JPH06503887A - 水分に敏感な装置あるいは手法に使用される汚染材料の負インパクトを減少するための対向流装置および方法 - Google Patents

水分に敏感な装置あるいは手法に使用される汚染材料の負インパクトを減少するための対向流装置および方法

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JPH06503887A
JPH06503887A JP4502856A JP50285692A JPH06503887A JP H06503887 A JPH06503887 A JP H06503887A JP 4502856 A JP4502856 A JP 4502856A JP 50285692 A JP50285692 A JP 50285692A JP H06503887 A JPH06503887 A JP H06503887A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 水分に敏感な装置あるいは手法に使用される汚染材料の負インパクトを減少する ための対向流装置および方法技術の分野 本発明はある汚染材料の負インパクトを減少するための方法および装置に関する 。か\る材料はガス中に湿度として含有される水分に敏感なカスを使用する装置 あるいは手法に含まれる。本発明は例えばガス中の水分濃度を測定する装置ある いは方法に応用することができる。特に本発明は短い応答時間内に容積比数PP  B(parts per billion)もの低い水分濃度を検出する方法 および装置に関する。
発明の背景 多くの工業的手続きにおいて流動するガス流れの水分濃度は高度の速さおよび精 度で測定・分析されねばならない。か\る測定・分析は水分濃度が製造される製 品の品質にとって、極めて重要であるから要求される。従って多くの複雑・精巧 な装置がガス中の水分測定に利用可能である。
此等の装置はその他の原理に基く池のタイプの湿度計も存在するが典型的にはフ ァラディの法則の原理の下に作動する電解槽を有している。基本的に電解槽は少 なくとも2本の電気的に隔離された電極(ワイヤー)をその内部に螺旋状に並列 に巻き吸湿性のフィルムでカバーされた1本の中空ガラスチューブよりなってい る。電極は槽の内壁の表面面積の約半分をカバーしている。分析されるべきガス は既知の流速で槽に入り、フィルムがガス流中に存在するあらゆる水分分子を吸 収する。電極間に電圧がかけられフィルム中の水分を電解する。発生された電流 は水分分子か電解される速度を測定する。一旦平衡状態が達成されると水分分子 が電解槽に入る速度がか\る分子が電解される速度に正確にマツチする。その結 果、ガス中の水分濃度が更に校正を要することなく知られる。
しかし乍ら、か\る装置は極度に低い水分濃度を多くの応用を収用するのに充分 短い応答時間で測定することは一般に不可能である。
例えばこの明細書に整脈のために包含される米国特許No、4,800,000 (対り、 A、 Z atko)に記載された電解槽は容積比的2,000〜5  ppllのオーダーの水分a度に対して敏感である。この電解槽は流入する水 分濃度の変化に続いて1゜5 ppmもの小さい変化に対しても約5分で最終平 衡値の約90%に到達する。が\る敏感性および応答時間のレベルは印象的では あるが改良が望ましい。
特に、既知の電解装置は検出セルを定位置に機械的に固定するためにエポキシフ ィラーの様なバッキング材料を使用している。エポキシ材料は電極に対する電気 的絶縁材として作用し又典型的に櫂の中空ガラスチューブである現実の検出器の 入口・出口間の漏洩阻止障壁として機能する。このエポキシ障壁はサンプルガス が電解槽のガラスチューブの周りでなく此を通ってのみ流れることを保証する。
究極的にエポキシは電極槽本体の金属ケースを電気的結線が貫通した場所で漏洩 阻止障壁を提供している。
その多くの機能の結果、バッキング材料は検出槽の入口・出口の両方の近傍に存 在する。か\る材料は比較的多孔質でありガス流れから水分を吸収しあるいは此 に水分を放出することが知られている。プラスチック・エポキシ等のバッキング 材料の脱気・吸収・放出性は高純度ガスシステムにおける低水分濃度到達に対し て障害を形成することが知られている。
数個の起り得るメカニズムがか\る汚染材料の存在を通じてか\る湿度計の性能 を制限する。か\るメカニズムの1つ脱気はバッキング材料に含有される残留水 分が材料から外へ移動してテスト中の流動ガス流についに合流する時に発生する 。この汚染は計器をより低い検出限界に到達することを阻止する。
応答時間を制限する2番目のメカニズムはバッキング材料によるガス流れ中に存 在する水分の吸収および該材料からガス流れ中への放出である。一方においてこ のメカニズムは湿ったガスから乾燥ガスへの変化に際して以前に吸収された水分 のガス流れ中への再放出を許容する。分析ガスが比較的に乾燥しておりかつ比較 的長時間分析された後では、バッキング材料の表面は乾燥状態となり得る。その 結果、材料はガス中に存在する水分が実在の検知器に到達し得るより少し前に入 口においてガスから水分を吸収しくそして電解槽におけるガラスチューブに流入 しうる。両ケースにおいて、槽の水分測定は変更された条件の下では平衡状態に 到達するのに長時間を要することとなる。
電解槽に対しては檜の入口側におけるエポキシの存在の負影響は直接に見られる 。しかし出口側におけるエポキシの存在も悪影響を及ぼす。出口側における汚染 はガラスチューブから出る小さいサンプルガス流れに対する水分の逆拡散を通じ て発生する。
一般に、従来の装置の形態は脱気・吸収・放出の不都合なメカニズムに貢献する 。此等のメカニズムは湿度計の場合においては検出時間を増大し、非常に低濃度 の検出を制限する。更に此等のメカニズムは温度および圧力に依存する。
発明の概要 従って本発明の1目的はある汚染材料の負インパクトを減少するための方法およ び装置を提供することにある。か\る材料はガスを使用し且つそのガス中に含有 される水分に敏感である装置あるいは手続きに含有されうる。本発明の今一つの 目的はガス位相の水分の迅速な決定のための改良された方法および装置を提供す ることにある。本発明の更に1つの目的は低い検出限界を持ち容積比1 ppm のオーダーで水分濃度を分析し得る方法および装置を提供することにある。本発 明の更に今一つの目的は湿度計の応答時間を減少することにある。
此等の目的は湿度計の主要部品を対向流配設に形成することによって本発明にお いて達成される。対向流は水分の移動を制御するのに非常に効果がある。水分分 子が乾燥ガスの流れに逆って拡散することは困難である。MEECO,Tncに おける実験は1/4インチ直径の中の毎分100ccの乾燥ガス流れにおいて1 600 ng/創nuteの水分源の2インチ上流の水分濃度に対するインパク トは2 ppmより小さかったことを示した。
此の挙動の説明は水分分子の粘着性に存在する。か\る分子は例えばパイプライ ンの内壁との地域的な吸収・脱着平衡を連続的に確立することによってパイプラ イン中を伝搬する。2〜3気圧の通常の作動ガス圧力においては、ガス分子の平 均自由行路(衝突をすることなく1分子によってカバーされる距離)は極端に小 さい。1分子は毎秒何百万回もの衝突、その若干はパイプ壁との衝突を行う。1 水分分子が内壁との衝突後内壁に付着する確率は既に内壁に付着したあるいは内 壁に吸収された水分分子の数に依存する。かくして1分子が付着する確率は乾燥 壁に対しては高く湿った壁に対しては比較的低い。水分分子のこの挙動を非付着 性分子と対比すれば後者が付着する確率は非常に低く壁の表面によって既に吸収 された同様の分子の数に殆んと依存しない。
上述の理由によって、対向流配設は水分の移動を制御において非常に効果的であ る。か\る配設は亦例えば窒素中の微量酸素等のガス流中のその他の微量成分の 含有量を測定する検出装置に対して有用である。水分分子と異ってガス位相の成 分は付着性がないために此等の成分は汚染源゛から対向流に逆って水分分子より もよく測定装置の方へ移動する。それにも拘らず、特にもI7より長い径の小さ い形状を通過するより大きい対向流が与えられるならばより非付着性のガス位相 成分による、あるいは粒子にさえよるガス流れの汚染は防止し得る。
本発明においては、上記の目的および利点は実際の検出器等の水分汚染に敏感な 構成部品を起り得る汚染源に対してガス流の上流に置くことによって達成される 。センサーから離れて流れるガスは棄却されるので検出に必要な構成部品の下流 のガスの汚染は測定に悪いインパクトを与えない。汚染は水分の脱気および水分 の吸収・脱着の同様に不都合なメカニズムを包含する。起り得るか\る汚染源は 一般に軟い非金属性材料、多孔質材料あるいは比較的大きな表面積を持つ材料で ある。“死”容量(ガス流のない容1i)もまた汚染し得る。
今述べた様に汚染源は分析器あるいはテスト装置に到達する前にサンプル流れに よって通過される地域あるいは地点を包含する。か\る地域による今一つの可能 な汚染形式は例えば従来の“冷却鏡”湿度計によって例証される。か\る計器に おいては、水分濃度は鏡の温度を監視しつつ冷却される鏡の表面に(その露点に 到達した)水分の凝縮の始りを観測することによって測定される。鏡は冷却装置 のトップに置かれる。サンプルガスに直接接触している冷却装置上のある地域あ るいは地点は冷却装置によって冷却される鏡の表面よりも低温となりつる。従っ て水分は分析器の実際のセンサーである鏡上で凝縮する以前に冷却装置上のか\ る地域上で凝縮することもあり得る。この意味において、か\る地域は“汚染” の源泉となる。
冷却装置の方に向けられ鏡の表面から離れた流出ガスの対向流はサンプルガス流 れ中の水分の早過きる凝縮を防止する。この状境においては、サンプルガス流れ からのガス分子が潜在的な汚染領域の近傍に到達するや否や流出する対向流に引 き入れられる。従ってかかる分子はセンサーに到達するサンプルガス流れから除 かれる。センサーに到達するサンプルガス流れは従って汚染領域との接触を回避 してしまう。
電解槽に対しては、特定の汚染源は検出器を機械的に位置付けるために使用され る材料を包含する。此等の材料は漏洩気密の障壁を創りガスを槽を通すために使 用される材料、電極を検出器に対して遮断し電気的に検出器から隔離する材料で ある。電解槽においては、本発明の対向流配置は測定サンプル流の汚染を防止す るためにバイパスガス流れおよび検出槽から流出するサンプルガス流れを使用す る。汚染物はか\る配設では測定に悪影響を与えるためには流出流れに抗して流 れなければならない。
本発明の今一つの様式ではバッキング材料は溶接あるいは半田付は可能な電気的 、漏洩気密な電極に対するセラミイック・フードスルーと結合された圧縮タイプ のガラス−金属結線(柔軟なフェルール等)で置き換えられている。か\る結線 およびフィードスルーはJ acobMettesにより1990年10月3日 出願の“無エポキシ低しベル水分測定システムおよび方法”と題する出願中の米 国特許出願に記載されている。この出願はその全部を鼓に包含されている。ここ に開示された汚染減少の対向流配設はか\る結線およびフィードスルーを包含す る装置に適用可能であり、柔軟材料・セラミイ、り材料および死領域による起り 得る汚染のインパクトを減少することができる。
図面の解説 本発明の前記およびその他の様層・特色および利点は次の記述および図面から明 らかになる。
第1図は対向流配設を組み込んだ電解槽の一般化された模式図である。
第2a図は入口における対向流配役の一実施例をハイライトする本発明の電解槽 の横断面である。
第2b図は出口における対向流配設をハイライトする本発明による電解槽の横断 面である。
第3図は検出ユニットが第2a図および第2b図における様に配設されている時 電極ワイヤーか検出ユニットの出口から出る状態を示す。
第4図は柔軟なフェルール・ガラスに一金属シールおよび溶接セラミイックフィ ードスルーを組み込んだ無エボキ7配設を有する電解槽に適用される対向流配置 を示す。
第5図は電極に対する溶接あるいは半田付は可能な電気的、漏洩気密なセラミイ ックフィードスルーをハイライトする第4図に示された電解槽の横断面である。
実施例 第1図において、本発明の分析器あるいは装置10は中空の電解検出ユニット即 ちセンサー20を通ってサンプルガスを通しユニット20の内表面上の水分吸収 コーティング(図示せず)にガスを接触させる。吸収された水分は電解され、フ ァラデー法則に従って使用される電流を測定することによって水分a度が決定さ れる。その決定結果は例えば10億分の部分(ppb)等適当な出力表示を作成 する様望み通りに操作される。
装置」Oは一般に入口12.出口14.バイパス出口16.電極18.および適 当なハウジング22に容れられた検出ユニット2oよりなる。電解検出ユニ、ト 20はエポキ/24あるいは別のバッキング材料で定位置に典型的に保接され、 エポキシあるいはバッキング材料は水分の脱気、吸収/脱着に対する不都合な性 質を持ち、装置10のより高度の検出限界を制限し応答時間を遅(する。本発明 においては、検出ユニット20の入口および出口はバッキング材料のレベルから かなりの距離でガス流れの上流に位置しており、これにより水分がバッキング材 料かう検出ユニットの入口あるいは出口のいづれかに移動する可能性を最小限に している。
矢印26で示されるガス流れはバッキング材料24から逃げる水分が検出ユニ。
ト20の入口に到達するためにはガス流の流れに逆って流されねばならない様に なっている。同様に、矢印28で示される出口ガスは離脱前にバッキング材料の 方へ流れる。この対向流配設はバッキング材料からあるいはサンプル流出口14 等のその他の源泉から逃避する水分が検出ユニット20の出口に入る確率を最小 限にする。吸収/脱着に関する限り、ユニット20に入るガスはバッキング材料 24と接触しておらずか\る接触の結果として生じる遅い応答時間を回避する。
第2a、2b図において本発明に基づく電解槽の1実施例が示されている。
中央の開口62はエポキシ44を入れるためにハウジング34に設けられている 。開口62はハウジング34を水平に半分以上しかし完全ではなく通る様に形成 されている。開口62の大きさはハウジング34の高さか検出ユニット20の長 さのいづれかより実質的に小さい。エポキシ44は槽60の製造中に開口62に 入れられ、ユニット20とハウジング34との間の空間64を部分的に満たす。
エポキシ44の中央への挿入によってエポキシ44はユニy ト20の中心を囲 んでハウジング34の中心に実質的に制限されることが可能となり、これにより エポキシ44はユニット20の入口36および出口38からかなり隔離される。
更にエポキシ44の非常に小さい表面積のみが実際にガスに接触し、エポキシ4 4による汚染を減少する。
本発明は外からの水分あるいはその他の不純物が検出ユニット20に入るのを除 去するために流れるガス流に依存する。対向流配置を提供している。
中空のチューブあるいはスリーブ70好ましくは電解研磨されたステンレス製で ユニット2oの外径よりも大きい内径を膏する中空チューブ70がユニット20 の上端部を取り囲んでいる。チューブ70とユニ・ノド20との間の関係が次に 記述される対向流(第28図中に矢印りで示される)を創造する。
第2a図に矢印Aで示されるサンプルされるべきガスは、まずチューブ70に入 る。ガスAがチューブ7oを下るに従ってユニット20の入口36に遭遇する。
ガスAはユニ、ト20中に移動して分析されるサンプルカスBとカスDに分かれ る。ユニット20に入らないでガスDはユニット2oとチューブ70との間を移 動して空洞に入る。チューブ70の終端においてカスDはカスケアドア4、ハウ /フグ34およびエポキシ44か別の開口をシールしているのでバイパス流出口 58に向って上方に強制される。ガスDは次にバイパスカスCとして’1解41 60を出る。サンプルガスBを形成しないでユニット20をバイパスしたガスA の部分であるのでそう呼ばれている。
エポキシ44から漏洩するかも知れぬ水分は入口36に到達サンプルガスBを汚 染するためにはガスDの力に抗して空洞において上方に移動しなければならない 。説明された通り、ガスDの如き対向流はが\る移動を不可能でないにしても困 難にする。かくしてサンプルガスBの汚染は事実上除去される。
同様に、本発明はサンプルガスBの汚染を防止するために出口38の近くで対向 流配設を提供する。口、ドア6は望ましくは電解研磨されたステンレスからなり その頂部に円筒形の切欠き77を形成している。切欠き部77はユニット20の 外径よりも大きい内径を有しており、ユニット20の外側(第3図参照)に沿っ て拡がった2つの電極ワイヤー82.84(第2b図に図示せず)が隣接の構成 部品に接触することを避ける様に充分な空間を残している。電極ワイヤー82. 84についての詳細は第3図を参照して下記に説明する。更にロッド76は切欠 き部77にユニット20の出口38を含む下端部を取囲ませる様に通路48内に 充分深く伸びている。ロッド76とユニット20との関係は次に記述される対向 1ftEを創造するタムを形成する。
分析に続いてサンプルガスBは出口38においてユニット20を出る。その後、 ガスBはユニ7 ト20と切欠き77の側壁との間に形成された溝部78に入り 対向流Eを形成する。対向流Eは溝部78を上に移動し流出ガスFとして槽60 を去る。
明らかに、エポキシ44から漏出するかも知れぬ水分は出口3已に到達するため には対向流Eの流れに逆って溝部7日内で下方に移動しなければならない。それ からこの水分は検出されるためにはサンプルがス流Bに逆って拡散しなければな らない。対向流Eの存在は不可能でないにしてもか\る移動を困難にし、サンプ ルガスBの汚染は減少される。
究極的に現存の製作工程にか\わる困難はワイヤー82.84を槽60の外部の 電気部品に接続する方法の改良によって本発明に基いて減少し得る。第3図に示 す様に電極ワイヤー82.84はエポキシ44を充填するために直接中央開口6 2に引き込まれる。エポキシ44が注入セットされた後、エポキシ44はワイヤ ー82.84を定位置に固定する。かくしてワイヤー82.84はユニット20 に入る時に此等のワイヤーに加えられる力のリスクを負うことなく装置10の電 気ターミナルに安全に接続されうる。
第4図に示す様に、本発明の対向流配設は溶接のセラミイックフィードスルーと 組合された柔軟なフェルール、ガラス−金属シールを組み込んだ無エポキシの電 解槽に適用され得る。柔軟なフェルール、ガラス−金属シールおよび溶接のセラ ミイックフィードスルーについての詳細は上記の“無エポキシの低レベル水分測 定システムおよび方法”と題する出願中の米国特許出願に記載されている。
第4図において、矢印Aで示されるサンプルされるべきガスはチューブ104に よって形成される流路102に入る。チューブ104はナツト114を使用てC ajon会社によりVCR”の開襟の下に製造され得る接手によってハウジング 102内に保持される。ガスAが流路102を下るにつれて検出ユニット95の 入口94に遭遇する。入口94において、ガスAはユニット95内に入って分析 されるガスBとガスDに分離する。ユニット95に入るよりもむしろ、ガスDは ユニット95とチューブ104との間を通って入口94を汚染から防止する対流 を形成する。VCR”ガスケット106はハウジング98に対してチューブ10 4をシールする。ガスケット10Bの中央開口およびプラグ124(以下に解説 )を接続するのに使用されるガスケットの中央開口はガスケットの狭い通路を通 る局部的な高速流を創り出す様に極小化された直径を有している。か\る流れは 対向流の有効性を増大する。ガスケットの直径はしかし乍ら検出ユニット95を 通し容易な取付を許すには充分大きく設定されている。
ガスDはユニ、ト95とガスケット106との間を通り、圧縮シール108で阻 止されてチューブ118によって形成された流路116を通ってバイパスガスC として槽100を出る。チューブ118はナツト120を使用するVCRR接手 によってハウジング98内に保持される。シール10Bから漏洩するかも知れぬ 水分は人口94に到達してサンプルガスBを汚染するためにはガスDの流れに抗 して上方に移動しなければならない。ガスDによって提供される前述の効果はか \る対向流を不可能でないにしても困難にする。かくしてサンプルガスBの汚染 は著しく減少される。
同様に対向流配設がサンプルガスBの汚染を防止するために出口96の近くで設 けられている。VCR”プラグ124中に形成された空洞122はサンプルガス が出口96を出る時方向を変え矢印Eで示される流れを創り出す。この流れは汚 染が出口96に入ることを防止する。プラグ124を接続するために使用される ガスケットの中央開口の直径は検出ユニ・ノド95を通過させ且つ検出ユニット 95の外部に沿って拡がった2本の電極ワイヤー(第4図に図示せず)がガスケ ットに接触しないで通るのに充分なスペースを与える様に充分に大きい。拡がっ た電極ワイヤーの詳細は第5図の説明中で与えられる。
対向′a、Eは続いてチューブ128によって形成された流路126を通って離 脱ガスFとして槽100を出る。チューブ128はナツト130を使用するVC RR接手によってハウジング98内に保持される。/−ル108から漏洩するか も知れぬ水分は出口96に到達してサンプルガスBを汚染するためにはガスEの 流れに抗して下方に移動しなければならない。ガス流Eの存在はか\る対自流を 不可能でないにしても困難にする。かくしてサンプルガスBの汚染は著しく減少 される。
シール108は柔軟な圧縮性材料から形成された円錐形フェルールであることが 望ましい。シール10日のこの形状はハウジング98内の円錐台状のテーパー1 10に係合することを可能にする。特に細いねじれを有するねじ切りロックスク リュー112はハウジング98上の雌ねじと係合する。スクリュー112がハウ ジング98内にねじ込まれるにつれてシール108に接触し/−ル108上に下 向きの力を及ぼしシール108をテーパー110に逆ってシール受けに押し付け る。水平分力がそれによって発生し、検出ユニット95の中心の近くに置かれこ れを取り囲むシール108をユニット98をハウジング98の内部で共心的に固 定する様強制する。ユニット95およびテーパー110に対して押し付けられて 、シール108も槽100の入口88.出口9oとの間のガスの漏洩を防止する 。か\る漏洩はさもなければ槽100のユニット95を通るサンプル流をバイパ スしそのサンプル流における水分1変の誤った計算を引き起すことになるだろう 。
スクリュー112とテーパー110の組み合せにより発生される力を有用に適用 するために、シール108は圧縮性でなければならない。シール108は通常ガ ラスである検出ユニット95を安全に保持する様に柔軟でなければならない。
従ってシール108に対する適当な材料はテフロン等のプラスチック材料を包含 する。高純度のガスシステムからすべてのプラスチック材料を除去することが理 想的であろう。プラスチ1クシール1o8.スクリ、−112およびテーパー1 10を対向流配設と組み合わせることは実際のシステムにおいてその理想に近づ く。
電極ワイヤーを電解槽1oOの外部の他の電気接点(図示せず)に運搬するため の電気絶縁材を提供し、電極リードが槽100を通過する場所で漏洩障壁を提供 するために、一対の電気絶縁アセンブリー140が気密にハウジング98に固定 されている(第5図参I)ilり。絶縁アセンブリー140は第4図で円135 で示される軸方向位置にハウジング98内に水平に配置し得る。
第5図は電気絶縁体アセンブリー140をハイライトする第4図に示される電解 槽の横断面図である。アセンブIJ−140は漏洩気密の電気絶縁体および溶接 可能のセラミックフィードスルーを提供する。第5図は電気絶縁アセンブリー1 4oを詳細に示している。対照的に、絶縁体アセンブリー140は第4図の平面 に垂直に配置されており従って第4図には詳細に示されていない。
電気絶縁体アセンブリー140の一実施例においては、溶接リップ142かハウ ジング98に接続されるために設けられている。接続142は典型的にセラミッ クスより作られた絶縁ブロック144を気密に保持する。電気ターミナル146 が絶縁ブロック144の中心を通って配置されている。この場合中空の金属チュ ーブの形状で、ターミナル146はハウジング98の内部からハウジング98上 の接続142の外部へ伸ひている。ターミナル146の内部では、電極ワイヤー ]、56.158かハウジング98の内部からハウジング98の外部へ運搬され る。
半田148か漏洩気密にターミナル146の端部を閉じず電極ワイヤー156゜ 158をこれらのターミナルに電気的に接続する。かくして電極ワイヤー156 ゜158は外部の電気的装置に更に電気的に接続することができる。
ワイヤー156,158は螺旋状にユニット95の内部をカバーし遂にユニ。
[・95の出口96に到達する。一旦ユニ、ト95の外部に出ると、ワイヤー1 56.158はターミナル146のそれぞれに入る様に進む。第5図に示す様に 、ワイヤー156.158はターミナル146に到達するためにユニット95の 外部に沿って進む。小さい円筒形の収縮チューブ150がワイヤー156,15 8を保持しワイヤーとカスナツトとの間の接触を防止する。
流体中の水分含有量の測定のための本発明のシステムおよび方法は容積比5PI )b (]、 O億分の5部分)のオーダーの低レベル水分分析に有効であるか 、本発明はより高い水分1度の測定にも適用可能であることが理解されるだろう 。本発明の詳細は電解槽に関して上に記述されているけれども、対向流形態は他 のタイプの水分測定装置および方法に適用され得ることは理解されるべきである 。更により一般的には、本発明の対向流形態はガス中の水分あるいはその他の不 純物を測定し、水分に敏感なあるいは上述した様にその他の不純物に敏感な構成 部品を含有する分析器およびか\る装置を使用する方法の両方に適用可能である 。
本発明の上述の実施例は一例に過ぎないこと又各種の変更が添付の請求の範囲に よって限定される本発明の範囲から逸脱することなくか\る実施例の各種の変形 を行い得ることか理解される。
FIG、1 FIG、2a FIG、2b FIG、3 FIG、5 国際調査報告

Claims (18)

    【特許請求の範囲】
  1. 1.ガス流を使用し前記ガス流中の1構成要素を測定する手段を含むセンサーを 有する分析装置に対する対向流装置において、前記ガス流に対する入口,前記ガ ス流に対する出口,前記入口・前記出口の間に配置され不純物を放出する少くと も1つの要素、および少くとも前記ガス流の一部分を前記分析装置の前記センサ ーの前記測定手段に接触することなく対向流として前記の少くとも一つの不純分 放出要素の方向および前記出口の外側へ振り向ける手段よりなる対向流装置。
  2. 2.前記の不純分が水分である請求の範囲第1項に記載の装置。
  3. 3.前記の分析装置が湿度計であり、前記のガス流の前記の測定要素が水分であ る請求の範囲第2項に記載の装置。
  4. 4.前記ガス流の前記の対向流を形成しない残余はサンプルガス流を形成し、前 記のセンサーは前記のサンプルガス流に対する入口および出口を持ち、前記の少 なくとも一つの水分放出要素は前記の対向流において前記のセンサーの前記の入 口の下流に存在し、前記の対向流は前記のセンサーに入ることなく前記の分析装 置の前記の出口を出る様に構成された請求の範囲第3項記載の装置。
  5. 5.前記のセンサーは入口および出口を持ち、前記のガス流の少なくとも一部分 が前記のセンサーの入口に入りサンプルガス流を形成し、前記のサンプルガス流 が前記のセンサーの出口を出るや否や前記の対向流を形成し、前記の少なくとも 一つの水分放出要素は前記の対向流中において前記センサーの前記出口の下流に 存在し、そして前記の対向流は前記のセンサーの前記の測定手段に更に接触する ことなく前記の分析装置の前記の出口を出る様に構成された請求の範囲第3項に 記載された装置。
  6. 6.更に前記のセンサーに対するハウジング、および前記のハウジング中に前記 のセンサーを保持するために部分的に前記のセンサーを取り囲む柔軟材料で前記 の分析装置の前記の入口と前記の出口の間に置かれた不純分を放出する前記の少 なくとも一つの要素を構成する柔軟材料よりなる請求の範囲第4項記載の装置。
  7. 7.更に前記のセンサーに対するハウジング、および前記のハウジング内に前記 のセンサーを固定するために部分的に前記のセンサーを取り囲み、前記の分析装 置の前記の入口および前記の出口の間に配置された不純分を放出する前記少なく とも一つの要素を構成する柔軟材料よりなる請求の範囲第5項に記載の装置。
  8. 8.前記の対向流を形成しない前記のガス流の残部はサンプルガス流を形成し、 前記のセンサーは前記のサンプルガス流れに対する入口および出口を有する筒形 導管、前記の導管の内面壁に螺旋状に並列に配置された電気的に隔離された一対 のワイヤーで前記の入口・前記の出口の間で前記のサンプルガス流れにさらされ た内壁の表面積の約半分をカバーする一対の電気的に隔離されたワイヤー、およ び前記のワイヤーの上の水分吸収被覆を包含する様に構成された請求の範囲第3 項記載の装置。
  9. 9.更に前記のセンサーに対するハウジング;および前記のハウジング内に前記 のセンサーを固定するために部分的に前記のセンサーを取り囲み前記の分析装置 の前記の入口と前記の出口の間に置かれた不純分を放出する前記の少なくとも一 つの要素を構成する柔軟材料よりなる請求の範囲第8項記載の装置。
  10. 10.前記の柔軟材料が前記のセンサーの前記の導管と前記のハウジングとの間 の圧縮タイプのシールを構成する請求の範囲第9項記載の装置。
  11. 11.更に電気信号を前記のセンサーへ及びセンサーから搬送するための電極, および前記の電極を気密に前記センサーに対する前記のハウジングを通過させる ための溶接可能な電気的フィードスルーよりなる請求の範囲第9項に記載の装置 。
  12. 12.前記の柔軟材料が前記の電極を埋め込むパッキング材料である請求の範囲 第11項に記載される装置。
  13. 13.更に第1の出口通路;前記のセンサーの前記の導管の前記の入口に前記の サンプルガス流が振り向けられる様に構成され、前記のセンサーの前記の導管の 出口は前記のサンプルガス流をそれが前記のセンサーを出る時に前記の柔軟材料 に向って振り向ける様に構成され、前記のガス流の前記部分が前記のセンサーを バイパスし、前記の第1の出口を通って前記の分析装置を出る前に前記の柔軟材 料を一面に蔽う対向流を形成する様構成された流入通路;および前記のセンサー を出る前記のサンプルガス流に対する出口を構成する2番目の出口流路よりなる 請求の範囲第9項に記載される装置。
  14. 14.前記の振り向け手段は前記の対向流を前記の柔軟材料上に導くための前記 の導管と前記のハウジングとの間に設けられた導入スリーブで前記スリーブの外 側と前記ハウジングとの間の前記の対向流を前記の出口に向って再振り向けする スリーブを包含する請求の範囲第9項に記載の装置。
  15. 15.更に前記のサンプルガスが前記の出口に到達する前に前記のセンサーを去 る前記のサンプルガス流を前記の柔軟材料の方へ再振り向けするための前記セン サーの前記導管の前記出口の下に設けられたダムよりなる請求の範囲第9項に記 載される装置。
  16. 16.前記の導管はガラスであり、前記のハウジングは電気鍍金されたステンレ ススチールであり、そして前記の柔軟材料はエポキシ樹脂である請求の範囲第9 項に記載される装置。
  17. 17.前記のガス流を前記ガス流に含有される水分をセンサーのワイヤー上の被 覆中に吸収するに充分な時間請求の範囲第9項の装置を通過させる、前記の水分 を電気分解する、および水分の量を前記の電気分解を実施するに必要な電流の関 数として記録することによりなるガス流中の水分濃度を決定するためのプロセス 。
  18. 18.前記の柔軟材料を対向流で一面に蔽うことよりなる請求の範囲第9項の装 置におけるガスの脱離を減少するためのプロセス。
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