JPH0659464U - 成膜装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 動力源及びイオンビームのオン，オフと基板
の動きとの連動制御を要しなく、基板を移動又は回転す
る。 【構成】 イオン源１１からのイオンビーム１８が照射
されるターゲット１２と、ターゲット１２からのスパッ
タ粒子１９が付着する基板１０と、基板１０を保持した
保持体１７と、保持体１７を移動又は回転する移動体１
６と、移動体１６と固定体１４との間に張架された復帰
ばね２６と、ターゲット１２に接続されターゲット１２
に到達したビーム電流が流れる固定端子２０と、移動体
１６に設けられ固定端子２０に接離する移動端子２２
と、移動端子２２と固定体１４との間に設けられ，固定
端子２０，移動端子２２を経たビーム電流による加熱に
より伸長する形状記憶合金からなる伸縮体２４とを備え
る。

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】

本考案は、成膜室におけるイオンビームスパッタリング中の基板を、移動又は 回転し、均一な成膜分布を得る成膜装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】

従来の成膜装置は、図５に示す構成になっている。同図において、１は成膜室 、２は成膜室１の底板、３は磁気シール４を介して成膜室１に導入された駆動軸 、５は成膜室１の外部に設けられ駆動軸３を正，逆回転するサーボモータ，ステ ッピングモータ等のモータ、６は駆動軸３の先端に固着されたかさ歯車である。

【０００３】 ７は成膜室１に設けられた２個のプーリ、８は両プーリ７に巻回されたスチー ルベルト、９は一方のプーリ７に固着され，かさ歯車６に歯合したかさ歯車、１ ０はスチールベルト８に保持された基板である。 そして、モータ５の正，逆回転により、駆動軸３，両かさ歯車６，９，両プー リ７を介してスチールベルト８が左右に移動し、基板１０が往復動し、基板１０ にイオンビームがスパッタリングされ、均一な膜厚に成膜される。

【０００４】

【考案が解決しようとする課題】

従来の前記成膜装置の場合、基板１０を左右に往復動させるために、サーボモ ータ或いはステッピングモータ等の高価な動力源を要し、高価になる。さらに、 イオンビームのオン，オフと、基板１０の往復動，即ちモータ５のオン，オフ， 正転，逆転等との連動制御を要するという問題点がある。 本考案は、前記の点に留意し、高価な動力源を要しなく、かつ、イオンビーム のオン，オフと、基板の動きとの連動制御を要しない成膜装置を提供することを 目的とする。

【０００５】

【課題を解決するための手段】 前記課題を解決するために、本考案の成膜装置はイオン源からのイオンビーム が照射されるターゲットと、ターゲットからのスパッタ粒子が付着する基板と、 基板を保持した保持体と、保持体を移動又は回転する移動体と、移動体と固定体 との間に張架された復帰ばねと、ターゲットに接続されターゲットに到達したビ ーム電流が流れる固定端子と、移動体に設けられ固定端子に接離する移動端子と 、移動端子と固定体との間に設けられ，固定端子，移動端子を経たビーム電流に よる加熱により伸長する形状記憶合金からなる伸縮体とを備えたものである。

【０００６】

【作用】

前記のように構成された本考案の成膜装置は、ターゲットに到達したビーム電 流が、固定端子，移動端子を介して形状記憶合金からなる伸縮体に流れ、ジュー ル熱により伸縮体が加熱され、所定温度になると、伸縮体が変形前の形状に復元 して伸長する。そして、移動端子が固定端子から離れ、前記ビーム電流が伸縮体 に流れず、伸縮体の温度が低下し始め、伸縮体が復元力を次第に失い、復帰ばね のばね力より低下すると、復帰ばねにより伸縮体が縮小し、移動端子が再び固定 端子に接触し、復帰ばねにより縮小した伸縮体が再び加熱され、伸縮体が伸長す る。

【０００７】 即ち、形状記憶合金からなる伸縮体と復帰ばねとにより、移動体が移動して基 板が移動し、基板に均一な薄膜が得られる。 そして、イオンビームのターゲットへの照射が終了すると、伸縮体も加熱され ず、移動体の移動も停止する。

【０００８】

【実施例】

実施例について図１ないし図４を参照して説明する。それらの図において図５ と同一符号は同一もしくは相当するものを示し、まず、１実施例を示した図１及 び図２において、１１はイオン源、１２は絶縁体１３により支持されたターゲッ ト、１４は成膜室１の底板２に立設された固定体、１５は底板２に平行に設けら れた軸状のガイド、１６はガイド１５に沿い移動自在に設けられた移動体、１７ は移動体１６に固着され基板１０を保持した保持体であり、イオン源１１からの イオンビーム１８がターゲット１２に照射され、ターゲット１２からのスパッタ 粒子１９が基板１０に付着し、成膜される。

【０００９】 ２０は電流導入線２１によりターゲット１２に接続された固定端子であり、ガ イド１５の上方に位置し、ターゲット１２に到達したビーム電流が流れる。２２ は絶縁体２３を介して移動体１６に固設された移動端子であり、固定端子２０に 接離する。２４はコイル状の伸縮体であり、一端が移動端子２２に接続され、他 端が絶縁体２５を介して固定体１４に接続され、ニッケル−チタン系合金或いは 銅−アルミ系合金等の形状記憶合金からなる。２６は固定体１４と移動体１６と の間に張架された復帰ばねである。

【００１０】 そして、図１の状態において、イオン源１１からイオンビーム１８がターゲッ ト１２に照射され、スパッタ粒子１９により基板１０に成膜が行われる。このと き、ターゲット１２に到達したビーム電流が、電流導入線２１，固定端子２０， 移動端子２２を介して形状記憶合金からなる伸縮体２４に流れ、ジュール熱によ り伸縮体２４が加熱され、所定温度になると、伸縮体２４が復帰ばね２６に抗し て変形前の形状に復元して伸長し、移動体１６がガイド１５に沿って左方へ移動 し、移動端子が固定端子から離れ、前記ビーム電流が伸縮体２４に流れず、伸縮 体２４の温度が低下し始め、伸縮体２４が復元力を次第に失い、復帰ばね２６の ばね力より低下すると、復帰ばね２６により伸縮体２４が縮小し、移動端子２２ が再び固定端子２０に接触し、ターゲット１２からのビーム電流により縮小した 伸縮体２４が再び加熱され、伸縮体２４が伸長し、伸縮体２４の伸縮の繰返しに より基板１０が左右に繰返し移動し、基板１０に均一な薄膜が得られる。 そして、成膜が終了し、イオン源１１からのイオンビーム１８の照射が停止す ると、固定端子２０への電流が流れず、移動体１６の移動が自動的に停止する。

【００１１】 つぎに、他の実施例を示した図３及び図４について説明する。２７は図１の移 動体１６の上端にガイド１５に平行に固着されたラック、２８は保持体１７の自 転軸２９に設けられたピニオンであり、ラック２７に歯合する。 即ち、移動体１６と共に左右に移動するラック２７によりピニオン２８を介し て保持体１７が正，逆回転し、基板１０が正，逆に繰返し回転する。

【００１２】

【考案の効果】

本考案は、以上説明したように構成されているため、つぎに記載する効果を奏 する。 本考案の成膜装置は、ターゲット１２に到達したビーム電流が、固定端子２０ ，移動端子２２を介して形状記憶合金からなる伸縮体２４に流れ、ジュール熱に より伸縮体２４が加熱され、伸縮体２４が伸長し、移動端子２２が固定端子２０ から離れ、ターゲット１２からのビーム電流が伸縮体２４に流れず、伸縮体２４ の温度が低下し、伸縮体２４が復元力を次第に失い、復帰ばね２６のばね力によ り伸縮体２４が縮小し、移動端子２２が固定端子２０に接触し、伸縮体２４が再 び加熱され、伸縮体２４が伸長し、伸縮体２４の伸縮により移動体１６が左右に 移動して基板１０が移動し、基板１０に均一な薄膜を得ることができ、かつ、イ オンビーム１８のターゲット１２への照射が終了すると、伸縮体２４も加熱され ず、移動体１６の移動も停止する。

【００１３】 即ち、従来のような高価な動力源及びイオンビームのオン，オフと基板の動き との連動制御を要することなく、自動的に基板１０を左右に移動或いは正，逆回 転することが可能である。

【図面の簡単な説明】

【図１】本考案の１実施例の切断正面図である。

【図２】図１の他の状態の一部の切断正面図である。

【図３】本考案の他の実施例の一部の切断正面図であ
る。

【図４】図３の一部の切断上面図である。

【図５】従来例の切断正面図である。

【符号の説明】

１０ 基板 １１ イオン源 １２ ターゲット １４ 固定体 １６ 移動体 １７ 保持体 １８ イオンビーム １９ スパッタ粒子 ２０ 固定端子 ２２ 移動端子 ２４ 伸縮体 ２６ 復帰ばね

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】 イオン源からのイオンビームが照射され
   るターゲットと、該ターゲットからのスパッタ粒子が付
   着する基板と、該基板を保持した保持体と、該保持体を
   移動又は回転する移動体と、該移動体と固定体との間に
   張架された復帰ばねと、前記ターゲットに接続され前記
   ターゲットに到達したビーム電流が流れる固定端子と、
   前記移動体に設けられ前記固定端子に接離する移動端子
   と、該移動端子と前記固定体との間に設けられ，前記固
   定端子，前記移動端子を経た前記ビーム電流による加熱
   により伸長する形状記憶合金からなる伸縮体とを備えた
   成膜装置。