JPH065574B2 - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPH065574B2 JPH065574B2 JP59236710A JP23671084A JPH065574B2 JP H065574 B2 JPH065574 B2 JP H065574B2 JP 59236710 A JP59236710 A JP 59236710A JP 23671084 A JP23671084 A JP 23671084A JP H065574 B2 JPH065574 B2 JP H065574B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin film
- zirconium oxide
- recording medium
- oxide thin
- magnetic
- Prior art date
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- Lubricants (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 この発明は磁気記録媒体に係り、特に記録磁性層を構成
する金属薄膜上に酸化ジルコニウム薄膜および潤滑層を
有する磁気記録媒体に関する。
する金属薄膜上に酸化ジルコニウム薄膜および潤滑層を
有する磁気記録媒体に関する。
近年、情報処理技術の発達に伴つてメモリ装置が担う情
報量は飛躍的に増加し、フロツピーデイスクなどの磁気
記録媒体に対する大容量化の要求もますます高まつてい
る。この要求に応えるため高密度記録の可能な磁気記録
媒体の研究・開発が活発になされている。特に、現在一
般に使用されている塗布型磁気記録媒体に対し、記録磁
性層としてCo-Crなどの金属磁性薄膜をスパツタや蒸着
により形成した金属薄膜磁気記録媒体が高密度記録に適
した媒体として有望視されている。
報量は飛躍的に増加し、フロツピーデイスクなどの磁気
記録媒体に対する大容量化の要求もますます高まつてい
る。この要求に応えるため高密度記録の可能な磁気記録
媒体の研究・開発が活発になされている。特に、現在一
般に使用されている塗布型磁気記録媒体に対し、記録磁
性層としてCo-Crなどの金属磁性薄膜をスパツタや蒸着
により形成した金属薄膜磁気記録媒体が高密度記録に適
した媒体として有望視されている。
ところで、塗布型媒体では磁性粉をバインダ等と混ぜて
基体上に塗布することにより記録磁性層が形成されるた
め、磁性層中に潤滑剤を混入させることが容易であり、
それによつて媒体と磁気ヘツドとの間の潤滑性を維持
し、媒体およびヘツドの耐久性を十分に得ることができ
る。
基体上に塗布することにより記録磁性層が形成されるた
め、磁性層中に潤滑剤を混入させることが容易であり、
それによつて媒体と磁気ヘツドとの間の潤滑性を維持
し、媒体およびヘツドの耐久性を十分に得ることができ
る。
これに対し、金属薄膜媒体では記録磁性層中に潤滑剤を
混入させることが困難であるため、フエライト製などの
硬い材質の磁気ヘツドが媒体上を走行すると、媒体表面
やヘツドの表面にスクラツチ等の損傷が生じ易くなる。
この場合には、媒体およびヘツドの耐久性が損われるば
かりでなく、媒体やヘツドの摩耗粉の付着により媒体・
ヘツド間の距離が増大してスペーシング・ロスが大きく
なり、記録再生周波数特性が著しく劣化する。
混入させることが困難であるため、フエライト製などの
硬い材質の磁気ヘツドが媒体上を走行すると、媒体表面
やヘツドの表面にスクラツチ等の損傷が生じ易くなる。
この場合には、媒体およびヘツドの耐久性が損われるば
かりでなく、媒体やヘツドの摩耗粉の付着により媒体・
ヘツド間の距離が増大してスペーシング・ロスが大きく
なり、記録再生周波数特性が著しく劣化する。
そこで、金属薄膜媒体の場合には記録磁性層上に潤滑剤
を塗布することにより潤滑層を形成することが考えられ
るがスパツタリング等により形成された膜は表面性が非
常に良好であるため、潤滑剤のぬれ性が悪く、従つてこ
の上に潤滑剤を十分な付着力で、しかも均一に塗布する
ことは困難であり、上述した問題は依然として解決され
ない。
を塗布することにより潤滑層を形成することが考えられ
るがスパツタリング等により形成された膜は表面性が非
常に良好であるため、潤滑剤のぬれ性が悪く、従つてこ
の上に潤滑剤を十分な付着力で、しかも均一に塗布する
ことは困難であり、上述した問題は依然として解決され
ない。
この発明の目的は、記録磁性層を金属薄膜で形成した場
合でも潤滑層を十分な付着力で均一に形成することが可
能であつて、媒体自身および磁気ヘツドの耐久性を著し
く高めることができ、記録再生特性も良好な磁気記録媒
体を提供することである。
合でも潤滑層を十分な付着力で均一に形成することが可
能であつて、媒体自身および磁気ヘツドの耐久性を著し
く高めることができ、記録再生特性も良好な磁気記録媒
体を提供することである。
この発明に係る磁気記録媒体は、記録磁性層を構成する
金属薄膜上に酸化ジルコニウム薄膜が形成され、この酸
化ジリコニウム薄膜上に潤滑層が形成された磁気記録媒
体であつて、特に酸化ジルコニウム薄膜を構成する酸素
の原子数がジルコニウムの原子数の２倍未満であること
を特徴としている。
金属薄膜上に酸化ジルコニウム薄膜が形成され、この酸
化ジリコニウム薄膜上に潤滑層が形成された磁気記録媒
体であつて、特に酸化ジルコニウム薄膜を構成する酸素
の原子数がジルコニウムの原子数の２倍未満であること
を特徴としている。
すなわち、記録磁性層を構成する金属薄膜上に酸化ジル
コニウム薄膜を形成することは公知であり、また潤滑層
を形成することも公知であるが、この発明は特に酸化ジ
ルコニウム薄膜を酸素欠損の状態にすることによつて、
潤滑層を塗布し易くしたものである。このような酸素の
欠損が生じた、つまり酸素の原子数がジルコニウムの原
子数の２倍未満であるような酸化ジルコニウム薄膜は、
例えば酸素欠乏雰囲気中でのスパツタリングなどの方法
で容易に形成が可能である。
コニウム薄膜を形成することは公知であり、また潤滑層
を形成することも公知であるが、この発明は特に酸化ジ
ルコニウム薄膜を酸素欠損の状態にすることによつて、
潤滑層を塗布し易くしたものである。このような酸素の
欠損が生じた、つまり酸素の原子数がジルコニウムの原
子数の２倍未満であるような酸化ジルコニウム薄膜は、
例えば酸素欠乏雰囲気中でのスパツタリングなどの方法
で容易に形成が可能である。
酸化ジルコニウム薄膜の酸素欠損の程度は特に限定され
ないが、酸化ジルコニウム薄膜の組成式をZrO2-Xとした
とき、Ｘが０＜Ｘ＜0.5の範囲内にあることが望まし
い。Ｘがこの範囲内におさまる程度に酸化ジルコニウム
薄膜を酸素欠損状態にすると、酸化ジルコニウム薄膜自
身の硬度を十分に維持しつつ、潤滑層との結合力を非常
に効果的に高めることができる。ここで、潤滑層を形成
する潤滑剤としては、酸化ジルコニウム薄膜の酸素欠損
により生じるフリーボンドと結合する極性基を有する潤
滑剤が好ましく、例えば、パーフルオロポリエーテル系
潤滑剤等が用いられる。
ないが、酸化ジルコニウム薄膜の組成式をZrO2-Xとした
とき、Ｘが０＜Ｘ＜0.5の範囲内にあることが望まし
い。Ｘがこの範囲内におさまる程度に酸化ジルコニウム
薄膜を酸素欠損状態にすると、酸化ジルコニウム薄膜自
身の硬度を十分に維持しつつ、潤滑層との結合力を非常
に効果的に高めることができる。ここで、潤滑層を形成
する潤滑剤としては、酸化ジルコニウム薄膜の酸素欠損
により生じるフリーボンドと結合する極性基を有する潤
滑剤が好ましく、例えば、パーフルオロポリエーテル系
潤滑剤等が用いられる。
この発明によれば、酸素欠損が生じている酸化ジルコニ
ウム薄膜を介して潤滑層が形成されていることにより、
潤滑層が良好に、かつ均一に形成された磁気記録媒体が
提供される。これは酸化ジルコニウム薄膜に酸素欠損が
生じると、酸素原子に弧立電子対が生じ、酸素欠損がな
い酸化ジルコニウム薄膜、に比べて活性化され、酸化ジ
ルコニウム薄膜とその上に形成される潤滑層との結合力
が強められるためである。
ウム薄膜を介して潤滑層が形成されていることにより、
潤滑層が良好に、かつ均一に形成された磁気記録媒体が
提供される。これは酸化ジルコニウム薄膜に酸素欠損が
生じると、酸素原子に弧立電子対が生じ、酸素欠損がな
い酸化ジルコニウム薄膜、に比べて活性化され、酸化ジ
ルコニウム薄膜とその上に形成される潤滑層との結合力
が強められるためである。
従つて、この発明によるとCo-Cr合金薄膜のような金属
薄膜を記録磁性層とした磁気記録媒体においても、媒体
と磁気ヘツドとの間の潤滑作用が十分に行なわれるの
で、媒体やヘツドの摩耗・損傷が著しく減少し、耐久性
が大幅に向上する。
薄膜を記録磁性層とした磁気記録媒体においても、媒体
と磁気ヘツドとの間の潤滑作用が十分に行なわれるの
で、媒体やヘツドの摩耗・損傷が著しく減少し、耐久性
が大幅に向上する。
また、潤滑層として例えば液体潤滑剤を塗布する場合、
酸化ジルコニウム薄膜と潤滑剤とのぬれ性がよく均一な
厚さに潤滑剤を塗布することができるため、スペーシン
グ・ロスが減少して信号再生時の出力低下および出力変
動が小さくなり、エラー率も減少する。従つて、記録再
生特性が向上する。
酸化ジルコニウム薄膜と潤滑剤とのぬれ性がよく均一な
厚さに潤滑剤を塗布することができるため、スペーシン
グ・ロスが減少して信号再生時の出力低下および出力変
動が小さくなり、エラー率も減少する。従つて、記録再
生特性が向上する。
さらに、酸化ジルコニウム薄膜は例えば記録磁性層を形
成するCo-Cr系合金膜等の磁性金属膜に比べて材質が硬
いため、媒体表面を機械的に保護しスクラツチ等を入り
にくくするのみならず、記録磁性層を外気から遮断する
ことにより耐腐蝕性をも向上させる効果があることはい
うまでもない。
成するCo-Cr系合金膜等の磁性金属膜に比べて材質が硬
いため、媒体表面を機械的に保護しスクラツチ等を入り
にくくするのみならず、記録磁性層を外気から遮断する
ことにより耐腐蝕性をも向上させる効果があることはい
うまでもない。
第１図はこの発明の一実施例の磁気記録媒体を示す断面
図である。図において、基体１は樹脂製のフイルム状基
体であり、この基体１上に記録磁性層として例えば直流
マグネトロンスバツタリングにより厚さ0.5μｍのCo-Cr
合金薄膜２が形成されている。垂直磁気記録媒体の場
合、このCo-Cr合金薄膜２は膜面に垂直な方向に磁化容
易軸を持つように配向される。そして、Co-Cr合金薄膜
２上に厚さ200Å程度の酸化ジルコニウム薄膜３が形成
され、さらにこの酸化ジルコニウム薄膜３の上に液体潤
滑層４が塗布・形成されている。
図である。図において、基体１は樹脂製のフイルム状基
体であり、この基体１上に記録磁性層として例えば直流
マグネトロンスバツタリングにより厚さ0.5μｍのCo-Cr
合金薄膜２が形成されている。垂直磁気記録媒体の場
合、このCo-Cr合金薄膜２は膜面に垂直な方向に磁化容
易軸を持つように配向される。そして、Co-Cr合金薄膜
２上に厚さ200Å程度の酸化ジルコニウム薄膜３が形成
され、さらにこの酸化ジルコニウム薄膜３の上に液体潤
滑層４が塗布・形成されている。
酸化ジルコニウム薄膜３は例えば酸化ジルコニウム・タ
ーゲツトを用いた高周波スパツタリングにより形成され
る。この場合、スパツタ用真空室を予め10-7Torr程度ま
で真空に引き、不純物ガスを十分除いた後、酸素ガスを
通常の酸化ジルコニウム(ZrO2)の形成の場合より少なめ
に、すなわち10-7〜10-2Torr程度まで導入し、その後ア
ルゴンガスを導入して、全圧を10-2Torr程度にして行な
つた。このようにして形成された酸化ジルコニウム薄膜
３は酸素欠損状態にあり、その組成式はZrO2-Xとなる。
この場合、Ｘの値はスパツタ雰囲気の酸素分圧および成
膜速度によつて、０より大きい範囲で任意に制御するこ
とが可能である。また、Ｘの値の測定は例えば(100)Si
ウエハ上に0.3μｍ程度のZrO2-Xを形成してRBS（ラザフ
オードバツクスキヤツタリング）により分析することで
行うことができる。
ーゲツトを用いた高周波スパツタリングにより形成され
る。この場合、スパツタ用真空室を予め10-7Torr程度ま
で真空に引き、不純物ガスを十分除いた後、酸素ガスを
通常の酸化ジルコニウム(ZrO2)の形成の場合より少なめ
に、すなわち10-7〜10-2Torr程度まで導入し、その後ア
ルゴンガスを導入して、全圧を10-2Torr程度にして行な
つた。このようにして形成された酸化ジルコニウム薄膜
３は酸素欠損状態にあり、その組成式はZrO2-Xとなる。
この場合、Ｘの値はスパツタ雰囲気の酸素分圧および成
膜速度によつて、０より大きい範囲で任意に制御するこ
とが可能である。また、Ｘの値の測定は例えば(100)Si
ウエハ上に0.3μｍ程度のZrO2-Xを形成してRBS（ラザフ
オードバツクスキヤツタリング）により分析することで
行うことができる。
こうして形成された酸化ジルコニウム薄膜３は、酸素欠
損状態により活性化しているため、その上に液体潤滑剤
を塗布して潤滑層４を形成する際、潤滑剤のぬれ性が良
く均一に塗布することができる。また、酸化ジルコニウ
ム薄膜３と潤滑層４との結合力も強くなる。従つて、磁
気記録媒体および磁気ヘツドの耐久性向上に大きく寄与
することができる。
損状態により活性化しているため、その上に液体潤滑剤
を塗布して潤滑層４を形成する際、潤滑剤のぬれ性が良
く均一に塗布することができる。また、酸化ジルコニウ
ム薄膜３と潤滑層４との結合力も強くなる。従つて、磁
気記録媒体および磁気ヘツドの耐久性向上に大きく寄与
することができる。
第１表はスパツタ雰囲気の酸素分圧比と成膜速度により
Ｘの値を変えた場合の耐久性の変化を調べた実験結果を
示すものである。但し、実験は上述した構成の磁気記録
媒体をフロツピーデイスクの形態に作成し、このデイス
クを毎分300回転で回転走行させながら、フエライト磁
気ヘツドをデイスク上の同一トラツクに接触させて行な
つた。ここで、耐久性は媒体（デイスク）およびヘツド
の少なくとも一方が著しい損傷を受けるまでの走行回数
（バス）である。著しい損傷とは媒体の場合、酸化ジル
コニウム薄膜３およびCo-Cr合金薄膜２の少なくとも一
部がけずれて、基体１表面が露出した状態をいう。
Ｘの値を変えた場合の耐久性の変化を調べた実験結果を
示すものである。但し、実験は上述した構成の磁気記録
媒体をフロツピーデイスクの形態に作成し、このデイス
クを毎分300回転で回転走行させながら、フエライト磁
気ヘツドをデイスク上の同一トラツクに接触させて行な
つた。ここで、耐久性は媒体（デイスク）およびヘツド
の少なくとも一方が著しい損傷を受けるまでの走行回数
（バス）である。著しい損傷とは媒体の場合、酸化ジル
コニウム薄膜３およびCo-Cr合金薄膜２の少なくとも一
部がけずれて、基体１表面が露出した状態をいう。
以上の結果から、Ｘの値が零より大きいとき、すなわち
酸化ジルコニウム薄膜３を構成する酸素の原子数がジル
コニウムの原子数の２倍未満になると、耐久性が著しく
向上することがわかる。特にＸの値が0.1＜Ｘ＜0.3の範
囲内が好適であり、この範囲内にすると耐久性はパス以
上と、Ｘが零以下の場合に比べて１桁以上も向上し、最
大では実に万パスを越える値が得られる。要求される耐
久性の程度は用途等によつて異なるが、５０万パス以上
あればほぼ実用に耐えることができる。従つて、Ｘの値
は上述した0.1＜Ｘ＜0.3の範囲にあることが特に望まし
い。
酸化ジルコニウム薄膜３を構成する酸素の原子数がジル
コニウムの原子数の２倍未満になると、耐久性が著しく
向上することがわかる。特にＸの値が0.1＜Ｘ＜0.3の範
囲内が好適であり、この範囲内にすると耐久性はパス以
上と、Ｘが零以下の場合に比べて１桁以上も向上し、最
大では実に万パスを越える値が得られる。要求される耐
久性の程度は用途等によつて異なるが、５０万パス以上
あればほぼ実用に耐えることができる。従つて、Ｘの値
は上述した0.1＜Ｘ＜0.3の範囲にあることが特に望まし
い。
なお、Ｘの値が0.5を越えると耐久性がピークから下が
つてくるのは、酸素欠損状態になると潤滑層４の付着性
が向上する反面、酸化ジルコニウム薄膜３自身の硬度が
減少してゆくからである。しかしながら、Ｘが零の場合
よりも耐久性が低下するのは上記の実験結果から煩雑さ
れるようにＸの値が非常に大きく、例えば２に近くなつ
て、酸化ジルコニウム薄膜３が酸化ジルコニウムとして
の性質を失い、ジルコニウムに近くなつたときであるか
ら、その状態では酸化ジルコニウム薄膜という呼称その
ものが成立しなくなる。
つてくるのは、酸素欠損状態になると潤滑層４の付着性
が向上する反面、酸化ジルコニウム薄膜３自身の硬度が
減少してゆくからである。しかしながら、Ｘが零の場合
よりも耐久性が低下するのは上記の実験結果から煩雑さ
れるようにＸの値が非常に大きく、例えば２に近くなつ
て、酸化ジルコニウム薄膜３が酸化ジルコニウムとして
の性質を失い、ジルコニウムに近くなつたときであるか
ら、その状態では酸化ジルコニウム薄膜という呼称その
ものが成立しなくなる。
このように、この発明によれば酸化ジルコニウム薄膜を
酸素の原子数をジルコニウムのそれの２倍未満として酸
素欠損状態とすることにより、その上に形成される潤滑
層の付着力を増大させて、磁気記録媒体自身および磁気
ヘツドの耐久性を著しく高めることができ、また潤滑層
が均一に形成されることで信号再生出力の低下や変動が
小さくなり、エラー率を減少させることが可能となる。
酸素の原子数をジルコニウムのそれの２倍未満として酸
素欠損状態とすることにより、その上に形成される潤滑
層の付着力を増大させて、磁気記録媒体自身および磁気
ヘツドの耐久性を著しく高めることができ、また潤滑層
が均一に形成されることで信号再生出力の低下や変動が
小さくなり、エラー率を減少させることが可能となる。
第３図はこの発明の他の実施例の磁気記録媒体を示すも
ので、非磁性基体11上に蒸着法により記録磁性層として
のCo-Cr合金薄膜12が形成され、その上に酸化ジルコニ
ウム薄膜13が例えばマグネトロンスパツタリングにより
形成され、さらにその上に固体潤滑層14がスパツタリン
グにより形成されている。酸化ジルコニウム薄膜13は酸
素分圧がアルゴン分圧の10％程度のアルゴン雰囲気中で
スパツタリング形成されることにより、やはり酸素欠損
の状態となつている。
ので、非磁性基体11上に蒸着法により記録磁性層として
のCo-Cr合金薄膜12が形成され、その上に酸化ジルコニ
ウム薄膜13が例えばマグネトロンスパツタリングにより
形成され、さらにその上に固体潤滑層14がスパツタリン
グにより形成されている。酸化ジルコニウム薄膜13は酸
素分圧がアルゴン分圧の10％程度のアルゴン雰囲気中で
スパツタリング形成されることにより、やはり酸素欠損
の状態となつている。
このように形成された磁気記録媒体においても、前記実
施例で説明した磁気記録媒体と同様に優れた耐久性が得
られる。
施例で説明した磁気記録媒体と同様に優れた耐久性が得
られる。
この発明は上述した実施例に限定されるものではなく、
その要旨を逸脱ない範囲で種々変形実施することが可能
である。例えば記録磁性層としてはCo-Cr合金薄膜を例
示したが、Co-Cr-Ni合金薄膜等でもよく、特にこの発明
は表面に潤滑層を形成する必要のある金属層膜を記録磁
性層とする磁気記録媒体に有効である。また、基体およ
び潤滑層の材質も種々選択することができる。さらに、
この発明は垂直磁気記録媒体のみでなく、面内磁気記録
媒体にも適用することができる。
その要旨を逸脱ない範囲で種々変形実施することが可能
である。例えば記録磁性層としてはCo-Cr合金薄膜を例
示したが、Co-Cr-Ni合金薄膜等でもよく、特にこの発明
は表面に潤滑層を形成する必要のある金属層膜を記録磁
性層とする磁気記録媒体に有効である。また、基体およ
び潤滑層の材質も種々選択することができる。さらに、
この発明は垂直磁気記録媒体のみでなく、面内磁気記録
媒体にも適用することができる。
第１図はこの発明の一実施例に係る磁気記録媒体の断面
図、第２図はこの発明の他の実施例に係る磁気記録媒体
の断面図である。 １…樹脂製フイルタ状基体 ２…Co-Cr合金薄膜（記録磁性層） ３…酸化ジルコニウム薄膜 ４…液体潤滑層 11…非磁性基体 12…Co-Cr合金薄膜（記録磁性層） 13…酸化ジルコニウム薄膜 14…固体潤滑層
図、第２図はこの発明の他の実施例に係る磁気記録媒体
の断面図である。 １…樹脂製フイルタ状基体 ２…Co-Cr合金薄膜（記録磁性層） ３…酸化ジルコニウム薄膜 ４…液体潤滑層 11…非磁性基体 12…Co-Cr合金薄膜（記録磁性層） 13…酸化ジルコニウム薄膜 14…固体潤滑層
Claims (3)
- 【請求項１】記録磁性層を構成する金属薄膜上に酸化ジ
ルコニウム薄膜が形成され、この酸化ジルコニウム薄膜
上に潤滑層が形成された磁気記録媒体において、前記酸
化ジルコニウム薄膜を構成する酸素の原子数がジルコニ
ウムの原子数の２倍未満であることを特徴とする磁気記
録媒体。 - 【請求項２】前記酸化ジルコニウム薄膜の組成式をＺｒ
Ｏ2-Xとしたとき、Ｘを０＜Ｘ＜０．５の範囲内に選定
すること特徴とする特許請求の範囲第１項記載の磁気記
録媒体。 - 【請求項３】前記記録磁性層を構成する金属薄膜がＣｏ
−Ｃｒ系合金薄膜であることを特徴とする特許請求の範
囲第１項記載の磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59236710A JPH065574B2 (ja) | 1984-11-12 | 1984-11-12 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59236710A JPH065574B2 (ja) | 1984-11-12 | 1984-11-12 | 磁気記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61115230A JPS61115230A (ja) | 1986-06-02 |
| JPH065574B2 true JPH065574B2 (ja) | 1994-01-19 |
Family
ID=17004615
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59236710A Expired - Lifetime JPH065574B2 (ja) | 1984-11-12 | 1984-11-12 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH065574B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4898774A (en) * | 1986-04-03 | 1990-02-06 | Komag, Inc. | Corrosion and wear resistant magnetic disk |
| US4929500A (en) * | 1986-04-03 | 1990-05-29 | Komag, Inc. | Corrosion resistant magnetic disk |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS50104602A (ja) * | 1974-01-21 | 1975-08-18 |
-
1984
- 1984-11-12 JP JP59236710A patent/JPH065574B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61115230A (ja) | 1986-06-02 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |