JPH0651737B2 - 感光性組成物 - Google Patents
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
- G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
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- Polymerisation Methods In General (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は高感度で熱安定性に優れた感光性組成物に関す
る。
る。
(従来の技術) 凸版印刷用版材,リスフィルム,プリント配線基板用フ
ォトレジストなどに使用されうる感光性組成物には多種
の組成物があり,なかでも光照射により重合可能なエチ
レン系不飽和単量体を主成分とする組成物が好適に利用
されている。このような組成物には,上記エチレン系不
飽和単量体のほかに,この単量体の重合反応を引き起こ
すためにラジカル発生剤および光開始剤が通常含有され
る。例えば,特公昭45-37377号公報には公開始剤として
ヘキサアリールビイミダゾール化合物を用いた感光性組
成物(写真画像形成組成物)が開示されている。これら
の化合物のうち2位のフェニル基のオルソ位にクロル基
が置換した2・2′−ビス(o−クロルフェニル)−4
・4′・5・5′−テトラキスフェニルビイミダゾール
〔2−(2−クロルフェニル) −4・5−ジフェニルイミ
ダゾリル二量体;Cl−HABI〕は,熱安定性に優れるた
め,好適であるとされている。
ォトレジストなどに使用されうる感光性組成物には多種
の組成物があり,なかでも光照射により重合可能なエチ
レン系不飽和単量体を主成分とする組成物が好適に利用
されている。このような組成物には,上記エチレン系不
飽和単量体のほかに,この単量体の重合反応を引き起こ
すためにラジカル発生剤および光開始剤が通常含有され
る。例えば,特公昭45-37377号公報には公開始剤として
ヘキサアリールビイミダゾール化合物を用いた感光性組
成物(写真画像形成組成物)が開示されている。これら
の化合物のうち2位のフェニル基のオルソ位にクロル基
が置換した2・2′−ビス(o−クロルフェニル)−4
・4′・5・5′−テトラキスフェニルビイミダゾール
〔2−(2−クロルフェニル) −4・5−ジフェニルイミ
ダゾリル二量体;Cl−HABI〕は,熱安定性に優れるた
め,好適であるとされている。
しかし,上記化合物は,いずれも,通常の露光に使用さ
れる300 〜400nm の波長域の光の吸収性が低いため,感
度が高いとはいえない。上記感光性組成物をリスフィル
ムなどに利用すると,リスフィルムには,通常,多量の
カーボンブラックや顔料が配合されるため,露光時に光
が遮断されて単量体が充分に重合しないという問題があ
る。さらに,上記光開始剤は,いずれも,特にCl−HABI
は,生体での蓄積性が大きいという欠点を有する。水系
へ流出した化学物質は水生生物の体内に入って濃縮さ
れ,食物連鎖を通して最終的には人体へ移動する可能性
がある。そのため,通産省では新規化学物質に関して
は,化学物質審査規制法で魚類の体内への該化学物質の
濃縮生試験を義務づけている。上記光開始剤は,いずれ
も,この規制基準を大きく越えるため,実質的に使用す
ることができない。
れる300 〜400nm の波長域の光の吸収性が低いため,感
度が高いとはいえない。上記感光性組成物をリスフィル
ムなどに利用すると,リスフィルムには,通常,多量の
カーボンブラックや顔料が配合されるため,露光時に光
が遮断されて単量体が充分に重合しないという問題があ
る。さらに,上記光開始剤は,いずれも,特にCl−HABI
は,生体での蓄積性が大きいという欠点を有する。水系
へ流出した化学物質は水生生物の体内に入って濃縮さ
れ,食物連鎖を通して最終的には人体へ移動する可能性
がある。そのため,通産省では新規化学物質に関して
は,化学物質審査規制法で魚類の体内への該化学物質の
濃縮生試験を義務づけている。上記光開始剤は,いずれ
も,この規制基準を大きく越えるため,実質的に使用す
ることができない。
(発明が解決しようとする問題点) 本発明は上記従来の欠点を解決するものであり,その目
的とするところは,高感度で,熱安定性に優れ,かつ生
体に対する蓄積性の少ない光開始剤を含有し,優れた解
像力を有する感光性組成物を提供することにある。
的とするところは,高感度で,熱安定性に優れ,かつ生
体に対する蓄積性の少ない光開始剤を含有し,優れた解
像力を有する感光性組成物を提供することにある。
(問題点を解決するための手段および作用) 本発明の感光性組成物は光開始剤,ラジカル発生剤およ
びエチレン系不飽和単量体を含有し,該光開始剤が下記
式(I)で示される2・4・5−トリアリ−ルイミダゾ
リル二量体であり,そのことにより上記目的が達成さ
る。
びエチレン系不飽和単量体を含有し,該光開始剤が下記
式(I)で示される2・4・5−トリアリ−ルイミダゾ
リル二量体であり,そのことにより上記目的が達成さ
る。
(ここで,Xはハロゲン基,シアノ基,炭素原子数1〜
4のアルキル基またはアリール基;Y1〜Y4はそれぞれ炭
素数原子数1〜4のアルコキシル基;Z1〜Z10はそれぞ
れ水素または炭素原子数1〜4のアルコキシル基を示
す。ただし,Y1〜Y4およびZ1〜Z10はそれぞれ同一の置
換基でなくてもよい。) 本発明の感光性組成物に含有される光開始剤は上記化学
構造(I)を有する2・4・5−トリアリ−ルイミダゾ
リル二量体である。このような光開始剤には,例えば,
2−(2−クロルフェニル)−4・5−ビス(3・5−
ジメトキシフェニル)イミダゾリル二量体,2−(2−
クロルフェニル)−4−(3・5−ジメトキシフェニ
ル)−5−(3・4・5−トリメトキシフェニル)イミ
ダゾリル二量体,2−(2−クロルフェニル)−4・5
−ビス(3・4・5−トリメトキシフェニル)イミダゾ
リル二量体,2−(2−クロルフェニル)−4−(2・
3・5−トリメトキシフェニル)−5−(3・4・5−
トリメトキシフェニル)イミダゾリル二量体,2−(2
−クロルフェニル)−4・5−ビス(3・4・5−トリ
メトキシフェニル)イミダゾリル二量体,2−(2−ク
ロル−5−メトキシフェニル)−4・5−ビス(3・5
−ジメトキシフェニル)イミダゾリル二量体がある。こ
のほか,クロル基の代わりに(上記構造式のXとして)
ブロム基,フルオロ基,ヨード基などの他のハロゲン
基;シアノ基;メチル基,エチル基,プロピル基,ブチ
ル基などのアルキル基;フェニル基などのアリール基が
置換した化合物やメトキシ基の代わりに(上記構造式の
Y1〜Y4,Z1〜Z10として)エトキシ基,プロポキシ基,
ブトキシ基など他のアルコキシル基の置換した化合物も
挙げられる。これらの化合物は,Y1〜Y4がアルコキシル
基であることに特徴がある。この位置にアルコキシル基
が置換しているため,300 〜400nm の領域での光吸収性
が高くなる。つまり,光開始剤の感度が上がり,その結
果,感光性組成物の感度も高くなる。そのため,例え
ば,多量にカーボンブラックを配合したリスフィルムと
して利用しても充分な感度が得られる。
4のアルキル基またはアリール基;Y1〜Y4はそれぞれ炭
素数原子数1〜4のアルコキシル基;Z1〜Z10はそれぞ
れ水素または炭素原子数1〜4のアルコキシル基を示
す。ただし,Y1〜Y4およびZ1〜Z10はそれぞれ同一の置
換基でなくてもよい。) 本発明の感光性組成物に含有される光開始剤は上記化学
構造(I)を有する2・4・5−トリアリ−ルイミダゾ
リル二量体である。このような光開始剤には,例えば,
2−(2−クロルフェニル)−4・5−ビス(3・5−
ジメトキシフェニル)イミダゾリル二量体,2−(2−
クロルフェニル)−4−(3・5−ジメトキシフェニ
ル)−5−(3・4・5−トリメトキシフェニル)イミ
ダゾリル二量体,2−(2−クロルフェニル)−4・5
−ビス(3・4・5−トリメトキシフェニル)イミダゾ
リル二量体,2−(2−クロルフェニル)−4−(2・
3・5−トリメトキシフェニル)−5−(3・4・5−
トリメトキシフェニル)イミダゾリル二量体,2−(2
−クロルフェニル)−4・5−ビス(3・4・5−トリ
メトキシフェニル)イミダゾリル二量体,2−(2−ク
ロル−5−メトキシフェニル)−4・5−ビス(3・5
−ジメトキシフェニル)イミダゾリル二量体がある。こ
のほか,クロル基の代わりに(上記構造式のXとして)
ブロム基,フルオロ基,ヨード基などの他のハロゲン
基;シアノ基;メチル基,エチル基,プロピル基,ブチ
ル基などのアルキル基;フェニル基などのアリール基が
置換した化合物やメトキシ基の代わりに(上記構造式の
Y1〜Y4,Z1〜Z10として)エトキシ基,プロポキシ基,
ブトキシ基など他のアルコキシル基の置換した化合物も
挙げられる。これらの化合物は,Y1〜Y4がアルコキシル
基であることに特徴がある。この位置にアルコキシル基
が置換しているため,300 〜400nm の領域での光吸収性
が高くなる。つまり,光開始剤の感度が上がり,その結
果,感光性組成物の感度も高くなる。そのため,例え
ば,多量にカーボンブラックを配合したリスフィルムと
して利用しても充分な感度が得られる。
上記光開始剤は感光性組成物(溶媒を除く;以下,含有
量を示すときには溶媒を除いた値を基準とする)中に
0.3〜15.0重量%の割合で含有される。過少であると光
照射によるラジカル反応が充分に起こらないため,後述
の単量体の重合反応が不充分となり感度が悪くなる。過
剰であってもそれ以上の効果は得られない。
量を示すときには溶媒を除いた値を基準とする)中に
0.3〜15.0重量%の割合で含有される。過少であると光
照射によるラジカル反応が充分に起こらないため,後述
の単量体の重合反応が不充分となり感度が悪くなる。過
剰であってもそれ以上の効果は得られない。
本発明の組成物に含有されるラジカル発生剤としては,
通常のラジカル反応に用いられるラジカル発生剤が使用
されうる。そのような化合物としては,アミン類,ロイ
コ染料,ハロゲン化炭化水素,チオ尿素酸,インドール
誘導体,ベンジル誘導体などがあり,例えば,N−フェ
ニルグリシン,ミヒラーケトン,ミヒラーチオケトン,
ジメドン,インドール酢酸,N−ナフチルグリシン,S
−n−ブチルチオグリコール酸,4・4′−ビス(ジメチ
ルアミノ)ベンジル,p−ジアルキルアミノ安息香酸エ
ステル,ロイコクリスタルバイオレット,インドキシル
酸,1−クロロインドキシル酸,2−クロロインドキシ
ル酸,4・4′−ビス(ジエチルアミノ)ベンジル,p−
ジエチルアミノ安息香酸メチル,トリ(p−ジエチルア
ミノ−o−トリル)メタン,トリ(p−ジメチルアミノ
−o−トリル)メタン,5−クロロインドール酢酸など
が挙げられる。これらの化合物のうちで特に本発明で使
用される光開始剤と組み合わせて好適であるのは,ジメ
ドン,インドール酢酸,N−ナフチルグリシン,S−n
−ブチルチオグリコール酸,4・4′−ビス(ジメチルア
ミノ)ベンジル,p−ジアルキルアミノ安息香酸エステ
ル,ロイコクリスタルバイオレット,インドキシル酸お
よびこれら化合物の誘導体である。
通常のラジカル反応に用いられるラジカル発生剤が使用
されうる。そのような化合物としては,アミン類,ロイ
コ染料,ハロゲン化炭化水素,チオ尿素酸,インドール
誘導体,ベンジル誘導体などがあり,例えば,N−フェ
ニルグリシン,ミヒラーケトン,ミヒラーチオケトン,
ジメドン,インドール酢酸,N−ナフチルグリシン,S
−n−ブチルチオグリコール酸,4・4′−ビス(ジメチ
ルアミノ)ベンジル,p−ジアルキルアミノ安息香酸エ
ステル,ロイコクリスタルバイオレット,インドキシル
酸,1−クロロインドキシル酸,2−クロロインドキシ
ル酸,4・4′−ビス(ジエチルアミノ)ベンジル,p−
ジエチルアミノ安息香酸メチル,トリ(p−ジエチルア
ミノ−o−トリル)メタン,トリ(p−ジメチルアミノ
−o−トリル)メタン,5−クロロインドール酢酸など
が挙げられる。これらの化合物のうちで特に本発明で使
用される光開始剤と組み合わせて好適であるのは,ジメ
ドン,インドール酢酸,N−ナフチルグリシン,S−n
−ブチルチオグリコール酸,4・4′−ビス(ジメチルア
ミノ)ベンジル,p−ジアルキルアミノ安息香酸エステ
ル,ロイコクリスタルバイオレット,インドキシル酸お
よびこれら化合物の誘導体である。
上記ラジカル発生剤は、水素供与性または電子供与性の
化合物であり、光開始剤と組み合わせで用いることによ
り、重合反応を開始し得るラジカルを発生する。すなわ
ち、上記光開始剤は光を吸収することによりそれ自身が
分解し、特定のラジカルを生成する。この光開始剤から
発生したラジカル自体には重合開始機能はない。しか
し、ここに上記「ラジカル発生剤」(水素供与剤または
電子供与剤として機能する)が存在すると、上記光分解
した光開始剤は、このラジカル発生剤から水素または電
子を引き抜き、その結果、ラジカル発生剤は、重合開始
機能を有するラジカルに変化して単量体の重合を開始す
る。
化合物であり、光開始剤と組み合わせで用いることによ
り、重合反応を開始し得るラジカルを発生する。すなわ
ち、上記光開始剤は光を吸収することによりそれ自身が
分解し、特定のラジカルを生成する。この光開始剤から
発生したラジカル自体には重合開始機能はない。しか
し、ここに上記「ラジカル発生剤」(水素供与剤または
電子供与剤として機能する)が存在すると、上記光分解
した光開始剤は、このラジカル発生剤から水素または電
子を引き抜き、その結果、ラジカル発生剤は、重合開始
機能を有するラジカルに変化して単量体の重合を開始す
る。
ラジカル発生剤は組成物中に 0.3〜15.0重量%の割合で
含有される。過少であると光照射によるラジカル反応が
充分に起こらないため,後述の単量体の重合反応が不充
分となり感度が悪くなる。過剰であってもそれ以上の効
果は得られない。
含有される。過少であると光照射によるラジカル反応が
充分に起こらないため,後述の単量体の重合反応が不充
分となり感度が悪くなる。過剰であってもそれ以上の効
果は得られない。
エチレン系不飽和単量体は不飽和基を有し,ラジカル発
生剤により開始されるラジカル反応により付加重合し高
分子を形成しうる化合物である。このような化合物とし
ては,アクリル酸もしくはメタクリル酸の誘導体〔(メ
タ)アクリル酸誘導体〕が好適に利用される。そのよう
な化合物としては,シクロヘキシルアクリレート,デシ
ルアクリレート,ラウリルアクリレートなどのアルキル
(メタ)アクリレート類;2−ヒドロキシチルアクリレ
ートなどのヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート
類;N・N−ジメチルアミノエチルアクリレートなどの
アミノアルキル(メタ)アクリレート類;2−メトキシ
エチルアクリレートなどのエーテルアルキル(メタ)ア
クリレート類;グリシジルアクリレート類;ハロゲン化
アルキルアクリレート類;トリメチロールプロパントリ
アクリレート,トリメチロールプロパントリメタクリレ
ート,トリエチレングリコールジメタクリレートなどの
多官能(メタ)アクリレート類が挙げられる。
生剤により開始されるラジカル反応により付加重合し高
分子を形成しうる化合物である。このような化合物とし
ては,アクリル酸もしくはメタクリル酸の誘導体〔(メ
タ)アクリル酸誘導体〕が好適に利用される。そのよう
な化合物としては,シクロヘキシルアクリレート,デシ
ルアクリレート,ラウリルアクリレートなどのアルキル
(メタ)アクリレート類;2−ヒドロキシチルアクリレ
ートなどのヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート
類;N・N−ジメチルアミノエチルアクリレートなどの
アミノアルキル(メタ)アクリレート類;2−メトキシ
エチルアクリレートなどのエーテルアルキル(メタ)ア
クリレート類;グリシジルアクリレート類;ハロゲン化
アルキルアクリレート類;トリメチロールプロパントリ
アクリレート,トリメチロールプロパントリメタクリレ
ート,トリエチレングリコールジメタクリレートなどの
多官能(メタ)アクリレート類が挙げられる。
上記化合物のほか,エチレン系不飽和基を側鎖に有する
重合体,例えば,下記の熱可塑性樹脂もエチレン系不飽
和単量体として使用することができる。
重合体,例えば,下記の熱可塑性樹脂もエチレン系不飽
和単量体として使用することができる。
このようなエチレン系不飽和単量体は組成物中に25〜80
重量%の割合で含有される。過少であると膜性能が低下
する。過剰であると他の添加剤の配合量が少なくなり,
感度や膜性能が低下する。
重量%の割合で含有される。過少であると膜性能が低下
する。過剰であると他の添加剤の配合量が少なくなり,
感度や膜性能が低下する。
感光性組成物には,必要に応じて,熱可塑性結合剤が含
有される。熱可塑性結合剤としては,酸,アルカリ,ま
たは有機溶剤に可溶な熱可塑性樹脂が用いらる。このよ
うな熱可塑性結合剤としては,ポリアミド,ポリアクリ
ル酸エステル,アクリル酸−アクリル酸アルキルエステ
ル共重合体,メタクリル酸−メタクリル酸アルキルエス
テル共重合体,ポリビニルフェノール,ポリビニルエス
テル,ポリアクリルアミド,ポリビニルアルコール,ポ
リエチレンオキシド,ゼラチン,セルロースエステル,
セルロースエーテルなどが用いられる。
有される。熱可塑性結合剤としては,酸,アルカリ,ま
たは有機溶剤に可溶な熱可塑性樹脂が用いらる。このよ
うな熱可塑性結合剤としては,ポリアミド,ポリアクリ
ル酸エステル,アクリル酸−アクリル酸アルキルエステ
ル共重合体,メタクリル酸−メタクリル酸アルキルエス
テル共重合体,ポリビニルフェノール,ポリビニルエス
テル,ポリアクリルアミド,ポリビニルアルコール,ポ
リエチレンオキシド,ゼラチン,セルロースエステル,
セルロースエーテルなどが用いられる。
このような熱可塑性結合剤は,組成物に露光を行いエチ
レン系不飽和単量体が重合反応を起こすと,生じた重合
体の分子間に組み込まれて該重合体とともにマトリック
スを形成する。その結果,露光を受けた部分は全体とし
て酸,アルカリまたは有機溶剤でなる現像剤に不溶とな
る。側鎖に重合性の基を有する熱可塑性結合剤(例え
ば,ポリビニルフェノール)は,エチレン系不飽和単量
体とともに重合反応に関与し,重合体を形成する場合も
ある。上記熱可塑性結合剤のうちカルボキシル基,ヒド
ロキシフェニル基,スルホン酸基,酸により4級化され
うる窒素原子を含有するポリマーが好適に利用される。
カルボキシル基,ヒドロキシフェニル基,スルホン酸基
を有するポリマーは水系アルカリ溶媒に可溶であり,酸
により4級化されうる窒素原子を含有するポリマーは水
系酸溶媒に可溶である。そのため,これら溶媒を用いて
簡単に現像を行い,水洗により現像を停止することも容
易である。例えば,カルボキシル基を有するポリマーに
は(メタ)アクリル系ポリマーが,ヒドロキシフェニル
基を有するポリマーにはポリビニルフェノールが,スル
ホン酸基を有するポリマーにはポリスチレンスルホン酸
が,そして酸により4級化されうる窒素原子を含有する
ポリマーにはポリアクリルアミドがある。
レン系不飽和単量体が重合反応を起こすと,生じた重合
体の分子間に組み込まれて該重合体とともにマトリック
スを形成する。その結果,露光を受けた部分は全体とし
て酸,アルカリまたは有機溶剤でなる現像剤に不溶とな
る。側鎖に重合性の基を有する熱可塑性結合剤(例え
ば,ポリビニルフェノール)は,エチレン系不飽和単量
体とともに重合反応に関与し,重合体を形成する場合も
ある。上記熱可塑性結合剤のうちカルボキシル基,ヒド
ロキシフェニル基,スルホン酸基,酸により4級化され
うる窒素原子を含有するポリマーが好適に利用される。
カルボキシル基,ヒドロキシフェニル基,スルホン酸基
を有するポリマーは水系アルカリ溶媒に可溶であり,酸
により4級化されうる窒素原子を含有するポリマーは水
系酸溶媒に可溶である。そのため,これら溶媒を用いて
簡単に現像を行い,水洗により現像を停止することも容
易である。例えば,カルボキシル基を有するポリマーに
は(メタ)アクリル系ポリマーが,ヒドロキシフェニル
基を有するポリマーにはポリビニルフェノールが,スル
ホン酸基を有するポリマーにはポリスチレンスルホン酸
が,そして酸により4級化されうる窒素原子を含有する
ポリマーにはポリアクリルアミドがある。
上記熱可塑性結合剤は組成物中に60.0重量%以下の割合
で含有される。過剰であると,エチレン系不飽和単量体
の量が過少になるため,露光による重合反応が不充分と
なり解像力に劣る。
で含有される。過剰であると,エチレン系不飽和単量体
の量が過少になるため,露光による重合反応が不充分と
なり解像力に劣る。
本発明の組成物には,さらに,必要に応じて,増感剤,
活性光線吸収剤,エネルギー移送性染料,酸素除去剤,
連鎖移動促進剤,熱重合禁止剤などの添加剤が含有され
る。上記添加剤のうち,増感剤としては,フルオレセイ
ン,エオシンなどのヒドロキシフタレイン染料;3・6
−ビス(アルキルアミノ)アクリジン類などのアミノア
クリジン染料;3・3′−ジエチルオキサカルボシアニ
ンヨーダイドなどのカルボシアン染料;7−ジメチルア
ミノ−4−メチルクマリン,7−ジエチルアミノ−4−
メチルクマリンなどのクマリン類;p−アミノフェニル
ケトン類;フラン類;オキサゾール類;オキサジアゾー
ル類;芳香族炭化水素;ペリレン類;ピレン類;ビス
(p−アミノフェニル)−α,β−不飽和ケトン類など
がある、活性光線吸収剤としては、カーボンブラック,
酸化チタン,金属や金属酸化物粉末,顔料,染料などが
用いられる。
活性光線吸収剤,エネルギー移送性染料,酸素除去剤,
連鎖移動促進剤,熱重合禁止剤などの添加剤が含有され
る。上記添加剤のうち,増感剤としては,フルオレセイ
ン,エオシンなどのヒドロキシフタレイン染料;3・6
−ビス(アルキルアミノ)アクリジン類などのアミノア
クリジン染料;3・3′−ジエチルオキサカルボシアニ
ンヨーダイドなどのカルボシアン染料;7−ジメチルア
ミノ−4−メチルクマリン,7−ジエチルアミノ−4−
メチルクマリンなどのクマリン類;p−アミノフェニル
ケトン類;フラン類;オキサゾール類;オキサジアゾー
ル類;芳香族炭化水素;ペリレン類;ピレン類;ビス
(p−アミノフェニル)−α,β−不飽和ケトン類など
がある、活性光線吸収剤としては、カーボンブラック,
酸化チタン,金属や金属酸化物粉末,顔料,染料などが
用いられる。
上記添加剤は組成物中に3重量%以下の割合で含有され
る。ただし,顔料を多重に使用するUV硬化塗料,フォ
トレジスト用インク,非銀系リスフィルムなどの用途に
利用するときには,添加剤は,その合計量で組成物に5
〜75重量%の割合で含有されていてもよい。
る。ただし,顔料を多重に使用するUV硬化塗料,フォ
トレジスト用インク,非銀系リスフィルムなどの用途に
利用するときには,添加剤は,その合計量で組成物に5
〜75重量%の割合で含有されていてもよい。
上記光開始剤,ラジカル発生剤,エチレ系不飽和単量
体,さらに必要に応じて,熱可塑性結合剤,各種添加剤
などを含有する組成物は,凸版,石版印刷板,非銀系リ
スフィルム,色校正版など印刷関連材料として,あるい
はフォトレジスト,ソルダーマスクなど電子関連材料と
して使用されうる。組成物は目的に応じて液状で,ある
いはフィルム形状などの固形状で利用されうる。
体,さらに必要に応じて,熱可塑性結合剤,各種添加剤
などを含有する組成物は,凸版,石版印刷板,非銀系リ
スフィルム,色校正版など印刷関連材料として,あるい
はフォトレジスト,ソルダーマスクなど電子関連材料と
して使用されうる。組成物は目的に応じて液状で,ある
いはフィルム形状などの固形状で利用されうる。
例えば,本発明の感光性組成物を用いてリスフィルムを
調製するにはカーボンブラックが5〜75重量%の割合で
含有された上記組成物に適当な溶媒を加えて希釈し,ポ
リエチレンテレフタレートなどの透明プラスチックシー
ト上にコーターを用いて均一に塗布・乾燥する。乾燥後
の厚みは10μm 以下,好ましくは1〜5μm である。こ
のようにして得られたリスフィルムの感光層上に所望の
原図(パターンマスク)を重ねて露光を行う。これを例
えば水系酸溶媒または水系アルカリ溶媒で現像すると,
未露光部分は溶解して除去され,露光部分は不溶性とな
るため残存する。その結果,微細な凹凸のレリーフが得
られる。不溶部分にはカーボンブラックが配合されてい
るため,露光部分は黒く,未露光部分は透明なフィルム
が得られる。
調製するにはカーボンブラックが5〜75重量%の割合で
含有された上記組成物に適当な溶媒を加えて希釈し,ポ
リエチレンテレフタレートなどの透明プラスチックシー
ト上にコーターを用いて均一に塗布・乾燥する。乾燥後
の厚みは10μm 以下,好ましくは1〜5μm である。こ
のようにして得られたリスフィルムの感光層上に所望の
原図(パターンマスク)を重ねて露光を行う。これを例
えば水系酸溶媒または水系アルカリ溶媒で現像すると,
未露光部分は溶解して除去され,露光部分は不溶性とな
るため残存する。その結果,微細な凹凸のレリーフが得
られる。不溶部分にはカーボンブラックが配合されてい
るため,露光部分は黒く,未露光部分は透明なフィルム
が得られる。
このように,特定の構造を有する光開始剤を用い,高感
度の感光性組成物が得られる。本発明の組成物に用いら
れる光開始剤は,従来の光開始剤と異なり,非ハロゲン
系溶剤,例えば,アルコール系溶剤にも可溶である。そ
のため,塗工ドープ溶剤として,クロロホルム,ジクロ
ルメタンなどのハロゲン系溶剤を使用する必要がない。
従って,ハロゲン系溶剤によりコーターなどの塗工装置
が腐食されるおそれがなく,かつ発ガン性の疑いがある
と言われるハロゲン系溶剤を作業時に吸入するおそれも
ない。光開始剤は,生物に対する蓄積性(生物濃縮性)
も極小であるため,生体に対しても安全である。さら
に,優れた熱安定性を有するため,感光性組成物を長時
間,例えば,室温に1年以上,保存しても組成物の解像
力にはほとんど変化が認められない。
度の感光性組成物が得られる。本発明の組成物に用いら
れる光開始剤は,従来の光開始剤と異なり,非ハロゲン
系溶剤,例えば,アルコール系溶剤にも可溶である。そ
のため,塗工ドープ溶剤として,クロロホルム,ジクロ
ルメタンなどのハロゲン系溶剤を使用する必要がない。
従って,ハロゲン系溶剤によりコーターなどの塗工装置
が腐食されるおそれがなく,かつ発ガン性の疑いがある
と言われるハロゲン系溶剤を作業時に吸入するおそれも
ない。光開始剤は,生物に対する蓄積性(生物濃縮性)
も極小であるため,生体に対しても安全である。さら
に,優れた熱安定性を有するため,感光性組成物を長時
間,例えば,室温に1年以上,保存しても組成物の解像
力にはほとんど変化が認められない。
実験例および実施例 以下に本発明組成物に使用する光開始剤の諸性質を示す
実験例と,本発明組成物の実施例とを示す。
実験例と,本発明組成物の実施例とを示す。
実験例1 本発明に用いられる光開始剤および従来の光開始剤の有
機溶媒(メタノール,酢酸エチル,クロロホルム)に対
する溶解性をそれぞれ調べた(実験例1−1〜1−5お
よび比較実験例1−1〜1−2)。その結果を表1に示
す。
機溶媒(メタノール,酢酸エチル,クロロホルム)に対
する溶解性をそれぞれ調べた(実験例1−1〜1−5お
よび比較実験例1−1〜1−2)。その結果を表1に示
す。
表1から,本発明に用いられる光開始剤はいずれもアル
コール系溶剤,酢酸エステル系溶剤などのハロゲン系溶
剤以外の溶剤に比較的良好な溶解性を示すことが明らか
である。
コール系溶剤,酢酸エステル系溶剤などのハロゲン系溶
剤以外の溶剤に比較的良好な溶解性を示すことが明らか
である。
実験例2−1 光開始剤として2−(2−クロルフェニル)−4・5−
ビス(3・4・5−トリメトキシフェニル)イミダゾリ
ル二量体を0.0080g ,ラジカル発生剤としてジメドンを
0.0030g ,エチレン系不飽和単量体としてトリメチロー
ルプロパントリアクリレートを0.032g,熱可塑性結合剤
としてメタクリル酸メチル−メタクリル酸共重合体(モ
ル比70:30)0.10g ,そして溶媒として塩化メチレン−
メタノール混液(重量比3:1)を10.00gの割合で含有
する組成物を,40℃で暗所に2日間保存した。保存後の
光開始剤の残存率を測定した。その結果を表2に示す。
実験例2−2〜2−3および比較実験例2−1〜2−6
の結果もあわせて表2に示す。
ビス(3・4・5−トリメトキシフェニル)イミダゾリ
ル二量体を0.0080g ,ラジカル発生剤としてジメドンを
0.0030g ,エチレン系不飽和単量体としてトリメチロー
ルプロパントリアクリレートを0.032g,熱可塑性結合剤
としてメタクリル酸メチル−メタクリル酸共重合体(モ
ル比70:30)0.10g ,そして溶媒として塩化メチレン−
メタノール混液(重量比3:1)を10.00gの割合で含有
する組成物を,40℃で暗所に2日間保存した。保存後の
光開始剤の残存率を測定した。その結果を表2に示す。
実験例2−2〜2−3および比較実験例2−1〜2−6
の結果もあわせて表2に示す。
実験例2−2 光開始剤として2−(2−クロルフェニル)−4・5−
ビス(3・5−ジメトキシフェニル)イミダゾリル二量
体を使用したこと以外は実験例2−1と同様である。
ビス(3・5−ジメトキシフェニル)イミダゾリル二量
体を使用したこと以外は実験例2−1と同様である。
実験例2−3 光開始剤として2−(2−クロルフェニル)−4−(3
・4・5−トリメトキシフェニル)−5−(3・5−ジ
メトキシフェニル)イミダゾリル二量体を使用したこと
以外は実験例2−1と同様である。
・4・5−トリメトキシフェニル)−5−(3・5−ジ
メトキシフェニル)イミダゾリル二量体を使用したこと
以外は実験例2−1と同様である。
比較実験例2−1 光開始剤として2−(2−クロルフェニル)−4・5−
ジフェニルイミダゾリル二量体を使用したこと以外は実
験例2−1と同様である。
ジフェニルイミダゾリル二量体を使用したこと以外は実
験例2−1と同様である。
比較実験例2−2 光開始剤として2−(2−メトキシフェニル)−4・5
−ビス(3−メトキシフェニル)イミダゾリル二量体を
使用したこと以外は実験例2−1と同様である。
−ビス(3−メトキシフェニル)イミダゾリル二量体を
使用したこと以外は実験例2−1と同様である。
比較実験例2−3 光開始剤として2−(2−クロルフェニル)−4・5−
ビス(4−メトキシフェニル)イミダゾリル二量体を使
用したこと以外は実験例2−1と同様である。
ビス(4−メトキシフェニル)イミダゾリル二量体を使
用したこと以外は実験例2−1と同様である。
比較実験例2−4 光開始剤として2−ナフチル−4・5−ジフェニルイミ
ダゾリル二量体を使用したこと以外は実験例2−1と同
様である。
ダゾリル二量体を使用したこと以外は実験例2−1と同
様である。
比較実験例2−5 光開始剤として2・4・5−トリフェニルイミダゾリル
二量体を使用したこと以外は実験例2−1と同様であ
る。
二量体を使用したこと以外は実験例2−1と同様であ
る。
比較実験例2−6 光開始剤として2−(2−メトキシフェニル)4・5−
ジフェニルイミダゾリル二量体を使用したこと以外は実
験例2−1と同様である。
ジフェニルイミダゾリル二量体を使用したこと以外は実
験例2−1と同様である。
表2より本発明で用いられる光開始剤は溶液中での熱安
定性に優れていることがわかる。従来の光開始剤である
2−(2−クロルフェニル)−4・5−ジフェニルイミ
ダゾリル二量体も熱安定性は高いが,この化合物は生体
に対する蓄積性が高いため好ましくない。
定性に優れていることがわかる。従来の光開始剤である
2−(2−クロルフェニル)−4・5−ジフェニルイミ
ダゾリル二量体も熱安定性は高いが,この化合物は生体
に対する蓄積性が高いため好ましくない。
実験例3−1 光開始剤の生体に対する蓄積性の目安としてn−オクチ
ルアルコール−水系でこの分配係数を測定した。
ルアルコール−水系でこの分配係数を測定した。
n−オクチルアルコール約10 mlおよび水約10 mlを分液
ロートに入れ,さらに光開始剤として2−(2−クロル
フェニル)−4・5−ビス(3・4・5−トリメトキシ
フェニル)イミダゾリル二量体 1.0g を加えて数回振蘯
した後,静置した。n−オクチルアルコールおよび水に
溶解した光開始剤の量をそれぞれ測定し,分配係数を算
出した: 分配係数(ρ)=log (O/w) ここで,Oはn−オクチルアルコールに溶解した光開始
剤の量,そしてWは水に溶解した光開始剤の量を示す。
ロートに入れ,さらに光開始剤として2−(2−クロル
フェニル)−4・5−ビス(3・4・5−トリメトキシ
フェニル)イミダゾリル二量体 1.0g を加えて数回振蘯
した後,静置した。n−オクチルアルコールおよび水に
溶解した光開始剤の量をそれぞれ測定し,分配係数を算
出した: 分配係数(ρ)=log (O/w) ここで,Oはn−オクチルアルコールに溶解した光開始
剤の量,そしてWは水に溶解した光開始剤の量を示す。
その結果を表3に示す。実験例3−2〜3−3および比
較実験例3−1〜3−2の結果もあわせて表3に示す。
較実験例3−1〜3−2の結果もあわせて表3に示す。
実験例3−2 光開始剤として2−(2−クロルフェニル)−4・5−
ビス(3・5−ジメトキシフェニル)イミダゾリル二量
体を使用したこと以外は実験例3−1と同様である。
ビス(3・5−ジメトキシフェニル)イミダゾリル二量
体を使用したこと以外は実験例3−1と同様である。
実験例3−3 光開始剤として2−(2−クロルフェニル)−4−(3
・4・5−トリメトキシフェニル)−5−(3・5−ジ
メトキシフェニル)イミダゾリル二量体を使用したこと
以外は実験例3−1と同様である。
・4・5−トリメトキシフェニル)−5−(3・5−ジ
メトキシフェニル)イミダゾリル二量体を使用したこと
以外は実験例3−1と同様である。
比較実験例3−1 光開始剤として2−(2−クロルナフチル)−4・5−
ジフェニルイミダゾリル二量体を使用したこと以外は実
験例3−1と同様である。
ジフェニルイミダゾリル二量体を使用したこと以外は実
験例3−1と同様である。
比較実験例3−2 光開始剤として2−(2−クロルフェニル)−4・5−
ジフェニルイミダゾリル二量体を使用したこと以外は実
験例3−1と同様である。
ジフェニルイミダゾリル二量体を使用したこと以外は実
験例3−1と同様である。
n−オクチルアルコール−水系での分配係数が大きいほ
ど生体への濃縮・蓄積性が大きく,通常,分配係数が3
以下であれば安全な化合物であるとされている。表3か
ら,本発明に用いられる光開始剤の分配係数はいずれも
3以下であり,安全な化合物であるとみなされる。
ど生体への濃縮・蓄積性が大きく,通常,分配係数が3
以下であれば安全な化合物であるとされている。表3か
ら,本発明に用いられる光開始剤の分配係数はいずれも
3以下であり,安全な化合物であるとみなされる。
実験例4−1 光開始剤2−(2−クロルフェニル)−4・5−ビス
(3・4・5−トリメトキシフェニル)イミダゾリル二
量体を10ppm のクロロホルム溶液とし,石英セル(厚さ
1.0cm)を使用して365 nmでの吸光度を測定した。その
結果を表4に示す。実験例4−2〜4−3および比較実
験例4−1〜4−3の結果もあわせて表4に示す。
(3・4・5−トリメトキシフェニル)イミダゾリル二
量体を10ppm のクロロホルム溶液とし,石英セル(厚さ
1.0cm)を使用して365 nmでの吸光度を測定した。その
結果を表4に示す。実験例4−2〜4−3および比較実
験例4−1〜4−3の結果もあわせて表4に示す。
実験例4−2 光開始剤として2−(2−クロルフェニル)−4・5−
ビス(3・5ジメトキシフェニル)イミダゾリル二量体
を使用したこと以外は実験例4−1と同様である。
ビス(3・5ジメトキシフェニル)イミダゾリル二量体
を使用したこと以外は実験例4−1と同様である。
実験例4−3 光開始剤として2−(2−クロルフェニル)−4−(3
・4・5−トリメトキシフェニル)−5−(3・5−ジ
メトキシフェニル)イミダゾリル二量体を使用したこと
以外は実験例4−1と同様である。
・4・5−トリメトキシフェニル)−5−(3・5−ジ
メトキシフェニル)イミダゾリル二量体を使用したこと
以外は実験例4−1と同様である。
比較実験例4−1 光開始剤として2−(2−クロルナフチル)−4・5−
ジフェニルイミダゾリル二量体を使用したこと以外は実
験例4−1と同様である。
ジフェニルイミダゾリル二量体を使用したこと以外は実
験例4−1と同様である。
比較実験例4−2 光開始剤として2−(2−クロルフェニル)4・5−ビ
ス(3−メトキシフェニル)イミダゾリル二量体を使用
したこと以外は実験例4−1と同様である。
ス(3−メトキシフェニル)イミダゾリル二量体を使用
したこと以外は実験例4−1と同様である。
比較実験例4−3 光開始剤として2−(2−クロルフェニル)−4・5−
ジフェニルイミダゾリル二量体を使用したこと以外は実
験例4−1と同様である。
ジフェニルイミダゾリル二量体を使用したこと以外は実
験例4−1と同様である。
表4から本発明の光開始剤は,通常,露光の行われる30
0 〜400 nmにおける吸光度が高いため,感度の良好なこ
とが明らかである。
0 〜400 nmにおける吸光度が高いため,感度の良好なこ
とが明らかである。
実施例1 メタクリル酸メチル−メタクリル酸共重合体(モル比7
0:30)43.4重量部,カーボンブラック(紫外線遮断
剤)10.6重量部,トリメチロールプロパントリアクリレ
ート36.0重量部,2−(2−クロルフェニル)−4・5
−ビス(3・4・5−トリメトキシフェニル)イダゾリ
ル二量体(光開始剤)およびジメドン(ラジカル発生
剤)の1:1のモル比の混合物を10.0重量部,バイドロ
キノンモノメチルエーテル0.03重量部そしてメタノール
317.0 重量部を混合して感光性組成物を調製した。下引
き層を有する厚さ 100μm の透明二軸延伸ポリエチレン
テレフタレート製フィルム上に,上記組成物を,乾燥後
の厚さが4μm となるように,リバースコーターを用い
て塗布した。形成された感光層の光学濃度は,350 〜40
0nm の範囲で平均2.6 であった。感光層の表面にさらに
10%ポリビニルアルコール(ケン化度98〜99モル%,重
合度500)水溶液を塗布・乾燥し,厚さ2μm の保護層
を形成した。
0:30)43.4重量部,カーボンブラック(紫外線遮断
剤)10.6重量部,トリメチロールプロパントリアクリレ
ート36.0重量部,2−(2−クロルフェニル)−4・5
−ビス(3・4・5−トリメトキシフェニル)イダゾリ
ル二量体(光開始剤)およびジメドン(ラジカル発生
剤)の1:1のモル比の混合物を10.0重量部,バイドロ
キノンモノメチルエーテル0.03重量部そしてメタノール
317.0 重量部を混合して感光性組成物を調製した。下引
き層を有する厚さ 100μm の透明二軸延伸ポリエチレン
テレフタレート製フィルム上に,上記組成物を,乾燥後
の厚さが4μm となるように,リバースコーターを用い
て塗布した。形成された感光層の光学濃度は,350 〜40
0nm の範囲で平均2.6 であった。感光層の表面にさらに
10%ポリビニルアルコール(ケン化度98〜99モル%,重
合度500)水溶液を塗布・乾燥し,厚さ2μm の保護層
を形成した。
得られたリスフィルムの保護層表面に ステップタブレット(コダック社製)を重ねて超高圧水
銀灯(オーク製作所製;ポリマープリター3000;140 W
/m2 )を用いて露光を行なった。水洗して保護層を除
去した後,2%炭酸ナトリウム水溶液中に25℃で6秒間
浸漬し,さらに水に浸漬してスポンジでこすって現像を
行なった。このようにして露光時間を種々にかえて行
い,ステップタブレットの6段を硬化するのに最適な露
光時間を求めた。別に,未露光のリスフィルムを25℃で
2%炭酸ナトリウム水溶液に浸漬し,感光層が完全に溶
解するのに要する時間を測定した。
銀灯(オーク製作所製;ポリマープリター3000;140 W
/m2 )を用いて露光を行なった。水洗して保護層を除
去した後,2%炭酸ナトリウム水溶液中に25℃で6秒間
浸漬し,さらに水に浸漬してスポンジでこすって現像を
行なった。このようにして露光時間を種々にかえて行
い,ステップタブレットの6段を硬化するのに最適な露
光時間を求めた。別に,未露光のリスフィルムを25℃で
2%炭酸ナトリウム水溶液に浸漬し,感光層が完全に溶
解するのに要する時間を測定した。
次に未露光のリスフィルムを40℃の暗所で所定時間(1
ヶ月間および2ヶ月間)保存した後,上記最適露光時間
を求める実験と未露光の感光層が完全に溶解するのに要
する時間を測定する実験とをそれぞれ行なった。
ヶ月間および2ヶ月間)保存した後,上記最適露光時間
を求める実験と未露光の感光層が完全に溶解するのに要
する時間を測定する実験とをそれぞれ行なった。
これらの結果を表5に示す。実施例2〜5および比較例
1〜4の結果もあわせて表5に示す。
1〜4の結果もあわせて表5に示す。
実施例2 光開始剤として2−(2−クロルフェニル)−4・5−
ビス(3・5−ジメトキシフェニル)イミダゾリル二量
体を用いたこと以外は実験例1と同様である。
ビス(3・5−ジメトキシフェニル)イミダゾリル二量
体を用いたこと以外は実験例1と同様である。
実施例3 光開始剤として2−(2−クロルフェニル)−4−(3
・4・5−トリメトキシフェニル)−5−(3・5−ジ
メトキシフェニル)イミダゾリル二量体を用いたこと以
外は実験例1と同様である。
・4・5−トリメトキシフェニル)−5−(3・5−ジ
メトキシフェニル)イミダゾリル二量体を用いたこと以
外は実験例1と同様である。
比較例1 光開始剤として2・4・5−トリフェニルイミダゾリル
二量体を用いたこと以外は実験例1と同様である。
二量体を用いたこと以外は実験例1と同様である。
比較例2 光開始剤として2−(2−メトキシフェニル)4・5−
ジフェニルイミダゾリル二量体を用いたこと以外は実験
例1と同様である。
ジフェニルイミダゾリル二量体を用いたこと以外は実験
例1と同様である。
比較例3 光開始剤として2−(2−クロルフェニル)−4・5−
ジフェニルイミダゾリル二量体を用いたこと以外は実験
例1と同様である。
ジフェニルイミダゾリル二量体を用いたこと以外は実験
例1と同様である。
比較例4 光開始剤として2−(2−クロルフェニル)−4・5−
ビス(3−メトキシフェニル)イミダゾリル二量体を用
いたこと以外は実験例1と同様である。
ビス(3−メトキシフェニル)イミダゾリル二量体を用
いたこと以外は実験例1と同様である。
表5から,本発明の感光性組成物は高感度であり,かつ
経時変化がほどんと認められないことが明らかである。
経時変化がほどんと認められないことが明らかである。
(発明の効果) 本発明では,このように,特定の構造を有する高感度の
光開始剤を利用しており,その結果,高感度・高解像力
の感光性組成物が得られる。本発明の組成物に用いられ
る光開始剤は,従来の光開始剤と異なり,非ハロゲン系
溶剤,例えば,アルコール系溶剤にも可溶である。その
ため,塗工ドープ溶剤として,クロロホルム,ジクロル
メタンなどのハロゲン系溶剤を使用する必要がない。従
って,ハロゲン系溶剤によりコーターなどの塗工装置が
腐食されるおそれがなく,かつ発ガン性の疑いがあると
言われるハロゲン系溶剤を作業時に吸入するおそれもな
い。光開始剤は,生物に対する蓄積性(生物濃縮性)も
極小であるため,生体に対しても安全である。さらに,
優れた熱安定性を有するため,感光性組成物を長時間,
例えば,室温に1年以上,保存しても組成物の解像力に
はほとんど変化が認められない。このような感光性組成
物はリスフィルム,凸版印刷用版材,プリント配線基版
用フォトレジストなどの数多くの技術分野への応用が可
能である。
光開始剤を利用しており,その結果,高感度・高解像力
の感光性組成物が得られる。本発明の組成物に用いられ
る光開始剤は,従来の光開始剤と異なり,非ハロゲン系
溶剤,例えば,アルコール系溶剤にも可溶である。その
ため,塗工ドープ溶剤として,クロロホルム,ジクロル
メタンなどのハロゲン系溶剤を使用する必要がない。従
って,ハロゲン系溶剤によりコーターなどの塗工装置が
腐食されるおそれがなく,かつ発ガン性の疑いがあると
言われるハロゲン系溶剤を作業時に吸入するおそれもな
い。光開始剤は,生物に対する蓄積性(生物濃縮性)も
極小であるため,生体に対しても安全である。さらに,
優れた熱安定性を有するため,感光性組成物を長時間,
例えば,室温に1年以上,保存しても組成物の解像力に
はほとんど変化が認められない。このような感光性組成
物はリスフィルム,凸版印刷用版材,プリント配線基版
用フォトレジストなどの数多くの技術分野への応用が可
能である。
Claims (2)
- 【請求項1】光開始剤、ラジカル発生剤およびエチレン
系不飽和単量体を含有する感光性組成物であって、 該光開始剤が下記式(I)で示される2・4・5−トリ
アリ−ルイミダゾリル二量体である、 感光性組成物: (ここで、Xはハロゲン基、シアノ基、炭素原子数1〜
4のアルキル基またはアリール基;Y1〜Y4はそれぞれ炭
素原子数1〜4のアルコキシル基;Z1〜Z10はそれぞれ
水素または炭素原子数1〜4のアルコキシル基を示す。
ただし、Y1〜Y4およびZ1〜Z10はそれぞれ同一の置換基
でなくてもよい。) - 【請求項2】前記ラジカル発生剤が、ジメドン、インド
ール酢酸、N−ナフチルグリシン、S−n−ブチルチオ
グリコール酸、4・4′−ビス(ジメチルアミノ)ベンジ
ル、p−ジアルキルアミノ安息香酸エステル、ロイコク
リスタルバイオレット、インドキシル酸およびこれらの
化合物の誘導体からなる群より選択される、特許請求の
範囲第1項に記載の感光性組成物。
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|---|---|---|---|
| JP1542286A JPH0651737B2 (ja) | 1986-01-27 | 1986-01-27 | 感光性組成物 |
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1986
- 1986-01-27 JP JP1542286A patent/JPH0651737B2/ja not_active Expired - Fee Related
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