JPH0655813B2 - 芳香族ポリアミド類およびその調製方法 - Google Patents
芳香族ポリアミド類およびその調製方法Info
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- 229920003235 aromatic polyamide Polymers 0.000 title claims description 50
- 239000004760 aramid Substances 0.000 title claims description 48
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 17
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 32
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 32
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 23
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 claims description 10
- CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 1,4-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=C(N)C=C1 CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 claims description 9
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 7
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 6
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 claims description 6
- HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 4-Aminophenyl ether Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 5
- LZERWAYAJGLDBE-UHFFFAOYSA-N 5-trimethylsilylbenzene-1,3-dicarboxylic acid Chemical compound C[Si](C)(C)C1=CC(C(O)=O)=CC(C(O)=O)=C1 LZERWAYAJGLDBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 150000004984 aromatic diamines Chemical class 0.000 claims description 4
- 238000012643 polycondensation polymerization Methods 0.000 claims description 4
- WZCQRUWWHSTZEM-UHFFFAOYSA-N 1,3-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=CC(N)=C1 WZCQRUWWHSTZEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims description 3
- LRFYQNOFUJAPJG-UHFFFAOYSA-N 2-trimethylsilylterephthalic acid Chemical compound C[Si](C)(C)C1=CC(C(O)=O)=CC=C1C(O)=O LRFYQNOFUJAPJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- YBRVSVVVWCFQMG-UHFFFAOYSA-N 4,4'-diaminodiphenylmethane Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1CC1=CC=C(N)C=C1 YBRVSVVVWCFQMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229940018564 m-phenylenediamine Drugs 0.000 claims description 2
- 230000004580 weight loss Effects 0.000 claims description 2
- VAHLANVAVMSPEG-UHFFFAOYSA-N 2-triphenylsilylbenzene-1,3-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1[Si](C=1C=CC=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 VAHLANVAVMSPEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- BBDWNCOGVMQOEV-UHFFFAOYSA-N 4,6-dimethyl-2-phenylsilylbenzene-1,3-dicarboxylic acid Chemical compound CC1=CC(=C(C(=C1C(=O)O)[SiH2]C1=CC=CC=C1)C(=O)O)C BBDWNCOGVMQOEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 claims 1
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 55
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 49
- HVLLSGMXQDNUAL-UHFFFAOYSA-N triphenyl phosphite Chemical compound C=1C=CC=CC=1OP(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 HVLLSGMXQDNUAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 42
- KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M lithium chloride Chemical compound [Li+].[Cl-] KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 40
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 32
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 28
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 16
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 15
- 101001016849 Mus musculus Heat shock protein HSP 90-alpha Proteins 0.000 description 9
- 101000985444 Mus musculus Heat shock protein HSP 90-beta Proteins 0.000 description 9
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 8
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical group CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 7
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N N-Butyllithium Chemical compound [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N chlorotrimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)Cl IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 6
- -1 phenoxy, phenylthio Chemical group 0.000 description 6
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 6
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 6
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 5
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- AHVYPIQETPWLSZ-UHFFFAOYSA-N N-methyl-pyrrolidine Natural products CN1CC=CC1 AHVYPIQETPWLSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 4
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 description 4
- 238000010528 free radical solution polymerization reaction Methods 0.000 description 4
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 4
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 4
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 4
- NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 2-[2,4-di(pentan-2-yl)phenoxy]acetyl chloride Chemical compound CCCC(C)C1=CC=C(OCC(Cl)=O)C(C(C)CCC)=C1 NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000012695 Interfacial polymerization Methods 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 238000011160 research Methods 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- AVQQQNCBBIEMEU-UHFFFAOYSA-N 1,1,3,3-tetramethylurea Chemical compound CN(C)C(=O)N(C)C AVQQQNCBBIEMEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LMFRTSBQRLSJHC-UHFFFAOYSA-N 1-bromo-3,5-dimethylbenzene Chemical group CC1=CC(C)=CC(Br)=C1 LMFRTSBQRLSJHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QXISTPDUYKNPLU-UHFFFAOYSA-N 2-bromo-1,4-dimethylbenzene Chemical group CC1=CC=C(C)C(Br)=C1 QXISTPDUYKNPLU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical group CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XIJIWLLGWVRQDH-UHFFFAOYSA-N OC(=O)C1=CC(C(O)=O)=CC([Si](C=2C=CC=CC=2)(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)=C1 Chemical compound OC(=O)C1=CC(C(O)=O)=CC([Si](C=2C=CC=CC=2)(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)=C1 XIJIWLLGWVRQDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 2
- GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N hexamethylphosphoric triamide Chemical compound CN(C)P(=O)(N(C)C)N(C)C GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002329 infrared spectrum Methods 0.000 description 2
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RLSSMJSEOOYNOY-UHFFFAOYSA-N m-cresol Chemical compound CC1=CC=CC(O)=C1 RLSSMJSEOOYNOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NUJOXMJBOLGQSY-UHFFFAOYSA-N manganese dioxide Chemical compound O=[Mn]=O NUJOXMJBOLGQSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 239000012286 potassium permanganate Substances 0.000 description 2
- IMFHQSPTADSSAO-UHFFFAOYSA-N (2,5-dimethylphenyl)-trimethylsilane Chemical group CC1=CC=C(C)C([Si](C)(C)C)=C1 IMFHQSPTADSSAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RFVZKJTUPFOTRO-UHFFFAOYSA-N (3,5-dimethylphenyl)-trimethylsilane Chemical group CC1=CC(C)=CC([Si](C)(C)C)=C1 RFVZKJTUPFOTRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JFTFMNPKTYXLGI-UHFFFAOYSA-N (3,5-dimethylphenyl)-triphenylsilane Chemical group CC1=CC(C)=CC([Si](C=2C=CC=CC=2)(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)=C1 JFTFMNPKTYXLGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QENIALCDPFDFHX-UHFFFAOYSA-N 1,4-dibromo-2,5-dimethylbenzene Chemical group CC1=CC(Br)=C(C)C=C1Br QENIALCDPFDFHX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AGGRGODMKWLSDE-UHFFFAOYSA-N 1-[2,4,6-tri(propan-2-yl)phenyl]sulfonylimidazole Chemical compound CC(C)C1=CC(C(C)C)=CC(C(C)C)=C1S(=O)(=O)N1C=NC=C1 AGGRGODMKWLSDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- UXVMQQNJUSDDNG-UHFFFAOYSA-L Calcium chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Ca+2] UXVMQQNJUSDDNG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000667869 Psix Species 0.000 description 1
- 229920003182 Surlyn® Polymers 0.000 description 1
- 150000001263 acyl chlorides Chemical class 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- KXHPPCXNWTUNSB-UHFFFAOYSA-M benzyl(trimethyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].C[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 KXHPPCXNWTUNSB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000001110 calcium chloride Substances 0.000 description 1
- 229910001628 calcium chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L calcium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Ca+2] AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000920 calcium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 229910001861 calcium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 1
- MNKYQPOFRKPUAE-UHFFFAOYSA-N chloro(triphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](C=1C=CC=CC=1)(Cl)C1=CC=CC=C1 MNKYQPOFRKPUAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWYZNESIGBQHJK-UHFFFAOYSA-N chloro-dimethyl-phenylsilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)C1=CC=CC=C1 KWYZNESIGBQHJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 125000004989 dicarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000001938 differential scanning calorimetry curve Methods 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 229920006351 engineering plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 230000009970 fire resistant effect Effects 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 229920000831 ionic polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000554 ionomer Polymers 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000655 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 1
- 230000037361 pathway Effects 0.000 description 1
- 239000003444 phase transfer catalyst Substances 0.000 description 1
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 1
- 230000008092 positive effect Effects 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 description 1
- 238000000425 proton nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 238000002076 thermal analysis method Methods 0.000 description 1
- 238000002411 thermogravimetry Methods 0.000 description 1
- 238000001757 thermogravimetry curve Methods 0.000 description 1
- 150000003738 xylenes Chemical class 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G73/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
- C08G73/06—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
- C08G73/10—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G69/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carboxylic amide link in the main chain of the macromolecule
- C08G69/42—Polyamides containing atoms other than carbon, hydrogen, oxygen, and nitrogen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G69/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carboxylic amide link in the main chain of the macromolecule
- C08G69/02—Polyamides derived from amino-carboxylic acids or from polyamines and polycarboxylic acids
- C08G69/26—Polyamides derived from amino-carboxylic acids or from polyamines and polycarboxylic acids derived from polyamines and polycarboxylic acids
- C08G69/32—Polyamides derived from amino-carboxylic acids or from polyamines and polycarboxylic acids derived from polyamines and polycarboxylic acids from aromatic diamines and aromatic dicarboxylic acids with both amino and carboxylic groups aromatically bound
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ペンダントシリル基を
有する新規の芳香族ポリアミド樹脂に関し、この芳香族
ポリアミド樹脂は、優れた耐熱性、機械的強度、電気伝
導度その他の物理的性質並びに普通の有機溶媒への優れ
た溶解性および改良された溶融加工性を示す。
有する新規の芳香族ポリアミド樹脂に関し、この芳香族
ポリアミド樹脂は、優れた耐熱性、機械的強度、電気伝
導度その他の物理的性質並びに普通の有機溶媒への優れ
た溶解性および改良された溶融加工性を示す。
【0002】
【従来の技術】一般に、芳香族ポリアミド樹脂は、芳香
族ジアミンと芳香族ジカルボニルクロリドの重合によっ
て調製される全芳香族ポリアミド類を総称するものであ
る。特に、これらは優れた物理的性質を有する特殊エン
ジニアリングプラスチックの一種であり、V−ベルトや
コンベヤベルトのようなベルト類、耐火性衣服、電気お
よび電子製品のための種々の構造材料、スポーツ器具、
パッキング材料などの製造に広く用いられる。
族ジアミンと芳香族ジカルボニルクロリドの重合によっ
て調製される全芳香族ポリアミド類を総称するものであ
る。特に、これらは優れた物理的性質を有する特殊エン
ジニアリングプラスチックの一種であり、V−ベルトや
コンベヤベルトのようなベルト類、耐火性衣服、電気お
よび電子製品のための種々の構造材料、スポーツ器具、
パッキング材料などの製造に広く用いられる。
【0003】これらは耐熱性、難燃性、耐化学品性、機
械的強度など、優れた物理的性質を有するが、400 ℃以
上のプラスチック加工温度を必要とし、溶融と分解が同
時に起こるので、プラスチック加工において幾つかの問
題点がある。ポリアミド樹脂のこれらの問題点を解決す
るための技術は幾つか報告されている。例えば、2個の
ベンゼン環の間に−O−、−SO2 −、−CH2 −のよ
うな柔軟な構造をもつジアミンが使用され(USP 3,767,
756)、また、側鎖置換ジアミンとしてハロゲン原子も使
用されている(USP 3,671,542)。
械的強度など、優れた物理的性質を有するが、400 ℃以
上のプラスチック加工温度を必要とし、溶融と分解が同
時に起こるので、プラスチック加工において幾つかの問
題点がある。ポリアミド樹脂のこれらの問題点を解決す
るための技術は幾つか報告されている。例えば、2個の
ベンゼン環の間に−O−、−SO2 −、−CH2 −のよ
うな柔軟な構造をもつジアミンが使用され(USP 3,767,
756)、また、側鎖置換ジアミンとしてハロゲン原子も使
用されている(USP 3,671,542)。
【0004】さらに、ポリマー鎖に複素環式構造を導入
することも報告されている(J. Polym. Sci., Part B4,
267(1966))。しかし、上記の方法によって調製された
ポリアミド樹脂の場合、溶融加工性は若干高められる
が、耐熱性と機械的強度は著しく減少する。ポリアミド
樹脂を調製するための一般的方法は、溶液重合、界面重
合、および直接重合がある。溶液重合法では、ジカルボ
ン酸を酸クロリドに変え、次にこの酸クロリドを、ピリ
ジン、トリエチルアミン、塩化カルシウムまたは水酸化
カルシウムから選ばれる触媒の存在下で溶液中にジアミ
ンと反応させる。
することも報告されている(J. Polym. Sci., Part B4,
267(1966))。しかし、上記の方法によって調製された
ポリアミド樹脂の場合、溶融加工性は若干高められる
が、耐熱性と機械的強度は著しく減少する。ポリアミド
樹脂を調製するための一般的方法は、溶液重合、界面重
合、および直接重合がある。溶液重合法では、ジカルボ
ン酸を酸クロリドに変え、次にこの酸クロリドを、ピリ
ジン、トリエチルアミン、塩化カルシウムまたは水酸化
カルシウムから選ばれる触媒の存在下で溶液中にジアミ
ンと反応させる。
【0005】この場合の反応溶媒は、ジメチルアセトア
ミド(以下、DMAcと呼ぶ)、N−メチルピロリドン
(以下、NMPと呼ぶ)、ヘキサメチルホスホリックト
リアミド(以下、HMPAと呼ぶ)、およびテトラメチ
ルウレア(以下、TMUと呼ぶ)のようなアミドを含む
が、ジメチルホルムアミド(DMF)およびジメチルス
ルホキシドは、アシルクロリドと反応するので使用でき
ない(USP 3,287,324、3,094,511 および3,354,123)。
ミド(以下、DMAcと呼ぶ)、N−メチルピロリドン
(以下、NMPと呼ぶ)、ヘキサメチルホスホリックト
リアミド(以下、HMPAと呼ぶ)、およびテトラメチ
ルウレア(以下、TMUと呼ぶ)のようなアミドを含む
が、ジメチルホルムアミド(DMF)およびジメチルス
ルホキシドは、アシルクロリドと反応するので使用でき
ない(USP 3,287,324、3,094,511 および3,354,123)。
【0006】界面重合法では、酸クロリドは水と混合し
ないジクロロメタンのような溶媒に溶かし、この酸クロ
リド溶液を芳香族ジアミン水溶液に添加すると重合す
る。この場合、トリメチルベンジルアンモニウムクロリ
ドのような相転移触媒またはピリジンのような塩基触媒
を、所望により使用することができる。
ないジクロロメタンのような溶媒に溶かし、この酸クロ
リド溶液を芳香族ジアミン水溶液に添加すると重合す
る。この場合、トリメチルベンジルアンモニウムクロリ
ドのような相転移触媒またはピリジンのような塩基触媒
を、所望により使用することができる。
【0007】界面重合によって調製された芳香族ポリア
ミドは、高分子量で得られるが、溶液重合の場合よりも
分子量の分布が大きいので、ファイバーまたはフィルム
を調製するには適当でなく、さらに実験結果の再現性も
十分でない。最近になって、ヤマザキのポリホスホリレ
ーションと呼ばれる技術により、直接重合によって研究
室的に容易に芳香族ポリアミドを調製することが報告さ
れている。
ミドは、高分子量で得られるが、溶液重合の場合よりも
分子量の分布が大きいので、ファイバーまたはフィルム
を調製するには適当でなく、さらに実験結果の再現性も
十分でない。最近になって、ヤマザキのポリホスホリレ
ーションと呼ばれる技術により、直接重合によって研究
室的に容易に芳香族ポリアミドを調製することが報告さ
れている。
【0008】このヤマザキのポリホスホリレーションの
方法では、芳香族ジカルボン酸とジアミンを、縮合触媒
としてトリフェニルホスファイトおよびピリジンを使用
し、溶液重合の場合と同じ溶媒であるNMP中で直接重
合するが、この方法は以前に開発されたものと比較し
て、かなり改良されたものと評価されている。
方法では、芳香族ジカルボン酸とジアミンを、縮合触媒
としてトリフェニルホスファイトおよびピリジンを使用
し、溶液重合の場合と同じ溶媒であるNMP中で直接重
合するが、この方法は以前に開発されたものと比較し
て、かなり改良されたものと評価されている。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】最近になって、芳香族
ポリアミドの加工性を改良するための研究が活発に行わ
れており、イオン重合体(イオノマー)に似ているカル
ボキシル基のような官能基をもつポリマーを、金属イオ
ンを用いて重合する。その代表的な例が米国のデュポン
社で開発された“SURLYN”である。しかし、この
重合方法は、ポリオレフィン樹脂の接着性を改良する方
法に主として限られている。
ポリアミドの加工性を改良するための研究が活発に行わ
れており、イオン重合体(イオノマー)に似ているカル
ボキシル基のような官能基をもつポリマーを、金属イオ
ンを用いて重合する。その代表的な例が米国のデュポン
社で開発された“SURLYN”である。しかし、この
重合方法は、ポリオレフィン樹脂の接着性を改良する方
法に主として限られている。
【0010】ガタージ(N.D.Ghatage)らは、アラミド中
に芳香族シラン部分を導入して、熱安定性を維持し、ポ
リマーの溶解性を増加するための方法を記述している。
しかし、このようにして調製されたポリアミドの大部分
は、溶解性があまりよくないという結果を示している。
他の研究分野では、フェニル、フェノキシ、フェニルチ
オ、またはフェニルカルバモイル基のようなペンダント
基を、シリル化ポリアミド主鎖に結合して、アラミドを
調製するが、この場合、アラミドは200 ℃以上のガラス
転移温度(Tg)および優れた溶解性を示すことが知られ
ている。
に芳香族シラン部分を導入して、熱安定性を維持し、ポ
リマーの溶解性を増加するための方法を記述している。
しかし、このようにして調製されたポリアミドの大部分
は、溶解性があまりよくないという結果を示している。
他の研究分野では、フェニル、フェノキシ、フェニルチ
オ、またはフェニルカルバモイル基のようなペンダント
基を、シリル化ポリアミド主鎖に結合して、アラミドを
調製するが、この場合、アラミドは200 ℃以上のガラス
転移温度(Tg)および優れた溶解性を示すことが知られ
ている。
【0011】本発明者らは、新規の芳香族ポリアミドを
調製する際に上述した直接重合を開発するための研究を
行ない、ポリマーが優れた熱的、機械的性質、並びに優
れた加工性と溶媒への溶解性をもつように、既知の芳香
族ポリアミド類の分子鎖にペンダントシリル基を導入す
ることによって、本発明を完成した。本発明の目的は、
報告されている芳香族ポリアミド類の問題点を解決する
ために、ペンダントシリル基をポリマーの側鎖に導入す
ることによって、報告されている樹脂と同程度の良い物
理的性質を持ち、さらに耐熱性、溶媒への溶解性、溶融
加工性を一層改良したことを特徴とする新規の芳香族ポ
リアミド類を提供することである。
調製する際に上述した直接重合を開発するための研究を
行ない、ポリマーが優れた熱的、機械的性質、並びに優
れた加工性と溶媒への溶解性をもつように、既知の芳香
族ポリアミド類の分子鎖にペンダントシリル基を導入す
ることによって、本発明を完成した。本発明の目的は、
報告されている芳香族ポリアミド類の問題点を解決する
ために、ペンダントシリル基をポリマーの側鎖に導入す
ることによって、報告されている樹脂と同程度の良い物
理的性質を持ち、さらに耐熱性、溶媒への溶解性、溶融
加工性を一層改良したことを特徴とする新規の芳香族ポ
リアミド類を提供することである。
【0012】
【課題を解決するための手段】本発明は次の式(I)で
表される新規の芳香族ポリアミドである。
表される新規の芳香族ポリアミドである。
【0013】
【化4】
【0014】ペンダントシリル基を有する本発明による
式(I)の芳香族ポリアミド樹脂は0.1 〜1.0 dl/gのイ
ンヘレント粘度、初期重量と比較して358 〜500 ℃で10
重量%の減量、240 〜350 ℃のガラス転移点を示し、ジ
メチルホルムアミド(以下、DMFと呼ぶ)、NMPの
ような有機溶媒に容易に溶解する。芳香族ジカルボン
酸、すなわち、本発明による新規の芳香族ポリアミドの
調製に使用される酸モノマーは、次の式(II)から式
(VI)の化合物を含む。すなわち、2−トリメチルシリ
ルテレフタル酸(II)(以下、TSTAと呼ぶ)、2,
2’−ビストリメチルシリルテレフタル酸(III)(以
下、BTSTAと呼ぶ)、5−トリメチルシリルイソフ
タル酸(IV)(以下TSIAと呼ぶ)、5−ジメチルフ
ェニルシリルイソフタル酸(V)(以下、DMSIAと
呼ぶ)、および5−トリフェニルシリルイソフタル酸
(VI) (以下、TPSIAと呼ぶ)である。
式(I)の芳香族ポリアミド樹脂は0.1 〜1.0 dl/gのイ
ンヘレント粘度、初期重量と比較して358 〜500 ℃で10
重量%の減量、240 〜350 ℃のガラス転移点を示し、ジ
メチルホルムアミド(以下、DMFと呼ぶ)、NMPの
ような有機溶媒に容易に溶解する。芳香族ジカルボン
酸、すなわち、本発明による新規の芳香族ポリアミドの
調製に使用される酸モノマーは、次の式(II)から式
(VI)の化合物を含む。すなわち、2−トリメチルシリ
ルテレフタル酸(II)(以下、TSTAと呼ぶ)、2,
2’−ビストリメチルシリルテレフタル酸(III)(以
下、BTSTAと呼ぶ)、5−トリメチルシリルイソフ
タル酸(IV)(以下TSIAと呼ぶ)、5−ジメチルフ
ェニルシリルイソフタル酸(V)(以下、DMSIAと
呼ぶ)、および5−トリフェニルシリルイソフタル酸
(VI) (以下、TPSIAと呼ぶ)である。
【0015】前記酸モノマーを、式(VII)ないし式
(X)の芳香族ジアミン、すなわちp−フェニレンジア
ミン(VII)(以下、PPDAと呼ぶ)、m−フェニレン
ジアミン(VIII) (以下、MPDAと呼ぶ)、オキシジ
アニリン(IX) (以下、ODAと呼ぶ)、およびメチレ
ンジアニリン(X)(以下、MDAと呼ぶ)を用いて、
直接縮合して重合し、そして新規の芳香族ポリアミドを
調製する。
(X)の芳香族ジアミン、すなわちp−フェニレンジア
ミン(VII)(以下、PPDAと呼ぶ)、m−フェニレン
ジアミン(VIII) (以下、MPDAと呼ぶ)、オキシジ
アニリン(IX) (以下、ODAと呼ぶ)、およびメチレ
ンジアニリン(X)(以下、MDAと呼ぶ)を用いて、
直接縮合して重合し、そして新規の芳香族ポリアミドを
調製する。
【0016】
【化5】
【0017】直接縮合重合は、攪拌しながら100 〜120
℃、望ましくは100 〜110 ℃の温度で行われる。ペンダ
ントシリル基を有する芳香族ジカルボン酸、すなわち酸
モノマーとして用いられるTSTA、BTSTA、TS
IA、DMSIAおよびTPSIAは、反応経路(A)
に示すように、三工程で調製されるが、その詳しい工程
を次に説明する。
℃、望ましくは100 〜110 ℃の温度で行われる。ペンダ
ントシリル基を有する芳香族ジカルボン酸、すなわち酸
モノマーとして用いられるTSTA、BTSTA、TS
IA、DMSIAおよびTPSIAは、反応経路(A)
に示すように、三工程で調製されるが、その詳しい工程
を次に説明する。
【0018】まず、ハロゲン金属交換反応では、ハロゲ
ン化キシレンとn−ブチルリチウムを反応させて、リチ
オキシレン中間体を与え、得られた中間体をアルキルシ
リルクロリドと反応させて、式(A−1)のシリル化キ
シレンを与える。これにより得られたシリル化キシレン
誘導体を過マンガン酸カリウム−ピリジン水溶液中で酸
化し、TSTA、BTSTA、TSIA、DMSIA、
およびTPSIAのような芳香族ジカルボン酸を得る。
ン化キシレンとn−ブチルリチウムを反応させて、リチ
オキシレン中間体を与え、得られた中間体をアルキルシ
リルクロリドと反応させて、式(A−1)のシリル化キ
シレンを与える。これにより得られたシリル化キシレン
誘導体を過マンガン酸カリウム−ピリジン水溶液中で酸
化し、TSTA、BTSTA、TSIA、DMSIA、
およびTPSIAのような芳香族ジカルボン酸を得る。
【0019】
【化6】
【0020】式中のR1 は−Si(CH3)3およびR2 はH、
パラ二酸〔TSTA〕;またはR1 およびR2 は−Si(C
H3)3、パラ二酸〔BTSTA〕;またはR1 は−Si(C
H3)3およびR2 はH、メタ二酸〔TSIA〕;またはR
1 は−Si(CH3)2C6H5およびR2 はH、メタ二酸〔DMS
IA〕;またはR1 は−Si(C6H5)3 およびR2 はH、メ
タ二酸〔TPSIA〕を示す。
パラ二酸〔TSTA〕;またはR1 およびR2 は−Si(C
H3)3、パラ二酸〔BTSTA〕;またはR1 は−Si(C
H3)3およびR2 はH、メタ二酸〔TSIA〕;またはR
1 は−Si(CH3)2C6H5およびR2 はH、メタ二酸〔DMS
IA〕;またはR1 は−Si(C6H5)3 およびR2 はH、メ
タ二酸〔TPSIA〕を示す。
【0021】さらに詳述すると、2−ブロモ−p−キシ
レン(または5−ブロモ−m−キシレン)を0℃にて5
時間、n−ブチルリチウムと反応させ、次いでアルキル
またはアリールシリルクロリドを除々に添加し、続いて
24時間さらに反応させて、式(A−1)のシリル化キシ
レンを与える。式(A−2)の芳香族ジカルボン酸はシ
リル化キシレンを過マンガン酸カリウムおよびピリジン
の存在下で還流温度にて酸化して得られる。
レン(または5−ブロモ−m−キシレン)を0℃にて5
時間、n−ブチルリチウムと反応させ、次いでアルキル
またはアリールシリルクロリドを除々に添加し、続いて
24時間さらに反応させて、式(A−1)のシリル化キシ
レンを与える。式(A−2)の芳香族ジカルボン酸はシ
リル化キシレンを過マンガン酸カリウムおよびピリジン
の存在下で還流温度にて酸化して得られる。
【0022】
【発明の効果】本発明によるペンダントシリル基をもつ
モノマーから調製された芳香族ポリアミド樹脂は、硫酸
のような強酸にのみ溶解し通常の有機溶媒には溶解しな
いテレフタル酸(以下、TPAと呼ぶ)またはイソフタ
ル酸(以下、IPAと呼ぶ)から調製された従来のもの
と比較すると、優れた溶解性を示す。
モノマーから調製された芳香族ポリアミド樹脂は、硫酸
のような強酸にのみ溶解し通常の有機溶媒には溶解しな
いテレフタル酸(以下、TPAと呼ぶ)またはイソフタ
ル酸(以下、IPAと呼ぶ)から調製された従来のもの
と比較すると、優れた溶解性を示す。
【0023】本発明のポリマーからのフィルムは、溶液
流延法によって容易に調製され、またコーティング剤と
して有用でもある。また、本発明によって調製された芳
香族ポリアミド樹脂は、特に、メタの位置にペンダント
シリル基をもつTSIA、DMSIA、およびTPSI
Aのようなモノマーの場合、優れた熱安定性を示し、空
間的に安定した位置で嵩高の基を導入するため、類似の
構造の非置換芳香族ポリアミドよりも高いTgを示し、
従来の芳香族ポリアミドよりは、高い温度で利用するこ
とができる可能性を示している。さらに、本発明の芳香
族ポリアミドは、ガラスファイバーとブレンドしたとき
に、優れた電気的性質、難燃性、および接着強度を示
す。
流延法によって容易に調製され、またコーティング剤と
して有用でもある。また、本発明によって調製された芳
香族ポリアミド樹脂は、特に、メタの位置にペンダント
シリル基をもつTSIA、DMSIA、およびTPSI
Aのようなモノマーの場合、優れた熱安定性を示し、空
間的に安定した位置で嵩高の基を導入するため、類似の
構造の非置換芳香族ポリアミドよりも高いTgを示し、
従来の芳香族ポリアミドよりは、高い温度で利用するこ
とができる可能性を示している。さらに、本発明の芳香
族ポリアミドは、ガラスファイバーとブレンドしたとき
に、優れた電気的性質、難燃性、および接着強度を示
す。
【0024】
【実施例】以下、実施例に基づき本発明をさらに詳細に
説明する。 調製例1: 2−トリメチルシリル−p−キシレン(T
STX) 1.0 Mの2−ブロモ−p−キシレンのジエチルエーテル
溶液を0度で攪拌しながら、n−ブチルリチウムのヘキ
サン溶液を徐々に添加し、混合物を5時間攪拌した。こ
の反応混合物に、1.0 Mのクロロトリメチルシランを滴
下し、24時間攪拌した。溶媒を減圧下に除去し、残渣を
真空下に蒸留し、無色の状態で標題の化合物(TST
X)を与えた。生成物の構造は赤外スペクトル、核磁気
共鳴スペクトルで同定し、その結果を表1にまとめて示
す。
説明する。 調製例1: 2−トリメチルシリル−p−キシレン(T
STX) 1.0 Mの2−ブロモ−p−キシレンのジエチルエーテル
溶液を0度で攪拌しながら、n−ブチルリチウムのヘキ
サン溶液を徐々に添加し、混合物を5時間攪拌した。こ
の反応混合物に、1.0 Mのクロロトリメチルシランを滴
下し、24時間攪拌した。溶媒を減圧下に除去し、残渣を
真空下に蒸留し、無色の状態で標題の化合物(TST
X)を与えた。生成物の構造は赤外スペクトル、核磁気
共鳴スペクトルで同定し、その結果を表1にまとめて示
す。
【0025】調製例2: 2,2’−ビストリメチルシ
リル−p−キシレン(BTSTX) 調製例1に述べたものと同じ方法で、2,5−ジブロモ
−p−キシレンをクロロトリメチルシランと反応させ
て、BTSTXを得た。生成物の収率および性質は表1
にまとめて示す。 調製例3: 5−トリメチルシリル−m−キシレン(T
SIX) 調製例1に述べたものと同じ方法で、5−ブロモ−m−
キシレンをクロロトリメチルシランと反応させて、TS
IXを得た。生成物の収率および性質は表1にまとめて
示す。
リル−p−キシレン(BTSTX) 調製例1に述べたものと同じ方法で、2,5−ジブロモ
−p−キシレンをクロロトリメチルシランと反応させ
て、BTSTXを得た。生成物の収率および性質は表1
にまとめて示す。 調製例3: 5−トリメチルシリル−m−キシレン(T
SIX) 調製例1に述べたものと同じ方法で、5−ブロモ−m−
キシレンをクロロトリメチルシランと反応させて、TS
IXを得た。生成物の収率および性質は表1にまとめて
示す。
【0026】調製例4: 5−ジメチルフェニルシリル
−m−キシレン(DMSIX) 調製例1に述べたものと同じ方法で、5−ブロモ−m−
キシレンをクロロジメチルフェニルシランと反応させ
て、DMSIXを得た。生成物の収率および性質は表1
にまとめて示す。 調製例5: 5−トリフェニルシリル−m−キシレン
(TPSIX) 調製例1に述べたものと同じ方法で、5−ブロモ−m−
キシレンをクロロトリフェニルシランと反応させて、T
PSIXを得た。生成物の収率および性質は表1にまと
めて示す。
−m−キシレン(DMSIX) 調製例1に述べたものと同じ方法で、5−ブロモ−m−
キシレンをクロロジメチルフェニルシランと反応させ
て、DMSIXを得た。生成物の収率および性質は表1
にまとめて示す。 調製例5: 5−トリフェニルシリル−m−キシレン
(TPSIX) 調製例1に述べたものと同じ方法で、5−ブロモ−m−
キシレンをクロロトリフェニルシランと反応させて、T
PSIXを得た。生成物の収率および性質は表1にまと
めて示す。
【0027】 調製例6: TSTXの酸化によるTSTAの合成 攪拌機、温度計、還流冷却機、および滴下漏斗を備えた
反応容器に、0.1 MのTSTX、ピリジンおよび水を添
加し、混合物を還流温度まで加熱した。溶液に0.6Mの
過マンガン酸カリウムを滴下漏斗から徐々に添加しなが
ら、1時間、還流温度にて反応させた。
反応容器に、0.1 MのTSTX、ピリジンおよび水を添
加し、混合物を還流温度まで加熱した。溶液に0.6Mの
過マンガン酸カリウムを滴下漏斗から徐々に添加しなが
ら、1時間、還流温度にて反応させた。
【0028】二酸化マンガンとピリジンを反応混合物か
ら除去し、溶液のpHを1.0 に調整し、濾過してTST
Aを得た。その結果を表1にまとめて示す。 調製例7:調製例6に述べたものと同じ方法で、BTS
IXをBTSTAに酸化し、その結果を表1にまとめて
示す。
ら除去し、溶液のpHを1.0 に調整し、濾過してTST
Aを得た。その結果を表1にまとめて示す。 調製例7:調製例6に述べたものと同じ方法で、BTS
IXをBTSTAに酸化し、その結果を表1にまとめて
示す。
【0029】調製例8:調製例6に述べたものと同じ方
法で、TSIXをTSIAに酸化し、その結果を表1に
まとめて示す。 調製例9:調製例6に述べたものと同じ方法で、DMS
IXをDMSIAに酸化し、その結果を表1にまとめて
示す。
法で、TSIXをTSIAに酸化し、その結果を表1に
まとめて示す。 調製例9:調製例6に述べたものと同じ方法で、DMS
IXをDMSIAに酸化し、その結果を表1にまとめて
示す。
【0030】調製例10:調製例6に述べたものと同じ方
法で、TPSIXをTPSIAに酸化し、その結果を表
1にまとめて示す。
法で、TPSIXをTPSIAに酸化し、その結果を表
1にまとめて示す。
【0031】
【表1】
【0032】実施例1 攪拌機、温度調節器、窒素導入装置、滴下漏斗および冷
却装置を備えた250mlの反応器に、11.9g(0.05モル) の
TSTA、5.4g(0.05 モル) のPPDAおよび5.0gの塩
化リチウムを添加し、25mlのピリジンと100ml のNMP
に溶解した31.0g(O.1 モル) のトリフェニルホスファイ
トを混合した。窒素ガスを上記混合物に通して、3時間
直接縮合重合を行いながら、温度調節器を用いて反応混
合物の温度を100 〜110 ℃に調節した。重合を完了した
とき、反応混合物を5リットルの沈澱用メタノールに注
加し、得られたポリマーを濾過によって分離した。
却装置を備えた250mlの反応器に、11.9g(0.05モル) の
TSTA、5.4g(0.05 モル) のPPDAおよび5.0gの塩
化リチウムを添加し、25mlのピリジンと100ml のNMP
に溶解した31.0g(O.1 モル) のトリフェニルホスファイ
トを混合した。窒素ガスを上記混合物に通して、3時間
直接縮合重合を行いながら、温度調節器を用いて反応混
合物の温度を100 〜110 ℃に調節した。重合を完了した
とき、反応混合物を5リットルの沈澱用メタノールに注
加し、得られたポリマーを濾過によって分離した。
【0033】ポリマーを数回、水とアセトンで洗浄し、
12時間80℃にて減圧下に乾燥し、粉末状のポリマー(P
−I−a)を得た。収率は98.1%であり、濃硫酸溶液
中、0.5g/dl の濃度として30℃にて測定した固有粘度は
0.69dl/gであった。
12時間80℃にて減圧下に乾燥し、粉末状のポリマー(P
−I−a)を得た。収率は98.1%であり、濃硫酸溶液
中、0.5g/dl の濃度として30℃にて測定した固有粘度は
0.69dl/gであった。
【0034】実施例2 実施例1に述べたものと同じ方法で、11.9g(0.05モル)
のTSTAおよび5.4g(0.05モル) のMPDAを、実施
例1と同量の塩化リチウム、トリフェニルホスファイ
ト、ピリジンおよびNMPに溶解し、得られた混合物を
重合し、芳香族ポリアミド樹脂(P−I−b)を得た。
収率は66.7%であり、濃硫酸溶液中、0.5g/dl の濃度と
して30℃にて測定した固有粘度は0.18dl/gであった。
のTSTAおよび5.4g(0.05モル) のMPDAを、実施
例1と同量の塩化リチウム、トリフェニルホスファイ
ト、ピリジンおよびNMPに溶解し、得られた混合物を
重合し、芳香族ポリアミド樹脂(P−I−b)を得た。
収率は66.7%であり、濃硫酸溶液中、0.5g/dl の濃度と
して30℃にて測定した固有粘度は0.18dl/gであった。
【0035】実施例3 実施例1に述べたものと同じ方法で、11.9g(0.05モル)
のTSTAおよび10.0g(0.05モル) のODAを、実施例
1と同量の塩化リチウム、トリフェニルホスファイト、
ピリジンおよびNMPに溶解し、得られた混合物を重合
し、芳香族ポリアミド樹脂(P−I−c)を得た。収率
は81.3%であり、濃硫酸溶液中、0.5g/dl の濃度として
30℃にて測定した固有粘度は0.80dl/gであった。
のTSTAおよび10.0g(0.05モル) のODAを、実施例
1と同量の塩化リチウム、トリフェニルホスファイト、
ピリジンおよびNMPに溶解し、得られた混合物を重合
し、芳香族ポリアミド樹脂(P−I−c)を得た。収率
は81.3%であり、濃硫酸溶液中、0.5g/dl の濃度として
30℃にて測定した固有粘度は0.80dl/gであった。
【0036】実施例4 実施例1に述べたものと同じ方法で、11.9g(0.05モル)
のTSTAおよび9.9g(0.05モル) のMDAを、実施例
1と同量の塩化リチウム、トリフェニルホスファイト、
ピリジンおよびNMPに溶解し、得られた混合物を重合
し、芳香族ポリアミド樹脂(P−I−d)を得た。収率
は77.3%であり、濃硫酸溶液中、0.5g/dl の濃度として
30℃にて測定した固有粘度は0.58dl/gであった。
のTSTAおよび9.9g(0.05モル) のMDAを、実施例
1と同量の塩化リチウム、トリフェニルホスファイト、
ピリジンおよびNMPに溶解し、得られた混合物を重合
し、芳香族ポリアミド樹脂(P−I−d)を得た。収率
は77.3%であり、濃硫酸溶液中、0.5g/dl の濃度として
30℃にて測定した固有粘度は0.58dl/gであった。
【0037】実施例5 実施例1に述べたものと同じ方法で15.5g(0.05モル)の
BTSTAおよび5.4g(0.05モル) のPPDAを、実施
例1と同量の塩化リチウム、トリフェニルホスファイ
ト、ピリジンおよびNMPに溶解し、得られた混合物を
重合し、芳香族ポリアミド樹脂(P−II−a)を得た。
収率は9.16%であり、濃硫酸溶液中、0.5g/dl の濃度と
して30℃にて測定した固有粘度は0.83dl/gであった。
BTSTAおよび5.4g(0.05モル) のPPDAを、実施
例1と同量の塩化リチウム、トリフェニルホスファイ
ト、ピリジンおよびNMPに溶解し、得られた混合物を
重合し、芳香族ポリアミド樹脂(P−II−a)を得た。
収率は9.16%であり、濃硫酸溶液中、0.5g/dl の濃度と
して30℃にて測定した固有粘度は0.83dl/gであった。
【0038】実施例6 実施例1に述べたものと同じ方法で15.5g(0.05モル)の
BTSTAおよび5.4g(0.05モル) のMPDAを、実施
例1と同量の塩化リチウム、トリフェニルホスファイ
ト、ピリジンおよびNMPに溶解し、得られた混合物を
重合し、芳香族ポリアミド樹脂(P−II−b)を得た。
ポリマーは、モノマーから完全に分離することができな
かったので、純粋な形では得られなかった。
BTSTAおよび5.4g(0.05モル) のMPDAを、実施
例1と同量の塩化リチウム、トリフェニルホスファイ
ト、ピリジンおよびNMPに溶解し、得られた混合物を
重合し、芳香族ポリアミド樹脂(P−II−b)を得た。
ポリマーは、モノマーから完全に分離することができな
かったので、純粋な形では得られなかった。
【0039】実施例7 実施例1に述べたものと同じ方法で15.5g(0.05モル)の
BTSTAおよび10.0g(0.05モル) のODAを、実施例
1と同量の塩化リチウム、トリフェニルホスファイト、
ピリジンおよびNMPに溶解し、得られた混合物を重合
し、芳香族ポリアミド樹脂(P−II−c)を得た。収率
は78.1%であり、濃硫酸溶液中、0.5g/dl の濃度として
30℃にて測定した固有粘度は0.53dl/gであった。
BTSTAおよび10.0g(0.05モル) のODAを、実施例
1と同量の塩化リチウム、トリフェニルホスファイト、
ピリジンおよびNMPに溶解し、得られた混合物を重合
し、芳香族ポリアミド樹脂(P−II−c)を得た。収率
は78.1%であり、濃硫酸溶液中、0.5g/dl の濃度として
30℃にて測定した固有粘度は0.53dl/gであった。
【0040】実施例8 実施例1に述べたものと同じ方法で15.5g(0.05モル)の
BTSTAおよび9.9g(0.05モル) のMDAを、実施例
1と同量の塩化リチウム、トリフェニルホスファイト、
ピリジンおよびNMPに溶解し、得られた混合物を重合
し、芳香族ポリアミド樹脂(P−II−d)を得た。収率
は69.5%であり、濃硫酸溶液中、0.5g/dl の濃度として
30℃にて測定した固有粘度は0.35dl/gであった。
BTSTAおよび9.9g(0.05モル) のMDAを、実施例
1と同量の塩化リチウム、トリフェニルホスファイト、
ピリジンおよびNMPに溶解し、得られた混合物を重合
し、芳香族ポリアミド樹脂(P−II−d)を得た。収率
は69.5%であり、濃硫酸溶液中、0.5g/dl の濃度として
30℃にて測定した固有粘度は0.35dl/gであった。
【0041】実施例9 実施例1に述べたものと同じ方法で、11.9g(0.05モル)
のTSIAおよび5.4g(0.05モル) のPPDAを、実施
例1と同量の塩化リチウム、トリフェニルホスファイ
ト、ピリジンおよびNMPに溶解し、得られた混合物を
重合し、芳香族ポリアミド樹脂(P−III −a)を得
た。収率は96.8%であり、濃硫酸溶液中、0.5g/dl の濃
度として30℃にて測定した固有粘度は0.94dl/gであっ
た。
のTSIAおよび5.4g(0.05モル) のPPDAを、実施
例1と同量の塩化リチウム、トリフェニルホスファイ
ト、ピリジンおよびNMPに溶解し、得られた混合物を
重合し、芳香族ポリアミド樹脂(P−III −a)を得
た。収率は96.8%であり、濃硫酸溶液中、0.5g/dl の濃
度として30℃にて測定した固有粘度は0.94dl/gであっ
た。
【0042】実施例10 実施例1に述べたものと同じ方法で、11.9g(0.05モル)
のTSIAおよび5.4g(0.05モル) のMPDAを、実施
例1と同量の塩化リチウム、トリフェニルホスファイ
ト、ピリジンおよびNMPに溶解し、得られた混合物を
重合し、芳香族ポリアミド樹脂(P−III −b)を得
た。収率は90.3%であり、濃硫酸溶液中、0.5g/dl の濃
度として30℃にて測定した固有粘度は0.71dl/gであっ
た。
のTSIAおよび5.4g(0.05モル) のMPDAを、実施
例1と同量の塩化リチウム、トリフェニルホスファイ
ト、ピリジンおよびNMPに溶解し、得られた混合物を
重合し、芳香族ポリアミド樹脂(P−III −b)を得
た。収率は90.3%であり、濃硫酸溶液中、0.5g/dl の濃
度として30℃にて測定した固有粘度は0.71dl/gであっ
た。
【0043】実施例11 実施例1に述べたものと同じ方法で、11.9g(0.05モル)
のTSIAおよび10.0g(0.05モル) のODAを、実施例
1と同量の塩化リチウム、トリフェニルホスファイト、
ピリジンおよびNMPに溶解し、得られた混合物を重合
し、芳香族ポリアミド樹脂(P−III −c)を得た。収
率は93.0%であり、濃硫酸溶液中、0.5g/dl の濃度とし
て30℃にて測定した固有粘度は0.84dl/gであった。
のTSIAおよび10.0g(0.05モル) のODAを、実施例
1と同量の塩化リチウム、トリフェニルホスファイト、
ピリジンおよびNMPに溶解し、得られた混合物を重合
し、芳香族ポリアミド樹脂(P−III −c)を得た。収
率は93.0%であり、濃硫酸溶液中、0.5g/dl の濃度とし
て30℃にて測定した固有粘度は0.84dl/gであった。
【0044】実施例12 実施例1に述べたものと同じ方法で、11.9g(0.05モル)
のTSIAおよび9.9g(0.05モル) のMDAを、実施例
1と同量の塩化リチウム、トリフェニルホスファイト、
ピリジンおよびNMPに溶解し、得られた混合物を重合
し、芳香族ポリアミド樹脂(P−III −d)を得た。収
率は98.3%であり、濃硫酸溶液中、0.5g/dl の濃度とし
て30℃にて測定した固有粘度は0.78dl/gであった。
のTSIAおよび9.9g(0.05モル) のMDAを、実施例
1と同量の塩化リチウム、トリフェニルホスファイト、
ピリジンおよびNMPに溶解し、得られた混合物を重合
し、芳香族ポリアミド樹脂(P−III −d)を得た。収
率は98.3%であり、濃硫酸溶液中、0.5g/dl の濃度とし
て30℃にて測定した固有粘度は0.78dl/gであった。
【0045】実施例13 実施例1に述べたものと同じ方法で15.0g(0.05モル)の
DMSIAおよび5.4g(0.05モル) のPPDAを、実施
例1と同量の塩化リチウム、トリフェニルホスファイ
ト、ピリジンおよびNMPに溶解し、得られた混合物を
重合し、芳香族ポリアミド樹脂(P−IV−a)を得た。
収率は98.6%であり、濃硫酸溶液中、0.5g/dl の濃度と
して30℃にて測定した固有粘度は0.63dl/gであった。
DMSIAおよび5.4g(0.05モル) のPPDAを、実施
例1と同量の塩化リチウム、トリフェニルホスファイ
ト、ピリジンおよびNMPに溶解し、得られた混合物を
重合し、芳香族ポリアミド樹脂(P−IV−a)を得た。
収率は98.6%であり、濃硫酸溶液中、0.5g/dl の濃度と
して30℃にて測定した固有粘度は0.63dl/gであった。
【0046】実施例14 実施例1に述べたものと同じ方法で15.0g(0.05モル)の
DMSIAおよび5.4g(0.05モル) のMPDAを、実施
例1と同量の塩化リチウム、トリフェニルホスファイ
ト、ピリジンおよびNMPに溶解し、得られた混合物を
重合し、芳香族ポリアミド樹脂(P−IV−b)を得た。
収率は93.2%であり、濃硫酸溶液中、0.5g/dl の濃度と
して30℃にて測定した固有粘度は0.27dl/gであった。
DMSIAおよび5.4g(0.05モル) のMPDAを、実施
例1と同量の塩化リチウム、トリフェニルホスファイ
ト、ピリジンおよびNMPに溶解し、得られた混合物を
重合し、芳香族ポリアミド樹脂(P−IV−b)を得た。
収率は93.2%であり、濃硫酸溶液中、0.5g/dl の濃度と
して30℃にて測定した固有粘度は0.27dl/gであった。
【0047】実施例15 実施例1に述べたものと同じ方法で15.0g(0.05モル)の
DMSIAおよび10.0g(0.05モル) のODAを、実施例
1と同量の塩化リチウム、トリフェニルホスファイト、
ピリジンおよびNMPに溶解し、得られた混合物を重合
し、芳香族ポリアミド樹脂(P−IV−c)を得た。収率
は 100%であり、濃硫酸溶液中、0.5g/dl の濃度として
30℃にて測定した固有粘度は0.66dl/gであった。
DMSIAおよび10.0g(0.05モル) のODAを、実施例
1と同量の塩化リチウム、トリフェニルホスファイト、
ピリジンおよびNMPに溶解し、得られた混合物を重合
し、芳香族ポリアミド樹脂(P−IV−c)を得た。収率
は 100%であり、濃硫酸溶液中、0.5g/dl の濃度として
30℃にて測定した固有粘度は0.66dl/gであった。
【0048】実施例16 実施例1に述べたものと同じ方法で15.0g(0.05モル)の
DMSIAおよび9.9g(0.05モル) のMDAを、実施例
1と同量の塩化リチウム、トリフェニルホスファイト、
ピリジンおよびNMPに溶解し、得られた混合物を重合
し、芳香族ポリアミド樹脂(P−IV−d)を与えた。収
率は96.3%であり、濃硫酸溶液中、0.5g/dl の濃度とし
て30℃にて測定した固有粘度は0.50dl/gであった。
DMSIAおよび9.9g(0.05モル) のMDAを、実施例
1と同量の塩化リチウム、トリフェニルホスファイト、
ピリジンおよびNMPに溶解し、得られた混合物を重合
し、芳香族ポリアミド樹脂(P−IV−d)を与えた。収
率は96.3%であり、濃硫酸溶液中、0.5g/dl の濃度とし
て30℃にて測定した固有粘度は0.50dl/gであった。
【0049】実施例17 実施例1に述べたものと同じ方法で21.2g(0.05モル)の
TPSIAおよび5.4g(0.05モル) のPPDAを、実施
例1と同量の塩化リチウム、トリフェニルホスファイ
ト、ピリジンおよびNMPに溶解し、得られた混合物を
重合し、芳香族ポリアミド樹脂(P−V−a)を得た。
収率は92.7%であり、濃硫酸溶液中、0.5g/dl の濃度と
して30℃にて測定した固有粘度は0.31dl/gであった。
TPSIAおよび5.4g(0.05モル) のPPDAを、実施
例1と同量の塩化リチウム、トリフェニルホスファイ
ト、ピリジンおよびNMPに溶解し、得られた混合物を
重合し、芳香族ポリアミド樹脂(P−V−a)を得た。
収率は92.7%であり、濃硫酸溶液中、0.5g/dl の濃度と
して30℃にて測定した固有粘度は0.31dl/gであった。
【0050】実施例18 実施例1に述べたものと同じ方法で21.2g(0.05モル)の
TPSIAおよび5.4g(0.05モル) のMPDAを、実施
例1と同量の塩化リチウム、トリフェニルホスファイ
ト、ピリジンおよびNMPに溶解し、得られた混合物を
重合し、芳香族ポリアミド樹脂(P−V−b)を得た。
収率は79.3%であり、濃硫酸溶液中、0.5g/dl の濃度と
して30℃にて測定した固有粘度は0.20dl/gであった。
TPSIAおよび5.4g(0.05モル) のMPDAを、実施
例1と同量の塩化リチウム、トリフェニルホスファイ
ト、ピリジンおよびNMPに溶解し、得られた混合物を
重合し、芳香族ポリアミド樹脂(P−V−b)を得た。
収率は79.3%であり、濃硫酸溶液中、0.5g/dl の濃度と
して30℃にて測定した固有粘度は0.20dl/gであった。
【0051】実施例19 実施例1に述べたものと同じ方法で21.2g(0.05モル)の
TPSIAおよび10.0g(0.05モル) のODAを、実施例
1と同量の塩化リチウム、トリフェニルホスファイト、
ピリジンおよびNMPに溶解し、得られた混合物を重合
し、芳香族ポリアミド樹脂(P−V−c)を得た。収率
は86.2%であり、濃硫酸溶液中、0.5g/dl の濃度として
30℃にて測定した固有粘度は0.24dl/gであった。
TPSIAおよび10.0g(0.05モル) のODAを、実施例
1と同量の塩化リチウム、トリフェニルホスファイト、
ピリジンおよびNMPに溶解し、得られた混合物を重合
し、芳香族ポリアミド樹脂(P−V−c)を得た。収率
は86.2%であり、濃硫酸溶液中、0.5g/dl の濃度として
30℃にて測定した固有粘度は0.24dl/gであった。
【0052】実施例20 実施例1に述べたものと同じ方法で21.2g(0.05モル)の
TPSIAおよび9.9g(0.05モル) のMDAを、実施例
1と同量の塩化リチウム、トリフェニルホスファイト、
ピリジンおよびNMPに溶解し、得られた混合物を重合
し、芳香族ポリアミド樹脂(P−V−d)を得た。収率
は86.5%であり、濃硫酸溶液中、0.5g/dl の濃度として
30℃にて測定した固有粘度は0.22dl/gであった。 〔溶解度〕次の表2は上記実施例によって調製された芳
香族ポリアミド樹脂の溶解度についての実験結果をまと
めて示すものである。
TPSIAおよび9.9g(0.05モル) のMDAを、実施例
1と同量の塩化リチウム、トリフェニルホスファイト、
ピリジンおよびNMPに溶解し、得られた混合物を重合
し、芳香族ポリアミド樹脂(P−V−d)を得た。収率
は86.5%であり、濃硫酸溶液中、0.5g/dl の濃度として
30℃にて測定した固有粘度は0.22dl/gであった。 〔溶解度〕次の表2は上記実施例によって調製された芳
香族ポリアミド樹脂の溶解度についての実験結果をまと
めて示すものである。
【0053】
【表2】
【0054】各種溶媒中でのペンダントシリル基を有す
る芳香族ポリアミドの溶解性の結果から、本発明によっ
て調製されたポリマーは、NMP、DMFおよびジメチ
ルスルホキシドのような強く電子を供与する溶媒中で優
れた溶解性を示し、室温でm−クレゾールまたはピリジ
ンに完全に溶解した。その結果、ポリアミドの溶解性
は、ポリマーに嵩高の側鎖を導入することによって著し
く改善され、フィルムをDMF溶液から調製できた。同
時に、溶解性の増大はポリマーの加工またはその用途の
拡大に良い影響を与えることが期待される。
る芳香族ポリアミドの溶解性の結果から、本発明によっ
て調製されたポリマーは、NMP、DMFおよびジメチ
ルスルホキシドのような強く電子を供与する溶媒中で優
れた溶解性を示し、室温でm−クレゾールまたはピリジ
ンに完全に溶解した。その結果、ポリアミドの溶解性
は、ポリマーに嵩高の側鎖を導入することによって著し
く改善され、フィルムをDMF溶液から調製できた。同
時に、溶解性の増大はポリマーの加工またはその用途の
拡大に良い影響を与えることが期待される。
【0055】〔分子量の熱分析〕表3に見られるよう
に、芳香族ポリアミド樹脂は、熱安定性に明らかに優れ
ている。I、IIシリーズのポリマーはガラス転移点を示
さないが、メタの位置で置換されている III〜Vシリー
ズのポリマーは 240〜350 ℃のガラス転移温度を示す。
に、芳香族ポリアミド樹脂は、熱安定性に明らかに優れ
ている。I、IIシリーズのポリマーはガラス転移点を示
さないが、メタの位置で置換されている III〜Vシリー
ズのポリマーは 240〜350 ℃のガラス転移温度を示す。
【0056】このガラス転移温度は、不飽和ポリアミド
のそれよりも比較的高い値であり、これは、嵩高の側鎖
を導入したため、分子の剛性が高められた結果であると
考えられる。熱重量分析における10重量%の損量の温度
範囲は、約 358〜500 ℃であり、約 700℃での残留物重
量は明らかに高い値、すなわち初期重量の46〜66%であ
った。
のそれよりも比較的高い値であり、これは、嵩高の側鎖
を導入したため、分子の剛性が高められた結果であると
考えられる。熱重量分析における10重量%の損量の温度
範囲は、約 358〜500 ℃であり、約 700℃での残留物重
量は明らかに高い値、すなわち初期重量の46〜66%であ
った。
【0057】難燃性もまた、ハロゲン原子で置換された
芳香族ポリアミドのそれよりも高い残留物重量を示し、
優れていた。従って、耐熱性および難燃性における改良
によって、樹脂を高温で使用できることが期待される。
芳香族ポリアミドのそれよりも高い残留物重量を示し、
優れていた。従って、耐熱性および難燃性における改良
によって、樹脂を高温で使用できることが期待される。
【0058】
【表3】
【図1】図1は、5−トリメチルシリルイソフタル酸
(TSIA)のIRと 1H−NMRのスペクトル図。
(TSIA)のIRと 1H−NMRのスペクトル図。
【図2】図2は、本発明の実施例11のP−III −cのI
Rと 1H−NMRのスペクトル図。
Rと 1H−NMRのスペクトル図。
【図3】図3は、P−III −a、P−IV−b、P−V−
cのDSC曲線を示す図。
cのDSC曲線を示す図。
【図4】図4は、本発明の実施例によるP−I−a、P
−III −cおよびP−IV−dのTGA曲線を示す図。
−III −cおよびP−IV−dのTGA曲線を示す図。
Claims (6)
- 【請求項1】 ペンダントシリル基を有する次の一般式
(I)で表される芳香族ポリアミド樹脂。 【化1】 - 【請求項2】 前記ポリアミド樹脂のインヘレント粘度
が0.1 〜1.0 dl/gである請求項1記載のポリアミド樹
脂。 - 【請求項3】 前記ポリアミド樹脂が358 〜500 ℃にて
初期重量の10%の重量減少を示し、240 〜350 ℃にてガ
ラス転移点を示す請求項1記載のポリアミド樹脂。 - 【請求項4】 前記ポリアミド樹脂が室温にて硫酸、D
MFまたはNMPのような極性溶媒に完全に溶解する請
求項1記載のポリアミド樹脂。 - 【請求項5】 次の一般式(I)で表される芳香族ポリ
アミド樹脂を調製するに当たり、次式(II)の2−トリ
メチルシリルテレフタル酸、次式(III)の2,2' −ビ
ストリメチルシリルテレフタル酸、次式(IV)の5−ト
リメチルシリルイソフタル酸、次式(V)のジメチルフ
ェニルシリルイソフタル酸、および次式(VI)のトリフ
ェニルシリルイソフタル酸から選ばれる芳香族ジカルボ
ン酸成分と、次式(VII)のp−フェニレンジアミン、次
式(VIII)のm−フェニレンジアミン、次式(IX)のオ
キシジアニリン、および次式(X)のメチレンジアニリ
ンから選ばれる芳香族ジアミン成分とを反応させて縮合
重合を行うことを特徴とする芳香族ポリアミド樹脂の調
製方法。 【化2】 【化3】 - 【請求項6】 前記直接の縮合重合反応を、攪拌しなが
ら100 〜120 ℃の温度で行う請求項5記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR4062 | 1991-03-14 | ||
| KR1019910004062A KR940007322B1 (ko) | 1991-03-14 | 1991-03-14 | 신규한 방향족 폴리아미드와 그의 제조방법 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05156005A JPH05156005A (ja) | 1993-06-22 |
| JPH0655813B2 true JPH0655813B2 (ja) | 1994-07-27 |
Family
ID=19312087
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4089306A Expired - Fee Related JPH0655813B2 (ja) | 1991-03-14 | 1992-03-16 | 芳香族ポリアミド類およびその調製方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5243010A (ja) |
| JP (1) | JPH0655813B2 (ja) |
| KR (1) | KR940007322B1 (ja) |
| DE (1) | DE4208005C2 (ja) |
Families Citing this family (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5616757A (en) * | 1993-04-08 | 1997-04-01 | Bausch & Lomb Incorporated | Organosilicon-containing materials useful for biomedical devices |
| US5919441A (en) * | 1996-04-01 | 1999-07-06 | Colgate-Palmolive Company | Cosmetic composition containing thickening agent of siloxane polymer with hydrogen-bonding groups |
| US5874069A (en) * | 1997-01-24 | 1999-02-23 | Colgate-Palmolive Company | Cosmetic composition containing silicon-modified amides as thickening agents and method of forming same |
| US20050028979A1 (en) * | 1996-11-27 | 2005-02-10 | Brannon Harold Dean | Methods and compositions of a storable relatively lightweight proppant slurry for hydraulic fracturing and gravel packing applications |
| US6772838B2 (en) | 1996-11-27 | 2004-08-10 | Bj Services Company | Lightweight particulate materials and uses therefor |
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| US5989531A (en) * | 1998-11-13 | 1999-11-23 | Colgate-Palmolive Company | Antiperspirant formulation for porous applicator |
| US6451295B1 (en) | 2000-08-31 | 2002-09-17 | Colgate-Palmolive Company | Clear antiperspirants and deodorants made with siloxane-based polyamides |
| US6439309B1 (en) * | 2000-12-13 | 2002-08-27 | Bj Services Company | Compositions and methods for controlling particulate movement in wellbores and subterranean formations |
| AU2002331001A1 (en) * | 2001-08-07 | 2003-02-24 | Dow Corning Corporation | Hair and skin care compositions containing siloxane-based polyamide copolymers |
| US20050163736A1 (en) * | 2004-01-27 | 2005-07-28 | Heng Cai | Dual phase stick |
| GB0917802D0 (en) | 2009-10-12 | 2009-11-25 | Sud Off Ltd | Method, composition, device and the use thereof for the reduction in volume of foam |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2722524A (en) * | 1951-09-24 | 1955-11-01 | Du Pont | Synthetic linear condensation polymers containing silicon |
| US3094511A (en) * | 1958-11-17 | 1963-06-18 | Du Pont | Wholly aromatic polyamides |
| US3354123A (en) * | 1963-06-17 | 1967-11-21 | Du Pont | Aromatic polyamides containing the benzophenone nucleus |
| US3287324A (en) * | 1965-05-07 | 1966-11-22 | Du Pont | Poly-meta-phenylene isophthalamides |
| US3671542A (en) * | 1966-06-13 | 1972-06-20 | Du Pont | Optically anisotropic aromatic polyamide dopes |
| US3637607A (en) * | 1969-02-12 | 1972-01-25 | Us Navy | Silicon-containing polyamide |
| US3767756A (en) * | 1972-06-30 | 1973-10-23 | Du Pont | Dry jet wet spinning process |
-
1991
- 1991-03-14 KR KR1019910004062A patent/KR940007322B1/ko not_active Expired - Fee Related
-
1992
- 1992-03-13 DE DE4208005A patent/DE4208005C2/de not_active Expired - Fee Related
- 1992-03-13 US US07/852,075 patent/US5243010A/en not_active Expired - Fee Related
- 1992-03-16 JP JP4089306A patent/JPH0655813B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR940007322B1 (ko) | 1994-08-13 |
| KR920018113A (ko) | 1992-10-21 |
| DE4208005A1 (de) | 1992-09-17 |
| JPH05156005A (ja) | 1993-06-22 |
| DE4208005C2 (de) | 1998-11-19 |
| US5243010A (en) | 1993-09-07 |
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