JPH0652162B2 - 干渉測定方法 - Google Patents
干渉測定方法Info
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- JPH0652162B2 JPH0652162B2 JP60070637A JP7063785A JPH0652162B2 JP H0652162 B2 JPH0652162 B2 JP H0652162B2 JP 60070637 A JP60070637 A JP 60070637A JP 7063785 A JP7063785 A JP 7063785A JP H0652162 B2 JPH0652162 B2 JP H0652162B2
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- Japan
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- spectrum
- area sensor
- light
- measurement
- wavefront
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- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
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- G01B11/24—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring contours or curvatures
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- G—PHYSICS
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- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
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- G—PHYSICS
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- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J9/00—Measuring optical phase difference; Determining degree of coherence; Measuring optical wavelength
- G01J9/02—Measuring optical phase difference; Determining degree of coherence; Measuring optical wavelength by interferometric methods
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- G01J9/00—Measuring optical phase difference; Determining degree of coherence; Measuring optical wavelength
- G01J9/02—Measuring optical phase difference; Determining degree of coherence; Measuring optical wavelength by interferometric methods
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- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 (技術分野) 本発明は、干渉測定方法に関する。
(従来技術) 干渉測定方法は、基準面からの反射光である参照光と、
測定面からの反射光である測定光とを干渉せしめ、その
干渉縞の解析により測定波面と参照波面との差異を知
り、測定面の形状を高精度に測定する方法である。
測定面からの反射光である測定光とを干渉せしめ、その
干渉縞の解析により測定波面と参照波面との差異を知
り、測定面の形状を高精度に測定する方法である。
このような干渉測定方法のうちに、フーリエ変換を利用
する方法がある。すなわち、測定光と参照光とを所定面
内で互いに微小角θ傾けてエリアセンサーに入射せし
め、両者の干渉縞をエリアセンサーによりウィンドウ処
理をして読取り、その結果をフーリエ変換することによ
り、傾き角θによる分離された3群の空間周波数のスペ
クトル群を得、これらスペクトル群からひとつの単側波
帯のみを選択し、これを周波数軸上で傾き角θに対応す
る量だけスペクトル移動し、これによって傾き成分を除
去し、得られるスペクトルに対し逆フーリエ変換と逆ウ
ィンドウ処理とを行ない、その結果から位相部分を算出
することにより、エリアセンサー上の測定波面の、参照
波面からの偏差を算出する測定方法である。
する方法がある。すなわち、測定光と参照光とを所定面
内で互いに微小角θ傾けてエリアセンサーに入射せし
め、両者の干渉縞をエリアセンサーによりウィンドウ処
理をして読取り、その結果をフーリエ変換することによ
り、傾き角θによる分離された3群の空間周波数のスペ
クトル群を得、これらスペクトル群からひとつの単側波
帯のみを選択し、これを周波数軸上で傾き角θに対応す
る量だけスペクトル移動し、これによって傾き成分を除
去し、得られるスペクトルに対し逆フーリエ変換と逆ウ
ィンドウ処理とを行ない、その結果から位相部分を算出
することにより、エリアセンサー上の測定波面の、参照
波面からの偏差を算出する測定方法である。
(目的) 本発明は、上記の如きフーリエ変換を利用する干渉測定
方法を改良し、演算が容易で測定精度の高い干渉測定方
法の提供を目的としている。
方法を改良し、演算が容易で測定精度の高い干渉測定方
法の提供を目的としている。
(構成) 以下、本発明を説明する。
本発明の特徴は、以下にのべる点にある。
フーリエ変換や、その逆変換の演算は離散的に行なわれ
るのであるが、傾き角θに対応する空間周波数oとサ
ンプリング区間Dとの間に、nを整数として、o=n
/Dが成立つように、θとDの関係を定める。上記空間
周波数oは、λを波長として、 で与えられる。
るのであるが、傾き角θに対応する空間周波数oとサ
ンプリング区間Dとの間に、nを整数として、o=n
/Dが成立つように、θとDの関係を定める。上記空間
周波数oは、λを波長として、 で与えられる。
また、フーリエ変換に先立つウィンドウ処理において
は、読取りの各ラインごとに、ウインドウ両端部を、入
力光束の境界部と一致させるように、スレッシュホール
ドレベルを設ける。
は、読取りの各ラインごとに、ウインドウ両端部を、入
力光束の境界部と一致させるように、スレッシュホール
ドレベルを設ける。
さらに、スペクトル移動の際に、1周期の出力周波数領
域を越える成分については、移動方向と反対方向に1/d
だけ移動させる。ここにdはサンプリングピッチであ
る。
域を越える成分については、移動方向と反対方向に1/d
だけ移動させる。ここにdはサンプリングピッチであ
る。
以下、図面を参照しながら、説明する。
第1図において、符号10はビームスプリッター符号12は
測定対象物、符号14は平面鏡、符号16はレンズ、符号18
はエリアセンサーをそれぞれ示している。測定対象物12
は測定面を有する。平面鏡14の鏡面は基準面である。ま
たx方向、z方向を図の如く定め、y方向は、図面に直
交する方向とする。平面鏡14は、その鏡面に法線が、所
定のxz面内でx方向に対して微小角傾いている。
測定対象物、符号14は平面鏡、符号16はレンズ、符号18
はエリアセンサーをそれぞれ示している。測定対象物12
は測定面を有する。平面鏡14の鏡面は基準面である。ま
たx方向、z方向を図の如く定め、y方向は、図面に直
交する方向とする。平面鏡14は、その鏡面に法線が、所
定のxz面内でx方向に対して微小角傾いている。
今、ビームスピリッター10に対し、平面波が左方からZ
方向に入射すると、この平面波はビームスプリッター10
により2分割され、一方は、測定対象物12に、他方は平
面鏡14に入射する。測定対象物12に入射した平面波は、
測定面により反射され、測定光となりビームスプリッタ
ー10に入射し、x方向へ反射され、レンズ16を介してエ
リアセンサー18に入射し、エリアセンサー18の受光面上
に測定面形状に応じた位相形状を形成する。この位相形
状をWA(x)とする。この位相形状は、本来はx、yの関
数としてWA(x、y)と書くべきものである。一方平面鏡14
に入射した平面波は、反射されて参照波となり、ビーム
スプリッター10、レンズ16を介してエリアセンサー18に
入射する。この参照波の波面は平面である。参照光は、
平面鏡14の傾きのため、測定光に対して微小角θだけ傾
いてエリアセンサー18に入射する。従って参照波面はx
方向に対して傾いたものとなる。この参照波面(参照波
の位相形状)をWB(x)とする。測定光と参照光とは干渉
しエリアセンサー上に干渉縞を生ずる。
方向に入射すると、この平面波はビームスプリッター10
により2分割され、一方は、測定対象物12に、他方は平
面鏡14に入射する。測定対象物12に入射した平面波は、
測定面により反射され、測定光となりビームスプリッタ
ー10に入射し、x方向へ反射され、レンズ16を介してエ
リアセンサー18に入射し、エリアセンサー18の受光面上
に測定面形状に応じた位相形状を形成する。この位相形
状をWA(x)とする。この位相形状は、本来はx、yの関
数としてWA(x、y)と書くべきものである。一方平面鏡14
に入射した平面波は、反射されて参照波となり、ビーム
スプリッター10、レンズ16を介してエリアセンサー18に
入射する。この参照波の波面は平面である。参照光は、
平面鏡14の傾きのため、測定光に対して微小角θだけ傾
いてエリアセンサー18に入射する。従って参照波面はx
方向に対して傾いたものとなる。この参照波面(参照波
の位相形状)をWB(x)とする。測定光と参照光とは干渉
しエリアセンサー上に干渉縞を生ずる。
測定波面WA(x)と参照波面WB(x)の相対的な位置関係を第
1図(II)に示す。
1図(II)に示す。
これらWA(x),WB(x)の複素振幅分布を、それぞれ、α
(x)ej(WA(x)+2 π ox),β(x)とすると、干渉縞の強
度分布g(x)は、 となる。ただし、oは、λを波長として であり、a(x)=α2(x),b(x)=2α(x)β(x), である。これから分るように、測定波面WA(x)の情報
は、(1)式の2項と3項に入っている。
(x)ej(WA(x)+2 π ox),β(x)とすると、干渉縞の強
度分布g(x)は、 となる。ただし、oは、λを波長として であり、a(x)=α2(x),b(x)=2α(x)β(x), である。これから分るように、測定波面WA(x)の情報
は、(1)式の2項と3項に入っている。
この強度分布g(x)をサンプリング区間についてウィン
ドウ処理を行ない、これをxに関してフーリエ変換する
と、 G()=A()+C(−o)+C*(+o)
(3) というスペクトルが得られる。このスペクトル(3)式
は、傾き角θに応じた空間周波数oにより3群A
(),C(−o),C*(+o)に分離してい
る。もとめるべき測定波面WA(x)に関する情報は、単側
波帯C(−o)とC*(+o)に含まれている。
そこで、このうち、ひとつの単側波帯C(−o)を
選択する。
ドウ処理を行ない、これをxに関してフーリエ変換する
と、 G()=A()+C(−o)+C*(+o)
(3) というスペクトルが得られる。このスペクトル(3)式
は、傾き角θに応じた空間周波数oにより3群A
(),C(−o),C*(+o)に分離してい
る。もとめるべき測定波面WA(x)に関する情報は、単側
波帯C(−o)とC*(+o)に含まれている。
そこで、このうち、ひとつの単側波帯C(−o)を
選択する。
そのためには、(3)式の右辺のスペクトル群A(),C
*(−o)をフィルターで除去すればよい。このよ
うにして得られるC(−o)を、周波数軸上で、
oだけ原点にむけて、スペクトル移動すると、C()な
るスペクトルが得られるが、このスペクトルC()で
は、傾き角θにもとづく傾き成分が除去されている。そ
こで、C()を逆フーリエ変換し、逆ウィンドウ処理す
ると が求められる。測定波面WA(x)は の位相部分であるから、WA(x)は、 として与えられる。
*(−o)をフィルターで除去すればよい。このよ
うにして得られるC(−o)を、周波数軸上で、
oだけ原点にむけて、スペクトル移動すると、C()な
るスペクトルが得られるが、このスペクトルC()で
は、傾き角θにもとづく傾き成分が除去されている。そ
こで、C()を逆フーリエ変換し、逆ウィンドウ処理す
ると が求められる。測定波面WA(x)は の位相部分であるから、WA(x)は、 として与えられる。
測定波面WA(x)は、本来WA(x、y)と記するべきものであ
る旨先に述べたが、エリアセンサー18による読取は、y
方向については、1ラインずつ行なうので各ラインの読
取結果についての演算プロセスでは、これをxのみの関
数WA(x)としてあつかってよい。
る旨先に述べたが、エリアセンサー18による読取は、y
方向については、1ラインずつ行なうので各ラインの読
取結果についての演算プロセスでは、これをxのみの関
数WA(x)としてあつかってよい。
さて、周知の如く、離散的なフーリエ変換においては、
サンプリングピッチdでN個の値についてフーリエ変換
すると、周波数領域でのスペクトルは、ピッチが1/D
で、周期が1/dとなる。ここにDはサンプリング区間で
あってD=d・(N+1)で与えられる。
サンプリングピッチdでN個の値についてフーリエ変換
すると、周波数領域でのスペクトルは、ピッチが1/D
で、周期が1/dとなる。ここにDはサンプリング区間で
あってD=d・(N+1)で与えられる。
例えば、第1図(III)において、フーリエ変換される
べき強度分布g(x)が、破線の如きものとするとき、サ
ンプリングピッチdで、サンプリング区間D内のN点に
ついてフーリエ変換を行なうと、その結果は第1図(I
V)に示す如くなる。スペクトルG()は、ピッチが1
/Dで、周期1/dの周期関数である。
べき強度分布g(x)が、破線の如きものとするとき、サ
ンプリングピッチdで、サンプリング区間D内のN点に
ついてフーリエ変換を行なうと、その結果は第1図(I
V)に示す如くなる。スペクトルG()は、ピッチが1
/Dで、周期1/dの周期関数である。
従って、空間周波数oに対して、nを整数として、 とすると、スイペクトルにおけるo成分は1区間にの
み表われることになり、(3)式におけるC(−
o),C*(+o)の広がりが抑制され、フィルタ
ー操作,スペクトル移動操作を正確に行うことができ、
演算も簡単化される。oは であるから、 を実現するには、予め定められたDに対して を満足するように、傾き角θを定める方法(第1の方
法)と、他の測定器で傾き角θを正確に測定し、 を満足するようにサンプリング区間を調整する方法(第
2の方法)とがある。
み表われることになり、(3)式におけるC(−
o),C*(+o)の広がりが抑制され、フィルタ
ー操作,スペクトル移動操作を正確に行うことができ、
演算も簡単化される。oは であるから、 を実現するには、予め定められたDに対して を満足するように、傾き角θを定める方法(第1の方
法)と、他の測定器で傾き角θを正確に測定し、 を満足するようにサンプリング区間を調整する方法(第
2の方法)とがある。
第1の方法は、エリアセンサー18として、出力がサンプ
ルホールドされ、サンプリングピッチdが固定されるも
のを用いる場合に有効である。第2の方法は、出力が連
続的で、サンプリングピッチdを可変にできるようなエ
リアセンサーを用いる場合に、角θの許容誤差が厳しい
ときに有効である。
ルホールドされ、サンプリングピッチdが固定されるも
のを用いる場合に有効である。第2の方法は、出力が連
続的で、サンプリングピッチdを可変にできるようなエ
リアセンサーを用いる場合に、角θの許容誤差が厳しい
ときに有効である。
また、エリアセンサー18による読取りは、y方向につい
てはx方向の複数ラインとして読みとられるのである
が、この場合に、各ラインについてDの値を共通にし、
信号強度方向にスレッシュホールドレベルを設けて、ウ
ィンドウの広さを可変とし、各ラインごとに、ウィンド
ウ両端部を入力光束の境界部と一致させることにより、
測定精度を高めることができる。
てはx方向の複数ラインとして読みとられるのである
が、この場合に、各ラインについてDの値を共通にし、
信号強度方向にスレッシュホールドレベルを設けて、ウ
ィンドウの広さを可変とし、各ラインごとに、ウィンド
ウ両端部を入力光束の境界部と一致させることにより、
測定精度を高めることができる。
さらに、スペクトル移動を行うとき、FFTプロセッサ
ーでは、通常、第1図(IV)の0〜1/dの周波数領域で
の結果が出力される。従って、側波帯C(−o)を
周波数軸の原点側へoだけ移動させる際、負領域へ入
る部分は1/dだけ正方向へ移動させることにより、正確
かつ容易に逆変換を実行できる。
ーでは、通常、第1図(IV)の0〜1/dの周波数領域で
の結果が出力される。従って、側波帯C(−o)を
周波数軸の原点側へoだけ移動させる際、負領域へ入
る部分は1/dだけ正方向へ移動させることにより、正確
かつ容易に逆変換を実行できる。
2次元の波面形状WA(x、y)を知るには、平面鏡14の
法線をxy面に平行な面内でx方向に対して微小角傾
け、y方向について、前記と同様の方法で1ライン分の
みの形状をもとめ、求められたy方向1ライン分の形状
に、先に求められたx方向の各ライン(y方向へ並列し
ている)の形状をのせてやればよい。
法線をxy面に平行な面内でx方向に対して微小角傾
け、y方向について、前記と同様の方法で1ライン分の
みの形状をもとめ、求められたy方向1ライン分の形状
に、先に求められたx方向の各ライン(y方向へ並列し
ている)の形状をのせてやればよい。
以下、コンピューターによるシミュレーション例を示
す。
す。
第2図において(I)は、エリアセンサー上の測定波面
WA(x)を示す。(II)は、測定光と参照光とのおりなす
干渉縞の光強度分布、(III)は、(II)に示す光強度
分布に、ウィンドウ処理を行った状態を示す。ウィンド
ウ関数Wは である。また、ウィンドウ両端部は入射光束端部と一致
させている。(IV)は、(III)の結果をフーリエ変換
した状態、(V)は、単側波帯C(−o)をスペク
トル移動して傾き成分を除去した状態,(IV)は(V)の
スペクトルに対し、逆フーリエ変換と逆ウィンドウ処理
を施して得られるC(x)につき、その絶対値|C(x)|
と、その位相部分arg(C(x))すなわちWA(x)を示す
図、第2図(VII)は、第2図(I)に示すWA(x)と、上記
の如く算出されたWA(x)(第2図(VI))との差異、す
なわち、測定誤差を示す。この図から明らかなように両
端部をのぞけば、WA(x)は、極めて良好に測定さてい
る。
WA(x)を示す。(II)は、測定光と参照光とのおりなす
干渉縞の光強度分布、(III)は、(II)に示す光強度
分布に、ウィンドウ処理を行った状態を示す。ウィンド
ウ関数Wは である。また、ウィンドウ両端部は入射光束端部と一致
させている。(IV)は、(III)の結果をフーリエ変換
した状態、(V)は、単側波帯C(−o)をスペク
トル移動して傾き成分を除去した状態,(IV)は(V)の
スペクトルに対し、逆フーリエ変換と逆ウィンドウ処理
を施して得られるC(x)につき、その絶対値|C(x)|
と、その位相部分arg(C(x))すなわちWA(x)を示す
図、第2図(VII)は、第2図(I)に示すWA(x)と、上記
の如く算出されたWA(x)(第2図(VI))との差異、す
なわち、測定誤差を示す。この図から明らかなように両
端部をのぞけば、WA(x)は、極めて良好に測定さてい
る。
第3図は、従来法による測定のシミュレーションを示
す。(I)〜(VII)の各図は、第2図における(I)
〜(VII)にそれぞれ対応している。第3図(III)は、
干渉縞g(x)(同図(II))にウィンドウ処理を施し
た状態を示す。ウィンドウ関数Wは、 であって、ウィンドウ両端部は、入力光束の端部を合致
していない。
す。(I)〜(VII)の各図は、第2図における(I)
〜(VII)にそれぞれ対応している。第3図(III)は、
干渉縞g(x)(同図(II))にウィンドウ処理を施し
た状態を示す。ウィンドウ関数Wは、 であって、ウィンドウ両端部は、入力光束の端部を合致
していない。
このため、第3図(VII)に示すように全体にわたって
誤差が生じている。
誤差が生じている。
(効果) 以上、本発明によれば、新規な干渉測定方法を提供でき
る。本発明は上記の如くに構成されているので、従来法
に比し演算が簡単化され、測定精度も向上する。
る。本発明は上記の如くに構成されているので、従来法
に比し演算が簡単化され、測定精度も向上する。
第1図は、本発明を説明するための図、第2図は、本発
明の測定方法のシミュレーションの1例を示す図、第3
図は従来の測定方法のシミュレーションの1例を示す図
である。 10……ビームスプリッター、12……測定対象物、14……
平面鏡、16……レンズ、18……エリアセンサー、WA(x)
……測定波面、WB(x)……参照波面
明の測定方法のシミュレーションの1例を示す図、第3
図は従来の測定方法のシミュレーションの1例を示す図
である。 10……ビームスプリッター、12……測定対象物、14……
平面鏡、16……レンズ、18……エリアセンサー、WA(x)
……測定波面、WB(x)……参照波面
Claims (1)
- 【請求項1】測定光と参照光とを所定面内で互いに微小
角θ傾けてエリアセンサーに入射せしめ、測定光と参照
光との干渉縞を、エリアセンサーにより、ウィンドウ処
理して上記所定面に平行な方向へ読取り、読取結果をフ
ーリエ変換することにより、上記傾き角θにより分離さ
れた3群の空間周波数のスペクトル群を得、これらスペ
クトル群からひとつの単側波帯のみを選択し、これを周
波数軸上で、上記傾き角θに対応する量だけずらすスペ
クトル移動を行うことによって、傾き成分を除去し、得
られるスペクトルに対し逆フーリエ変換と逆ウィンドウ
処理とを行ない、その結果から位相部分を算出すること
により、エリアセンサー上における測定光の波面の、参
照波面からの偏差を算出する干渉測定方式において、 空間周波数o が、nを整数、Dをサンプリング区間として、o=n
/Dを満足するように、傾き角θとサンプリング区間D
との関係を定め、 フーリエ変換に先立つウィンドウ処理において、各ライ
ンごとにウィンドウ両端部を、入力光束の境界部と一致
させるように、スレッシュホールドレベルを設け、 かつ、上記スペクトル移動する際、1周期の出力周波数
領域をこえる成分については、移動方向と反対方向に1/
d(d;サンプリングピッチ)だけ、移動させることを
特徴とする、干渉測定方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60070637A JPH0652162B2 (ja) | 1985-04-03 | 1985-04-03 | 干渉測定方法 |
| US06/840,442 US4744659A (en) | 1985-03-20 | 1986-03-17 | Method of and apparatus for measuring the shape of a wavefront |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60070637A JPH0652162B2 (ja) | 1985-04-03 | 1985-04-03 | 干渉測定方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61230002A JPS61230002A (ja) | 1986-10-14 |
| JPH0652162B2 true JPH0652162B2 (ja) | 1994-07-06 |
Family
ID=13437356
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60070637A Expired - Lifetime JPH0652162B2 (ja) | 1985-03-20 | 1985-04-03 | 干渉測定方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0652162B2 (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4583619B2 (ja) * | 2000-09-13 | 2010-11-17 | 富士フイルム株式会社 | 縞画像解析誤差検出方法および縞画像解析誤差補正方法 |
| JP2002202112A (ja) * | 2000-11-06 | 2002-07-19 | Fujitsu Ltd | 形状計測装置 |
| JP4610117B2 (ja) * | 2001-03-29 | 2011-01-12 | 富士フイルム株式会社 | フーリエ変換縞解析方法および装置 |
| EP1793460A1 (en) | 2004-09-13 | 2007-06-06 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Laser beam path length difference detector, laser phase controller and coherent optical coupler |
| US7852489B2 (en) | 2006-02-01 | 2010-12-14 | Tokyo Institute Of Technology | Method for measuring surface profile, and apparatus using the same |
| EP2327956B1 (en) * | 2009-11-20 | 2014-01-22 | Mitutoyo Corporation | Method and apparatus for determining the height of a number of spatial positions on a sample |
| JP6180909B2 (ja) * | 2013-12-06 | 2017-08-16 | 東京エレクトロン株式会社 | 距離を求める方法、静電チャックを除電する方法、及び、処理装置 |
-
1985
- 1985-04-03 JP JP60070637A patent/JPH0652162B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61230002A (ja) | 1986-10-14 |
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