JPH0650814A - 多スペクトル反射率計 - Google Patents
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- JPH0650814A JPH0650814A JP2780991A JP2780991A JPH0650814A JP H0650814 A JPH0650814 A JP H0650814A JP 2780991 A JP2780991 A JP 2780991A JP 2780991 A JP2780991 A JP 2780991A JP H0650814 A JPH0650814 A JP H0650814A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 拡散反射鏡により、光スペクトルの選定領域
における光吸収を測定する反射率計であって、体液内に
存在する成分により吸収を高精度に測定するのに適す
る。 【構成】 被測定試料は、該試料の表面に対して45゜
の角度で収束光源により照射される。試料面の法線を中
心軸として拡散反射された光は、小円柱状の光ファイバ
束に入射する。光ファイバ束の反対端において、複数本
の光ファイバは、細い矩形状に配置される。この矩形
は、ホログラフィック凹面回折格子の入口スリットを形
成する。格子は、入口スリットの複数の像をフィルム上
または複数の個別検出器から成るアレイ上にスペクトル
を記録するのに適当な平らなフィールドの全体に亘って
スペクトル的に分割して形成する。
における光吸収を測定する反射率計であって、体液内に
存在する成分により吸収を高精度に測定するのに適す
る。 【構成】 被測定試料は、該試料の表面に対して45゜
の角度で収束光源により照射される。試料面の法線を中
心軸として拡散反射された光は、小円柱状の光ファイバ
束に入射する。光ファイバ束の反対端において、複数本
の光ファイバは、細い矩形状に配置される。この矩形
は、ホログラフィック凹面回折格子の入口スリットを形
成する。格子は、入口スリットの複数の像をフィルム上
または複数の個別検出器から成るアレイ上にスペクトル
を記録するのに適当な平らなフィールドの全体に亘って
スペクトル的に分割して形成する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、光のスペクトルの複数
の選定領域における光吸収を拡散反射鏡によって測定す
る装置に関し、特に、ホログラフィック格子および光検
出器アレイを使用する反射率計に関する。
の選定領域における光吸収を拡散反射鏡によって測定す
る装置に関し、特に、ホログラフィック格子および光検
出器アレイを使用する反射率計に関する。
【0002】
【従来の技術】吸収性分析物質を含む試料の特定波長で
の拡散反射率(反射率密度DR)の負の対数と試料中の
分析物質の濃度Cとの間には、非直線性であるが因果的
な以下に示す関係がある。すなわち、
の拡散反射率(反射率密度DR)の負の対数と試料中の
分析物質の濃度Cとの間には、非直線性であるが因果的
な以下に示す関係がある。すなわち、
【数1】 および
【数2】 である。
【0003】代表的なDR /濃度の曲線が第1図に示さ
れている。
れている。
【0004】したがって、既知試料から拡散する反射エ
ネルギを一の特定波長で測定することにより、既知波長
において関数f(C)が事前に知られている場合には、
同試料内に存在する吸収性分析物質の濃度を測定でき
る。DR /C曲線は、通常、既知濃度の分析物質の標準
液を用いて確定される。
ネルギを一の特定波長で測定することにより、既知波長
において関数f(C)が事前に知られている場合には、
同試料内に存在する吸収性分析物質の濃度を測定でき
る。DR /C曲線は、通常、既知濃度の分析物質の標準
液を用いて確定される。
【0005】波長帯は、分析物質固有のものであり、分
析物質の溶液の成分分子に基づいて選定される。波長帯
は、しばしば、吸収スペクトルにより実験的に確定さ
れ、傾き変化率が最大の点で採取される。
析物質の溶液の成分分子に基づいて選定される。波長帯
は、しばしば、吸収スペクトルにより実験的に確定さ
れ、傾き変化率が最大の点で採取される。
【0006】
【発明の要約】本発明の目的は、既知試料から特定波長
で拡散反射するエネルギを一の波長帯に亘って高精度に
測定できる小型計器を提供することである。
で拡散反射するエネルギを一の波長帯に亘って高精度に
測定できる小型計器を提供することである。
【0007】上記目的は、以下の5つの主要構成要素を
有する多スペクトル反射率計を提供することにより達成
される。すなわち、1. 既知波長での反射率を測定す
べき試料の画定領域を照明する照明システム。2.
上記試料からの反射エネルギを収集し他端において凹面
格子のための矩形入口スリットを形成する光ファイバ型
集光システム。3. 光ファイバ束の入口スリットによ
って伝送されたスライドからの反射エネルギを受容した
後、その複数の成分波長にスペクトル平面上で分散させ
るホログラフィック記録凹面格子。4. スペクトル平
面に配置された各波長での回折エネルギを検出する光検
出器アレイ。5. 種々の波長において光検出器により
発生された光電流を処理し、既知波長帯域幅内の反射率
値に対応する数値データに変換する電子回路。
有する多スペクトル反射率計を提供することにより達成
される。すなわち、1. 既知波長での反射率を測定す
べき試料の画定領域を照明する照明システム。2.
上記試料からの反射エネルギを収集し他端において凹面
格子のための矩形入口スリットを形成する光ファイバ型
集光システム。3. 光ファイバ束の入口スリットによ
って伝送されたスライドからの反射エネルギを受容した
後、その複数の成分波長にスペクトル平面上で分散させ
るホログラフィック記録凹面格子。4. スペクトル平
面に配置された各波長での回折エネルギを検出する光検
出器アレイ。5. 種々の波長において光検出器により
発生された光電流を処理し、既知波長帯域幅内の反射率
値に対応する数値データに変換する電子回路。
【0008】上記照明システムは、ハロゲンランプと、
該ハロゲンランプの後方に配置された球面鏡(2色性球
面鏡が望ましい)と、ハロゲンランプの前方に配置され
た1対のレンズおよび熱フィルタとから成ることが望ま
しい。レンズは、ハロゲンランプからの光スポットを試
料スライド上へ収束させる。
該ハロゲンランプの後方に配置された球面鏡(2色性球
面鏡が望ましい)と、ハロゲンランプの前方に配置され
た1対のレンズおよび熱フィルタとから成ることが望ま
しい。レンズは、ハロゲンランプからの光スポットを試
料スライド上へ収束させる。
【0009】本発明の反射率計は、主として比色測定の
ために開発されたものであるが、少し変更された、すな
わち、照明システムをろ波することにより、測定される
分析物質の特定蛍光励起波長を得ることによるけい光測
定を含むイムノアッセイ測定の分野において広い適用分
野を見出すであろう。反射率計は、種々の波長での反射
率(代表例として、340nm〜700nm)を測定す
るので、特有吸収波長帯域を同定するために、または、
逆に、既知試料中の特定の化合物の存否を同定するため
に実験室研究用計器としても適当であろう。
ために開発されたものであるが、少し変更された、すな
わち、照明システムをろ波することにより、測定される
分析物質の特定蛍光励起波長を得ることによるけい光測
定を含むイムノアッセイ測定の分野において広い適用分
野を見出すであろう。反射率計は、種々の波長での反射
率(代表例として、340nm〜700nm)を測定す
るので、特有吸収波長帯域を同定するために、または、
逆に、既知試料中の特定の化合物の存否を同定するため
に実験室研究用計器としても適当であろう。
【0010】
【好適な実施例の詳細な説明】まず、第2図を参照すれ
ば判るように、全体が参照番号10で表示された本発明
の反射率計は、5個の主要構成要素を有する。すなわ
ち、これらは、照明システム100、光ファイバ型集光
システム200,ホログラフィック凹面格子300、光
検出器アレイ400、および電子処理回路(図示せず)
である。
ば判るように、全体が参照番号10で表示された本発明
の反射率計は、5個の主要構成要素を有する。すなわ
ち、これらは、照明システム100、光ファイバ型集光
システム200,ホログラフィック凹面格子300、光
検出器アレイ400、および電子処理回路(図示せず)
である。
【0011】照明システム100は、試料30(スライ
ド内に格納されていることが望ましい)が照射されるよ
うに、ハウジング20上に配置されている。試料30か
ら拡散反射した光エネルギは、収集されたエネルギを矩
形スリットの形状とし凹面回折格子300に向ける光フ
ァイバ型集光システム200により集められる。凹面回
折格子300は、スペクトル平面上において反射エネル
ギをその複数の成分波長に分散させる。光検出器アレイ
400は、スペクトル平面に配置され、各波長での反射
エネルギを検出する。電子回路(後述する)は、光検出
器アレイ400により発生された種々の波長での光電流
を処理し、既知波長帯域幅内で、反射率値に対応する数
値データに変換する。
ド内に格納されていることが望ましい)が照射されるよ
うに、ハウジング20上に配置されている。試料30か
ら拡散反射した光エネルギは、収集されたエネルギを矩
形スリットの形状とし凹面回折格子300に向ける光フ
ァイバ型集光システム200により集められる。凹面回
折格子300は、スペクトル平面上において反射エネル
ギをその複数の成分波長に分散させる。光検出器アレイ
400は、スペクトル平面に配置され、各波長での反射
エネルギを検出する。電子回路(後述する)は、光検出
器アレイ400により発生された種々の波長での光電流
を処理し、既知波長帯域幅内で、反射率値に対応する数
値データに変換する。
【0012】以下、本発明の各構成要素について更に詳
しく説明する。
しく説明する。
【0013】照明システム100は、ランプ120、2
色性球面状凹面鏡130、および1対のレンズ140お
よび150から成り、これらは、全てハウジング160
内に取り付けられている。ランプ120は、光源として
使用されている。球面状凹面鏡130(望ましくは、2
色性)は、レンズ140および150がランプ120の
後側および前側から光を得るように、ランプ120の後
方に配置されている。ランプ120からの直射光と反射
光との複合光は、直径に対する焦点距離の比(f数)が
約0.6〜1.0となり得るレンズ系によって収束され
る。図示された実施例によれば、2個のレンズ140お
よび150は、ランプ120の前方に配置され、約1.
0のf数を有し、球面状凹面鏡130は、ランプ120
と同心となる曲率中心を有する凹面鏡である。ランプ放
射は、4mm直径の試料面積で試料30に照射される。
色性球面状凹面鏡130、および1対のレンズ140お
よび150から成り、これらは、全てハウジング160
内に取り付けられている。ランプ120は、光源として
使用されている。球面状凹面鏡130(望ましくは、2
色性)は、レンズ140および150がランプ120の
後側および前側から光を得るように、ランプ120の後
方に配置されている。ランプ120からの直射光と反射
光との複合光は、直径に対する焦点距離の比(f数)が
約0.6〜1.0となり得るレンズ系によって収束され
る。図示された実施例によれば、2個のレンズ140お
よび150は、ランプ120の前方に配置され、約1.
0のf数を有し、球面状凹面鏡130は、ランプ120
と同心となる曲率中心を有する凹面鏡である。ランプ放
射は、4mm直径の試料面積で試料30に照射される。
【0014】ランプ120は、例えば、3,000゜K
の色温度で2,000時間の寿命を有し1.2mm(直
径)×2.9mm(長さ)のフィラメント寸法を有す
る。ギルウェイL7394(6V,20W)のような小
形ハロゲンランプであることが望ましい。ランプ120
は、適当なセラミック製ソケット(例えば、ギルウェイ
H9941ソケット)に取付けられ、容易に取外し/交
換するためにバヨネットピンを用いてウオンド内に組込
まれている。
の色温度で2,000時間の寿命を有し1.2mm(直
径)×2.9mm(長さ)のフィラメント寸法を有す
る。ギルウェイL7394(6V,20W)のような小
形ハロゲンランプであることが望ましい。ランプ120
は、適当なセラミック製ソケット(例えば、ギルウェイ
H9941ソケット)に取付けられ、容易に取外し/交
換するためにバヨネットピンを用いてウオンド内に組込
まれている。
【0015】凹面鏡130は、25mmの半径を有する
2色性球面鏡であることが望ましい。望ましいランプお
よび2色性鏡(これも、ギルウェイから入手できる)の
スペクトルエネルギ分布は、第3図に示されている。
2色性球面鏡であることが望ましい。望ましいランプお
よび2色性鏡(これも、ギルウェイから入手できる)の
スペクトルエネルギ分布は、第3図に示されている。
【0016】レンズ・熱フィルタ配置の分解図は、第4
図に示されている。熱フィルタ160は、ショットBG
40(二酸化シリコン被覆フィルタ)である。
図に示されている。熱フィルタ160は、ショットBG
40(二酸化シリコン被覆フィルタ)である。
【0017】試料30は、通常、従来のスライド(図示
せず)内に格納されている。スライドは、試料30から
拡散反射された放射を集めるコレクタ200の上方に配
置されたのぞき窓(図示せず)内に手で装着される。照
明システム100は、試料30の約4mm直径の領域
(中心にある)を照射する。スライドへの光の入射角
は、光ファイバ束の受入れ角内にあるべきではない。図
示された実施例によれば、入射角は、45゜である。
せず)内に格納されている。スライドは、試料30から
拡散反射された放射を集めるコレクタ200の上方に配
置されたのぞき窓(図示せず)内に手で装着される。照
明システム100は、試料30の約4mm直径の領域
(中心にある)を照射する。スライドへの光の入射角
は、光ファイバ束の受入れ角内にあるべきではない。図
示された実施例によれば、入射角は、45゜である。
【0018】ランプ120から発した光が低温および効
率的方法で試料30に収束されるモードを第15図およ
び第16図に関連して説明する。フィラメントコイル軸
を光軸に対して15゜にすると、結像した像32は、3
mm×2.1mmの寸法を有する45゜の楕円を満たす
ように出現する。像32の反射像は、両端コイルの直径
がそれぞれ2mmおよび2.2mmの円錐台に歪められ
る。収束レンズ組立体は、この歪みを約50%拡大し、
第15図に示されているように、収差によって試料表面
上で焦点をぼやけさせ、45゜の角度で見られる最終像
において3mmの円形スポットを生じる。
率的方法で試料30に収束されるモードを第15図およ
び第16図に関連して説明する。フィラメントコイル軸
を光軸に対して15゜にすると、結像した像32は、3
mm×2.1mmの寸法を有する45゜の楕円を満たす
ように出現する。像32の反射像は、両端コイルの直径
がそれぞれ2mmおよび2.2mmの円錐台に歪められ
る。収束レンズ組立体は、この歪みを約50%拡大し、
第15図に示されているように、収差によって試料表面
上で焦点をぼやけさせ、45゜の角度で見られる最終像
において3mmの円形スポットを生じる。
【0019】試料30から拡散反射された光は、コレク
タ200により集光される。コレクタ200は、ハウジ
ング250内に取付けられた光ファイバ束であることが
望ましい。コレクタ200は、スリット寸法を通じて伝
送できるだけの光エネルギを集め後述する凹面格子30
0の全面を満たす。これを実現するためには、各光ファ
イバは、光ファイバ束の他端に面した格子が張る立体角
に等しいか、または、これよりも大きい立体角を張る源
からの光に備え、これを伝送しなければならない。光フ
ァイバ束の受容能力、すなわち、開口数は、本装置が必
要とする大きさの1と1/2倍〜2倍であることが望ま
しい。したがって、各光ファイバが凹面格子300の全
面に光を伝送するように、光ファイバ群を源に十分接近
して配置することのみが残された解決法である。凹面格
子300の過剰充満は、本装置中の散乱光を減少させる
ために、いずれも、遮断され、または、吸収されるべき
である。
タ200により集光される。コレクタ200は、ハウジ
ング250内に取付けられた光ファイバ束であることが
望ましい。コレクタ200は、スリット寸法を通じて伝
送できるだけの光エネルギを集め後述する凹面格子30
0の全面を満たす。これを実現するためには、各光ファ
イバは、光ファイバ束の他端に面した格子が張る立体角
に等しいか、または、これよりも大きい立体角を張る源
からの光に備え、これを伝送しなければならない。光フ
ァイバ束の受容能力、すなわち、開口数は、本装置が必
要とする大きさの1と1/2倍〜2倍であることが望ま
しい。したがって、各光ファイバが凹面格子300の全
面に光を伝送するように、光ファイバ群を源に十分接近
して配置することのみが残された解決法である。凹面格
子300の過剰充満は、本装置中の散乱光を減少させる
ために、いずれも、遮断され、または、吸収されるべき
である。
【0020】適当な光ファイバ型コレクタ200が第5
図〜第7図に示されている。コレクタ200は、有孔気
密ハウジング210を含む。両端部220および230
内に、光ファイバ群がエポキシ樹脂により所定位置に保
持されている。他方、中央部240内のファイバ群は、
可撓性を維持している(すなわち、固定されていな
い)。第6図に分り易く示されているように、円形横断
面を有する端部220は、照明された試料30から反射
されたエネルギを集めるのに使用される。第7図の端面
図から理解できるように、矩形横断面を有する端部23
0は、凹面回折格子300への入口スリットとして機能
する。コレクタ200は、250本の光ファイバを含ん
でいてもよい。各光ファイバは、50μmの直径および
0.6の開口数を有する。端部230において、光ファ
イバ群は、各列が少なくとも50本の光ファイバから成
る少なくとも2列に配置されることが望ましく、好適な
実施例によれば5列に配置され、矩形スリットの形状を
形成する。
図〜第7図に示されている。コレクタ200は、有孔気
密ハウジング210を含む。両端部220および230
内に、光ファイバ群がエポキシ樹脂により所定位置に保
持されている。他方、中央部240内のファイバ群は、
可撓性を維持している(すなわち、固定されていな
い)。第6図に分り易く示されているように、円形横断
面を有する端部220は、照明された試料30から反射
されたエネルギを集めるのに使用される。第7図の端面
図から理解できるように、矩形横断面を有する端部23
0は、凹面回折格子300への入口スリットとして機能
する。コレクタ200は、250本の光ファイバを含ん
でいてもよい。各光ファイバは、50μmの直径および
0.6の開口数を有する。端部230において、光ファ
イバ群は、各列が少なくとも50本の光ファイバから成
る少なくとも2列に配置されることが望ましく、好適な
実施例によれば5列に配置され、矩形スリットの形状を
形成する。
【0021】本装置の最重要な要素は、格子である。格
子の凹面球面形状によれば、格子は、コレクタ200の
スリット端部230を通じて該格子に照射された反射エ
ネルギを光検出器アレイ上に結像する最重要な機能を果
たす。すなわち、格子は、スペクトル面上でエネルギを
その複数の成分波長に分散させる。この結像機能は、代
表的な場合、2個の重大な欠点を有する。すなわち、直
径が格子の半径に等しいローランド円上のスペクトル像
面の曲率、および、スリット像の収差(主として非点収
差)である。刻線もしくは複製凹面格子を製造する方法
は、2つの欠点、すなわち、溝形成面の凹凸からの分散
光および周期的空間変動によるゴーストをも有する。
子の凹面球面形状によれば、格子は、コレクタ200の
スリット端部230を通じて該格子に照射された反射エ
ネルギを光検出器アレイ上に結像する最重要な機能を果
たす。すなわち、格子は、スペクトル面上でエネルギを
その複数の成分波長に分散させる。この結像機能は、代
表的な場合、2個の重大な欠点を有する。すなわち、直
径が格子の半径に等しいローランド円上のスペクトル像
面の曲率、および、スリット像の収差(主として非点収
差)である。刻線もしくは複製凹面格子を製造する方法
は、2つの欠点、すなわち、溝形成面の凹凸からの分散
光および周期的空間変動によるゴーストをも有する。
【0022】ホログラフィー記録回折格子は、機械的手
段によってでなく、後の現像処理およびアルミニウム被
覆によって格子の面となる、2本のレーザビームによっ
て作られた3次元干渉パターンによって製作される。こ
の方法は、限定されているが、十分な波長範囲および分
散の全体に亘る平らなスペクトルを有する格子を製作す
る。主収差、すなわち、非点収差は、マグニチュードの
次数によって低減され、散乱は、顕著に低減され、ゴー
ストは、除去される。これらのタイプの格子は、レーナ
ーその他による「刻線回折格子およびホログラフィック
回折格子レビュー」、スピー巻240、周期性構造物、
格子、モアレパターンおよび回折現象(1980)で論
じられており、この引用により本明細書に組入れられ
る。
段によってでなく、後の現像処理およびアルミニウム被
覆によって格子の面となる、2本のレーザビームによっ
て作られた3次元干渉パターンによって製作される。こ
の方法は、限定されているが、十分な波長範囲および分
散の全体に亘る平らなスペクトルを有する格子を製作す
る。主収差、すなわち、非点収差は、マグニチュードの
次数によって低減され、散乱は、顕著に低減され、ゴー
ストは、除去される。これらのタイプの格子は、レーナ
ーその他による「刻線回折格子およびホログラフィック
回折格子レビュー」、スピー巻240、周期性構造物、
格子、モアレパターンおよび回折現象(1980)で論
じられており、この引用により本明細書に組入れられ
る。
【0023】本発明に適したホログラフィー記録格子
(HRD)は、外径40mm〜200mm、溝本数密度
200本/mm〜600本/mmであることが望まし
い。溝本数密度310本/mm、外径50mmおよび曲
率半径100mmの合格格子は、インスツルメント エ
ス・エーから入手できる。インスツルメント エス・エ
ーから入手できる他の適当な格子は、溝本数密度320
本/mm、外径28mmおよび曲率半径40mmであ
る。特定スペクトル線の0次像からの距離は、1次の基
本格子方程式から計算される。
(HRD)は、外径40mm〜200mm、溝本数密度
200本/mm〜600本/mmであることが望まし
い。溝本数密度310本/mm、外径50mmおよび曲
率半径100mmの合格格子は、インスツルメント エ
ス・エーから入手できる。インスツルメント エス・エ
ーから入手できる他の適当な格子は、溝本数密度320
本/mm、外径28mmおよび曲率半径40mmであ
る。特定スペクトル線の0次像からの距離は、1次の基
本格子方程式から計算される。
【数3】 ここで、nは、μm当りの溝本数であり、λは、μm単
位の波長であり、角度は、第8図に示されている通りで
ある。第8図は、凹面回折格子300に対する格子角度
を示している。
位の波長であり、角度は、第8図に示されている通りで
ある。第8図は、凹面回折格子300に対する格子角度
を示している。
【数4】 および散乱は、以下の式により与えられる。
【数5】
【0024】溝本数密度310本/mmの好適な格子に
対するスペクトル線の計算位置は、表Iにより以下のよ
うに示される。
対するスペクトル線の計算位置は、表Iにより以下のよ
うに示される。
【0025】光検出器アレイ400は、凹面回折格子3
00が試料30からの拡散反射エネルギを分散させるス
ペクトル平面上に配置されている。光検出器アレイ40
0は、ハウジング20に取付けられたサブハウジング4
10内に適当な手段によって取付けられるべきである。
00が試料30からの拡散反射エネルギを分散させるス
ペクトル平面上に配置されている。光検出器アレイ40
0は、ハウジング20に取付けられたサブハウジング4
10内に適当な手段によって取付けられるべきである。
【0026】光検出器アレイ400は、浜松ホトニクス
から入手できる256画素PCD直線イメージセンサ
(S2301−256Q)であってもよい。このような
光検出器アレイによれば、各フォトダイオード素子は、
36μm×2.5mmの大きさであり、50μmのピッ
チを有する。各フォトダイオード素子に対する飽和照射
は、約100PJである。最大積分時間は、約6msと
計算され、20pC.の飽和電荷を生じる。ノイズは、
約21.1℃(=70゜F)で約1×10−3pC.
(rms)と評価される。したがって、光検出器のダイ
ナミックレンジは、86dBである。また、光検出器
は、温度および蓄積時間依存性の大暗出力を有する。約
21.1℃(=70゜F)の10msの積分時間におい
て、暗出力は、約0.13pC.である。しかし、この
出力は、温度トラックキング回路を有する増幅器におい
てオフセットすることができる。
から入手できる256画素PCD直線イメージセンサ
(S2301−256Q)であってもよい。このような
光検出器アレイによれば、各フォトダイオード素子は、
36μm×2.5mmの大きさであり、50μmのピッ
チを有する。各フォトダイオード素子に対する飽和照射
は、約100PJである。最大積分時間は、約6msと
計算され、20pC.の飽和電荷を生じる。ノイズは、
約21.1℃(=70゜F)で約1×10−3pC.
(rms)と評価される。したがって、光検出器のダイ
ナミックレンジは、86dBである。また、光検出器
は、温度および蓄積時間依存性の大暗出力を有する。約
21.1℃(=70゜F)の10msの積分時間におい
て、暗出力は、約0.13pC.である。しかし、この
出力は、温度トラックキング回路を有する増幅器におい
てオフセットすることができる。
【0027】第9図は、光検出器アレイ400からの信
号を駆動し処理するための電子回路のブロック線図であ
る。第10図は、駆動/増幅ボード410の詳細ブロッ
ク線図である。
号を駆動し処理するための電子回路のブロック線図であ
る。第10図は、駆動/増幅ボード410の詳細ブロッ
ク線図である。
【0028】駆動/増幅ボード410(C2325)
は、浜松ホトニクスから入手することができ、第11図
のタイミング線図に示された必要なすべての制御信号
(3相クロックおよびスタート)を生じる。第11図
中、実線は、「プラズマ結合素子−OFF」を示し、破
線は、「プラズマ結合素子−ON」を示し、3相クロッ
クφ1,φ2およびφ3のパルス幅は、クロックCLK
周期の4倍であり、B−EOSは、クロックφ2から得
られる。駆動/増幅ボード410は、電圧出力(最大6
V)が駆動/増幅ボード410から連続的に得られるよ
うに電荷積分および増幅器(第10図参照)をも含む。
「ビデオデータ」出力端における総利得は、3×101
1V/クローンである。駆動/増幅ボード410は、第
12図の最上位置に示された回路を有するコントローラ
ボード420により供給される外部クロックおよびスタ
ートパルスを必要とする。ボード410も、±15Vお
よび+5Vの電源を必要とする。
は、浜松ホトニクスから入手することができ、第11図
のタイミング線図に示された必要なすべての制御信号
(3相クロックおよびスタート)を生じる。第11図
中、実線は、「プラズマ結合素子−OFF」を示し、破
線は、「プラズマ結合素子−ON」を示し、3相クロッ
クφ1,φ2およびφ3のパルス幅は、クロックCLK
周期の4倍であり、B−EOSは、クロックφ2から得
られる。駆動/増幅ボード410は、電圧出力(最大6
V)が駆動/増幅ボード410から連続的に得られるよ
うに電荷積分および増幅器(第10図参照)をも含む。
「ビデオデータ」出力端における総利得は、3×101
1V/クローンである。駆動/増幅ボード410は、第
12図の最上位置に示された回路を有するコントローラ
ボード420により供給される外部クロックおよびスタ
ートパルスを必要とする。ボード410も、±15Vお
よび+5Vの電源を必要とする。
【0029】コントローラ/メモリ420(第12図に
詳しく示されている)は、3つの主要な目的を達成す
る。すなわち、(1) 浜松ホトニクスの駆動/増幅ボ
ード410に対してクロックおよびスタートパルスを供
給すること、(2) アナログプロセッサ430に対し
て全ての制御信号を供給すること、および、(3) 非
揮発性RAM426に全ての波長校正データおよびチャ
ネルの利得/オフセットのデータを格納することであ
る。
詳しく示されている)は、3つの主要な目的を達成す
る。すなわち、(1) 浜松ホトニクスの駆動/増幅ボ
ード410に対してクロックおよびスタートパルスを供
給すること、(2) アナログプロセッサ430に対し
て全ての制御信号を供給すること、および、(3) 非
揮発性RAM426に全ての波長校正データおよびチャ
ネルの利得/オフセットのデータを格納することであ
る。
【0030】駆動/増幅ボード410が必要とする12
5kHzのクロックは、2MHzの水晶発振器421お
よび2進カウンタ分周器422から導出される。駆動/
増幅ボード410は、一の素子から次の素子へ走査する
ために4個のクロックパルスを必要とする。空間ドメイ
ン上の各素子は、時間ドメインの32μsに対応する。
スタートパルスは、14ビットカウンタ分周器425を
通って1028個のクロックパルス毎の後に発生する。
残りのコントローラ機能は、非揮発性RAM426によ
ってデータ入力が行われるプログラマブルカウンタ42
4によって、ほとんど実現される。
5kHzのクロックは、2MHzの水晶発振器421お
よび2進カウンタ分周器422から導出される。駆動/
増幅ボード410は、一の素子から次の素子へ走査する
ために4個のクロックパルスを必要とする。空間ドメイ
ン上の各素子は、時間ドメインの32μsに対応する。
スタートパルスは、14ビットカウンタ分周器425を
通って1028個のクロックパルス毎の後に発生する。
残りのコントローラ機能は、非揮発性RAM426によ
ってデータ入力が行われるプログラマブルカウンタ42
4によって、ほとんど実現される。
【0031】各波長チャネルは、2組のデータ、すなわ
ち、第1に開始要素(Ns)および第2に波長チャネル
に含まれる要素の数(△N)を有する。第1の数は、位
置に対応し、第2の数は、光検出器アレイ上のチャネル
の帯域幅に対応する。下記表2は、チャネル数、およ
び、これに対応する位置および幅データを示す。
ち、第1に開始要素(Ns)および第2に波長チャネル
に含まれる要素の数(△N)を有する。第1の数は、位
置に対応し、第2の数は、光検出器アレイ上のチャネル
の帯域幅に対応する。下記表2は、チャネル数、およ
び、これに対応する位置および幅データを示す。
【表2】
【0032】これらのデータは、8ビット2進スイッチ
427を用いて、手動により波長復号非揮発性RAM4
26に書込まれる。これらのデータは、アナログプロセ
ッサ430の積分器が必要とする積分/保持(INT/
HLD)パルスを発生する波長カウンタ424および4
25に自動的にロードされる。
427を用いて、手動により波長復号非揮発性RAM4
26に書込まれる。これらのデータは、アナログプロセ
ッサ430の積分器が必要とする積分/保持(INT/
HLD)パルスを発生する波長カウンタ424および4
25に自動的にロードされる。
【0033】積分/保持パルスは、スタート(STR
T)パルスの後Ns×32μsにスタートし、△N×3
2μsの間ONのままである。積分/保持のコンプリメ
ントもアナログプロセッサ430に供給される。
T)パルスの後Ns×32μsにスタートし、△N×3
2μsの間ONのままである。積分/保持のコンプリメ
ントもアナログプロセッサ430に供給される。
【0034】波長チャネルは、手動で(瞬間トグルスイ
ッチを用いて)、または、スタートパルスにより常時ク
ロック信号が供給されるカウンタによって自動的に、一
方から他方へ切替えられる。チャネルデータは、光検出
器アレイ400が移動される毎に変更される。
ッチを用いて)、または、スタートパルスにより常時ク
ロック信号が供給されるカウンタによって自動的に、一
方から他方へ切替えられる。チャネルデータは、光検出
器アレイ400が移動される毎に変更される。
【0035】コントローラ420も、アナログプロセッ
サ430に対して標本/保持(S/H)信号を発生させ
る。この信号は、駆動/増幅ボード410からの走査終
了(EOS)パルスによってリセットされるフリップフ
ロップにより、積分/保持パルスから導出される。
サ430に対して標本/保持(S/H)信号を発生させ
る。この信号は、駆動/増幅ボード410からの走査終
了(EOS)パルスによってリセットされるフリップフ
ロップにより、積分/保持パルスから導出される。
【0036】第13図に詳細に示されたアナログプロセ
ッサ430は、3つの主な機能を有する。すなわち、
(1) 既知波長チャネル内での光検出器出力の積分
(合計)、(2) 種々の波長チャネルにおいてデジタ
ル制御利得およびオフセット調整を導入すること、およ
び、(3) アナログ・デジタル変換(A/D)用デジ
タルパネルメータ(DPM)のためにアナログデータを
標本化し保持することである。
ッサ430は、3つの主な機能を有する。すなわち、
(1) 既知波長チャネル内での光検出器出力の積分
(合計)、(2) 種々の波長チャネルにおいてデジタ
ル制御利得およびオフセット調整を導入すること、およ
び、(3) アナログ・デジタル変換(A/D)用デジ
タルパネルメータ(DPM)のためにアナログデータを
標本化し保持することである。
【0037】積分器431は、積分/保持信号が高の期
間のみ駆動/増幅ボード410からのビデオ出力を積分
し、第14図のタイミング線図に示されているように、
次のスタートパルスによってリセットされるまで積分値
を保持する。積分/保持信号の持続期間は、既知チャネ
ル内での波長帯域幅(光検出器アレイの要素の数も)に
正比例するので、積分器出力は、上記既知チャネルのレ
ンジ内において波長毎の反射率の積分に比例する。第2
の同一積分器432は、同一期間、光検出器の暗出力を
積分し保持する。その後、2個の積分・保持出力は、差
動アンプ433に供給される。したがって、差動アンプ
433の出力は、暗電流によるオフセットエラーがな
い。
間のみ駆動/増幅ボード410からのビデオ出力を積分
し、第14図のタイミング線図に示されているように、
次のスタートパルスによってリセットされるまで積分値
を保持する。積分/保持信号の持続期間は、既知チャネ
ル内での波長帯域幅(光検出器アレイの要素の数も)に
正比例するので、積分器出力は、上記既知チャネルのレ
ンジ内において波長毎の反射率の積分に比例する。第2
の同一積分器432は、同一期間、光検出器の暗出力を
積分し保持する。その後、2個の積分・保持出力は、差
動アンプ433に供給される。したがって、差動アンプ
433の出力は、暗電流によるオフセットエラーがな
い。
【0038】差動アンプ433の出力は、デジタル制御
ゲインアンプに入力される。このデジタル制御ゲインア
ンプは、乗除8ビットデジタル・アナログコンバータ
(DAC)435がフィードバックループに挿入された
オペアンプ434により実現される。したがって、デジ
タル制御ゲインアンプのゲインは、255/Dである。
Dは、デジタル入力(10進数等価)である。デジタル
入力は、ゲインデータが特定チャネルアドレスにある2
進スイッチ427を用いて手動で書込まれた非揮発性R
AM426から入力される。ゲインデータは、参照スラ
イドがのぞき窓に保持されたとき、全てのチャネル出力
を5Vで正規化することにより得られる。最終アナログ
出力は、デジタルデータに変換される前に標本化され保
持される(標本化/保持器436により)。標本化/保
持器436は、積分器431が積分出力を保持している
間のみ標本化し、積分器431が積分している間、保持
する。
ゲインアンプに入力される。このデジタル制御ゲインア
ンプは、乗除8ビットデジタル・アナログコンバータ
(DAC)435がフィードバックループに挿入された
オペアンプ434により実現される。したがって、デジ
タル制御ゲインアンプのゲインは、255/Dである。
Dは、デジタル入力(10進数等価)である。デジタル
入力は、ゲインデータが特定チャネルアドレスにある2
進スイッチ427を用いて手動で書込まれた非揮発性R
AM426から入力される。ゲインデータは、参照スラ
イドがのぞき窓に保持されたとき、全てのチャネル出力
を5Vで正規化することにより得られる。最終アナログ
出力は、デジタルデータに変換される前に標本化され保
持される(標本化/保持器436により)。標本化/保
持器436は、積分器431が積分出力を保持している
間のみ標本化し、積分器431が積分している間、保持
する。
【0039】アナログ・デジタル(A/D)変換は、デ
イテルから入手できる4と1/2桁デジタルパネルメー
タ440(第9図参照)内で生じる。コンバータは、変
換速度が最大3/sで100μV(16ビットカウンタ
において±2カウント)の分解能を有するデュアルスロ
ープ積分型である。
イテルから入手できる4と1/2桁デジタルパネルメー
タ440(第9図参照)内で生じる。コンバータは、変
換速度が最大3/sで100μV(16ビットカウンタ
において±2カウント)の分解能を有するデュアルスロ
ープ積分型である。
【0040】代表例 反射率計は、公知のスペクトル線を有する紫外線源を用
いてテストされた。光検出器アレイおよび格子が436
nm線に対して位置決めされ整列されたとき、他のスペ
クトル線(波長範囲全体において5本が存在する)は、
±1.5nm以内で同定することができた。
いてテストされた。光検出器アレイおよび格子が436
nm線に対して位置決めされ整列されたとき、他のスペ
クトル線(波長範囲全体において5本が存在する)は、
±1.5nm以内で同定することができた。
【0041】計器の読みは、デジタルパネルメータ出力
の読みが全ての波長チャネルに対して3.0000ボル
トであるように、各種のチャネルにおいてゲインを設定
することにより標準白スライドを用いて正規化された。
これらのゲイン設定値は、非揮発性RAM426に格納
された。その後、種々の着色スライド(赤、黄、緑およ
び青のマーカーペンにより着色された)がテストされ
た。予期した通り、テストは、赤に対して約660nm
で、黄に対して約630nmで、緑に対して約550n
mで、青に対して約450nmでピークを示した。
の読みが全ての波長チャネルに対して3.0000ボル
トであるように、各種のチャネルにおいてゲインを設定
することにより標準白スライドを用いて正規化された。
これらのゲイン設定値は、非揮発性RAM426に格納
された。その後、種々の着色スライド(赤、黄、緑およ
び青のマーカーペンにより着色された)がテストされ
た。予期した通り、テストは、赤に対して約660nm
で、黄に対して約630nmで、緑に対して約550n
mで、青に対して約450nmでピークを示した。
【0042】本発明は、好適な実施例に関連して説明さ
れたが、発明の範囲から逸脱することなく他の変形例が
当業者に明らかとなろう。したがって、本発明は明細書
中の具体的開示により限定されるのでなく、特許請求の
範囲にのみ限定されることが望ましい。
れたが、発明の範囲から逸脱することなく他の変形例が
当業者に明らかとなろう。したがって、本発明は明細書
中の具体的開示により限定されるのでなく、特許請求の
範囲にのみ限定されることが望ましい。
【図1】代表的な分析物質の反射率密度(DR )/分析
物質濃度のグラフである。
物質濃度のグラフである。
【図2】本発明の反射率計の側面図である。
【図3】本装置に使用できるランプおよび2色性鏡のス
ペクトルエネルギ分布を示すグラフである。
ペクトルエネルギ分布を示すグラフである。
【図4】本装置のレンズ・熱フィルタ配置を示す分解図
である。
である。
【図5】本装置の光ファイバ型コレクタの一部断面側面
図である。
図である。
【図6】第5図の6−6線に沿うコレクタ端面図であ
る。
る。
【図7】第5図の7−7線に沿うコレクタ端面図であ
る。
る。
【図8】像が格子によって入口スリットから光検出器ア
レイへ反射される際の反射角を示す図である。
レイへ反射される際の反射角を示す図である。
【図9】光検出器アレイを制御し該アレイから受信した
信号を処理する電子回路のブロック線図である。
信号を処理する電子回路のブロック線図である。
【図10】光検出器アレイの駆動回路/増幅器の概略ブ
ロック線図である。
ロック線図である。
【図11】駆動回路/増幅器回路のタイミングシーケン
ス図である。
ス図である。
【図12】コントローラ/メモリの回路のブロック線図
である。
である。
【図13】アナログプロセッサの回路図である。
【図14】アナログプロセッサによって行われる積分動
作のタイミングシーケンス図である。
作のタイミングシーケンス図である。
【図15】試料上に収束される光の光路図である。
【図16】試料上に収束される光の光路図である。
図1 1…反射率密度DR 2…濃度C 図3 1…透過率(%) 2…波長(NM) 3…相対エネルギ 図8 1…入口スリット 2…凹面格子 3…光検出器アレイ 図9 1…光検出器アレイ 2…スタート 3…ビデオ 4…浜松 駆動/増幅ボードC2325 5…ビデオデータ 6…トリガ 7…125kHzクロック 8…スタート 9…走査終了 10…積分/保持 11…利得データ(8ビット) 12…標本化/保持 420…非揮発性RAM付コントローラ 430…アナログプロセッサ 440…デジタルパネルメータ 図10 1…スタート 2…PCDイメージセンサ 3…走査終了 4…ビデオ 5…スタート 6…走査終了 7…ビデオ 8…走査スタート 9…クロック1 10…クロック2 11…クロック3 12…オペアンプ1 13…オペアンプ2 14…PCDイメージセンサ駆動回路 15…コントローラ 16…オペアンプ3 17…オペアンプ4 18…アース 19…クロック 20…スタート 21…トリガ 22…B−走査終了 23…ビデオモニタ 24…ビデオデータ 図11 1…クロック 2…スタート 3…スタート 4…アナログリセット(内部) 5…クランプ(内部) 6…トリガ 7…ビデオモニタ 8…ビデオデータ 9…B−走査終了 図12 1…押してチャネル前進させること 2…ゲート 3…データラッチ 4…D/Aコンバータコントローラ 5…6…7…自由運転手動 8…データラッチ 9…データラッチ 10…データラッチ 11…8ビット チャネル位置データ 12…4ビット チャネル幅データ 13…8ビット 利得データ 14…125kHzクロック 15…走査終了 16…スタート 17…トリガ 18…フリップフロップ 19…浜松ボードC2325へ 20…積分/保持 21…走査終了 22…フリップフロップ 23…標本化/保持 24…アナログプロセッサへ 421…2MHz水晶発振器 422…÷1Gカウンタ 423…HST÷1024カウンタ 424…8ビットLDカウンタ 425…4ビットLDカウンタ 426…非揮発性RAM 427…2進スイッチ群(8ビット) 図13 1…スタート 2…積分/保持 3…ビデオデータ 4…積分/保持 5…ポテンショメータ 6…ポテンショメータ 7…ポテンショメータ 8…ポテンショメータ 9…タップ1? 10…タップ2? 11…タップ3? 12…ポテンショメータ 13…利得データ 14…標本化/保持 15…タップ4? 16…デジタルパネルメータへ 反射率データ 17…保持コンデンサ 431…積分器 432…積分器 433…差動アンプ 434…オペアンプ 435…D/Aコンバータ 436…標本保持 図14 1…スタート 2…走査終了 3…積分/保持 4…積分 5…保持 6…標本化/保持 7…標本化 8…保持 9…標本化 10…第1積分器出力 11…第2積分器出力(暗オフセット) 12…デフアンプ 図15 1…光軸 2…最終イメージにおける試料表面上の3mm径スポッ
ト
ト
【表1】
Claims (10)
- 【請求項1】 光スペクトルの複数の選定領域における
試料による光吸収の測定装置であって、 試料照射手段と、 試料からの拡散反射エネルギを集める光ファイバ型コレ
クタであって、光ファイバ型コレクタの出口端の複数本
の光ファイバが矩形スリット状に配置された光ファイバ
型コレクタと、 ホログラフィック凹面回折格子であって、該ホログラフ
ィック凹面回折格子上に照射された反射エネルギを光フ
ァイバ型コレクタのスリットを通してスペクトル平面上
に反射エネルギの複数の成分波長として分散させるホロ
グラフィック凹面回折格子と、 スペクトル平面に配置された複数個の光検出器から成
り、分割されたエネルギをその種々の波長において検出
する光検出器アレイと、 上記種々の波長における光の存在に対応する上記複数の
光検出器により発生された複数の電気信号を処理し、一
の波長帯域幅内の反射率値に対応する数値データを得る
電気信号処理手段とから成る装置。 - 【請求項2】 試料照射手段は、 フィラメントを有するハロゲンランプと、 ハロゲンランプの後方に配置された2色性球面鏡と、 ハロゲンランプおよび2色性球面鏡の前方に配置され、
白熱するフィラメントの連続したアレイの重なった3次
元像を試料上に結像するレンズ系とから成る請求項1記
載の装置。 - 【請求項3】 電気信号処理手段は、 上記電気信号の光検出器からの読出しを制御するための
制御信号を発生する手段と、 光検出器から読出された上記電気信号を増幅する手段
と、 既知波長範囲内のエネルギを検出するように光検出器ア
レイ内に配置された光検出器から電気信号が読出されて
いる所定期間内に上記増幅電気信号を積分する手段と、 上記所定期間後に上記積分電気信号を標本化し保持する
手段と、 上記標本化され保持された積分電気信号をデジタルデー
タに変換する手段とから成る請求項1記載の装置。 - 【請求項4】 電気信号処理手段は、更に、 上記所定期間の間、光検出器の暗出力を積分し保持する
手段と、 上記所定期間の間、上記積分電気信号と上記光検出器と
の間の差を判定し上記光検出器内の暗出力によるオフセ
ットエラーを除去する手段とから成る請求項3記載の装
置。 - 【請求項5】 電気信号処理手段は、更に、 上記積分電気信号を増幅する手段から成り、暗電流によ
るオフセットエラーが上記光検出器間の電気信号出力の
大きさの差による、所定入力に対するエラーをオフセッ
トするように導出された利得係数によって除去される請
求項4記載の装置。 - 【請求項6】 電気信号処理手段は、更に、 電気信号処理手段内でなされる機能を調整するためにク
ロックパルス、および、タイミングパルスを供給する手
段を含む請求項3記載の装置。 - 【請求項7】 電気信号処理手段は、更に、 上記各既知波長範囲内にある光検出器の位置および数に
対応するデータを格納するメモリ手段を含み、一の既知
波長範囲に対する上記格納データは、光検出器からの上
記電気信号の読出し中に各カウンタ内へロードされ、上
記一の既知波長範囲に対する上記所定期間の開始および
終了を設定する請求項3記載の装置。 - 【請求項8】 光スペクトルの複数の選定領域における
試料による光吸収の測定方法であって、 光源からの光を用いて試料を照射する工程と、 試料から反射された光エネルギを光ファイバ型コレクタ
内へ集める工程であって、上記光ファイバ型コレクタの
スリット端部にある複数本の光ファイバが矩形スリット
の形状に配置された工程と、 矩形スリットを通過した反射エネルギをホログラフィッ
ク凹面回折格子上へ投射する工程と、 ホログラフィック凹面回折格子からエネルギを反射させ
ることにより、スペクトル平面上に反射エネルギをその
複数の成分波長に分割する工程と、 検出手段を用いて上記分割エネルギを検出する工程とか
ら成る方法。 - 【請求項9】 上記方法は、検出手段により発生された
複数の電気信号を処理し一の波長帯域幅内の一の反射率
値に対応する数値データを得る電気信号処理工程を含む
請求項8記載の装置。 - 【請求項10】 電気信号処理工程は、 検出手段から上記電気信号を連続して読出す工程と、 検出手段からの上記読出し電気信号を増幅する工程と、 一の既知波長範囲内のエネルギを検出するように検出手
段から電気信号が読出されている期間内に上記増幅電気
信号を積分する手段と、 上記所定期間後に、上記積分電気信号を標本化し保持す
る工程と、 上記標本化され保持された積分電気信号をデジタルデー
タに変換する工程とから成る請求項9記載の装置。
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US47207590A | 1990-01-30 | 1990-01-30 | |
| US47259190A | 1990-01-30 | 1990-01-30 | |
| US472591 | 1990-01-30 | ||
| US472075 | 1990-01-30 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0650814A true JPH0650814A (ja) | 1994-02-25 |
Family
ID=27043658
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2780991A Pending JPH0650814A (ja) | 1990-01-30 | 1991-01-29 | 多スペクトル反射率計 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0440443A3 (ja) |
| JP (1) | JPH0650814A (ja) |
| CA (1) | CA2035224A1 (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0984253A3 (en) * | 1998-09-03 | 2000-11-15 | Foss NIRSystems, Inc. | Spectroscopic instrument with offset grating |
| WO2002039094A1 (en) * | 2000-11-10 | 2002-05-16 | Arkray, Inc. | Measuring method and instrument comprising image sensor |
| US8184289B2 (en) | 2009-04-30 | 2012-05-22 | Canon Kabushiki Kaisha | Spectral colorimetric apparatus and color image forming apparatus using the same |
| US8462342B2 (en) | 2010-10-28 | 2013-06-11 | Canon Kabushiki Kaisha | Spectral colorimetric apparatus and image forming apparatus including the same |
| US8705154B2 (en) | 2009-04-30 | 2014-04-22 | Canon Kabushiki Kaisha | Spectral colorimetric apparatus and image forming apparatus using the same |
| US8851880B2 (en) | 2010-07-06 | 2014-10-07 | Faurecia Interior Systems, Inc. | Powder slush molding process and equipment |
| JP2015215196A (ja) * | 2014-05-09 | 2015-12-03 | 株式会社島津製作所 | 分光センサ |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5387977A (en) * | 1991-09-04 | 1995-02-07 | X-Rite, Incorporated | Multiangular color measuring apparatus |
| US5352582A (en) * | 1993-10-28 | 1994-10-04 | Hewlett-Packard Company | Holographic based bio-assay |
| EP4000109B1 (en) | 2019-07-19 | 2025-08-27 | Evatec AG | Piezoelectric coating and deposition process |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4285596A (en) * | 1977-08-16 | 1981-08-25 | Neotec Corporation | Holographic diffraction grating system for rapid scan spectral analysis |
| US4449821A (en) * | 1982-07-14 | 1984-05-22 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process colorimeter |
| EP0296259A1 (en) * | 1987-06-22 | 1988-12-28 | Pacific Scientific Company | Spectrometer with combined visible and ultraviolet sample illumination |
| US4954972A (en) * | 1987-11-09 | 1990-09-04 | Honeywell Inc. | Color signature sensor |
-
1991
- 1991-01-29 CA CA002035224A patent/CA2035224A1/en not_active Abandoned
- 1991-01-29 JP JP2780991A patent/JPH0650814A/ja active Pending
- 1991-01-30 EP EP19910300715 patent/EP0440443A3/en not_active Ceased
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| EP0984253A3 (en) * | 1998-09-03 | 2000-11-15 | Foss NIRSystems, Inc. | Spectroscopic instrument with offset grating |
| WO2002039094A1 (en) * | 2000-11-10 | 2002-05-16 | Arkray, Inc. | Measuring method and instrument comprising image sensor |
| CN1308670C (zh) * | 2000-11-10 | 2007-04-04 | 爱科来株式会社 | 使用图像传感器的测定方法及装置 |
| US7274829B2 (en) | 2000-11-10 | 2007-09-25 | Arkray, Inc. | Measuring method and instrument comprising image sensor |
| US8184289B2 (en) | 2009-04-30 | 2012-05-22 | Canon Kabushiki Kaisha | Spectral colorimetric apparatus and color image forming apparatus using the same |
| US8705154B2 (en) | 2009-04-30 | 2014-04-22 | Canon Kabushiki Kaisha | Spectral colorimetric apparatus and image forming apparatus using the same |
| US8851880B2 (en) | 2010-07-06 | 2014-10-07 | Faurecia Interior Systems, Inc. | Powder slush molding process and equipment |
| US8462342B2 (en) | 2010-10-28 | 2013-06-11 | Canon Kabushiki Kaisha | Spectral colorimetric apparatus and image forming apparatus including the same |
| JP2015215196A (ja) * | 2014-05-09 | 2015-12-03 | 株式会社島津製作所 | 分光センサ |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0440443A3 (en) | 1991-10-09 |
| EP0440443A2 (en) | 1991-08-07 |
| CA2035224A1 (en) | 1991-07-31 |
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