JPH06508159A - 流動状態の接触クラッキング方法における炭化水素仕込原料の注入方法および装置 - Google Patents

流動状態の接触クラッキング方法における炭化水素仕込原料の注入方法および装置

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JPH06508159A JP2504945A JP50494590A JPH06508159A JP H06508159 A JPH06508159 A JP H06508159A JP 2504945 A JP2504945 A JP 2504945A JP 50494590 A JP50494590 A JP 50494590A JP H06508159 A JPH06508159 A JP H06508159A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 流動状態の接触クラブキング方法における炭化水素仕込原料の注入方法および装 置 本発明は、炭化水素仕込原料の流動床接触クラッキング方法に関する。さらに詳 しくはこの発明は、上昇反応器すなわち英語では”riser”反応器の反応帯 域における炭化水素仕込原料の注入または導入装置に関する。
この発明は特に、比較的高いコンラドソン炭素含量および金属含量を有する炭化 水素仕込原料および/または石油残渣(例えば金属含量が100重量pp■また はそれ以上に達してもよく、コンラドソン炭素含量が10重量%までであっても よい仕込原料)の流動床接触クラブキング方法(英語では、Fluid cat a+yticCrackingすなわちFCC方法)に関する。
炭化水素仕込原料の接触クラッキングは、技術の進歩および触媒の進歩によって 大きな発展を遂げたし、いまでも発展を続けている。この発展は特に、重質炭化 水素仕込原料のますます頻繁な使用にもかかわらず、軽質フラクションに対する ますます多くなる需要と結び付いている。
従って、接触クラッキングに関する最近の発展が示したことは、クラブキング反 応の大きな要因は、仕込原料と触媒粒子との接触の迅速性および均一性であり、 従って反応帯域への注入時のこの仕込原料の噴霧および気化のクォリティである ということであった。
接触クラブキング反応器の反応帯域への、炭化水素仕込原料の様々な注入装置が 、先行技術に記載されている。
例えば米国特許US−^−4,097,243は、動いている触媒粒子全体への 仕込原料の分配を可能にする円錐体の端部に配置された、一連の管を備える仕込 原料の注入装置について記載している。しかしながらこのような装置は、液体仕 込原料の一部と反応器の壁、または触媒粒子との接触を引起こすという欠点があ る。これによってコークスが有害かつ過度に形成される。
米国特許US−A−3,812,029は、仕込原料の細かい小滴を得ることが できる特別なインジェクタについて記載している。しかしながらこのインジェク タでは、これらの小滴の良好な分布が得られず、このため炭化水素の気化が悪く 、過剰なコークスの形成が生じる。さらには、重質仕込原料の使用の際、このイ ンジェクタは、しばしばかなり急速に目詰まりする。
欧州特許出願EP−^−220,349は、少なくとも一部、仕込原料と反応帯 域の壁との接触を避けながら、平均直径約350ミクロン(35X 10−’m  )以下の小滴を得ることが可能な、螺旋を備える特別なインジェクタについて 記載している。しかしながら、これらのインジェクタの近くにおける仕込原料の 小滴の渦巻きの形成は、触媒粒子の流れをかき乱し、逆混合(英語で”back 層ixlng”)現象の増加を引起こす。これはこの方法の良好な作動には有害 である。
本発明は、先行技術の炭化水素仕込原料の注入方法の欠点を解消し、特に重質仕 込原料のクラッキングの場合に、注入帯域において細かい小滴の形態での均一か つ瞬間的な噴霧によって、炭化水素と触媒粒子との最適な接触を得ることができ るようにすることを目的とする。さらに本発明によって、反応帯域に注入された 触媒の「C)の量と、前記帯域に導入された、処理される仕込原料の「0」の量 との間のrC10J比の優れた均一性を得ることができる(すなわち前記帯域の あらゆる地点で、この比の値を維持できる)。
同様に本発明によって、仕込原料と反応帯域の壁との接触を避けつつ、動いてい る固体全体上で、非常にサイズの小さい細かい小滴の形態の仕込原料の分配を得 ることが可能になる。
さらに正確には、本発明は、炭化水素仕込原料の接触クラッキング方法であって 、流動床の触媒粒子を、対称軸を有する細長い反応帯域において、平均直径が3  X 10−’yn (メートル)以下、好ましくは2 X 10−’m以下、 最も多くの場合10−’m以下である細かい小滴状態の前記仕込原料と接触させ 、前記仕込原料を、気体補助流体と混合して、前記反応帯域の軸に実質的に平行 な軸を有するベンチュリ型の少なくとも1つの閉鎖容器(または装置)を介して 前記反応帯域に導入し、これは、炭化水素仕込原料の移動方向の上流がら下流へ 、前記補助流体および前記炭化水素仕込原料の少なくとも1つの導入手段を備え る第一端部を備えており、前記閉鎖容器はまた、前記第一端部の下流に(例えば その中央に)、狭窄帯域ついで拡張帯域(ベンチュリ型の収束部および末広部) をも備え、そのもう1方の端部、すなわち反対側の端部に、炭化水素仕込原料の 反応帯域への注入オリフィス、すなわち少なくとも1つの開口部を備え、かつ前 記端部の断面の減縮部(restriction)であって、これを通って前記 混合物が前記反応帯域に導入される制限部を画定する装置を備える方法に関する 。
第1図は、流動床接触クラブキング反応器の下部の断面図である。新品のおよび /または再生された触媒が、導管(2)を経て反応器(1)の底部に到着し、流 動化流体と言われる気体流体のディフューザ(3)からの注入によって流動床と される。クラッキングされる仕込原料を、ベンチュリ型の少なくとも1つの装置 (5)によって反応帯域に導入する。この装置は、反応帯域(4)の軸と実質的 に平行な軸を有する。仕込原料は、この装置内に、導管(6)または(7)を経 て入る。一方注入および微粉砕を促進するために用いられる気体補助流体が、仕 込原料が入って来る導管とは異なる導管(6)または(7)を経て入る。
反応帯域において噴霧された仕込原料の非常に均一な分布を確実に行なうために 、例えば第2図に示された実施態様に従って、間隔があけられたいくつか(少な くとも2つ、最も多くの場合は少なくとも3つ)の閉鎖容器または装置(5)を 用いるのが好ましい。これの仕込原料が反応帯域に入ってくる端部は、通常、触 媒の導入帯域の近く、好ましくは実質的にその上に位置している。
第2図は、下記のような、本発明による好ましい実施態様に対応する配置を示す 。この配置では、ベンチュリ型の装置または閉鎖容器(5)が、支持板において 、好ましくは対称的に、反応帯域(4)の端部に、例えば前記反応帯域の下部に (上昇反応器の場合)配置される。前記支持板は、その際同様に、導管(2)を 経て来る触媒粒子の流動化ガスの少なくとも2つの注入装置(3)をも備える。
あるいは閉鎖容器が前記反応帯域の上部に設置される(下降反応器、英語で”d ropper”の場合)。第2図に示された配置によれば、ベンチュリ型の装置 (5)の頂部は、触媒粒子の導入帯域の近くで、かつ実質的にこの帯域の上に位 置する。装置(5)の頂部はすべて、同じレベルにあってもよく(第2図に示さ れた場合)、あるいは異なるレベルにあってもよい。
第3図は、第2図の実施原理による上からの図面である。この図面には、7つの 装置(5)が示されており、これらは、支持板において、反応帯域(4)に通じ ているこれらの装置(5)の端部が、前記反応帯域(4)の内部で対称的に分け て配置されるように分布している。
仕込原料がここを経て反応帯域(4)に入って来る開口部(9)は、通常、実質 的に長方形、円形、楕円形、あるいはクラウン(couronne)形状、また はクラウンの扇形(secteur)の形状の断面を有する。各開口部(9)の 断面の形は、好ましくは反応帯域の中の、装置(5)の位置によって選ばれるも のとする。好ましくは当業者は、得られる細かい小滴噴流が、反応帯域の壁と接 触して入り込まないように、かっこの噴流が、動いている固体のできるだけ多く の量に対してよく分配されるように、反応帯域内の装置(5)の位置によって、 各開口部の形を選ぶ。従って、第3図に示された好ましい実施態様によって、反 応帯域の壁の近くに位置する装置(5)(第3図に示された場合は6個)の各々 の開口部(9)は、実質的に長方形の断面を有する。この断面のサイズの大きい 長方形の辺は、好ましくは反応帯域の円形断面の半径の1つに実質的に垂直であ り(これらの開口部はまた、クラウンの扇形の形状の断面を有していてもよい) 、反応帯域の中心の近くに位置する1つまたは複数の装置(5)の開口部(9) は、実質的に円形断面を有する開口部を有する(この開口部またはこれらの開口 部はまた、楕円形またはクラウン形状の断面を有していてもよい)。支持板上の 装置(5)の位置は、一般に、例えば第3図において、周辺部の、粒子の密度が 最大であるような場所のように、動いている固体の粒子の分布によって選ばれる 。流動化ガスの6つの注入装置(3)は、支持板において、対称的に分配されて いる。同様に、第3図では装置(5)相互間を連結する補強部材(8)を示した 。
本発明の方法において、装置(5)の数は、通常、時間単位あたり導入される仕 込原料の量、および反応帯域のサイズによる。この数は、rC10J比の最良の 均一性、および仕込原料と壁との接触を避けつつ、動いている固体全体に対して 細かい小滴形態の仕込原料の分配が確実に得られるように選ばれる。
装置(5)の数は、通常1〜19、好ましくは少なくとも2、例えば3〜13で ある。触媒粒子の流動化流体の導入装置の数は任意であるが、触媒粒子の可能な 限り完全な流動化が確実になされるように選ばれなければならない。これは通常 2〜50、好ましくは2〜26である。
管の形態の流動化流体のこれらの導入装置を第1〜3図に示したが、これらは限 定的に解釈されてはなら、ない。当業者は、本発明の枠から逸脱することなく、 同じ機能が得られる別の装置、例えば環状装置を考えることもできる。同様に、 例えば触媒の導入レベルの実質的に上のレベルに、上昇ガス(英語では”11f tgas”)の追加導入部を備えることもできる。
第4Aおよび4B図は、本発明の好ましい実施態様による装置(5)を図式的に 示す。第4^および4B図は、互いに90°の角度の装置(5)の正面および側 面の断面図である。第4Aおよび4B図では、仕込原料が導管(6)を経て装置 (5)に入る。この導管の軸は、前記装置(5)の軸AA−と実質的に平行であ る。一方気体補助流体は、導管(7)を経て入る。これの軸は、前記装置(5) の軸に実質的に垂直である。仕込原料および補助流体のこの導入方法は、本発明 による好ましい導入方法に対応する。しかしながら、仕込原料を導管(7)から 、気体補助流体を導管(6)から導入することもできる。
好ましくはベンチュリの収束部内に形成される、仕込原料−気体補助流体混合物 は、ベンチュリの頚部のレベルで非常に速い速度になり、ついで前記装置(5) の端部に作られた開口部(9)のレベルで、気体補助流体中で、仕込原料の非常 に細かい小滴の形態で気化される。好ましい実施態様によれば、装置(5)の端 部を構成する厚い材料内に作られた開口部(9)は、通常、この開口部の壁が、 少なくとも1つの方向に沿って、約20〜100 ’ 、好ましくは約40〜9 0°のアルファ角をなすような形状を有する。これの頂部は、装置(5)の上流 の方へ向かっている。より正確には、この開口部(9)は、例えば実質的に円形 断面の開口部の場合、頂部がアルファ角の円錐台の形状を有するであろう。第4 Aおよび4B図に図示された実施態様によれば、装置(5)の端部は、球帽の形 状を有し、開口部は実質的に長方形の断面を有する。長方形の最も大きいサイズ の辺を通る開口部の平面は、20〜100 ” 、好ましくは40〜90″のア ルファ角に沿って切れている。長方形の最も小さいサイズの辺を通る平面は、実 質的に平行である。
第4B図はまた、球帽および長方形断面を有する開口部またはスリット(9)の 図面をも図式的に示す。この小さい方の辺は、第4B図に示されていない値rI Jを有するが、第4A図では断面図として見えている。大きい方の辺は、外側部 分で測定された値r LeJと、内側部分で測定された値「Ll」を有する。値 「Ll」は、通常、値r LeJより小さい。
第4Aおよび4B図に示された装置(5)の好ましい実施態様において、仕込原 料の導入管(6)は、気体補助流体の導入管(7)の上部レベルの上に通じてい る。好ましくは導管(6)は、ベンチュリの収束帯域の始まっている部分の近( で、かつ実質的にこの帯域の下に通じている。ベンチュリの収束帯域、または収 束部のベータ角(第4A図)は、通常、15〜45’ 、好ましくは20〜40 @であり、ベンチュリの末広帯域または末広部のデルタ角(第4A図)は、通常 、2〜20″、好ましくは3〜12°であり、末広部の角度は、常に収束部の角 度より小さく、好ましくは収束部の角度の2倍より小さい。
最も広い部分の直径がrd Jと呼ばれる末広部の端部に(第4A図参照)、前 記端部の断面の減縮部を画定する、開口部(9)を有する装置がある。すなわち 前記開口部は、通常、表面の断面積(例えば第4Aおよび4B図に示されている ような、長方形断面の開口部(9)の場合、IXLe)が、πd2/4以下、例 えばπd2/20〜πd2/6、好ましくはπd2/12〜πd2/8である。
この装置は、第4A図ではベンチュリの連続部として表わされている。同様に、 所望の形状の端口部(e■bout) (10)を考えることができる。この端 口部は、ベンチュリの端部に固定、例えばねじ止めされる。同様に、ベンチュリ のもう1つの端部において、第5図に示されているように、仕込原料と気体補助 流体の導入手段(11)の固定を考えてもよい。いずれにしても、インジェクタ の内側の形状は、ベンチュリの壁と、端口部または断面の制限部を画定する装置 の壁との間に段差が無いことが好ましい。外部形状は、内部形状とは実質的に同 じ(第4A図)か、あるいは実質的に異なる(第5図)形状であってもよい。
第3.4Aおよび5図の開口部(9)は、装置(5)の軸に対して対称的な位置 にあるものとして表わされている。この図式は、装置(5)の好ましい実施形態 を表わすものである。しかしながら、本発明の枠から逸脱することなく、装置( 5)の軸に対して対称的でない開口部(9)の配置を考えることもできる。いく つかの閉鎖容器(または装置)(5)を含む好ましい実施態様において、これら の各々は、他とは異なる形状を有してもよいであろう。あるいはいくつかが一定 の形状を有し、1つまたは複数の他のものが別の形状を有してもよいし、あるい はそれら全部が同じであってもよいであろう。
第4^、4Bおよび5図は、本発明による装置(5)の図式化でしかなく、本発 明をこれらの図面によって示された方法に限定するものと考えられてはならない 。特に当業者は、この装置について、様々な態様を考えることができる。例えば 前記装置の収束帯域と、末広帯域との間に、頚部のある直線帯域が存在してもよ い。
本発明による装置(5)の使用によって、仕込原料の非常に高い速度を得ること ができる。ベンチュリの頚部のレベルで、これらの速度は音速を越えることさえ できる。このようにして、気体補助流体中に液体仕込原料の優れた分散が得られ る。条件は、通常、装置(5)の出口の速度が、10〜Boom/秒、好ましく は50〜340m/秒になるように選ばれる。装置(5)の出口から、触媒と仕 込原料との間の急速な接触を得ることが望ましいことから考えて、通常、仕込原 料の高い、あるいは高すぎさえする速度、例えば少なくとも100m/秒の速度 を得るのが好ましい。装置(5)の使用のもう1つの利点は、平均直径が触媒粒 子のサイズの大きさ程度、例えば65ミクロン(65X 10−6m )程度で 、この値のあたりに分布があるような、非常に細かい小滴の霧を得ることができ るということである。触媒粒子の大きさは、通常、10〜120ミクロン(1ミ クロン:10−’m )であり、非常に大きな割合の粒子は、大きさが約65ミ クロンである。
実質的に触媒粒子の方向に沿った、炭化水素仕込原料の導入を含む、本発明の方 法によって、特に側面注入の場合に対して、仕込原料の小滴と触媒粒子との衝突 を制限することができる。このため、漸進的なより優れた気化が生じ、コークス 化が少なくなる。
本発明はまた、固体粒子の導入管(2)を備え、かつその端部の1つに、例えば 下端部に、ここを通って流動化ガスの導入手段、例えば細長い反応器の軸に実質 的に平行な管群(3)、すなわちここを通って反応器内に、固体粒子の流動化を 確実に行なうための前記ガスを導入する管群が配置されている(反応器の長軸に 対して実質的に垂直な)支持板を備える、実質的に垂直な細長い装置または反応 器(1)(第2図参照)であって、前記反応器は、その他に、炭化水素仕込原料 をその中に導入する手段を備える反応器において、ベンチュリ型の少なくとも1 つの装置、好ましくは少なくとも2つの装置を備え、各装置が管の形状を有し、 8管は支持板内に備えられ、8管の軸は反応器の長軸に実質的に平行であり、各 装置は、仕込原料の移動方向の上流から下流に、 (a)1つの端部に、実質的に管の軸と垂直であるか、管の軸と実質的に一致し ている軸を有する仕込原料の導入管(好ましい実施態様)、および実質的に管の 軸と一致しているか、管の軸と実質的に垂直である軸を有する補助流体の導入導 管(好ましい実施態様)(従って、仕込原料および補助流体の2つの導入管は、 実質的に垂直である)、 (b)収束部と末広部であって、ベンチュリの収束部の角度が15〜45@であ り、ベンチュリの末広部の角度が2〜20’であり、末広部の角度が、収束部の 角度より常に小さい(以下である)もの、および(C)もう1つの端部に、反応 器内への仕込原料の注入オリフィスであって、このオリフィスが、実質的に長方 形、円形、楕円形、あるいはクラウンまたはクラウンの扇形の形状の断面を有す る開口部を備える実質的な球帽を備え、前記開口部が好ましくは、その壁が、少 なくとも1つの方向に沿って、20〜100@のアルファ角(第4B図参照)を 画定するような形状を有し、前記開口部の表面積が、πd2/4(ここでdは、 末広部の最も広い部分の直径である)以下である(第4A図参照)もの、 を備えることを特徴とする反応器にも関する。
本発明の好ましい実施態様において、反応器は、支持板上に対称的に分配された 、ベンチュリ型の複数の装置を備える。前記支持板の周辺部に位置する装置は、 1つの端部に、炭化水素仕込原料の注入オリフィスを備える。実質的な球帽内に 備えられたこのオリフィスは、実質的に長方形の断面を有する開口部またはスリ ットを有する。長方形の最も大きいサイズの辺を通る開口部の平面は、20〜1 00@のアルファ角(第4B図参照)に沿って切れており、長方形の最も小さい サイズの辺を通る平面は、実質的に平行であり、前記支持板の中心の近くに位置 する装置は、1つの端部に、炭化水素仕込原料の注入オリフィスを備え、実質的 な球帽内に備えられたこのオリフィスは、好ましくは円形、楕円形またはクラウ ンの形状である開口部を有する。
本発明の方法において、工業的な、サイズおよび操作の特徴は、通常、下記のよ うなものであってもよい:・反応帯域の高さ=5〜40メートル;・クラッキン グされる仕込原料の導入温度二60〜450℃、好ましくは70〜400℃、 ・塔の触媒供給流量=1分あたり3〜5トン、・塔(反応帯域)内の仕込原料の 滞留時間: 0.05〜10秒、好ましくは6秒以下、例えば0.8〜5秒、・ クラッキングされる仕込原料の重量に対して、0゜5〜30重量%、好ましくは 2〜20重量%の仕込原料の微粉砕または噴霧のために用いられる補助流体の量 。
仕込原料が導入される触媒粒子の流れは、通常、密度が通常15〜800kg/ m3、好ましくは20〜600 kg/m3である流動相の均一触媒流れである 。この流れの線速度は、有利には01吋〜30m/s、好ましくはIO〜20m /sである。流動化および触媒粒子の流れは、流動化気体流体の導入によって得 られる。この流体は、例えばその分子内に1〜5個の炭素原子を有する炭化水素 、あるいは炭化水素混合物であってもよい。この流動化気体流体は、35容量% までの水素、およびlO容量%までの水蒸気を含んでいてもよい。この流体はま た、水蒸気100容量%からなっていてもよい。
この気体流体の注入条件は、もちろん、触媒粒子の大きさおよび重量によって様 々である。
触媒粒子の流れは、通常、クラッキングされる仕込原料が、従来の型のもの、例 えばガスオイル仕込原料である時に、500〜750℃の温度で導入される。し かしながら、いわゆる重質仕込原料、すなわち沸点が550℃以上の炭化水素か らなるそれらの容積の例えば10%以上を含む仕込原料を用いる場合、温度は有 利には650〜950℃であってもよく、最も重質な分子の完全な気化、および 反応器への注入帯域における選択的熱クラッキングを確実に行なうようにする。
本出願人によって実施された調査によってわかったことは、先行技術に記載され たような、自由な出口を有する管状インジェクタを用いる時、得られた指向性噴 流によっては、非常にわずかな量の触媒しか得られないということである。それ に対して、本出願に記載された装置の形状を有するインジェクタの使用によって 、開口部の特徴によって余儀なくされる有利な方向を有し、かつ触媒の最大の表 面積をカバーする、細かい小滴を得ることができる。この調査から、いくつかの 装置(5)を用いて、反応帯域内の配置によって、それらの各々において、仕込 原料および気体補助流体の量をよりよく分配するようにするのが好ましいことも 同様にわかった。
従って好ましい実施態様において、装置(5)の各々には、位置によって一定量 の仕込原料が別々に供給される。この方法によって、一定のレベルにおける反応 器の断面内の触媒の密度は、均一ではないということをよりよく考慮に入れるこ とができ、従って一定の装置(5)から出る仕込原料の噴流がふりかけられた、 表面上にある触媒の量によって、所望の仕込原料の量しか導入しないということ も可能にされる。一定の容積内の触媒の量は、その時間の間に様々でもよいので 、前記装置の噴流によって得られる触媒量に合わせるように、装置(5)の各々 に注入される仕込原料の量の調節装置を備えることも可能である。
仕込原料の噴霧を促進するために用いられ、かつ1つまたは複数の装置(5)内 に導入される気体補助流体は、通常、水蒸気であるか、またはFCC(再循環) 装置またはその他の精製所の装置から来る、水素または水素化合物に比較的富む 気体流体である。
最後に、本発明の対象となる方法において使用しうる触媒は、結晶性アルミノ・ ケイ酸塩型、いくつかのシリカ・アルミナ型、シリカ・マグネシア型、またはシ リカ・ジルコニウム型のクラッキング触媒を含んでいる。これらはすべて、比較 的高いクラッキング活性を有している。結晶性アルミノ・ケイ酸塩は、天然の状 態で見られるか、あるいは当業者によく知られた技術に従って、合成によって調 製されることもできる。
これらは、合成ゼオライトまたは粘土、例えばフォージャサイト、いくつかのモ ルデナイト、モンモリロナイト、架橋粘土(argile pontee)、ア ルミノ・燐酸塩、または同様なものから選ばれてもよい。
FIG、1 ■ 日G、4B 国際調査報告 国際調査報告 フロントページの続き (72)発明者 ボンチェ ルノー フランス国ヴイエンヌ(38200) ・リュジネ・ル・ヴイラージュ (無番 地) (72)発明者 モレオン ジャン ルイフランス国マルリ・ル・ロワ(781 60)・アヴニュー・ドウ・ラブルヴオワール 22番地

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)流動床における炭化水素仕込原料の接触クラッキング方法であって、流動 床の触媒粒子と、平均直径3×10−4m以下の細かい小滴形態の前記仕込原料 とが、対称軸を有する細長い反応帯域内において接触させられる方法において、 前記仕込原料が、前記反応帯域の軸と実質的に平行な軸を有する、ベンチュリ型 の少なくとも1つの閉鎖容器を経て、気体補助流体と混合して前記反応帯域内に 導入され、この閉鎖容器は、炭化水素仕込原料の移動方向の上流から下流に、( a)第一端部に、前記補助流体および前記炭化水素仕込原料の少なくとも1つの 導入手段、(b)前記第一端部の下流に縮小帯域、ついで拡張帯域、および (c)もう1つの端部に、少なくとも1つの開口部を備え、かつ前記端部の断面 の減縮部を画定する装置であって、ここを通って前記混合物が前記反応帯域内に 導入されるもの、 を備えることを特徴とする方法。
  2. (2)ベンチュリ型の閉鎖容器が、実質的に長方形、円形、楕円形、またはクラ ウンまたはクラウンの扇形の形状の断面の開口部を有する装置を備える、請求項 1による方法。
  3. (3)開口部は、この開口部の壁が、少なくとも1方向に沿って、約20〜10 0°のアルファ角をなすような形状を有する、請求項1または2による方法。
  4. (4)反応帯域に通じているこれらの閉鎖容器の端部が、前記反応帯域の内部に おいて対称的に分配されるように配置された、ベンチュリ型の少なくとも2つの 閉鎖容器の使用を含む、請求項1〜3のうちの1つによる方法。
  5. (5)反応帯域の壁の近くに位置する装置(5)が、実質的に長方形またはクラ ウンの扇形の形状の断面を有する開口部(9)を備え、反応帯域の中心近くに位 置する1つまたは複数の装置(5)は、実質的に円形、楕円形、またはクラウン 形状の断面を有する開口部(9)を備える、請求項1〜4のうちの1つによる方 法。
  6. (6)炭化水素仕込原料が、ベンチュリ型の1つまたは複数の閉鎖容器内に、前 記閉鎖容器の軸に実質的に平行な軸を有する導管を経て導入され、補助流体が、 前記閉鎖容器の軸に実質的に垂直な軸を有する導管を経て導入される、請求項1 〜5のうちの1つによる方法。
  7. (7)炭化水素仕込原料および補助流体が、反応帯域の下に配置された支持板上 に対称的に配置されたベンチュリ型の少なくとも3つの閉鎖容器によって導入さ れ、前記支持板はまた、触媒粒子の流動化ガスの少なくとも2つの注入装置を備 え、ベンチュリ型の前記装置の頂部が、触媒粒子の導入帯域の上に位置する、請 求項1〜6のうちの1つによる方法。
  8. (8)固体粒子の導入管(2)を備え、かつその端部の1つに、ここを通って流 動化ガスの導入手段、すなわちここを通って固体粒子の流動化を確実に行なうた めの前記ガスを反応器内に導入する手段が配置されている(反応器の長軸に実質 的に垂直である)支持板を備える、実質的に垂直な細長い反応器(1)(第2図 参照)であって、前記反応器は、その他に、炭化水素仕込原料をその中に導入す る手段を備える反応器において、管の形状を有するベンチュリ型の少なくとも1 つの装置を備え、前記管は支持板内に備えられ、前記管の軸は反応器の長軸に実 質的に平行であり、各装置は、仕込原料の移動方向の上流から下流に、 (a)1つの端部に、管の軸と一致しているか、または実質的に管の軸と垂直な 軸を有する仕込原料の導入管、および実質的に管の軸と垂直であるか、または実 質的に管の軸と一致している軸を有する補助流体の導入管(従って、仕込原料お よび補助流体の2つの導入管は、実質的に垂直である)、 (b)収束部と末広部であって、ベンチュリの収束部の角度が15〜45°であ り、ベンチュリの末広部の角度が2〜20°であり、末広部の角度が、収束部の 角度より常に小さいもの、および (c)もう1つの端部に、反応器内への仕込原料の注入オリフィスであって、こ のオリフィスが、実質的に長方形、円形、楕円形、あるいはクラウンまたはクラ ウン扇形の形状の断面の開口部を有する実質的な球帽を備え、前記開口部が好ま しくは、その壁が、少なくとも1つの方向に沿って、20〜100°のアルファ 角(第4B図参照)を画定するような形状を有し、前記開口部の表面積が、πd 2/4(ここでdは、末広部の最も広い部分の直径である)以下である(第4A 図参照)もの、 を備えることを特徴とする反応器。
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