン株式会社 | 駆動装置 |
| US9524896B2 (en) | 2006-09-19 | 2016-12-20 | Brooks Automation Inc. | Apparatus and methods for transporting and processing substrates |
| US8293066B2 (en) | 2006-09-19 | 2012-10-23 | Brooks Automation, Inc. | Apparatus and methods for transporting and processing substrates |
| US7901539B2 (en) | 2006-09-19 | 2011-03-08 | Intevac, Inc. | Apparatus and methods for transporting and processing substrates |
| US8419341B2 (en) | 2006-09-19 | 2013-04-16 | Brooks Automation, Inc. | Linear vacuum robot with Z motion and articulated arm |
| EP2187433B1 (en) * | 2008-11-12 | 2018-10-24 | Intevac, Inc. | Apparatus and method for transporting and processing substrates |
| US10679853B2 (en) | 2018-02-08 | 2020-06-09 | International Business Machines Corporation | Self-aligned, over etched hard mask fabrication method and structure |
| US11056722B2 (en) * | 2018-02-08 | 2021-07-06 | International Business Machines Corporation | Tool and method of fabricating a self-aligned solid state thin film battery |
| CN115116915A (zh) * | 2022-07-21 | 2022-09-27 | 浙江艾微普科技有限公司 | 磁控晶圆传输机构及传输方法 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6036222A (ja) * | 1983-08-05 | 1985-02-25 | Irie Koken Kk | 高真空中の物品搬送装置 |
| JPS60170401A (ja) * | 1984-02-14 | 1985-09-03 | Toshiba Corp | 浮上式搬送装置 |
| JPS61217442A (ja) * | 1985-03-20 | 1986-09-27 | Fujitsu Ltd | ウエ−ハ插入装置 |
-
1986
- 1986-11-28 JP JP61281915A patent/JPH0649529B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63139844A (ja) | 1988-06-11 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
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