JPH0650339A - 直動式エアベアリングのロック機構 - Google Patents
直動式エアベアリングのロック機構Info
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- JPH0650339A JPH0650339A JP4092732A JP9273292A JPH0650339A JP H0650339 A JPH0650339 A JP H0650339A JP 4092732 A JP4092732 A JP 4092732A JP 9273292 A JP9273292 A JP 9273292A JP H0650339 A JPH0650339 A JP H0650339A
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- slider
- piezo elements
- rail member
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16C—SHAFTS; FLEXIBLE SHAFTS; ELEMENTS OR CRANKSHAFT MECHANISMS; ROTARY BODIES OTHER THAN GEARING ELEMENTS; BEARINGS
- F16C29/00—Bearings for parts moving only linearly
- F16C29/02—Sliding-contact bearings
- F16C29/025—Hydrostatic or aerostatic
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16C—SHAFTS; FLEXIBLE SHAFTS; ELEMENTS OR CRANKSHAFT MECHANISMS; ROTARY BODIES OTHER THAN GEARING ELEMENTS; BEARINGS
- F16C29/00—Bearings for parts moving only linearly
- F16C29/10—Arrangements for locking the bearings
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16C—SHAFTS; FLEXIBLE SHAFTS; ELEMENTS OR CRANKSHAFT MECHANISMS; ROTARY BODIES OTHER THAN GEARING ELEMENTS; BEARINGS
- F16C32/00—Bearings not otherwise provided for
- F16C32/06—Bearings not otherwise provided for with moving member supported by a fluid cushion formed, at least to a large extent, otherwise than by movement of the shaft, e.g. hydrostatic air-cushion bearings
- F16C32/0603—Bearings not otherwise provided for with moving member supported by a fluid cushion formed, at least to a large extent, otherwise than by movement of the shaft, e.g. hydrostatic air-cushion bearings supported by a gas cushion, e.g. an air cushion
- F16C32/0614—Bearings not otherwise provided for with moving member supported by a fluid cushion formed, at least to a large extent, otherwise than by movement of the shaft, e.g. hydrostatic air-cushion bearings supported by a gas cushion, e.g. an air cushion the gas being supplied under pressure, e.g. aerostatic bearings
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Braking Arrangements (AREA)
- Magnetic Bearings And Hydrostatic Bearings (AREA)
- Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 Ｘスライダをガイドレールに対して短時間で
確実にロックする。 【構成】 ピエゾ素子４２Ａ乃至４２ＤをＸスライダ１
４の上面１４ａで且つＸスライダ１４の移動方向の両側
に配置し、各先端部を、ピエゾ素子４２Ａ乃至４２Ｄが
駆動した際にガイドレール１２の上面部１２ａに押圧当
接可能な隙間をもって配設する。一方、ピエゾ素子４２
Ｅ乃至４２ＨをＸスライダ１４の下面１４ｂで且つピエ
ゾ素子４２Ａ乃至４２Ｄに対向した位置に配置し、各先
端部を、ピエゾ素子４２Ｅ乃至４２Ｈが駆動した際にガ
イドレール１２の下面部１２ｂに押圧当接可能な隙間を
もって配設する。コントローラ４５は、Ｘスライダ１４
がガイドレール１２における停止位置で停止した時に、
ケーブル４４Ａ乃至４４Ｈを介してピエゾ素子４２Ａ乃
至４２Ｈに電圧を印加しそれらを逆圧電効果によって駆
動させると共に、Ｘスライダ１４をガイドレール１２に
固定する。
確実にロックする。 【構成】 ピエゾ素子４２Ａ乃至４２ＤをＸスライダ１
４の上面１４ａで且つＸスライダ１４の移動方向の両側
に配置し、各先端部を、ピエゾ素子４２Ａ乃至４２Ｄが
駆動した際にガイドレール１２の上面部１２ａに押圧当
接可能な隙間をもって配設する。一方、ピエゾ素子４２
Ｅ乃至４２ＨをＸスライダ１４の下面１４ｂで且つピエ
ゾ素子４２Ａ乃至４２Ｄに対向した位置に配置し、各先
端部を、ピエゾ素子４２Ｅ乃至４２Ｈが駆動した際にガ
イドレール１２の下面部１２ｂに押圧当接可能な隙間を
もって配設する。コントローラ４５は、Ｘスライダ１４
がガイドレール１２における停止位置で停止した時に、
ケーブル４４Ａ乃至４４Ｈを介してピエゾ素子４２Ａ乃
至４２Ｈに電圧を印加しそれらを逆圧電効果によって駆
動させると共に、Ｘスライダ１４をガイドレール１２に
固定する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は直動式エアベアリングの
ロック機構に係り、特に予備回路付半導体デバイスの加
工装置に設けられた直動式エアベアリングに適用される
直動式エアベアリングのロック機構に関する。
ロック機構に係り、特に予備回路付半導体デバイスの加
工装置に設けられた直動式エアベアリングに適用される
直動式エアベアリングのロック機構に関する。
【０００２】
【従来の技術】予備回路付半導体デバイスの加工装置
は、半導体ウエハ上に形成されたＬＳＩ、ＶＬＳＩ等の
欠陥回路を救済する為の予備回路を有する半導体デバイ
スにおいて、この半導体デバイス内の各回路部を接続す
るリンク部のうち欠陥回路を含む回路部を他の回路と接
続するリンク部の位置を割り出し、このリンク部をＹＡ
Ｇレーザ等のレーザ光で切断して前記欠陥回路を予備回
路に置換させるものである。
は、半導体ウエハ上に形成されたＬＳＩ、ＶＬＳＩ等の
欠陥回路を救済する為の予備回路を有する半導体デバイ
スにおいて、この半導体デバイス内の各回路部を接続す
るリンク部のうち欠陥回路を含む回路部を他の回路と接
続するリンク部の位置を割り出し、このリンク部をＹＡ
Ｇレーザ等のレーザ光で切断して前記欠陥回路を予備回
路に置換させるものである。
【０００３】この種の加工装置としてメモリリペア装置
がある。メモリリペア装置には、直動式エアベアリング
が設けられており、この直動式エアベアリングによっ
て、レーザ光源から射出されたＹＡＧレーザ光を所定の
リンク部に照射させることができる。図３に従来の直動
式エアベアリング１０の実施例を示す。この直動式エア
ベアリング１０は、ガイドレール１２に沿ってＸスライ
ダ１４をＸ方向に移動させると共に、Ｙスライダ１６を
Ｘスライダ１４に対してＹ方向に移動させることによっ
て、Ｙスライダ１６に取り付けたレンズ１８を移動さ
せ、レーザ光源２０から射出したＹＡＧレーザ光２２を
全反射鏡２４、２６及び前記レンズ１８を介して半導体
ウエハ２８上の所定のリンク部に照射させることができ
る。
がある。メモリリペア装置には、直動式エアベアリング
が設けられており、この直動式エアベアリングによっ
て、レーザ光源から射出されたＹＡＧレーザ光を所定の
リンク部に照射させることができる。図３に従来の直動
式エアベアリング１０の実施例を示す。この直動式エア
ベアリング１０は、ガイドレール１２に沿ってＸスライ
ダ１４をＸ方向に移動させると共に、Ｙスライダ１６を
Ｘスライダ１４に対してＹ方向に移動させることによっ
て、Ｙスライダ１６に取り付けたレンズ１８を移動さ
せ、レーザ光源２０から射出したＹＡＧレーザ光２２を
全反射鏡２４、２６及び前記レンズ１８を介して半導体
ウエハ２８上の所定のリンク部に照射させることができ
る。
【０００４】前記Ｘスライダ１４及びＹスライダ１６
は、図示しない位置決め制御装置で駆動制御されたＤＣ
サーボモータの駆動力によって移動量が各々制御されて
いる。尚、符号３０は、前記半導体ウエハ２８をその表
面上に吸着固定する吸着テーブルである。また、符号３
２、３２…は、ガイドレール１２とＸスライダ１４との
隙間に圧力エアを供給する圧力エア供給ホースであり、
この圧力エアによってＸスライダ１４がガイドレール１
２に対して非接触で支持される。
は、図示しない位置決め制御装置で駆動制御されたＤＣ
サーボモータの駆動力によって移動量が各々制御されて
いる。尚、符号３０は、前記半導体ウエハ２８をその表
面上に吸着固定する吸着テーブルである。また、符号３
２、３２…は、ガイドレール１２とＸスライダ１４との
隙間に圧力エアを供給する圧力エア供給ホースであり、
この圧力エアによってＸスライダ１４がガイドレール１
２に対して非接触で支持される。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
直動式エアベアリング１０は、大きな変位に対しては比
較的高い剛性を有するが、微小な変位に対しては剛性が
低く外乱や空気の乱流に影響され易い。この為、１０ｎ
ｍ程度の位置決め時には、圧力エアの供給を停止してガ
イドレール１２にＸスライダ１４を接触させた状態で位
置決めを行ったり、或いは圧力エアの供給をバキューム
に切り換えたりしてＸスライダ１４をガイドレール１２
にロックさせなければならず、これらのロック方法では
位置決めに時間がかかるので、作業効率が低下するとい
う欠点がある。
直動式エアベアリング１０は、大きな変位に対しては比
較的高い剛性を有するが、微小な変位に対しては剛性が
低く外乱や空気の乱流に影響され易い。この為、１０ｎ
ｍ程度の位置決め時には、圧力エアの供給を停止してガ
イドレール１２にＸスライダ１４を接触させた状態で位
置決めを行ったり、或いは圧力エアの供給をバキューム
に切り換えたりしてＸスライダ１４をガイドレール１２
にロックさせなければならず、これらのロック方法では
位置決めに時間がかかるので、作業効率が低下するとい
う欠点がある。
【０００６】本発明はこのような事情に鑑みてなされた
もので、エアスライダ部材をガイドレール部材に対して
短時間で確実にロックすることができる直動式エアベア
リングのロック機構を提供することを目的とする。
もので、エアスライダ部材をガイドレール部材に対して
短時間で確実にロックすることができる直動式エアベア
リングのロック機構を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決する為の手段】本発明は、前記目的を達成
する為に、ガイドレール部材と、該ガイドレール部材が
その中空部に挿通配置されると共に圧力エアをガイドレ
ール部材に向けて噴き出して該ガイドレール部材に対し
て非接触でスライド移動可能なエアスライダ部材と、か
ら成る直動式エアベアリングに於いて、前記エアスライ
ダ部材に配置されると共に、その先端部が前記ガイドレ
ール部材に所定の隙間を介し取り付けられた複数のピエ
ゾ素子と、前記エアスライダ部材の停止位置情報に基づ
いて前記複数のピエゾ素子に電圧を印加する制御手段
と、を備え、前記制御手段から前記複数のピエゾ素子に
電圧を印加してピエゾ素子を駆動させることにより、ピ
エゾ素子の各先端部で前記ガイドレール部材の上面部及
び下面部を押圧し、該押圧力でエアスライダ部材の移動
をロックすることを特徴とする。
する為に、ガイドレール部材と、該ガイドレール部材が
その中空部に挿通配置されると共に圧力エアをガイドレ
ール部材に向けて噴き出して該ガイドレール部材に対し
て非接触でスライド移動可能なエアスライダ部材と、か
ら成る直動式エアベアリングに於いて、前記エアスライ
ダ部材に配置されると共に、その先端部が前記ガイドレ
ール部材に所定の隙間を介し取り付けられた複数のピエ
ゾ素子と、前記エアスライダ部材の停止位置情報に基づ
いて前記複数のピエゾ素子に電圧を印加する制御手段
と、を備え、前記制御手段から前記複数のピエゾ素子に
電圧を印加してピエゾ素子を駆動させることにより、ピ
エゾ素子の各先端部で前記ガイドレール部材の上面部及
び下面部を押圧し、該押圧力でエアスライダ部材の移動
をロックすることを特徴とする。
【０００８】
【作用】本発明によれば、エアスライダ部材のガイドレ
ール部材における停止位置で、制御手段からピエゾ素子
に電圧を印加してピエゾ素子を逆圧電効果によって駆動
させる。これにより、ピエゾ素子の各先端部が前記ガイ
ドレール部材の上面部及び下面部に押圧当接し、エアス
ライダ部材がピエゾ素子を介してガイドレール部材に固
定される。従って、エアスライダ部材をガイドレール部
材に対して短時間で確実にロックすることができる。
ール部材における停止位置で、制御手段からピエゾ素子
に電圧を印加してピエゾ素子を逆圧電効果によって駆動
させる。これにより、ピエゾ素子の各先端部が前記ガイ
ドレール部材の上面部及び下面部に押圧当接し、エアス
ライダ部材がピエゾ素子を介してガイドレール部材に固
定される。従って、エアスライダ部材をガイドレール部
材に対して短時間で確実にロックすることができる。
【０００９】また、ピエゾ素子をエアスライダ部材の移
動方向の両側にそれぞれ配置すると共に、エアスライダ
部材とガイドレール部材との上部隙間及び下部隙間を測
定可能なセンサを、エアスライダ部材の移動方向の両側
にそれぞれ配置する。そして、制御手段は、前記各セン
サからの上部隙間情報及び下部隙間情報とに基づいて、
エアスライダ部材のガイドレール部材に対する傾斜角度
を算出し、ピエゾ素子毎に印加する電圧量を制御して傾
斜角度を補正する。これにより、エアスライダ部材をガ
イドレール部材に対して平行状態でロックすることがで
きる。
動方向の両側にそれぞれ配置すると共に、エアスライダ
部材とガイドレール部材との上部隙間及び下部隙間を測
定可能なセンサを、エアスライダ部材の移動方向の両側
にそれぞれ配置する。そして、制御手段は、前記各セン
サからの上部隙間情報及び下部隙間情報とに基づいて、
エアスライダ部材のガイドレール部材に対する傾斜角度
を算出し、ピエゾ素子毎に印加する電圧量を制御して傾
斜角度を補正する。これにより、エアスライダ部材をガ
イドレール部材に対して平行状態でロックすることがで
きる。
【００１０】
【実施例】以下添付図面に従って本発明に係る直動式エ
アベアリングのロック機構の好ましい実施例について詳
説する。図１は本発明に係る直動式エアベアリングのロ
ック機構が適用されたメモリリペア装置の直動式エアベ
アリング４０が示され、図３に示した従来例中と同一若
しくは類似の部材については同一の符号を付して説明す
る。
アベアリングのロック機構の好ましい実施例について詳
説する。図１は本発明に係る直動式エアベアリングのロ
ック機構が適用されたメモリリペア装置の直動式エアベ
アリング４０が示され、図３に示した従来例中と同一若
しくは類似の部材については同一の符号を付して説明す
る。
【００１１】この直動式エアベアリング４０はガイドレ
ール１２、Ｘスライダ１４、及びＹスライダ１６から構
成される。前記Ｘスライダ１４は、その中空部１５に前
記ガイドレール１２が所定の隙間をもって挿通配置され
おり、圧力エア供給ホース３２、３２…からＸスライダ
１４とガイドレール１２との隙間１５ａ（図２）に供給
される圧力エアによってガイドレール１２に対し非接触
で支持されている。また、Ｘスライダ１４は、図示しな
い位置決め制御装置で駆動制御されたＤＣサーボモータ
の駆動力でガイドレール１２に沿ってＸ方向にスライド
移動でき、且つその移動量が制御される。
ール１２、Ｘスライダ１４、及びＹスライダ１６から構
成される。前記Ｘスライダ１４は、その中空部１５に前
記ガイドレール１２が所定の隙間をもって挿通配置され
おり、圧力エア供給ホース３２、３２…からＸスライダ
１４とガイドレール１２との隙間１５ａ（図２）に供給
される圧力エアによってガイドレール１２に対し非接触
で支持されている。また、Ｘスライダ１４は、図示しな
い位置決め制御装置で駆動制御されたＤＣサーボモータ
の駆動力でガイドレール１２に沿ってＸ方向にスライド
移動でき、且つその移動量が制御される。
【００１２】前記Ｙスライダ１６はＸスライダ１４の下
部に配置されると共に、Ｘスライダ１４と同様に位置決
め制御装置で駆動制御されたＤＣサーボモータの駆動力
でＸスライダ１４に対しＹ方向にスライド移動でき、且
つその移動量が制御される。これにより、レーザ光源２
０から射出したＹＡＧレーザ光２２を、Ｙスライダ１６
に取り付けた全反射鏡２４、２６及びレンズ１８を介し
て半導体ウエハ２８上の所定のリンク部に照射すること
ができる。
部に配置されると共に、Ｘスライダ１４と同様に位置決
め制御装置で駆動制御されたＤＣサーボモータの駆動力
でＸスライダ１４に対しＹ方向にスライド移動でき、且
つその移動量が制御される。これにより、レーザ光源２
０から射出したＹＡＧレーザ光２２を、Ｙスライダ１６
に取り付けた全反射鏡２４、２６及びレンズ１８を介し
て半導体ウエハ２８上の所定のリンク部に照射すること
ができる。
【００１３】一方、Ｘスライダ１４には図１、図２に示
すように、棒状に形成された８本のピエゾ素子４２Ａ、
４２Ｂ、４２Ｃ、４２Ｄ、４２Ｅ、４２Ｆ、４２Ｇ、４
２Ｈ（但し、符号４２Ｇ、４２Ｈのピエゾ素子は図示せ
ず）が取り付けられる。前記ピエゾ素子４２Ａ乃至４２
Ｄは、Ｘスライダ１４の上面１４ａで且つＸスライダ１
４の移動方向の両側にそれぞれ配置される。また、ピエ
ゾ素子４２Ａ乃至４２Ｄの各先端部（図中下端部）は、
ピエゾ素子４２Ａ乃至４２Ｄが駆動した際に前記ガイド
レール１２の上面部１２ａに押圧当接可能な隙間をもっ
て配設されている。ピエゾ素子４２Ａ乃至４２Ｄは、ケ
ーブル４４Ａ乃至４４Ｄを介してコントローラ４５の電
源部（ドライバ）４５Ａにそれぞれ接続されている。
すように、棒状に形成された８本のピエゾ素子４２Ａ、
４２Ｂ、４２Ｃ、４２Ｄ、４２Ｅ、４２Ｆ、４２Ｇ、４
２Ｈ（但し、符号４２Ｇ、４２Ｈのピエゾ素子は図示せ
ず）が取り付けられる。前記ピエゾ素子４２Ａ乃至４２
Ｄは、Ｘスライダ１４の上面１４ａで且つＸスライダ１
４の移動方向の両側にそれぞれ配置される。また、ピエ
ゾ素子４２Ａ乃至４２Ｄの各先端部（図中下端部）は、
ピエゾ素子４２Ａ乃至４２Ｄが駆動した際に前記ガイド
レール１２の上面部１２ａに押圧当接可能な隙間をもっ
て配設されている。ピエゾ素子４２Ａ乃至４２Ｄは、ケ
ーブル４４Ａ乃至４４Ｄを介してコントローラ４５の電
源部（ドライバ）４５Ａにそれぞれ接続されている。
【００１４】前記ピエゾ素子４２Ｅ乃至４２Ｈは、Ｘス
ライダ１４の下面１４ｂで且つ前記ピエゾ素子４２Ａ乃
至４２Ｄに対向した位置にそれぞれ配置される。また、
ピエゾ素子４２Ｅ乃至４２Ｈの各先端部（図中上端部）
は、ピエゾ素子４２Ｅ乃至４２Ｈが駆動した際に前記ガ
イドレール１２の下面部１２ｂに押圧当接可能な隙間を
もって配設されている。ピエゾ素子４２Ｅ乃至４２Ｈ
は、ケーブル４４Ｅ乃至４４Ｈ（但し、符号符号４４
Ｇ、４４Ｈのケーブルは図示せず）を介してコントロー
ラ４５のドライバ４５Ａにそれぞれ接続されている。
ライダ１４の下面１４ｂで且つ前記ピエゾ素子４２Ａ乃
至４２Ｄに対向した位置にそれぞれ配置される。また、
ピエゾ素子４２Ｅ乃至４２Ｈの各先端部（図中上端部）
は、ピエゾ素子４２Ｅ乃至４２Ｈが駆動した際に前記ガ
イドレール１２の下面部１２ｂに押圧当接可能な隙間を
もって配設されている。ピエゾ素子４２Ｅ乃至４２Ｈ
は、ケーブル４４Ｅ乃至４４Ｈ（但し、符号符号４４
Ｇ、４４Ｈのケーブルは図示せず）を介してコントロー
ラ４５のドライバ４５Ａにそれぞれ接続されている。
【００１５】また、Ｘスライダ１４には４本の静電容量
センサ４６Ａ、４６Ｂ、４６Ｃ、４６Ｄ（但し、符号４
６Ｄの静電容量センサは図示せず）が取り付けられる。
前記静電容量センサ４６Ａ、４６Ｂは、Ｘスライダ１４
の上面１４ａで且つＸスライダ１４の移動方向の両側に
それぞれ配置されており、Ｘスライダ１４とガイドレー
ル１２との上部隙間を測定し、その情報をケーブル４８
Ａ、４８Ｂを介してコントローラ４５に出力することが
できる。
センサ４６Ａ、４６Ｂ、４６Ｃ、４６Ｄ（但し、符号４
６Ｄの静電容量センサは図示せず）が取り付けられる。
前記静電容量センサ４６Ａ、４６Ｂは、Ｘスライダ１４
の上面１４ａで且つＸスライダ１４の移動方向の両側に
それぞれ配置されており、Ｘスライダ１４とガイドレー
ル１２との上部隙間を測定し、その情報をケーブル４８
Ａ、４８Ｂを介してコントローラ４５に出力することが
できる。
【００１６】前記静電容量センサ４６Ｃ、４６Ｄは、Ｘ
スライダ１４の下面１４ｂで且つ前記静電容量センサ４
６Ａ、４６Ｂに対向した位置にそれぞれ配置されてお
り、Ｘスライダ１４とガイドレール１２との下部隙間を
測定し、その情報をケーブル４８Ｃ、４８Ｄ（但し、符
号４８Ｄのケーブルは図示せず）を介して前記コントロ
ーラ４５に出力することができる。
スライダ１４の下面１４ｂで且つ前記静電容量センサ４
６Ａ、４６Ｂに対向した位置にそれぞれ配置されてお
り、Ｘスライダ１４とガイドレール１２との下部隙間を
測定し、その情報をケーブル４８Ｃ、４８Ｄ（但し、符
号４８Ｄのケーブルは図示せず）を介して前記コントロ
ーラ４５に出力することができる。
【００１７】尚、前記コントローラ４５には、ガイドレ
ール１２におけるＸスライダ１４の停止位置情報が予め
入力されている。次に、前記の如く構成された直動式エ
アベアリング４０を用いてＸスライダ１４をガイドレー
ル１２にロックする作用について説明する。先ず、Ｘス
ライダ１４がガイドレール１２における停止位置で停止
した時に、コントローラ４５のドライバ４５Ａからケー
ブル４４Ａ乃至４４Ｈを介してピエゾ素子４２Ａ乃至４
２Ｈに電圧を印加する。電圧が印加されるとピエゾ素子
４２Ａ乃至４２Ｈは、逆圧電効果によって駆動し、ピエ
ゾ素子４２Ａ乃至４２Ｈの各先端部が前記ガイドレール
１２の上面部１２ａ及び下面部１２ｂに押圧当接する。
これにより、ピエゾ素子４２Ａ乃至４２Ｈの前記押圧力
でＸスライダ１４をガイドレール１２に固定することが
できる。
ール１２におけるＸスライダ１４の停止位置情報が予め
入力されている。次に、前記の如く構成された直動式エ
アベアリング４０を用いてＸスライダ１４をガイドレー
ル１２にロックする作用について説明する。先ず、Ｘス
ライダ１４がガイドレール１２における停止位置で停止
した時に、コントローラ４５のドライバ４５Ａからケー
ブル４４Ａ乃至４４Ｈを介してピエゾ素子４２Ａ乃至４
２Ｈに電圧を印加する。電圧が印加されるとピエゾ素子
４２Ａ乃至４２Ｈは、逆圧電効果によって駆動し、ピエ
ゾ素子４２Ａ乃至４２Ｈの各先端部が前記ガイドレール
１２の上面部１２ａ及び下面部１２ｂに押圧当接する。
これにより、ピエゾ素子４２Ａ乃至４２Ｈの前記押圧力
でＸスライダ１４をガイドレール１２に固定することが
できる。
【００１８】従って、本実施例では、ピエゾ素子４２Ａ
乃至４２Ｈに電圧を印加するだけでＸスライダ１４をガ
イドレール１２に固定することができるので、Ｘスライ
ダ１４を短時間で確実にロックすることができる。ま
た、コントローラ４５は、前記静電容量センサ４６Ａ乃
至４６Ｄからの上部隙間情報及び下部隙間情報とに基づ
いて、Ｘスライダ１４のガイドレール１２に対する傾斜
角度を算出し、該傾斜角度をなくすようにピエゾ素子４
２Ａ乃至４２Ｈ毎に印加する電圧量を制御する。即ち、
ピエゾ素子４２Ａ乃至４２Ｈ毎の駆動量を変える。これ
により、Ｘスライダ１４をガイドレール１２に対して平
行状態でロックすることができる。
乃至４２Ｈに電圧を印加するだけでＸスライダ１４をガ
イドレール１２に固定することができるので、Ｘスライ
ダ１４を短時間で確実にロックすることができる。ま
た、コントローラ４５は、前記静電容量センサ４６Ａ乃
至４６Ｄからの上部隙間情報及び下部隙間情報とに基づ
いて、Ｘスライダ１４のガイドレール１２に対する傾斜
角度を算出し、該傾斜角度をなくすようにピエゾ素子４
２Ａ乃至４２Ｈ毎に印加する電圧量を制御する。即ち、
ピエゾ素子４２Ａ乃至４２Ｈ毎の駆動量を変える。これ
により、Ｘスライダ１４をガイドレール１２に対して平
行状態でロックすることができる。
【００１９】尚、本実施例では、メモリリペア装置に適
用される直動式エアベアリングについて説明したが、メ
モリリペア装置に限らず他の機種に適用される直動式エ
アベアリングに適用しても良い。
用される直動式エアベアリングについて説明したが、メ
モリリペア装置に限らず他の機種に適用される直動式エ
アベアリングに適用しても良い。
【００２０】
【発明の効果】以上説明したように本発明に係る直動式
エアベアリングのロック機構によれば、エアスライダ部
材のガイドレール部材における停止位置で、制御手段か
らピエゾ素子に電圧を印加してピエゾ素子を駆動させ、
ピエゾ素子の各先端部で前記ガイドレール部材の上面部
及び下面部を押圧し、この押圧力でエアスライダ部材を
ピエゾ素子を介してガイドレール部材に固定するように
したので、エアスライダ部材をガイドレール部材に対し
て短時間で確実にロックすることができる。
エアベアリングのロック機構によれば、エアスライダ部
材のガイドレール部材における停止位置で、制御手段か
らピエゾ素子に電圧を印加してピエゾ素子を駆動させ、
ピエゾ素子の各先端部で前記ガイドレール部材の上面部
及び下面部を押圧し、この押圧力でエアスライダ部材を
ピエゾ素子を介してガイドレール部材に固定するように
したので、エアスライダ部材をガイドレール部材に対し
て短時間で確実にロックすることができる。
【００２１】また、ピエゾ素子をエアスライダ部材の移
動方向の両側にそれぞれ配置すると共に、エアスライダ
部材とガイドレール部材との上部隙間及び下部隙間を測
定可能なセンサを、エアスライダ部材の移動方向の両側
にそれぞれ配置する。そして、制御手段は、前記各セン
サからの上部隙間情報及び下部隙間情報とに基づいて、
エアスライダ部材のガイドレール部材に対する傾斜角度
を算出し、該傾斜角度をなくすようにピエゾ素子毎に印
加する電圧量を制御するようにした。これにより、エア
スライダ部材をガイドレール部材に対して平行状態でロ
ックすることができる。
動方向の両側にそれぞれ配置すると共に、エアスライダ
部材とガイドレール部材との上部隙間及び下部隙間を測
定可能なセンサを、エアスライダ部材の移動方向の両側
にそれぞれ配置する。そして、制御手段は、前記各セン
サからの上部隙間情報及び下部隙間情報とに基づいて、
エアスライダ部材のガイドレール部材に対する傾斜角度
を算出し、該傾斜角度をなくすようにピエゾ素子毎に印
加する電圧量を制御するようにした。これにより、エア
スライダ部材をガイドレール部材に対して平行状態でロ
ックすることができる。
【図１】本発明に係る直動式エアベアリングのロック機
構が適用されたメモリリペア装置の直動式エアベアリン
グの実施例を示す斜視図
構が適用されたメモリリペア装置の直動式エアベアリン
グの実施例を示す斜視図
【図２】本発明に係る直動式エアベアリングのロック機
構の断面図
構の断面図
【図３】メモリリペア装置に適用された従来の直動式エ
アベアリングの実施例を示す斜視図
アベアリングの実施例を示す斜視図
１２…ガイドレール １４…Ｘスライダ １６…Ｙスライダ １８…レンズ ２０…レーザ光源 ２２…ＹＡＧレーザ光 ２４、２６…全反射鏡 ４０…直動式エアベアリング ４２…ピエゾ素子 ４５…コントローラ ４６…静電容量センサ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 41/09 Ｈ０１Ｓ 3/00 Ｂ 8934−4Ｍ
Claims (2)
- 【請求項１】 ガイドレール部材と、該ガイドレール部
材がその中空部に挿通配置されると共に圧力エアをガイ
ドレール部材に向けて噴き出して該ガイドレール部材に
対して非接触でスライド移動可能なエアスライダ部材
と、から成る直動式エアベアリングに於いて、 前記エアスライダ部材に配置されると共に、その先端部
が前記ガイドレール部材に所定の隙間を介し取り付けら
れた複数のピエゾ素子と、 前記エアスライダ部材の停止位置情報に基づいて前記複
数のピエゾ素子に電圧を印加する制御手段と、 を備え、前記制御手段から前記複数のピエゾ素子に電圧
を印加してピエゾ素子を駆動させることにより、ピエゾ
素子の各先端部で前記ガイドレール部材の上面部及び下
面部を押圧し、該押圧力でエアスライダ部材の移動をロ
ックすることを特徴とする直動式エアベアリングのロッ
ク機構。 - 【請求項２】 前記ピエゾ素子を前記エアスライダ部材
の移動方向の両側にそれぞれ配置すると共に、エアスラ
イダ部材と前記ガイドレール部材との上部隙間及び下部
隙間を測定可能なセンサを、エアスライダ部材の移動方
向の両側にそれぞれ配置し、 前記制御手段は、前記各センサからの上部隙間情報及び
下部隙間情報とに基づいて、エアスライダ部材のガイド
レール部材に対する傾斜角度を算出し、該傾斜角度を補
正するようにピエゾ素子毎に印加する電圧量を制御する
ことを特徴とする請求項１記載の直動式エアベアリング
のロック機構。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04092732A JP3082991B2 (ja) | 1992-04-13 | 1992-04-13 | 直動式エアベアリングのロック機構 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04092732A JP3082991B2 (ja) | 1992-04-13 | 1992-04-13 | 直動式エアベアリングのロック機構 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0650339A true JPH0650339A (ja) | 1994-02-22 |
| JP3082991B2 JP3082991B2 (ja) | 2000-09-04 |
Family
ID=14062598
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP04092732A Expired - Fee Related JP3082991B2 (ja) | 1992-04-13 | 1992-04-13 | 直動式エアベアリングのロック機構 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3082991B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6428210B1 (en) * | 2000-07-11 | 2002-08-06 | Lintech Motion Control, Inc. | Precision air bearing slide and stage assembly for controlled linear motion |
| US8297842B2 (en) | 2009-01-05 | 2012-10-30 | Hong Fu Jin Precision Industry (Shenzhen) Co., Ltd. | Air guide |
| JP5149627B2 (ja) * | 2005-12-15 | 2013-02-20 | 京セラ株式会社 | 静圧スライダ |
| EP2384875A4 (en) * | 2009-01-30 | 2014-03-12 | Konica Minolta Opto Inc | DEVICE FOR PREPARING A WAFER LENS AND METHOD FOR PRODUCING A WAFER LENS |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108547870B (zh) * | 2018-05-09 | 2019-03-29 | 哈尔滨工业大学 | 一种带有非等深节流腔的气浮支承导向装置 |
-
1992
- 1992-04-13 JP JP04092732A patent/JP3082991B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6428210B1 (en) * | 2000-07-11 | 2002-08-06 | Lintech Motion Control, Inc. | Precision air bearing slide and stage assembly for controlled linear motion |
| US6502987B2 (en) | 2000-07-11 | 2003-01-07 | Lintech Motion Control, Inc. | Precision air bearing slide and stage assembly for controlled linear motion |
| JP5149627B2 (ja) * | 2005-12-15 | 2013-02-20 | 京セラ株式会社 | 静圧スライダ |
| US8297842B2 (en) | 2009-01-05 | 2012-10-30 | Hong Fu Jin Precision Industry (Shenzhen) Co., Ltd. | Air guide |
| EP2384875A4 (en) * | 2009-01-30 | 2014-03-12 | Konica Minolta Opto Inc | DEVICE FOR PREPARING A WAFER LENS AND METHOD FOR PRODUCING A WAFER LENS |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3082991B2 (ja) | 2000-09-04 |
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