JPH0659117A - Production of color filter - Google Patents
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- JPH0659117A JPH0659117A JP21526492A JP21526492A JPH0659117A JP H0659117 A JPH0659117 A JP H0659117A JP 21526492 A JP21526492 A JP 21526492A JP 21526492 A JP21526492 A JP 21526492A JP H0659117 A JPH0659117 A JP H0659117A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 電解により荷電する界面活性剤を用いて顔料
を分散したミセルコロイド水溶液中で電解することによ
り、導電体上に顔料膜を形成するという薄膜形成方法を
用い、モザイクパターンを有するカラーフィルターを提
供することにある。
【構成】 該顔料コロイド水溶液中で電解する前に、Ｒ
ＧＢを成膜するためのパターンをそれぞれ、電着レジス
トで形成し、レジストを部分マスクとして用いることを
特徴とし、さらに、電着レジストを用いることで一貫し
た製造ラインを構築できることを特徴とする。
(57) [Abstract] [Purpose] Mosaic using a thin film formation method of forming a pigment film on a conductor by electrolysis in a micelle colloid aqueous solution in which a pigment is dispersed using a surfactant that is charged by electrolysis. It is to provide a color filter having a pattern. [Structure] Before electrolysis in the pigment colloid aqueous solution, R
It is characterized in that each pattern for forming a GB film is formed of an electrodeposition resist and the resist is used as a partial mask, and further, a consistent production line can be constructed by using the electrodeposition resist.
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、液晶表示体に用いるカ
ラーフィルターに関している。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a color filter used for a liquid crystal display.
【０００２】[0002]
【従来の技術】水に不溶性もしくは難溶性の顔料粒子お
よび電界により荷電する界面活性剤および支持電解質を
基本成分とし、該顔料粒子を該界面活性剤で取り囲んだ
顔料のミセルコロイド水溶液を調整し、このミセルを電
解により破壊し、導電体上に顔料粒子を析出させ、顔料
薄膜を形成するという薄膜形成方法を用いて、ＲＧＢ３
原色からなるカラーフィルターを製造し、これを液晶パ
ネル用のカラーフィルターとして使用することを特願し
ている（特開平２−２４６０３号公報）。2. Description of the Prior Art Pigment particles that are insoluble or sparingly soluble in water and a surfactant and a supporting electrolyte that are charged by an electric field are used as basic components to prepare a micellar colloid aqueous solution of a pigment in which the pigment particles are surrounded by the surfactant. RGB3 is formed by a thin film forming method in which the micelles are destroyed by electrolysis to deposit pigment particles on a conductor to form a pigment thin film.
Japanese Patent Application No. 2-24603 is filed for producing a color filter composed of primary colors and using it as a color filter for a liquid crystal panel.
【０００３】しかしながら、本方式によるカラーフィル
ターは、駆動電極をそのまま、顔料膜成膜用電極として
用いているために、ＲＧＢのカラーフィルターパターン
は、ストライプ構造となってしまう。例えば図５のよう
なパターンである。図５のパターンは、パソコン等に用
いる６インチクラス以上の中〜大型画面では、解像度と
しては問題ないが、現在液晶テレビとして用いられてい
る、３から４インチクラスでは、解像度が低下し、画質
が低下してしまう。そこで、一般には図１のような、い
わゆるモザイクパターンが主流となっている。このよう
なモザイクパターンは、本方式によるような成膜方式で
は、原理的に製造不可能である。However, in the color filter according to this method, the driving electrodes are used as they are as the electrodes for forming the pigment film, so that the RGB color filter pattern has a stripe structure. For example, the pattern is as shown in FIG. The pattern of FIG. 5 has no problem in resolution in medium to large screens of 6 inch class or more used for personal computers, etc., but in the 3 to 4 inch class currently used as a liquid crystal television, the resolution decreases and the image quality is improved. Will decrease. Therefore, generally, a so-called mosaic pattern as shown in FIG. 1 is predominant. Such a mosaic pattern cannot be manufactured in principle by the film forming method according to the present method.
【０００４】そこで、本方式の製造方法を用いて、モザ
イクパターンを有するカラーフィルターを作製するため
に、レジストを塗布して、露光、現像によりモザイク状
に開口部を作製し、開口部の電極を本方式のカラーフィ
ルター成膜用電極とする方式を発明し、申請中である
（特願平４−１７５３８２号）。Therefore, in order to manufacture a color filter having a mosaic pattern using the manufacturing method of this method, a resist is applied, and openings are formed in a mosaic shape by exposure and development, and electrodes of the openings are formed. We have invented a method of using this type of color filter film-forming electrode and are applying for it (Japanese Patent Application No. 4-175382).
【０００５】[0005]
【発明が解決しようとする課題】前述のように、本方式
の製造方法を用いて、モザイクパターンを有するカラー
フィルターを作製するために、レジストを塗布して、露
光、現像によりモザイク状に開口部を作製し、開口部の
電極を本方式のカラーフィルター成膜用電極とする方式
を発明し、申請中である（特願平４−１７５３８２
号）。しかしながら、該発明のカラーフィルターの製造
方法を用いてカラーフィルターの製造ラインを構想した
場合、各色成膜前にレジスト形成工程が入るため、レジ
ストを塗布するためのスピンナーあるいは、コーターが
別途必要になる。また、簡易的にスピンナーを用いた場
合、ウェハー当りのレジストの使用量が多くなるという
課題があった。また、さらに、レジストコート自体が、
一枚ずつの処理となるために、工程時間も大幅に長くな
るという課題があった。結果的に、カラーフィルターの
一枚当りのコストが大幅にアップしてしまうという課題
があった。As described above, in order to manufacture a color filter having a mosaic pattern using the manufacturing method of this method, a resist is applied, and the openings are formed in a mosaic shape by exposure and development. Was invented and invented a method in which the electrode of the opening is used as the color filter film-forming electrode of this method, and is being applied for (Japanese Patent Application No. 4-175382).
issue). However, when a color filter manufacturing line is envisioned using the color filter manufacturing method of the present invention, a resist forming step is performed before each color film formation, so a spinner or coater for applying resist is separately required. . Further, when a spinner is simply used, there is a problem that the amount of resist used per wafer increases. In addition, the resist coat itself
Since the processing is performed one by one, there is a problem that the process time is significantly lengthened. As a result, there is a problem that the cost per sheet of color filter is significantly increased.
【０００６】本発明の目的とするところは、本方式にお
いて、レジストの塗布時に顔料膜形成、レジスト形成を
含めた、ＲＧＢ形成までをすべて湿式のバッチ処理でで
きるように統一し、使用するレジスト量を低減し、また
一貫した製造ラインを構築することにより、製造時間お
よび製造コストの大幅ダウンを達成できることを大きな
狙いとするものである。The object of the present invention is to unify the amount of resist to be used in the present system so that all wet processes such as pigment film formation and resist formation up to RGB formation can be performed by wet batch processing. It is a major aim to achieve a significant reduction in manufacturing time and manufacturing cost by reducing the manufacturing cost and constructing a consistent manufacturing line.
【０００７】[0007]
【課題を解決するための手段】本発明のカラーフィルタ
ーの製造方法は、水に不溶性もしくは難溶性の顔料粒子
および電界により荷電する界面活性剤および支持電解質
を基本成分とし、該顔料粒子を該界面活性剤で取り囲ん
だ顔料のミセルコロイド水溶液を調整し、該ミセルを電
解により破壊し、導電体上に顔料粒子を析出させ、顔料
薄膜を形成するというカラーフィルターの製造方法にお
いて、 ａ）電解し、薄膜を形成するための、所定のストライプ
状パターンを持った電極を、透明基板上に形成するため
の第一の工程、 ｂ）形成された該電極上の全面に、電着方式によりポジ
レジストを電着する第二の工程、 ｃ）露光、現像により任意のパターンの電極露出面を形
成する第三の工程、 ｄ）第三の工程で、レジストを現像し、露出した電極パ
ターン上に、一色目の顔料膜を該薄膜形成法を用いて形
成する第四の工程、 ｅ）一色目の顔料膜を形成した以外の部分において、上
記、ｃ）ｄ）の工程を繰り返し二色目の顔料膜を、該薄
膜形成法を用いて形成する第五の工程、 ｆ）一色目及び二色目の顔料膜を形成した以外の部分に
おいて、上記、ｃ）ｄ）の工程を繰り返し三色目の顔料
膜を、該薄膜形成法を用いて形成する第六の工程、 ｇ）レジストを剥離する第七の工程、からなることを特
徴とする。The method for producing a color filter of the present invention comprises a pigment particle which is insoluble or sparingly soluble in water, a surfactant and a supporting electrolyte which are charged by an electric field as basic components, and the pigment particle is used in the interface. In a method for producing a color filter in which a pigment micelle colloid aqueous solution surrounded by an activator is prepared, the micelles are destroyed by electrolysis, pigment particles are deposited on a conductor, and a pigment thin film is formed, a) electrolysis is performed, A first step for forming an electrode having a predetermined stripe pattern for forming a thin film on a transparent substrate, b) A positive resist is formed on the entire surface of the formed electrode by an electrodeposition method. The second step of electrodeposition, c) the third step of forming an electrode exposed surface of an arbitrary pattern by exposure and development, and d) the resist developed and exposed in the third step. Fourth step of forming a pigment film of the first color on the polar pattern by using the thin film forming method, e) Repeating the above steps c) and d) except the portion where the pigment film of the first color is formed. Fifth step of forming a second color pigment film by using the thin film forming method, f) Repeating the above steps c) and d) in a portion other than the portions where the first and second color pigment films are formed. It is characterized by comprising a sixth step of forming a pigment film of a color using the thin film forming method, and g) a seventh step of peeling the resist.
【０００８】また、上記のカラーフィルターの製造方法
において、 ａ）電解し、薄膜を形成するための、所定のストライプ
状パターンを持った電極を透明基板上に形成するための
第一の工程、 ｂ）形成された該電極上の全面に、電着方式によりポジ
レジストを電着する第二の工程、 ｃ）露光、現像により任意のパターンの電極露出面を形
成する第三の工程、 ｄ）第三の工程で、レジストを現像し、露出した電極パ
ターン上に、一色目の顔料膜を該薄膜形成法を用いて形
成する第四の工程、 ｅ）工程ｄ）の後、レジストを剥離する第五の工程、 ｆ）工程ｂ）ｃ）ｄ）ｅ）を繰り返すことにより、一色
目の顔料膜を形成した以外の部分において、二色目を形
成する第六の工程、 ｇ）工程ｂ）ｃ）ｄ）を繰り返すことにより、一色目及
び二色目の顔料膜を形成した以外の部分において、三色
目を形成する第七の工程、としてもよい。In the method of manufacturing a color filter described above, a) a first step for forming an electrode having a predetermined stripe pattern for electrolysis to form a thin film on a transparent substrate; b. ) A second step of electrodepositing a positive resist on the entire surface of the formed electrode by an electrodeposition method, c) a third step of forming an electrode exposed surface of an arbitrary pattern by exposure and development, d) a second step A fourth step of developing the resist in the third step to form a pigment film of the first color on the exposed electrode pattern by the thin film forming method, e) a step of removing the resist after step d) The fifth step, f) step b) c) d) e) is repeated to form a second color in the portion other than the portion where the pigment film of the first color is formed, g) step b) c) By repeating d), the first and second colors In the portion other than the portion where the pigment film is formed, the seventh step of forming the third color may be performed.
【０００９】[0009]
【作用】前述のように、本方式の製造方法を用いて、モ
ザイクパターンを有するカラーフィルターを作製する際
の、各色成膜前のレジスト形成工程において、レジスト
を塗布するためのスピンナーあるいは、コーターが別途
必要であり、また、簡易的にスピンナーを用いた場合、
ウェハー当りのレジストの使用量が多くなるという課題
があった。また、さらに、レジストコート自体が、一枚
ずつの処理となるために、工程時間も大幅に長くなると
いう課題があった。結果的に、カラーフィルターの一枚
当りのコストが大幅にアップしてしまうという課題があ
った。本発明は、以上の課題をすべて解決し、本方式の
製造方法を用いて、モザイク状のパターンを有するカラ
ーフィルターを製造する際に、ＲＧＢ形成までをすべて
湿式のバッチ処理に統一し、使用するレジスト量を大幅
に削減し、一度に大量の基板を処理することにより、製
造の簡易性、製造コストおよび製造コストの大幅ダウン
を達成できるものである。As described above, when a color filter having a mosaic pattern is produced using the production method of the present method, a spinner or coater for applying a resist is used in a resist forming step before forming each color film. It is necessary separately, and when using a spinner simply,
There is a problem that the amount of resist used per wafer increases. Furthermore, since the resist coating itself is processed one by one, there is a problem that the process time is significantly lengthened. As a result, there is a problem that the cost per sheet of color filter is significantly increased. The present invention solves all of the above problems, and when a color filter having a mosaic pattern is manufactured by using the manufacturing method of the present system, all processes up to RGB formation are unified into a wet batch process and used. By significantly reducing the resist amount and processing a large number of substrates at one time, it is possible to achieve simplification of manufacturing, manufacturing cost, and significant reduction in manufacturing cost.
【００１０】[0010]
（実施例１）ガラス基板上に、透明電極であるＩＴＯ膜
を形成し、図３に示すような電極パターンにＩＴＯをパ
ターニングした。Example 1 An ITO film, which is a transparent electrode, was formed on a glass substrate, and ITO was patterned into an electrode pattern as shown in FIG.
【００１１】この電極上に、以下の方法により顔料膜を
形成し、カラーフィルターを作製した。A pigment film was formed on this electrode by the following method to prepare a color filter.
【００１２】（１） この電極上の全面に電着タイプの
ポジレジスト（日本ペイント社製、Ｐ−１０００）を電
着方式により形成し、摂氏１００度でプリベーク後、こ
の基板に図４のパターンを有するマスクを用いて、露光
現像を行った。(1) An electrodeposition type positive resist (P-1000 manufactured by Nippon Paint Co., Ltd.) is formed on the entire surface of this electrode by an electrodeposition method, prebaked at 100 ° C., and then the pattern of FIG. 4 is formed on this substrate. Was exposed and developed using a mask having
【００１３】（２） 現像後の基板を用いて、以下の顔
料コロイド水溶液中で電解を行った。(2) Electrolysis was performed in the following pigment colloid aqueous solution using the substrate after development.
【００１４】モノクロロ銅フタロシアニン ２０ｍＭ
（青色顔料） フェロセニルＰＥＧ １ｍＭ （レドックス反応性をもつ界面活性剤／同仁化学製） ＬｉＢｒ（支持塩） ０．１Ｍ 具体的には、この該顔料コロイド水溶液中で、基板のＩ
ＴＯ電極を＋極に接し、カソードとしてステンレス基板
を使用し、＋０．４Ｖの定電位で１０分間電解を行っ
た。この結果基板上のレジストでマスクされているとこ
ろ以外に、青色の膜が形成された。Monochloro copper phthalocyanine 20 mM
(Blue pigment) Ferrocenyl PEG 1 mM (surfactant having redox reactivity / manufactured by Dojindo) LiBr (supporting salt) 0.1 M Specifically, in the aqueous pigment colloid solution,
The TO electrode was brought into contact with the + electrode, a stainless steel substrate was used as the cathode, and electrolysis was performed at a constant potential of +0.4 V for 10 minutes. As a result, a blue film was formed on the substrate except where it was masked by the resist.
【００１５】（３） 摂氏１００度で３０分焼成し、１
０％ＫＯＨ水溶液中でレジストを剥離した。(3) Baking at 100 degrees Celsius for 30 minutes, 1
The resist was stripped in a 0% KOH aqueous solution.
【００１６】（４） 次にまた、（１）と同様に、
（２）で形成した顔料膜部以外の未成膜部にレジストを
電着後、露光現像を行った。この際、マスクは、図４の
パターンを１画素分横にスライドさせたマスクを用い
た。(4) Next, similarly to (1),
After resist was electrodeposited on the non-film-formed portion other than the pigment film portion formed in (2), exposure and development were performed. At this time, as the mask, a mask in which the pattern of FIG. 4 was horizontally slid by one pixel was used.
【００１７】（５） （２）と同様にして二色目として
赤色の膜を形成した。この際、顔料コロイド水溶液とし
て、次の組成の物を用いた。(5) A red film was formed as the second color in the same manner as in (2). At this time, the following composition was used as the pigment colloid aqueous solution.
【００１８】ジアントラキノリルレッド ２０ｍＭ
（赤色顔料） フェロセニルＰＥＧ ２ｍＭ ＬｉＢｒ（支持塩） ０．１Ｍ 具体的には、該顔料コロイド水溶液中で、基板のＩＴＯ
電極を＋極に接し、カソードとしてステンレス基板を使
用し、＋０．９Ｖの定電位で３０分間電解を行った。こ
の結果基板上のレジストでマスクされているところ以外
（青色膜部も含む）に、赤色の膜が形成された。Dianthraquinolyl red 20 mM
(Red pigment) Ferrocenyl PEG 2mM LiBr (supporting salt) 0.1M Specifically, in the aqueous solution of the pigment colloid, ITO of the substrate is used.
The electrode was brought into contact with the + electrode, a stainless steel substrate was used as the cathode, and electrolysis was carried out at a constant potential of +0.9 V for 30 minutes. As a result, a red film was formed on the substrate other than where it was masked by the resist (including the blue film portion).
【００１９】（６） 摂氏１００度で３０分焼成した
後、１０％ＫＯＨ水溶液中でレジストを剥離した。(6) After baking at 100 ° C. for 30 minutes, the resist was peeled off in a 10% KOH aqueous solution.
【００２０】（７） 次にまた、（４）と同様にして、
（２）、（５）で形成した顔料膜部以外の未成膜部にレ
ジストを電着後、露光現像を行った。この際、マスク
は、図４のパターンをさらに１画素分横にスライドさせ
たマスクを用いた。(7) Next, similarly to (4),
After resist was electrodeposited on the non-film-formed portions other than the pigment film portion formed in (2) and (5), exposure and development were performed. At this time, as the mask, a mask in which the pattern of FIG. 4 was further slid horizontally by one pixel was used.
【００２１】（８） （２）と同様にして三色目として
緑色の膜を形成した。この際、顔料コロイド水溶液とし
て、次の組成の物を用いた。(8) In the same manner as (2), a green film was formed as the third color. At this time, the following composition was used as the pigment colloid aqueous solution.
【００２２】臭素化塩化銅フタロシアニン ２０ｍＭ
（緑色顔料） フェロセニルＰＥＧ １．５ｍＭ ＬｉＢｒ（支持塩） ０．１Ｍ 具体的には、この該顔料コロイド水溶液中で、基板のＩ
ＴＯ電極を＋極に接し、カソードとしてステンレス基板
を使用し、＋０．５Ｖの定電位で１５分間電解を行っ
た。この結果基板上のレジストでマスクされているとこ
ろ以外（青色、赤色膜部も含む）に、緑色の膜が形成さ
れた。Brominated copper phthalocyanine chloride 20 mM
(Green pigment) Ferrocenyl PEG 1.5 mM LiBr (supporting salt) 0.1 M Specifically, in the pigment colloid aqueous solution, I
The TO electrode was brought into contact with the + electrode, a stainless steel substrate was used as the cathode, and electrolysis was carried out at a constant potential of +0.5 V for 15 minutes. As a result, a green film was formed on the substrate other than where it was masked by the resist (including the blue and red film portions).
【００２３】（９） 摂氏１００度で３０分焼成した。(9) Firing at 100 degrees Celsius for 30 minutes.
【００２４】（１０） １０％ＫＯＨ水溶液中でレジス
トを剥離した。(10) The resist was stripped in a 10% KOH aqueous solution.
【００２５】以上のような手順で、図１のようなＲＧＢ
３色のパターンがモザイク状に配列されたカラーフィル
ターを形成することができた。With the procedure described above, RGB as shown in FIG.
It was possible to form a color filter in which patterns of three colors were arranged in a mosaic pattern.
【００２６】（実施例２）ガラス基板上に、透明電極で
あるＩＴＯ膜を形成し、図３に示すような電極パターン
にＩＴＯをパターニングした。Example 2 An ITO film as a transparent electrode was formed on a glass substrate, and ITO was patterned into an electrode pattern as shown in FIG.
【００２７】この電極上に、以下の方法により顔料膜を
形成し、カラーフィルターを作製した。A pigment film was formed on this electrode by the following method to prepare a color filter.
【００２８】（１） この電極上の全面に電着タイプの
ポジレジストを電着方式により形成し、摂氏９０度でプ
リベーク後、この基板に図４のパターンを有するマスク
を用いて、露光現像を行った。(1) An electrodeposition type positive resist is formed on the entire surface of this electrode by an electrodeposition method, prebaked at 90 ° C., and then exposed and developed on this substrate using a mask having a pattern of FIG. went.
【００２９】（２） 現像後の基板を用いて、以下の顔
料コロイド水溶液中で電解を行った。(2) Using the substrate after development, electrolysis was performed in the following pigment colloid aqueous solution.
【００３０】モノクロロ銅フタロシアニン ２０ｍＭ
（青色顔料） フェロセニルＰＥＧ １ｍＭ （レドックス反応性をもつ界面活性剤／同仁化学製） ＬｉＢｒ（支持塩） ０．１Ｍ 具体的には、この該顔料コロイド水溶液中で、基板のＩ
ＴＯ電極を＋極に接し、カソードとしてステンレス基板
を使用し、＋０．４Ｖの定電位で１０分間電解を行っ
た。この結果基板上のレジストでマスクされているとこ
ろ以外に、青色の膜が形成された。Monochloro copper phthalocyanine 20 mM
(Blue pigment) Ferrocenyl PEG 1 mM (surfactant having redox reactivity / manufactured by Dojindo) LiBr (supporting salt) 0.1 M Specifically, in the aqueous pigment colloid solution,
The TO electrode was brought into contact with the + electrode, a stainless steel substrate was used as the cathode, and electrolysis was performed at a constant potential of +0.4 V for 10 minutes. As a result, a blue film was formed on the substrate except where it was masked by the resist.
【００３１】（３） 乾燥後、（１）と同様にして露光
現像を行った。この際、マスクは、図４のパターンを１
画素分横にスライドさせたマスクを用いた。(3) After drying, exposure and development were carried out in the same manner as in (1). At this time, the mask has the pattern of FIG.
A mask that was slid horizontally for the pixels was used.
【００３２】（４） （２）と同様にして二色目として
赤色の膜を形成した。この際、顔料コロイド水溶液とし
て、次の組成の物を用いた。(4) In the same manner as (2), a red film was formed as the second color. At this time, the following composition was used as the pigment colloid aqueous solution.
【００３３】ジアントラキノリルレッド ２０ｍＭ
（赤色顔料） フェロセニルＰＥＧ ２ｍＭ ＬｉＢｒ（支持塩） ０．１Ｍ 具体的には、該顔料コロイド水溶液中で、基板のＩＴＯ
電極を＋極に接し、カソードとしてステンレス基板を使
用し、＋０．９Ｖの定電位で３０分間電解を行った。こ
の結果基板上のレジストでマスクされているところ以外
（青色膜部も含む）に、赤色の膜が形成された。Dianthraquinolyl red 20 mM
(Red pigment) Ferrocenyl PEG 2mM LiBr (supporting salt) 0.1M Specifically, in the aqueous solution of the pigment colloid, ITO of the substrate is used.
The electrode was brought into contact with the + electrode, a stainless steel substrate was used as the cathode, and electrolysis was carried out at a constant potential of +0.9 V for 30 minutes. As a result, a red film was formed on the substrate other than where it was masked by the resist (including the blue film portion).
【００３４】（５） 乾燥後、（１）と同様にして露光
現像を行った。この際、マスクは、図４のパターンをさ
らに１画素分横にスライドさせたマスクを用いた。(5) After drying, exposure and development were performed in the same manner as in (1). At this time, as the mask, a mask in which the pattern of FIG. 4 was further slid laterally by one pixel was used.
【００３５】（６） （２）と同様にして三色目として
緑色の膜を形成した。この際、顔料コロイド水溶液とし
て、次の組成の物を用いた。(6) A green film was formed as the third color in the same manner as (2). At this time, the following composition was used as the pigment colloid aqueous solution.
【００３６】臭素化塩化銅フタロシアニン ２０ｍＭ
（緑色顔料） フェロセニルＰＥＧ １．５ｍＭ ＬｉＢｒ（支持塩） ０．１Ｍ 具体的には、この該顔料コロイド水溶液中で、基板のＩ
ＴＯ電極を＋極に接し、カソードとしてステンレス基板
を使用し、＋０．５Ｖの定電位で１５分間電解を行っ
た。この結果基板上のレジストでマスクされているとこ
ろ以外（青色、赤色膜部も含む）に、緑色の膜が形成さ
れた。Brominated copper phthalocyanine chloride 20 mM
(Green pigment) Ferrocenyl PEG 1.5 mM LiBr (supporting salt) 0.1 M Specifically, in the pigment colloid aqueous solution, I
The TO electrode was brought into contact with the + electrode, a stainless steel substrate was used as the cathode, and electrolysis was carried out at a constant potential of +0.5 V for 15 minutes. As a result, a green film was formed on the substrate other than where it was masked by the resist (including the blue and red film portions).
【００３７】（７） 摂氏１００度で３０分焼成した。(7) Firing was carried out at 100 degrees Celsius for 30 minutes.
【００３８】（８） ７％ＫＯＨ水溶液中でレジストを
剥離した。(8) The resist was stripped in a 7% KOH aqueous solution.
【００３９】以上のような手順で、図１のようなＲＧＢ
３色のパターンがモザイク状に配列されたカラーフィル
ターを形成することができた。With the above procedure, RGB as shown in FIG.
It was possible to form a color filter in which patterns of three colors were arranged in a mosaic pattern.
【００４０】（実施例３）実施例１で作製したカラーフ
ィルターを用いて、図２のような構造のアクティブマト
リックスタイプのＭＩＭ型液晶パネルを作製した。この
結果、モザイクパターンにより従来のストライプパター
ンのものと比べて高解像度のパネルが作製できた。Example 3 Using the color filter produced in Example 1, an active matrix type MIM type liquid crystal panel having a structure as shown in FIG. 2 was produced. As a result, a high resolution panel could be produced by the mosaic pattern as compared with the conventional stripe pattern.
【００４１】（実施例４）実施例２で作製したカラーフ
ィルターを用いて、図２のような構造のアクティブマト
リックスタイプのＭＩＭ型液晶パネルを作製した。この
結果、モザイクパターンにより従来のストライプパター
ンのものと比べて高解像度のパネルが作製できた。Example 4 An active matrix type MIM type liquid crystal panel having a structure as shown in FIG. 2 was produced using the color filter produced in Example 2. As a result, a high resolution panel could be produced by the mosaic pattern as compared with the conventional stripe pattern.
【００４２】（実施例５）実施例１で作製したカラーフ
ィルターの製造方法と同様にして、カラーフィルターを
作製したが、透明電極であるＩＴＯ膜を形成し、図３に
示すような電極パターンにＩＴＯをパターニングする工
程で使用するレジストも、電着レジストを用いて作製し
た。この結果、前述の実施例と同様、モザイクパターン
のカラーフィルターを作製できた。(Example 5) A color filter was produced in the same manner as in the method for producing the color filter produced in Example 1. An ITO film as a transparent electrode was formed to form an electrode pattern as shown in FIG. The resist used in the step of patterning ITO was also prepared using an electrodeposition resist. As a result, a color filter having a mosaic pattern could be produced as in the above-mentioned examples.
【００４３】（実施例６）実施例２で作製したカラーフ
ィルターの製造方法と同様にして、カラーフィルターを
作製したが、透明電極であるＩＴＯ膜を形成し、図３に
示すような電極パターンにＩＴＯをパターニングする工
程で使用するレジストも、電着レジストを用いて作製し
た。その後、該レジストをＲＧＢ形成用レジストとして
用いても、前述の実施例と同様、モザイクパターンのカ
ラーフィルターを作製できた。Example 6 A color filter was produced in the same manner as in the method for producing the color filter produced in Example 2, except that an ITO film as a transparent electrode was formed to form an electrode pattern as shown in FIG. The resist used in the step of patterning ITO was also prepared using an electrodeposition resist. After that, even when the resist was used as an RGB forming resist, a color filter having a mosaic pattern could be produced as in the above-described Examples.
【００４４】[0044]
【発明の効果】以上のように、本発明のカラーフィルタ
ーの製造方法を用いて、これを作製した場合、従来方式
よりも、レジスト使用量が低減でき、又、一度に多数枚
の基板、例えば１ロット１０枚以上の基板を一度に処理
できるようになり、なおかつ、顔料成膜自体も、同様に
処理できることから、非常に効率のよいラインの構築が
可能となった。その結果、製造時間、製造コスト、とも
に大幅な削減が可能となり、低価格のカラーフィルター
が実現できるようになった。As described above, when the color filter manufacturing method of the present invention is used, the amount of resist used can be reduced as compared with the conventional method, and a large number of substrates at once, for example, Since it is possible to process 10 or more substrates in one lot at the same time, and the pigment film formation itself can be similarly processed, it is possible to construct a very efficient line. As a result, both manufacturing time and manufacturing cost can be significantly reduced, and low-cost color filters can be realized.
【００４５】また、本カラーフィルターの製造方法に使
用した薄膜形成方法の特色を活かし、高歩留まり、高画
質であることはいうまでもない。Needless to say, the characteristics of the thin film forming method used in the method of manufacturing the present color filter are utilized to obtain high yield and high image quality.
【図１】本発明におけるモザイク状カラーフィルターパ
ターン図。FIG. 1 is a mosaic color filter pattern diagram in the present invention.
【図２】本発明の実施例３及び実施例４におけるカラー
フィルターを用いた電極下付け構造の液晶パネル断面
図。FIG. 2 is a cross-sectional view of a liquid crystal panel having an electrode underlay structure using a color filter in Examples 3 and 4 of the present invention.
【図３】本発明の実施例１及び実施例２及び実施例５及
び実施例６における顔料膜成膜用ＩＴＯ電極パターン
図。FIG. 3 is an ITO electrode pattern diagram for forming a pigment film in Example 1 and Example 2 and Example 5 and Example 6 of the present invention.
【図４】本発明の実施例１及び実施例２におけるカラー
フィルター作製用フォトマスク図。FIG. 4 is a photomask diagram for producing a color filter in Examples 1 and 2 of the present invention.
【図５】従来のストライプ状パターンを有するカラーフ
ィルター図。FIG. 5 is a color filter diagram having a conventional stripe pattern.
１ カラーフィルター基板 ２ カラーフィルター側電極 ３ 顔料薄膜 ４ オーバーコート樹脂層 ５ 液晶層 ６ 対向基板側電極 ７ 対向基板 ８ シール材 ９ 光透過部 １０ 光遮光部 1 Color Filter Substrate 2 Color Filter Side Electrode 3 Pigment Thin Film 4 Overcoat Resin Layer 5 Liquid Crystal Layer 6 Counter Substrate Side Electrode 7 Counter Substrate 8 Sealing Material 9 Light Transmitting Section 10 Light Shading Section
Claims (2)
よび電界により荷電する界面活性剤および支持電解質を
基本成分とし、該顔料粒子を該界面活性剤で取り囲んだ
顔料のミセルコロイド水溶液を調整し、該ミセルを電解
により破壊し、導電体上に顔料粒子を析出させ、顔料薄
膜を形成するというカラーフィルターの製造方法におい
て、 ａ）電解し、薄膜を形成するための、所定のストライプ
状パターンを持った電極を透明基板上に形成するための
第一の工程、 ｂ）形成された該電極上の全面に、電着方式によりポジ
レジストを電着する第二の工程、 ｃ）露光、現像により任意のパターンの電極露出面を形
成する第三の工程、 ｄ）第三の工程で、レジストを現像し、露出させた電極
パターン上に、一色目の顔料膜を該薄膜形成法を用いて
形成する第四の工程、 ｅ）一色目の顔料膜を形成した以外の部分において、上
記、ｃ）ｄ）の工程を繰り返し二色目の顔料膜を、該薄
膜形成法を用いて形成する第五の工程、 ｆ）一色目及び二色目の顔料膜を形成した以外の部分に
おいて、上記、ｃ）ｄ）の工程を繰り返し三色目の顔料
膜を、該薄膜形成法を用いて形成する第六の工程、 ｇ）レジストを剥離する第七の工程、からなることを特
徴とする、カラーフィルターの製造方法。1. A micellar colloid aqueous solution of a pigment in which pigment particles which are insoluble or sparingly soluble in water, a surfactant and a supporting electrolyte which are charged by an electric field are used as basic components, and the pigment particles are surrounded by the surfactant are prepared, In the method for producing a color filter, in which the micelles are destroyed by electrolysis to deposit pigment particles on a conductor to form a pigment thin film, a) have a predetermined striped pattern for electrolysis to form a thin film. First step for forming an electrode on a transparent substrate, b) a second step of electrodepositing a positive resist on the entire surface of the formed electrode by an electrodeposition method, c) optional exposure and development The third step of forming the electrode exposed surface of the pattern of d), d) developing the resist in the third step, and using the thin film forming method to form a pigment film of the first color on the exposed electrode pattern. A fourth step of forming, e) a step of forming a second color pigment film by repeating the above step c) d) in a portion other than the portion where the first color pigment film is formed, using the thin film forming method. Step f) In the portion other than the formation of the first and second color pigment films, the above step c) d) is repeated to form a third color pigment film by the thin film forming method. And g) a seventh step of removing the resist, the method for producing a color filter.
方法において、 ａ）電解し、薄膜を形成するための、所定のストライプ
状パターンを持った電極を透明基板上に形成するための
第一の工程、 ｂ）形成された該電極上の全面に、電着方式によりポジ
レジストを電着する第二の工程、 ｃ）露光、現像により任意のパターンの電極露出面を形
成する第三の工程、 ｄ）第三の工程で、レジストを現像し、露出した電極パ
ターン上に、一色目の顔料膜を該薄膜形成法を用いて形
成する第四の工程、 ｅ）工程ｄ）の後、レジストを剥離する第五の工程、 ｆ）工程ｂ）ｃ）ｄ）ｅ）を繰り返すことにより、一色
目の顔料膜を形成した以外の部分において、二色目を形
成する第六の工程、 ｇ）工程ｂ）ｃ）ｄ）を繰り返すことにより、一色目及
び二色目の顔料膜を形成した以外の部分において、三色
目を形成する第七の工程、からなることを特徴とする、
カラーフィルターの製造方法。2. The method for manufacturing a color filter according to claim 1, wherein a) a first electrode for electrolyzing to form a thin film and having an electrode having a predetermined stripe pattern is formed on a transparent substrate. A step b) a second step of electrodepositing a positive resist on the entire surface of the formed electrode by an electrodeposition method, c) a third step of forming an electrode exposed surface of an arbitrary pattern by exposure and development, d) In the third step, the resist is developed to form a pigment film of the first color on the exposed electrode pattern by the thin film forming method. e) After the step d), the resist is removed. Fifth step of peeling, f) Step b) c) d) Sixth step of forming a second color in a portion other than the portion where the pigment film of the first color is formed by repeating e), g) Step b ) C) d) is repeated to obtain the first and second colors. In portions other than the formation of the eye pigment film, characterized by comprising the seventh step, to form a three-color,
Color filter manufacturing method.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21526492A JPH0659117A (en) | 1992-08-12 | 1992-08-12 | Production of color filter |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21526492A JPH0659117A (en) | 1992-08-12 | 1992-08-12 | Production of color filter |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0659117A true JPH0659117A (en) | 1994-03-04 |
Family
ID=16669434
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21526492A Pending JPH0659117A (en) | 1992-08-12 | 1992-08-12 | Production of color filter |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0659117A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008175743A (en) * | 2007-01-19 | 2008-07-31 | Omron Corp | Photoelectric sensor |
| US7611982B2 (en) | 2003-04-15 | 2009-11-03 | Tdk Corporation | Method of forming sheet having foreign material portions used for forming multi-layer wiring board and sheet having foreign portions |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6033507A (en) * | 1983-08-04 | 1985-02-20 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Prodution of color filter |
| JPS63210901A (en) * | 1987-02-27 | 1988-09-01 | Nippon Paint Co Ltd | Production of color display device |
| JPH03134601A (en) * | 1989-10-20 | 1991-06-07 | Oki Electric Ind Co Ltd | Production of color filter |
| JPH03296020A (en) * | 1990-04-16 | 1991-12-26 | Seiko Epson Corp | Color filter manufacturing method |
-
1992
- 1992-08-12 JP JP21526492A patent/JPH0659117A/en active Pending
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