JPH065263A - Manufacture of metallic body with minute hole and manufacture of emitter for lamp - Google Patents
Manufacture of metallic body with minute hole and manufacture of emitter for lampInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】この発明は、微細穴を有する金属
体の製造方法およびランプ用発熱体の製造方法に関し、
詳しくは、従来の加工方法では形成不可能な超微細な穴
を表面に有する金属体の作製方法と、このような金属体
を用いて製造される、白熱電球用フィラメントなどのラ
ンプ用発光体の製造方法に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing a metal body having fine holes and a method of manufacturing a heating element for a lamp,
Specifically, a method for producing a metal body having an ultra-fine hole that cannot be formed by a conventional processing method, and a light-emitting body for a lamp such as a filament for an incandescent light bulb, which is produced using such a metal body. The present invention relates to a manufacturing method.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来、白熱電灯は、光色、演色性や取り
扱いの容易さにより、最良の光源のひとつとされてい
る。しかしながら、その欠点である、効率の低さ、寿命
の短さ、表面温度の高さは、長年あまり改善がみられな
かった。現在、主として用いられているタングステンフ
ィラメントの白熱電灯においても、人間の目に感じる可
視領域の光は１０％程度であり、大部分は赤外光となっ
て放出されており、非常に効率の悪いシステムになって
いる。2. Description of the Related Art Conventionally, an incandescent lamp has been regarded as one of the best light sources because of its light color, color rendering property and easy handling. However, the drawbacks such as low efficiency, short life, and high surface temperature have not been improved for many years. Even in the incandescent lamp of the tungsten filament which is mainly used at present, the light in the visible region that human eyes perceive is about 10%, and most of it is emitted as infrared light, which is very inefficient. It is a system.
【０００３】また、発光効率を少しでも向上させるた
め、フィラメントの温度を最大限上げなければならず、
そのために、フィラメントの寿命は効率と反比例に短く
なっている。ハロゲンランプ等によって、多少は効率の
改善が図られたが、決定的な改善とはなっておらず、ま
た、色温度が高くできないといった、その他の欠点につ
いては、ほとんど改善されていない。In order to improve the luminous efficiency even a little, the filament temperature must be raised to the maximum,
Therefore, the life of the filament is shortened in inverse proportion to the efficiency. Although a halogen lamp or the like has improved the efficiency to some extent, it has not been a decisive improvement, and other drawbacks such as a high color temperature cannot be improved.
【０００４】最近の研究において、空洞量子電気力学理
論を応用して、ランプフィラメントの高効率化を図るよ
うな報告がなされている。例えば、特開平３−１０２７
０１号公報では、底面が３５０nmの正方形で深さ７００
０nm程度の角柱状の微細な穴もしくは空洞を多数設ける
ことによって、波長７００nm以上の領域の放射が極端に
減少して、可視光のみを良好に放出することができ、そ
の結果、光束効率を大幅に改善できる、とされている。
すなわち、フィラメントへの入力パワーが赤外領域の放
射すなわち熱に変換されることが少なくなり、入力され
たエネルギはほとんど可視光として使われ、非常に効率
の良い発光体となり得るのである。In recent studies, it has been reported that the cavity quantum electrodynamic theory is applied to improve the efficiency of lamp filaments. For example, Japanese Patent Laid-Open No. 3-1027
In the publication No. 01, the bottom has a square of 350 nm and the depth is 700.
Providing a large number of minute holes or cavities with a prismatic shape of about 0 nm significantly reduces the radiation in the wavelength region of 700 nm or more, and can satisfactorily emit only visible light. As a result, the luminous efficiency is significantly increased. It is said that it can be improved to.
That is, the input power to the filament is less likely to be converted into radiation in the infrared region, that is, heat, and most of the input energy is used as visible light, which can be a very efficient light emitter.
【０００５】[0005]
【発明が解決しようとする課題】以上に述べたように、
ランプ用フィラメントの表面に微細穴を多数設けておけ
ば、効率の良いランプ用発光体を製造することは可能で
あるが、このような微細穴をタングステンのようなフィ
ラメント材料の表面に形成するのは非常に困難で、加工
精度や経済性の点で、実用的に利用できる方法が見いだ
されていなかった。[Problems to be Solved by the Invention] As described above,
Although it is possible to manufacture an efficient lamp luminous body by providing a large number of fine holes on the surface of the filament for a lamp, it is necessary to form such fine holes on the surface of a filament material such as tungsten. Is very difficult, and no practically usable method has been found in terms of processing accuracy and economy.
【０００６】すなわち、微細穴の断面形状や深さ、隣接
する微細穴を区切る隔壁の厚みなどの寸法条件が、フィ
ラメントから放射される光の波長に直接関係し、発光効
率を大きく左右する。しかし、例えば、前記のような３
５０nm角の微細穴を、７μｍもの深さで垂直に精度良く
かつ効率的に加工でき、しかも工業的規模の生産にも適
用できる作製方法は見当たらないのである。That is, dimensional conditions such as the cross-sectional shape and depth of the fine holes and the thickness of the partition wall that separates the adjacent fine holes are directly related to the wavelength of the light emitted from the filament, and the luminous efficiency is greatly influenced. However, for example, 3
It is impossible to find a manufacturing method capable of accurately and efficiently processing a 50 nm square fine hole vertically with a depth of 7 μm and also applicable to industrial scale production.
【０００７】通常、このような微細加工を行う場合、従
来よく利用されているフォトリソグラフィ技術を応用し
た加工法が考えられる。しかし、最先端のマスク技術、
露光技術を用いても、前記のような超微細な穴の加工は
非常に困難であり、現実的に加工が可能になるには、今
後まだまだ加工技術の改良や技術開発が必要で、時間が
かかるものと予想される。また、加工が可能になったと
しても、コストが高くついたり、加工時間が長くかか
る、あるいは、面積的に非常に小さなものしか対応でき
ないようでは、実用的なものではない。[0007] Usually, when performing such fine processing, a processing method applying a photolithography technique which has been widely used conventionally can be considered. However, the most advanced mask technology,
Even with the use of exposure technology, it is extremely difficult to machine the ultra-fine holes described above, and in order to be able to actually process the holes, it will be necessary to improve the technology and develop the technology, and it will take time. It is expected to be. Even if the processing becomes possible, it is not practical if the cost is high, the processing time is long, or only a very small area can be dealt with.
【０００８】なお、前記微細穴の加工に関する問題は、
発光効率の高いランプ用フィラメントを得ようとする場
合だけでなく、光や電磁波その他の放射線を放射させる
各種装置部品において、その波長分布を制御することが
要求される各種用途あるいは製品の製造においても、同
様の問題が生じている。そこで、この発明の課題は、各
種金属体の表面に、前記のような穴を正確にかつ効率良
く作製することができ、ランプ用発光体に代表される各
種製品の製造に適した、微細穴を有する金属体の製造方
法を提供することにある。The problems associated with the processing of the fine holes are as follows.
Not only when trying to obtain a lamp filament with high luminous efficiency, but also when manufacturing various applications or products that require controlling the wavelength distribution of various device parts that emit light, electromagnetic waves and other radiation. , A similar problem is occurring. Therefore, an object of the present invention is to make holes as described above on the surface of various metal bodies accurately and efficiently, and to make fine holes suitable for the production of various products typified by lamp light emitters. Another object of the present invention is to provide a method for manufacturing a metal body having
【０００９】[0009]
【課題を解決するための手段】上記課題を解決する、こ
の発明にかかる微細穴を有する金属体の製造方法は、母
材となる金属の表面に陽極酸化皮膜を形成し、この陽極
酸化皮膜内に生じる微細穴の内部を埋めるようにレプリ
カとなる金属層を形成した後、前記母材金属およびその
陽極酸化皮膜を除去することにより、レプリカ金属層の
表面に陽極酸化皮膜の微細穴に対応する凹凸形状を転写
し、ついで、このレプリカ金属層の表面に目的の金属体
を形成した後、レプリカ金属層を除去することにより、
目的の金属表面に前記微細穴の形状を転写する。A method of manufacturing a metal body having fine holes according to the present invention, which solves the above problems, forms an anodic oxide film on the surface of a base metal, and After forming a metal layer to be a replica so as to fill the inside of the fine holes generated in the above, by removing the base metal and its anodized film, to correspond to the fine holes of the anodized film on the surface of the replica metal layer By transferring the uneven shape, and then forming a target metal body on the surface of this replica metal layer, by removing the replica metal layer,
The shape of the fine holes is transferred to the target metal surface.
【００１０】母材金属は、その表面に陽極酸化法により
酸化皮膜が形成でき、この皮膜の中に目的とするサイズ
の微細穴が生じるような金属材料であれば、任意の金属
が母材として利用できる。具体的には、アルミニウムや
チタン、亜鉛などが好ましい材料となる。これらの金属
は、酸性溶液中に浸漬し、アノード分極を行うと、金属
表面に垂直な円筒状の細穴を有した酸化皮膜が形成され
る。陽極酸化皮膜は、陽極酸化時の印加電位や酸化溶液
の種類、処理時間等に依存して、微細穴のポアサイズや
深さが異なってくる。したがって、目的とする金属体の
用途や要求性能に合わせて、陽極酸化工程の処理条件を
決定することが望ましい。具体的に、通常の作製条件に
おいて、微細穴の断面直径が１００〜５００nm程度、深
さが１〜７μｍ程度のものを形成しておく。また、隣接
する微細穴を分け隔てる隔壁の厚みは、２０〜２００nm
程度のものを形成しておく。As for the base metal, any metal can be used as a base material as long as an oxide film can be formed on its surface by an anodizing method and fine holes of a desired size are formed in the film. Available. Specifically, aluminum, titanium, zinc and the like are preferable materials. When these metals are immersed in an acidic solution and subjected to anodic polarization, an oxide film having cylindrical fine holes perpendicular to the metal surface is formed. The pore size and depth of the anodized film differ depending on the applied potential at the time of anodization, the type of oxidizing solution, the treatment time, and the like. Therefore, it is desirable to determine the treatment conditions of the anodizing step in accordance with the intended use and required performance of the metal body. Specifically, under normal manufacturing conditions, fine holes having a cross-sectional diameter of about 100 to 500 nm and a depth of about 1 to 7 μm are formed. In addition, the thickness of the partition wall that separates adjacent fine holes is 20 to 200 nm.
Something is formed.
【００１１】このようにして、微細穴を備えた陽極酸化
皮膜が形成された母材金属に対し、この微細穴内に金属
を埋め込み、レプリカとなる金属層を形成する。レプリ
カ金属層の材料としては、陽極酸化皮膜の微細穴の内部
にまで確実に埋め込まれる金属であれば、任意の材料で
よく、埋め込みの方法としても、無電解めっき、電解め
っき、ＣＶＤ法、ＰＶＤ法やその他の膜形成手段が適用
できる。例えば、無電解めっきでレプリカを形成する場
合は、ニッケルや銅、鉄等の材料が挙げられる。レプリ
カ金属層の厚みは、前記微細穴の底から表面までの形状
を確実に転写でき、かつ、後続の工程に耐える程度の強
度が確保されていれば十分である。In this way, with respect to the base metal on which the anodized film having the fine holes is formed, the metal is embedded in the fine holes to form a metal layer to be a replica. The material of the replica metal layer may be any material as long as it is a metal that can be surely embedded even in the fine holes of the anodic oxide film, and the filling method can also be electroless plating, electrolytic plating, CVD method, PVD. The method and other film forming means can be applied. For example, when a replica is formed by electroless plating, a material such as nickel, copper, iron or the like can be used. The thickness of the replica metal layer is sufficient if the shape from the bottom of the fine hole to the surface can be reliably transferred and the strength is sufficient to withstand the subsequent steps.
【００１２】レプリカ金属層が形成された後、母材金属
および陽極酸化皮膜を除去する。この除去手段として
は、母材金属および陽極酸化皮膜は溶解するが、レプリ
カ金属層は溶解しないような溶液に試料を浸漬すればよ
い。例えば、母材金属がアルミニウムで、レプリカ金属
としてニッケルを用いた場合、アルカリ溶液を用いれ
ば、母材金属のアルミニウムおよび陽極酸化皮膜の成分
である酸化アルミニウムを選択的に溶解除去することが
できる。したがって、母材金属とレプリカ金属の材料を
選択する際には、このような母材金属とその陽極酸化皮
膜を選択的に除去できるような組み合わせを選ぶことが
好ましい。After the replica metal layer is formed, the base metal and the anodized film are removed. As a means for removing this, the sample may be immersed in a solution in which the base metal and the anodized film are dissolved but the replica metal layer is not dissolved. For example, when the base metal is aluminum and nickel is used as the replica metal, an alkali solution can be used to selectively dissolve and remove aluminum as the base metal and aluminum oxide that is a component of the anodized film. Therefore, when selecting the materials of the base metal and the replica metal, it is preferable to select a combination that can selectively remove such a base metal and its anodized film.
【００１３】母材金属および陽極酸化皮膜が除去されて
残ったレプリカ金属層の表面には、陽極酸化皮膜の微細
穴に対応する凹凸形状が形成されている。具体的には、
レプリカ金属層の表面に、ポール状の突起が多数並んだ
ような形状となる。すなわち、陽極酸化皮膜中の微細穴
が、レプリカ金属層の表面に転写されるのである。つぎ
に、前記凹凸形状が形成されたレプリカ金属表面に、目
的とする金属体を形成する。金属体の材料は、ランプ用
発光体としては、タングステンやモリブデンあるいはこ
れらの金属を主体とする合金などの高融点金属が一般的
であるが、この発明では、金属体の材料としては、任意
の金属材料を用いることができる。目的の金属体をレプ
リカ表面上に形成する手段としては、ＣＶＤ、ＰＶＤあ
るいは湿式めっき法など、目的金属の材料や要求性能に
合わせて、通常の成膜手段の中から適切な方法を選択し
て適用すればよい。レプリカ金属の凹凸形状に合わせ
て、正確に内部まで入り込むような材料あるいは形成手
段を選択することが望ましい。On the surface of the replica metal layer left after the base metal and the anodic oxide film are removed, an uneven shape corresponding to the fine holes of the anodic oxide film is formed. In particular,
The shape is such that a large number of pole-shaped projections are lined up on the surface of the replica metal layer. That is, the fine holes in the anodized film are transferred to the surface of the replica metal layer. Next, a target metal body is formed on the replica metal surface on which the uneven shape is formed. The material of the metal body is generally a refractory metal such as tungsten, molybdenum, or an alloy mainly containing these metals as a light-emitting body for a lamp, but in the present invention, any material can be used as the material of the metal body. A metal material can be used. As a means for forming a target metal body on the replica surface, an appropriate method is selected from ordinary film forming means such as CVD, PVD, or wet plating according to the target metal material and required performance. You can apply. It is desirable to select a material or forming means that accurately penetrates into the inside according to the uneven shape of the replica metal.
【００１４】レプリカ金属層の表面に目的とする金属体
が形成された後、レプリカ金属のみを除去する必要があ
る。レプリカ金属を除去する手段は、前記母材金属の除
去方法と同じく、レプリカ金属層のみを選択的に溶解し
て目的金属は溶解しないような溶液に浸漬すればよい。
具体的には、レプリカ金属がニッケルで、目的金属がタ
ングステンであれば、酸性溶液でニッケルのみを溶解除
去することができる。After the desired metal body is formed on the surface of the replica metal layer, it is necessary to remove only the replica metal. The replica metal may be removed by immersing in a solution that selectively dissolves only the replica metal layer and does not dissolve the target metal, as in the method of removing the base metal.
Specifically, when the replica metal is nickel and the target metal is tungsten, only nickel can be dissolved and removed with an acidic solution.
【００１５】レプリカ金属層が除去されて残った目的金
属からなる金属体の表面には、レプリカ金属層の凹凸形
状、すなわち、陽極酸化皮膜の微細穴形状と全く同じ形
状の微細穴が形成されていることになる。言い換える
と、陽極酸化皮膜中に形成されていた微細穴がそのまま
目的とする金属体の表面に転写されたことになる。レプ
リカ金属を除去した金属体は、そのまま目的とする用途
に使用することができるが、この金属体を別の部品に接
合したり、金属体に別の処理加工を施したりして、最終
的な製品を製造することも勿論可能である。On the surface of the metal body made of the target metal left after the replica metal layer has been removed, the concave and convex shapes of the replica metal layer, that is, the fine holes having exactly the same shape as the fine hole shapes of the anodized film are formed. Will be there. In other words, the fine holes formed in the anodic oxide film are directly transferred to the surface of the target metal body. The metal body from which the replica metal has been removed can be used as it is for the intended purpose.However, by joining this metal body to another component or subjecting the metal body to another treatment, It is of course possible to manufacture the product.
【００１６】微細穴が形成された金属体の用途として
は、前記のランプ用発光体あるいはフィラメントが好ま
しいものであるが、ランプ用発光体と同様の問題を有す
る各種製品に利用することも可能である。それぞれの用
途に応じて、金属体に形成する微細穴のサイズ、形状
は、様々に設定される。特に、ランプ用発光体の場合、
微細穴の径によって、発光する光の波長分布が変わるの
で、可視光を必要とする通常の照明では、波長７００nm
を超える赤外領域の放射を無くすように、微細穴のサイ
ズを設定する。しかし、ランプの用途によっては、赤外
領域の放射が必要な場合、あるいは、可視光よりもさら
に短い波長領域が必要な場合があり、それぞれの場合に
合わせて、微細穴のサイズ、形状を設定すればよい。The above-mentioned luminous body for a lamp or a filament is preferable as a use of the metal body having the fine holes, but it can also be used for various products having the same problems as the luminous body for a lamp. is there. The size and shape of the fine holes formed in the metal body are variously set according to each application. Especially in the case of lamp light emitters,
The wavelength distribution of the emitted light changes depending on the diameter of the micro holes, so for normal lighting that requires visible light, the wavelength is 700 nm.
The size of the microholes is set so as to eliminate the radiation in the infrared region above. However, depending on the application of the lamp, it may be necessary to radiate in the infrared region or a wavelength region that is shorter than visible light, and the size and shape of the microholes should be set according to each case. do it.
【００１７】[0017]
【作用】アルミニウムのような金属の表面に陽極酸化皮
膜を形成すると、この陽極酸化皮膜の表面には、垂直な
円筒状の微細な穴が多数形成される。この微細穴の形状
は、断面直径に対する穴の深さの割合すなわちアスペク
ト比が非常に大きく、しかも、比較的サイズが揃った均
一な微細穴となる。この方法では、個々の穴を加工した
り、フォトリソグラフィ技術を用いたりすることがない
ため、目的とする微細穴が非常に簡単かつ能率的に大き
な面積の製品を作ることができる。陽極酸化皮膜の形成
条件を適切に設定すれば、従来の加工技術では到底実現
不可能な、高いアスペクト比を有し、しかも均一な微細
穴を形成することも可能になる。When an anodic oxide film is formed on the surface of a metal such as aluminum, many vertical cylindrical fine holes are formed on the surface of this anodic oxide film. The shape of the fine holes is a uniform fine hole in which the ratio of the depth of the hole to the cross-sectional diameter, that is, the aspect ratio is very large and the sizes are relatively uniform. In this method, since individual holes are not processed or a photolithography technique is not used, it is possible to manufacture a product having a very large area with a target micro hole very easily and efficiently. By appropriately setting the conditions for forming the anodized film, it becomes possible to form uniform fine holes having a high aspect ratio, which cannot be realized by conventional processing techniques.
【００１８】陽極酸化皮膜の表面に形成された微細穴
を、前記した工程で、レプリカとなる金属に転写し、さ
らに、レプリカ金属層から目的とする金属体に転写すれ
ば、目的とする金属体の表面には、陽極酸化皮膜中の微
細穴と同じ形状の、アスペクト比が高く均一なサイズの
微細穴が形成されることになる。陽極酸化皮膜からレプ
リカ金属層への転写工程、あるいは、レプリカ金属層か
ら目的金属への転写工程は、何れも、従来、各種の金属
製品の製造方法として採用されていた通常の転写技術あ
るいは型取り技術が適用できるので、その作業は簡単で
あり、作業効率も高いため低コスト化が見込め、また、
大面積な製品にも応用可能である。If the fine holes formed on the surface of the anodic oxide film are transferred to the metal to be the replica in the above-mentioned step and further transferred from the replica metal layer to the target metal body, the target metal body is obtained. Micropores having the same shape as the micropores in the anodic oxide film and a high aspect ratio and a uniform size will be formed on the surface of. The transfer process from the anodized film to the replica metal layer, or the transfer process from the replica metal layer to the target metal is either a conventional transfer technique or a mold making that has been conventionally adopted as a method for manufacturing various metal products. Since the technology can be applied, the work is simple and the work efficiency is high, so cost reduction can be expected.
It can also be applied to large area products.
【００１９】このようにして製造された微細穴を有する
金属体を、ランプ用発光体として用いれば、前記した赤
外領域の放射を無くし、可視光のみを効率的に放射する
ことが可能になるので、発光効率が極めて高いランプ用
発光体を、簡単に低コストで製造することができる。By using the metal body having fine holes manufactured in this manner as a light emitting body for a lamp, it becomes possible to eliminate the above-mentioned radiation in the infrared region and efficiently radiate only visible light. Therefore, a light-emitting body for a lamp having extremely high luminous efficiency can be easily manufactured at low cost.
【００２０】[0020]
【実施例】ついで、この発明の実施例について、図面を
参照しながら以下に説明する。図１は、この発明の実施
例となる微細穴を有する金属体の製造方法を、段階的に
模式図で表している。まず、図１(a) に示すように、母
材金属となるアルミニウム板１０を用意する。アルミニ
ウム板１０の表面は、アルカリ溶液等を用いて、表面の
洗浄を行っておく。図１(b) に示すように、アルミニウ
ム板１０の上に陽極酸化皮膜すなわち酸化アルミニウム
膜２０を形成する。酸化アルミニウム膜２０には、ほぼ
円筒の断面形状を有する微細穴２２が多数形成されてい
る。その後、必要であれば、酸化アルミニウム膜２０の
表面を研磨しておく。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a stepwise schematic view showing a method of manufacturing a metal body having fine holes according to an embodiment of the present invention. First, as shown in FIG. 1 (a), an aluminum plate 10 serving as a base metal is prepared. The surface of the aluminum plate 10 is washed with an alkaline solution or the like. As shown in FIG. 1B, an anodized film, that is, an aluminum oxide film 20 is formed on the aluminum plate 10. A large number of fine holes 22 having a substantially cylindrical cross-sectional shape are formed in the aluminum oxide film 20. Then, if necessary, the surface of the aluminum oxide film 20 is polished.
【００２１】図１(c) に示すように、酸化アルミニウム
膜２０の上から、ニッケルを交流電析して、微細穴２２
の底に、ニッケルの核３４を形成する。図１(d) に示す
ように、ニッケルの核３４の上に、ニッケルの無電解め
っきおよび電解めっきで、ニッケル層３０を厚く形成す
る。このニッケル層３０がレプリカ金属層となる。ニッ
ケル層３０は、微細穴２２を完全に埋めつくし、酸化ア
ルミニウム膜２０の表面を十分な厚みで覆う。As shown in FIG. 1 (c), nickel is AC-deposited on the aluminum oxide film 20 to form fine holes 22.
A nickel nucleus 34 is formed at the bottom of the. As shown in FIG. 1D, a nickel layer 30 is formed thick on the nickel core 34 by electroless plating and electrolytic plating of nickel. This nickel layer 30 becomes a replica metal layer. The nickel layer 30 completely fills the fine holes 22 and covers the surface of the aluminum oxide film 20 with a sufficient thickness.
【００２２】図１(e) に示すように、酸化アルミニウム
膜２０の裏のアルミニウム板１０をアルカリ溶液で溶解
除去する。また、図１(f) に示すように、酸化アルミニ
ウム膜２０についても、前工程と同様にアルカリ溶液で
溶解除去する。残ったニッケル層３０の表面には、酸化
アルミニウム膜２０の微細穴２２に対応する形状のポー
ル状突起３２が多数形成されている。As shown in FIG. 1 (e), the aluminum plate 10 behind the aluminum oxide film 20 is dissolved and removed with an alkaline solution. Further, as shown in FIG. 1F, the aluminum oxide film 20 is also dissolved and removed with an alkaline solution as in the previous step. A large number of pole-shaped protrusions 32 having a shape corresponding to the fine holes 22 of the aluminum oxide film 20 are formed on the surface of the remaining nickel layer 30.
【００２３】図１(g) に示すように、ニッケル層３０の
上に、プラズマあるいは熱ＣＶＤ法で、目的金属である
タングステン層４０を形成する。タングステン層４０
は、ニッケル層３０の突起３２を完全に覆い、埋め込む
ことができる厚みで形成される。図１(h) に示すよう
に、酸性溶液で湿式エッチングを行って、ニッケル層３
０を溶解除去する。残ったタングステン層４０の表面に
は、酸化アルミニウム層２０の微細穴２２と同一の形状
を有した微細穴４２が形成されている。As shown in FIG. 1G, a tungsten layer 40, which is a target metal, is formed on the nickel layer 30 by plasma or thermal CVD. Tungsten layer 40
Is formed with a thickness that can completely cover the protrusion 32 of the nickel layer 30 and can be embedded therein. As shown in Fig. 1 (h), the nickel layer 3 is wet-etched with an acidic solution.
0 is dissolved and removed. On the surface of the remaining tungsten layer 40, fine holes 42 having the same shape as the fine holes 22 of the aluminum oxide layer 20 are formed.
【００２４】図２は、上記のようにして製造された微細
穴を有する金属体であるランプ用発光体の概略構造を表
している。タングステン層４０からなるランプ用発光体
の表面には、多数の円筒状をなす微細穴４２が形成され
ている。図では、全ての微細穴４２が同じ断面および深
さに描かれているが、実際には、陽極酸化皮膜に形成さ
れた微細穴の形状がそのまま転写されるので、若干の形
状バラツキや分布は生じている。しかし、実用的には、
ほぼ均一な形状の微細穴４２が形成される。FIG. 2 shows a schematic structure of a lamp luminous body which is a metal body having fine holes manufactured as described above. A large number of cylindrical fine holes 42 are formed on the surface of the lamp luminous body made of the tungsten layer 40. In the figure, all the micro holes 42 are drawn in the same cross section and depth, but in reality, the shapes of the micro holes formed in the anodic oxide film are transferred as they are, so that some shape variations and distributions may occur. Has occurred. But in practice,
The fine holes 42 having a substantially uniform shape are formed.
【００２５】微細穴４２の直径Ｄおよび深さＨは、陽極
酸化の処理条件によっても異なるが、通常のランプ用発
光体の場合、直径Ｄ＝３００〜４００nm、深さ５〜７μ
ｍ程度のものが用いられる。つぎに、より具体的な実施
例について説明する。 −実施例１− 図１に示す工程にしたがって、ランプ用発光体となる金
属体を製造した。The diameter D and the depth H of the fine holes 42 differ depending on the anodizing treatment conditions, but in the case of an ordinary lamp illuminator, the diameter D = 300 to 400 nm and the depth 5 to 7 μm.
The thing of about m is used. Next, more specific examples will be described. -Example 1- According to the process shown in FIG. 1, the metal body used as the light-emitting body for lamps was manufactured.
【００２６】母材金属としてアルミニウムを用いた。短
冊状のアルミニウム板をリン酸水溶液に浸漬し、対極側
の白金板に対し、１５０Ｖの電位を１２０分印加し、ア
ルミニウム表面に陽極酸化皮膜を形成した。この条件で
は、３００〜４００nmの穴径で深さが約５μｍの微細穴
が形成される。その後、この陽極酸化皮膜の上から、ニ
ッケルの電解および無電解めっきを施して、陽極酸化皮
膜の微細穴内にニッケルを析出させ、さらに微細穴を完
全に埋めて、酸化皮膜のポアを埋め込むように約２５〜
３０μｍの厚みのニッケル層を形成した。Aluminum was used as the base metal. A strip-shaped aluminum plate was immersed in a phosphoric acid aqueous solution, and a potential of 150 V was applied to the platinum plate on the counter electrode side for 120 minutes to form an anodized film on the aluminum surface. Under this condition, a fine hole having a hole diameter of 300 to 400 nm and a depth of about 5 μm is formed. After that, electrolytic and electroless plating of nickel is performed on the anodized film to deposit nickel in the fine holes of the anodized film, completely fill the fine holes, and fill the pores of the oxide film. About 25 ~
A nickel layer having a thickness of 30 μm was formed.
【００２７】得られたニッケル−アルミニウムの接合体
を、２規定の水酸化ナトリウム水溶液に浸漬すると、ア
ルミニウム金属及びアルミニウムの酸化皮膜が溶解除去
され、表面に微細なポール状の突起を有するニッケルシ
ートが得られた。このニッケルをレプリカとして、その
微細ポールを有した表面にタングステンを形成した。タ
ングステンの形成は、６フッ化タングステンと水素を原
料ガスとして、熱ＣＶＤ法により行った。析出圧力０．
２Torr、析出温度３５０℃で約４時間処理を行うと、ニ
ッケルレプリカ内の微細なポールを完全に覆ってタング
ステンが形成される。When the obtained nickel-aluminum joined body is dipped in a 2N aqueous sodium hydroxide solution, the aluminum metal and the aluminum oxide film are dissolved and removed, and a nickel sheet having fine pole-shaped projections on the surface is obtained. Was obtained. Using this nickel as a replica, tungsten was formed on the surface having the fine poles. Tungsten was formed by thermal CVD using tungsten hexafluoride and hydrogen as source gases. Deposition pressure 0.
When the treatment is performed at 2 Torr and a deposition temperature of 350 ° C. for about 4 hours, tungsten is formed by completely covering the fine poles in the nickel replica.
【００２８】ニッケルとタングステンの接合体を、１０
wt％の硝酸水溶液に１時間浸すと、ニッケルが選択的に
溶解され、タングステンからなる金属体を得た。図３
(a) は、このようにして得られたタングステン金属体の
表面に形成された微細穴の細孔分布を示したものであ
る。この図より、微細穴の直径は約３００〜４００nmを
中心に分布しており、比較的均一性が高いことがわか
る。また、この微細穴の深さは４〜５ nm 程度であっ
た。A nickel-tungsten bonded body is formed into 10 parts.
When immersed in a wt% nitric acid aqueous solution for 1 hour, nickel was selectively dissolved to obtain a metal body made of tungsten. Figure 3
(a) shows the pore distribution of the fine holes formed on the surface of the thus obtained tungsten metal body. From this figure, it is understood that the diameters of the fine holes are distributed around about 300 to 400 nm, and the uniformity is relatively high. The depth of the fine holes was about 4-5 nm.
【００２９】図３(b) は、上記のようにして製造された
金属体を、ランプ用発光体（フィラメント）として用
い、放射される波長と発光強度の関係を測定した結果で
ある。比較のために、従来の通常のタングステンからな
るフィラメントについても同様の測定を行った。測定の
結果をみれば、従来のフィラメントは、可視領域の放射
光（７００nm以下）の発光強度より、それ以外の波長領
域、すなわち赤外領域の発光強度のほうがはるかに強く
なっている。これに対し、この発明の実施例では、波長
が７００nm波長が長くなるほど、発光強度が高くなって
おり、可視光として有用な７００nm以下の部分は、従来
例とほぼ同じ傾向を示すが、波長が７００nmを超える
と、発光強度が急激に減少しており、波長の長い領域の
放射が抑制されていることが確認される。FIG. 3 (b) shows the results of measuring the relationship between the emitted wavelength and the emission intensity, using the metal body manufactured as described above as a light emitter (filament) for a lamp. For comparison, the same measurement was performed on a conventional filament made of normal tungsten. According to the measurement results, the conventional filament has a much higher emission intensity in the other wavelength region, that is, in the infrared region than the emission intensity of the radiated light (700 nm or less) in the visible region. On the other hand, in the embodiment of the present invention, the longer the wavelength is 700 nm, the higher the emission intensity is, and the portion of 700 nm or less that is useful as visible light shows almost the same tendency as the conventional example, but the wavelength is When it exceeds 700 nm, the emission intensity sharply decreases, and it is confirmed that the emission in the long wavelength region is suppressed.
【００３０】このことから、この発明の製造方法で得ら
れたランプ用発光体は、従来無駄に放射されていた赤外
領域の発光がほとんどなく、可視光のみを効率的に放射
していることが判り、発光効率が極めて良好なランプ用
発光体が得られていることが確認された。 −実施例２− 実施例１において、レプリカ材料を、ニッケルから銅に
変更し、フィラメントとなる金属材料を、タングステン
からモリブテンに変えた以外は、実施例１と同様の方法
で、ランプ用発光体を製造した。From the above, the lamp luminous body obtained by the manufacturing method of the present invention emits only visible light efficiently, with almost no wasteful emission of light in the infrared region. It was confirmed that a luminous body for a lamp having extremely good luminous efficiency was obtained. -Example 2-A luminescent material for a lamp is manufactured in the same manner as in Example 1 except that the replica material is changed from nickel to copper and the metallic material to be the filament is changed from tungsten to molybdenum. Was manufactured.
【００３１】図４(a) は、得られたランプ用発光体につ
いて、微細穴の細孔分布を測定した結果を示し、図４
(b) は、このモリブデン発光体を発光させた場合の、放
射波長と発光強度の関係を示している。何れの測定結果
も、実施例１と同様に優れた結果を示しており、実施例
１と同じく、発光効率が極めて良好なランプ用発光体が
得られた。FIG. 4 (a) shows the result of measuring the pore distribution of fine holes in the obtained lamp luminous body.
(b) shows the relationship between the emission wavelength and the emission intensity when this molybdenum luminescent material emits light. All of the measurement results showed excellent results as in Example 1, and as in Example 1, a luminous body for a lamp having extremely good luminous efficiency was obtained.
【００３２】[0032]
【発明の効果】この発明にかかる微細穴を有する金属体
の製造方法によれば、母材金属に陽極酸化皮膜を形成し
た際に、陽極酸化皮膜中に形成される微細穴を利用し
て、この微細穴の形状をレプリカ金属層に転写し、さら
に、レプリカ金属層から目的の金属体に転写することに
よって、目的の金属体に、極めて微細で、アスペクト比
が高く、しかも、均一な微細穴を形成することが可能に
なった。According to the method for producing a metal body having fine holes according to the present invention, when the anodic oxide film is formed on the base metal, the fine holes formed in the anodic oxide film are utilized, By transferring the shape of these fine holes to the replica metal layer and then from the replica metal layer to the target metal body, the target metal body can have extremely fine, high aspect ratio, and uniform fine holes. It has become possible to form
【００３３】この方法は、現在のフォトリソグラフィ技
術その他の加工方法では、実際的な加工が不可能な微細
穴を、比較的簡単に効率良く形成することができるの
で、このような形状の微細穴を有する金属体の製造に対
して、生産性の向上および製造コストの低減に大きく貢
献することができる。さらに、この発明の製造方法を、
ランプ用発光体の製造に適用すれば、ランプ用発光体の
表面に前記のような微細穴を簡単かつ均一に形成するこ
とができ、発光効率等が極めて優れたランプ用発光体
を、生産性良くかつ低コストで製造することが可能にな
る。According to this method, fine holes which cannot be practically processed by the current photolithography technique and other processing methods can be formed relatively easily and efficiently. It is possible to greatly contribute to the improvement of the productivity and the reduction of the manufacturing cost for the manufacture of the metal body having Furthermore, the manufacturing method of the present invention,
When applied to the production of lamp light emitters, it is possible to easily and uniformly form the above-mentioned fine holes on the surface of the lamp light emitters, and to improve the productivity of lamp light emitters with extremely excellent luminous efficiency. It is possible to manufacture at good quality and at low cost.
【図１】 この発明の実施例の製造工程を段階的に表す
模式断面図FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a stepwise manufacturing process of an embodiment of the present invention.
【図２】 製造された微細穴を有する金属体の概略構造
図FIG. 2 is a schematic structural diagram of a manufactured metal body having fine holes.
【図３】 具体的実施例において、細孔径の分布(a) お
よび波長と発光強度の関係(b) を、それぞれ表すグラフ
図FIG. 3 is a graph showing a distribution (a) of pore diameters and a relationship (b) between wavelength and emission intensity in specific examples.
【図４】 別の具体的実施例において、細孔径の分布
(a) および波長と発光強度の関係(b) を、それぞれ表す
グラフ図FIG. 4 shows the distribution of pore size in another specific example.
Graphs showing (a) and the relationship between wavelength and emission intensity (b).
１０ 母材金属 ２０ 陽極酸化皮膜 ２２ 微細穴 ３０ レプリカ金属層 ３２ ポール状突起 ４０ 目的の金属体 ４２ 微細穴 10 Base Metal 20 Anodized Film 22 Micro Holes 30 Replica Metal Layer 32 Pole-like Protrusion 40 Target Metal Body 42 Micro Holes
フロントページの続き (72)発明者 渡部 祥文 大阪府門真市大字門真1048番地松下電工株 式会社内Front page continued (72) Inventor Yoshifumi Watanabe 1048 Kadoma, Kadoma City, Osaka Prefecture Matsushita Electric Works Co., Ltd.
Claims (2)
形成し、この陽極酸化皮膜内に生じる微細穴の内部を埋
めるようにレプリカとなる金属層を形成した後、前記母
材金属およびその陽極酸化皮膜を除去することにより、
レプリカ金属層の表面に陽極酸化皮膜の微細穴に対応す
る凹凸形状を転写し、ついで、このレプリカ金属層の表
面に目的の金属体を形成した後、レプリカ金属層を除去
することにより、目的の金属表面に前記微細穴の形状を
転写することを特徴とする微細穴を有する金属体の製造
方法。1. An anodized film is formed on the surface of a metal serving as a base material, and a metal layer serving as a replica is formed so as to fill the inside of fine holes formed in the anodized film. By removing the anodized film,
By transferring the uneven shape corresponding to the fine holes of the anodized film on the surface of the replica metal layer, and then forming the target metal body on the surface of this replica metal layer, the replica metal layer is removed to obtain the target A method for producing a metal body having fine holes, wherein the shape of the fine holes is transferred to a metal surface.
体からなるランプ用発光体を製造するランプ用発光体の
製造方法。2. A method for manufacturing a lamp light-emitting body according to claim 1, wherein the lamp light-emitting body is made of a metal body having fine holes.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16091392A JPH065263A (en) | 1992-06-19 | 1992-06-19 | Manufacture of metallic body with minute hole and manufacture of emitter for lamp |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16091392A JPH065263A (en) | 1992-06-19 | 1992-06-19 | Manufacture of metallic body with minute hole and manufacture of emitter for lamp |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH065263A true JPH065263A (en) | 1994-01-14 |
Family
ID=15725032
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16091392A Pending JPH065263A (en) | 1992-06-19 | 1992-06-19 | Manufacture of metallic body with minute hole and manufacture of emitter for lamp |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH065263A (en) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006205332A (en) * | 2005-01-31 | 2006-08-10 | Towa Corp | Microstructure, its manufacturing method, master pattern used for its manufacture and light emitting mechanism |
| US8011933B2 (en) | 2009-05-22 | 2011-09-06 | Yamaichi Electronics Co., Ltd. | Substrate connecting connector and semiconductor device socket, cable connector, and board-to-board connector having substrate connecting connector |
| WO2013081127A1 (en) | 2011-12-01 | 2013-06-06 | スタンレー電気株式会社 | Light source device and filament |
| US9214330B2 (en) | 2011-12-26 | 2015-12-15 | Stanley Electric Co., Ltd. | Light source device and filament |
-
1992
- 1992-06-19 JP JP16091392A patent/JPH065263A/en active Pending
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