JPH0653040A - 軟磁性合金膜 - Google Patents
軟磁性合金膜Info
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- JPH0653040A JPH0653040A JP6073792A JP6073792A JPH0653040A JP H0653040 A JPH0653040 A JP H0653040A JP 6073792 A JP6073792 A JP 6073792A JP 6073792 A JP6073792 A JP 6073792A JP H0653040 A JPH0653040 A JP H0653040A
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F10/00—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure
- H01F10/08—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure characterised by magnetic layers
- H01F10/10—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure characterised by magnetic layers characterised by the composition
- H01F10/12—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure characterised by magnetic layers characterised by the composition being metals or alloys
- H01F10/126—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure characterised by magnetic layers characterised by the composition being metals or alloys containing rare earth metals
Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 Ｆｅ−Ｃｏ合金の高い飽和磁束密度を保ちつ
つＦｅ−Ｃｏ合金結晶のもつ本質的な磁歪を低減し、軟
磁性を有する合金膜。 【構成】 Ｆｅx Ｃｏy Ｒz （Ｆｅ：鉄，Ｃｏ：コバ
ルト，Ｒ：Ｈｏ（ホルミウム）及び又はＴｍ（ツリウ
ム））なる組成を有し、体心立方構造の結晶からなる軟
磁性合金膜。但し、３０ａｔ％≦x≦９５ａｔ％、５ａ
ｔ％≦y≦７０ａｔ％、０.１ａｔ％≦z≦５ａｔ％ 【効果】 Ｈｏ及び又はＴｍの少量添加により体心立方
構造を有し、高飽和磁束密度を有したまま磁歪が低減さ
れる。
つＦｅ−Ｃｏ合金結晶のもつ本質的な磁歪を低減し、軟
磁性を有する合金膜。 【構成】 Ｆｅx Ｃｏy Ｒz （Ｆｅ：鉄，Ｃｏ：コバ
ルト，Ｒ：Ｈｏ（ホルミウム）及び又はＴｍ（ツリウ
ム））なる組成を有し、体心立方構造の結晶からなる軟
磁性合金膜。但し、３０ａｔ％≦x≦９５ａｔ％、５ａ
ｔ％≦y≦７０ａｔ％、０.１ａｔ％≦z≦５ａｔ％ 【効果】 Ｈｏ及び又はＴｍの少量添加により体心立方
構造を有し、高飽和磁束密度を有したまま磁歪が低減さ
れる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、高密度記録用磁気ヘッ
ド等に適した飽和磁束密度の高い軟磁性合金膜に関する
ものである。
ド等に適した飽和磁束密度の高い軟磁性合金膜に関する
ものである。
【従来の技術】近年、磁気記録の分野では、その高密度
化が強く要求されている。これに伴い記録媒体上の記録
波長が短くなり、それによる反磁界に抗して記録パター
ンを安定に保持するために、より高い保磁力（Ｈc）の
媒体が用いられるようになっている。このような媒体に
記録するためには、ギャップから強力な磁界を発生する
磁気ヘッドが必要であり、そのコア材料として高い飽和
磁束密度のものが必要とされる。一方、記録再生兼用磁
気ヘッドの場合、媒体からの微小磁界を効率よく検出す
るために、コアの初透磁率（μ）も高いことが要求され
る。ところで、磁気ヘッドの記録効率を上げるにはギャ
ップ部の磁界分布を急峻にすることが有効であり、これ
に適した磁気ヘッドとして、薄膜ヘッド、及び高飽和磁
束密度薄膜をギャップ近傍にのみ配したメタル イン ギ
ャップ（ＭＩＧ）型ヘッドが挙げられる。尚、上記のよ
うな線記録密度の向上とは別に、トラック密度の向上
も、面記録密度の向上に重要であり、ヘッドの狭トラッ
ク化が推進されている。ヘッドを狭トラックに加工する
にはフォトリソグラフィーによる加工が行われる薄膜ヘ
ッドが有利である。また、薄膜ヘッドは高周波化にも有
利な形状である。このように、磁気ヘッドのコア材料と
しては、高飽和磁束密度かつ良好な軟磁気特性のものを
薄膜という形で得ることが強く要求されている。
化が強く要求されている。これに伴い記録媒体上の記録
波長が短くなり、それによる反磁界に抗して記録パター
ンを安定に保持するために、より高い保磁力（Ｈc）の
媒体が用いられるようになっている。このような媒体に
記録するためには、ギャップから強力な磁界を発生する
磁気ヘッドが必要であり、そのコア材料として高い飽和
磁束密度のものが必要とされる。一方、記録再生兼用磁
気ヘッドの場合、媒体からの微小磁界を効率よく検出す
るために、コアの初透磁率（μ）も高いことが要求され
る。ところで、磁気ヘッドの記録効率を上げるにはギャ
ップ部の磁界分布を急峻にすることが有効であり、これ
に適した磁気ヘッドとして、薄膜ヘッド、及び高飽和磁
束密度薄膜をギャップ近傍にのみ配したメタル イン ギ
ャップ（ＭＩＧ）型ヘッドが挙げられる。尚、上記のよ
うな線記録密度の向上とは別に、トラック密度の向上
も、面記録密度の向上に重要であり、ヘッドの狭トラッ
ク化が推進されている。ヘッドを狭トラックに加工する
にはフォトリソグラフィーによる加工が行われる薄膜ヘ
ッドが有利である。また、薄膜ヘッドは高周波化にも有
利な形状である。このように、磁気ヘッドのコア材料と
しては、高飽和磁束密度かつ良好な軟磁気特性のものを
薄膜という形で得ることが強く要求されている。
【０００２】
【発明が解決しようとする課題】高飽和磁束密度の薄膜
としてはＦｅを主成分とするものが種々提案されてい
る。例えば、Ｆｅを主成分とする結晶粒を著しく微細に
することにより（実効的な結晶磁気異方性の低減）、良
好な軟磁気特性を得た例として本発明者等は特願平１−
２７８２２０号，特願平１−２９８８２９号などを出願
している。これらの飽和磁束密度の上限は約１８kＧで
あった。また、純鉄を何らかの方法で軟磁性化したとし
ても、その飽和磁束密度は２１.５kＧである。将来的
に、より一層の高記録密度化を考えた場合、さらに高い
飽和磁束密度が要求されてくると予想される。Ｃｏ（１
０〜７０ａｔ％）を含むＦｅ−Ｃｏ合金はＦｅよりも高
い飽和磁束密度を有し、中でもＦｅ−Ｃｏ（Ｃｏ；４０
ａｔ％）合金は２４.２kＧ（室温）もの飽和磁束密度を
有することが知られている。２４.０kＧの飽和磁束密度
を有するＦｅ−Ｃｏ（Ｃｏ；５０ａｔ％）合金はパーメ
ンジュール（Permendur）と呼ばれ、バルクの材料とし
て既に実用化されている。しかし、薄膜としてこの合金
を作製した場合、良好な軟磁気性特性を得ることは極め
て困難である。これは、Ｆｅ−Ｃｏ合金が＋８×１０-5
もの大きな磁歪を有することに起因している。即ち、ス
パッタ、蒸着等の薄膜形成プロセスにより作製された薄
膜には、１０8〜１０10dyn/cm2の内部応力が存在し、こ
れをゼロにすることは現実的には不可能に近いため、こ
の応力による逆磁歪効果で、薄膜を構成する各結晶には
大きな磁気異方性を生じることになる。多結晶体である
薄膜ではこのような異方性の分散（不均質性）が顕著と
なり、スムーズな磁化の反転が行われなくなり、軟磁気
特性が得られなくなってしまう。このような異方性は極
めて大きなものなので、結晶の微細化により、これを軽
減したとしても、実用に供し得るほどの軟磁気特性を得
ることは難しい。これを解決するにはＦｅ−Ｃｏ合金結
晶の持つ磁歪を低減することが必要である。その方法と
してはＳｉやＡｌを多量に添加することが既に提案され
ている。（論文 N.Tsuya、K.Arai、K.Ohmori、and T.Ho
nma :IEEE Trans.Magn、MAG-18（1982）1424.，M.Hayak
awa、K.Hayasi、W.Ishiwata,Y.Ochiai、M.Matsuda、Y.I
wasaki and K.Aso:IEEE Trans. Magn. MAG-23（1987）3
092.など）しかし、これら非磁性元素の多量の添加によ
り、飽和磁束密度は２０kＧを切るため、Ｆｅ系薄膜に
対する優位性はあまりなかった。
としてはＦｅを主成分とするものが種々提案されてい
る。例えば、Ｆｅを主成分とする結晶粒を著しく微細に
することにより（実効的な結晶磁気異方性の低減）、良
好な軟磁気特性を得た例として本発明者等は特願平１−
２７８２２０号，特願平１−２９８８２９号などを出願
している。これらの飽和磁束密度の上限は約１８kＧで
あった。また、純鉄を何らかの方法で軟磁性化したとし
ても、その飽和磁束密度は２１.５kＧである。将来的
に、より一層の高記録密度化を考えた場合、さらに高い
飽和磁束密度が要求されてくると予想される。Ｃｏ（１
０〜７０ａｔ％）を含むＦｅ−Ｃｏ合金はＦｅよりも高
い飽和磁束密度を有し、中でもＦｅ−Ｃｏ（Ｃｏ；４０
ａｔ％）合金は２４.２kＧ（室温）もの飽和磁束密度を
有することが知られている。２４.０kＧの飽和磁束密度
を有するＦｅ−Ｃｏ（Ｃｏ；５０ａｔ％）合金はパーメ
ンジュール（Permendur）と呼ばれ、バルクの材料とし
て既に実用化されている。しかし、薄膜としてこの合金
を作製した場合、良好な軟磁気性特性を得ることは極め
て困難である。これは、Ｆｅ−Ｃｏ合金が＋８×１０-5
もの大きな磁歪を有することに起因している。即ち、ス
パッタ、蒸着等の薄膜形成プロセスにより作製された薄
膜には、１０8〜１０10dyn/cm2の内部応力が存在し、こ
れをゼロにすることは現実的には不可能に近いため、こ
の応力による逆磁歪効果で、薄膜を構成する各結晶には
大きな磁気異方性を生じることになる。多結晶体である
薄膜ではこのような異方性の分散（不均質性）が顕著と
なり、スムーズな磁化の反転が行われなくなり、軟磁気
特性が得られなくなってしまう。このような異方性は極
めて大きなものなので、結晶の微細化により、これを軽
減したとしても、実用に供し得るほどの軟磁気特性を得
ることは難しい。これを解決するにはＦｅ−Ｃｏ合金結
晶の持つ磁歪を低減することが必要である。その方法と
してはＳｉやＡｌを多量に添加することが既に提案され
ている。（論文 N.Tsuya、K.Arai、K.Ohmori、and T.Ho
nma :IEEE Trans.Magn、MAG-18（1982）1424.，M.Hayak
awa、K.Hayasi、W.Ishiwata,Y.Ochiai、M.Matsuda、Y.I
wasaki and K.Aso:IEEE Trans. Magn. MAG-23（1987）3
092.など）しかし、これら非磁性元素の多量の添加によ
り、飽和磁束密度は２０kＧを切るため、Ｆｅ系薄膜に
対する優位性はあまりなかった。
【０００３】本発明は、上記の問題点を解決し、Ｆｅ−
Ｃｏ合金の高い飽和磁束密度を保ちつつＦｅ−Ｃｏ合金
結晶のもつ本質的な磁歪を低減し、軟磁性を有する薄膜
を得ることを可能とするものである。
Ｃｏ合金の高い飽和磁束密度を保ちつつＦｅ−Ｃｏ合金
結晶のもつ本質的な磁歪を低減し、軟磁性を有する薄膜
を得ることを可能とするものである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】請求項１記載の軟磁性合
金膜は、Ｆｅx Ｃｏy Ｒz （Ｆｅ：鉄，Ｃｏ：コバル
ト，Ｒ：Ｈｏ（ホルミウム）及び又はＴｍ（ツリウ
ム））なる組成を有し、体心立方構造の結晶からなるこ
とを特徴とするものである。 但し、３０ａｔ％≦x≦９５ａｔ％ （ａｔ％＝原子パ
ーセント） ５ａｔ％≦y≦７０ａｔ％ ０.１ａｔ％≦z≦５ａｔ％
金膜は、Ｆｅx Ｃｏy Ｒz （Ｆｅ：鉄，Ｃｏ：コバル
ト，Ｒ：Ｈｏ（ホルミウム）及び又はＴｍ（ツリウ
ム））なる組成を有し、体心立方構造の結晶からなるこ
とを特徴とするものである。 但し、３０ａｔ％≦x≦９５ａｔ％ （ａｔ％＝原子パ
ーセント） ５ａｔ％≦y≦７０ａｔ％ ０.１ａｔ％≦z≦５ａｔ％
【０００５】請求項２に記載の発明は、結晶粒の平均粒
径が４０ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１に記
載の高飽和磁化軟磁性合金膜である。
径が４０ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１に記
載の高飽和磁化軟磁性合金膜である。
【０００６】平衡状態において、ＨｏやＴｍ等の希土類
金属はＦｅやＣｏにほとんど固溶しないが、スパッタや
蒸着等の、いわゆる気相急冷プロセスにより、強制的に
固溶させる（非平衡相を形成する）ことが可能である。
異なる結晶構造の化合物が析出した場合、飽和磁化等の
性質が大きく変化してしまうが、この場合、高い飽和磁
化を有するＦｅ−Ｃｏの体心立方格子（ｂｃｃ）構造を
有したままＨｏやＴｍを少量固溶させることができる。
合金膜の作製には真空蒸着あるいは、ＲＦ２極スパッ
タ、マグネトロンスパッタ、３極スパッタ、イオンビー
ムスパッタ、対向ターゲット型スパッタ等の既存の薄膜
作製装置を用いることができる。
金属はＦｅやＣｏにほとんど固溶しないが、スパッタや
蒸着等の、いわゆる気相急冷プロセスにより、強制的に
固溶させる（非平衡相を形成する）ことが可能である。
異なる結晶構造の化合物が析出した場合、飽和磁化等の
性質が大きく変化してしまうが、この場合、高い飽和磁
化を有するＦｅ−Ｃｏの体心立方格子（ｂｃｃ）構造を
有したままＨｏやＴｍを少量固溶させることができる。
合金膜の作製には真空蒸着あるいは、ＲＦ２極スパッ
タ、マグネトロンスパッタ、３極スパッタ、イオンビー
ムスパッタ、対向ターゲット型スパッタ等の既存の薄膜
作製装置を用いることができる。
【０００７】
【作用】磁歪の本質的な原因は、電子のスピン間の相互
作用が関与している。即ち、結晶構造が変らない場合、
異なる電子状態を持つ元素が固溶すると、スピン間の相
互作用が変化して磁歪が変化する。このような効果が大
きいことが期待できる元素として希土類金属が考えられ
る。希土類金属は３ｄ遷移金属と異なり、軌道磁気モー
メントが生きている（３ｄ遷移金属はスピン磁気モーメ
ントのみ）ので、軌道に伴う異方的な電子雲と格子を構
成する原子の電子との静電的な相互作用がある。このよ
うな結晶場の中での磁性イオンの軌道の振舞いから磁気
異方性を説明するモデルとして一イオンモデルがある
が、同様なメカニズムで磁歪の変化も期待できる。この
ような観点に立ち、本発明者らは、鋭意研究を重ねた結
果、希土類元素の中で、特にＨｏとＴｍがＦｅ−Ｃｏの
磁歪を際立たせて低減させる効果を有することを見出し
た。ここで、Ｈｏ及び又はＴｍの濃度（ｚ）は０.１ａ
ｔ％以上でないと、その効果が明確にあらわれない。ま
たＨｏ及び又はＴｍを５ａｔ％以上添加すると、体心立
方構造単相状態を維持することができなくなり、非晶質
相が混在するようになって、飽和磁束密度が低下してく
る。尚、本発明の合金膜においては、大部分が体心立方
構造であればよく、部分的には体心立方構造でなくとも
良い。また、ＦｅxＣｏyＲzにおいて、３０≦x≦９５ａ
ｔ％、５≦ｙ≦７０ａｔ％としたのは、Ｆｅより高い飽
和磁束密度を得るためである。ところで、既に述べたよ
うにＨｏやＴｍはＦｅやＣｏには平衡状態では非固溶で
ある。このような非固溶物質を強制固溶させた場合、結
晶粒が微細化することが知られている。このような微細
化によって、上記の磁歪の低減効果と相まって、実効的
な異方性をより低下させることにより、より良好な軟磁
気特性を得ることができる。尚、結晶粒径が４０ｎｍよ
り大きいときは、このような実効的な異方性低減効果は
現われない。また、このような結晶の微細化を更に促進
するには、成膜時に基板をイオン照射すること、あるい
は基板を冷却すること等が有効である。
作用が関与している。即ち、結晶構造が変らない場合、
異なる電子状態を持つ元素が固溶すると、スピン間の相
互作用が変化して磁歪が変化する。このような効果が大
きいことが期待できる元素として希土類金属が考えられ
る。希土類金属は３ｄ遷移金属と異なり、軌道磁気モー
メントが生きている（３ｄ遷移金属はスピン磁気モーメ
ントのみ）ので、軌道に伴う異方的な電子雲と格子を構
成する原子の電子との静電的な相互作用がある。このよ
うな結晶場の中での磁性イオンの軌道の振舞いから磁気
異方性を説明するモデルとして一イオンモデルがある
が、同様なメカニズムで磁歪の変化も期待できる。この
ような観点に立ち、本発明者らは、鋭意研究を重ねた結
果、希土類元素の中で、特にＨｏとＴｍがＦｅ−Ｃｏの
磁歪を際立たせて低減させる効果を有することを見出し
た。ここで、Ｈｏ及び又はＴｍの濃度（ｚ）は０.１ａ
ｔ％以上でないと、その効果が明確にあらわれない。ま
たＨｏ及び又はＴｍを５ａｔ％以上添加すると、体心立
方構造単相状態を維持することができなくなり、非晶質
相が混在するようになって、飽和磁束密度が低下してく
る。尚、本発明の合金膜においては、大部分が体心立方
構造であればよく、部分的には体心立方構造でなくとも
良い。また、ＦｅxＣｏyＲzにおいて、３０≦x≦９５ａ
ｔ％、５≦ｙ≦７０ａｔ％としたのは、Ｆｅより高い飽
和磁束密度を得るためである。ところで、既に述べたよ
うにＨｏやＴｍはＦｅやＣｏには平衡状態では非固溶で
ある。このような非固溶物質を強制固溶させた場合、結
晶粒が微細化することが知られている。このような微細
化によって、上記の磁歪の低減効果と相まって、実効的
な異方性をより低下させることにより、より良好な軟磁
気特性を得ることができる。尚、結晶粒径が４０ｎｍよ
り大きいときは、このような実効的な異方性低減効果は
現われない。また、このような結晶の微細化を更に促進
するには、成膜時に基板をイオン照射すること、あるい
は基板を冷却すること等が有効である。
【０００８】
【実施例】ＤＣ三極高速スパッタ装置を用い、水冷した
銅基板上にＦｅ−Ｃｏ−Ｒ合金膜（ＲはＨｏ又はＴｍで
ある）を成膜した。合金ターゲットはアーク溶解により
作製した。スパッタ時のＡｒガス圧は４.２×１０-2Ｔ
ｏｒｒ．、ターゲット電圧１kＶとした。
銅基板上にＦｅ−Ｃｏ−Ｒ合金膜（ＲはＨｏ又はＴｍで
ある）を成膜した。合金ターゲットはアーク溶解により
作製した。スパッタ時のＡｒガス圧は４.２×１０-2Ｔ
ｏｒｒ．、ターゲット電圧１kＶとした。
【０００９】また、各種組成の軟磁性合金膜の磁歪と飽
和磁束密度の測定値を表１に示す。磁歪の測定は、基板
から剥離した合金膜に歪ゲージを貼り付けて行なった。
飽和磁束密度は振動試料型磁力計により測定した。結晶
構造はＸ線回折により同定した。
和磁束密度の測定値を表１に示す。磁歪の測定は、基板
から剥離した合金膜に歪ゲージを貼り付けて行なった。
飽和磁束密度は振動試料型磁力計により測定した。結晶
構造はＸ線回折により同定した。
【００１０】
【表１】
【００１１】表１から、Ｈｏ又はＴｍを添加すること
で、磁歪を低減させることができることがわかる。そし
て、本実施例のサンプルＮｏ．〜及び，は磁歪
が小さいにもかかわらず、純鉄の飽和磁束密度（２１.
５ｋＧ）よりも大きい飽和磁束密度を有している。しか
しながら、比較例であるサンプルＮｏ．のように、Ｈ
ｏの濃度が５at％を超えると、磁歪が負の範囲で大きく
なり過ぎるばかりでなく、飽和磁束密度が著しく低下し
てしまう。これは、Ｈｏの濃度が高過ぎると、体心立方
構造が崩れ、キュリー温度の低い非晶質相が混在してく
るためと考えられる。（尚、比較例Ｎｏ．以外の合金
膜の結晶構造は体心立方構造であった。）
で、磁歪を低減させることができることがわかる。そし
て、本実施例のサンプルＮｏ．〜及び，は磁歪
が小さいにもかかわらず、純鉄の飽和磁束密度（２１.
５ｋＧ）よりも大きい飽和磁束密度を有している。しか
しながら、比較例であるサンプルＮｏ．のように、Ｈ
ｏの濃度が５at％を超えると、磁歪が負の範囲で大きく
なり過ぎるばかりでなく、飽和磁束密度が著しく低下し
てしまう。これは、Ｈｏの濃度が高過ぎると、体心立方
構造が崩れ、キュリー温度の低い非晶質相が混在してく
るためと考えられる。（尚、比較例Ｎｏ．以外の合金
膜の結晶構造は体心立方構造であった。）
【００１２】図１にＨｏが０.５ａｔ％の合金膜の飽和
磁束密度のＦｅ：Ｃｏ比による変化を示した。この合金
は体心立方構造の結晶組織を有しており、Ｈｏを含まな
いバルクのＦｅ−Ｃｏ合金（比較例；破線）と比較して
も飽和磁束密度の低下は大きくなく、図１に示すＣｏの
含有量比が５原子％以上７０原子％以下であるＦｅ−Ｃ
ｏ−Ｈｏ合金は、純鉄の飽和磁束密度である２１.５ｋ
Ｇよりも大きい十分な飽和磁束密度を有している。ま
た、この合金の結晶粒の粒径をＸ線回折のピークの半値
幅から求めたところ、３０nm以下であった。
磁束密度のＦｅ：Ｃｏ比による変化を示した。この合金
は体心立方構造の結晶組織を有しており、Ｈｏを含まな
いバルクのＦｅ−Ｃｏ合金（比較例；破線）と比較して
も飽和磁束密度の低下は大きくなく、図１に示すＣｏの
含有量比が５原子％以上７０原子％以下であるＦｅ−Ｃ
ｏ−Ｈｏ合金は、純鉄の飽和磁束密度である２１.５ｋ
Ｇよりも大きい十分な飽和磁束密度を有している。ま
た、この合金の結晶粒の粒径をＸ線回折のピークの半値
幅から求めたところ、３０nm以下であった。
【００１３】
【発明の効果】本発明の軟磁性合金膜は、Ｈｏ及び又は
Ｔｍの少量添加により体心立方構造を有し、高飽和磁束
密度を有したまま磁歪が低減されたものである。これよ
り純鉄（Ｂs＝２１.５kＧ）よりも高い飽和磁束密度の
薄膜の軟磁性化が可能となる。このような非常に高い飽
和磁束密度を有する薄膜を磁気ヘッドに応用した場合、
微小トラック及び微小ギャップから強力な磁界を発生す
ることが可能になり、今後のより一層の高密度磁気記録
に適した磁気ヘッドを提供することができる。
Ｔｍの少量添加により体心立方構造を有し、高飽和磁束
密度を有したまま磁歪が低減されたものである。これよ
り純鉄（Ｂs＝２１.５kＧ）よりも高い飽和磁束密度の
薄膜の軟磁性化が可能となる。このような非常に高い飽
和磁束密度を有する薄膜を磁気ヘッドに応用した場合、
微小トラック及び微小ギャップから強力な磁界を発生す
ることが可能になり、今後のより一層の高密度磁気記録
に適した磁気ヘッドを提供することができる。
【図１】合金中のＣｏ比に対する飽和磁束密度の関係を
示すグラフである。
示すグラフである。
Claims (2)
- 【請求項１】 Ｆｅx Ｃｏy Ｒz （Ｆｅ：鉄，Ｃｏ：
コバルト，Ｒ：Ｈｏ（ホルミウム）及び又はＴｍ（ツリ
ウム））なる組成を有し、体心立方構造の結晶からなる
ことを特徴とする高飽和磁化軟磁性合金膜。 但し、 ３０ａｔ％≦x≦９５ａｔ％ （ａｔ％＝原子
パーセント） ５ａｔ％≦y≦７０ａｔ％ ０.１ａｔ％≦z≦５ａｔ％ - 【請求項２】 結晶粒の平均粒径が４０ｎｍ以下である
ことを特徴とする請求項１に記載の高飽和磁化軟磁性合
金膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4060737A JP2834359B2 (ja) | 1992-03-17 | 1992-03-17 | 軟磁性合金膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4060737A JP2834359B2 (ja) | 1992-03-17 | 1992-03-17 | 軟磁性合金膜 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0653040A true JPH0653040A (ja) | 1994-02-25 |
| JP2834359B2 JP2834359B2 (ja) | 1998-12-09 |
Family
ID=13150878
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4060737A Expired - Fee Related JP2834359B2 (ja) | 1992-03-17 | 1992-03-17 | 軟磁性合金膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2834359B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6132892A (en) * | 1997-09-17 | 2000-10-17 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Soft magnetic alloy film and manufacturing method thereof, and magnetic head incorporating the same |
-
1992
- 1992-03-17 JP JP4060737A patent/JP2834359B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6132892A (en) * | 1997-09-17 | 2000-10-17 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Soft magnetic alloy film and manufacturing method thereof, and magnetic head incorporating the same |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2834359B2 (ja) | 1998-12-09 |
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