JPH0660311B2 - リフォ−ミング触媒の保護のための硫黄除去方法 - Google Patents

リフォ−ミング触媒の保護のための硫黄除去方法

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JPH0660311B2
JPH0660311B2 JP60505201A JP50520185A JPH0660311B2 JP H0660311 B2 JPH0660311 B2 JP H0660311B2 JP 60505201 A JP60505201 A JP 60505201A JP 50520185 A JP50520185 A JP 50520185A JP H0660311 B2 JPH0660311 B2 JP H0660311B2
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エイ フイールド,レズリ
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シエブロン リサ−チ コンパニ−
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    • C10PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10GCRACKING HYDROCARBON OILS; PRODUCTION OF LIQUID HYDROCARBON MIXTURES, e.g. BY DESTRUCTIVE HYDROGENATION, OLIGOMERISATION, POLYMERISATION; RECOVERY OF HYDROCARBON OILS FROM OIL-SHALE, OIL-SAND, OR GASES; REFINING MIXTURES MAINLY CONSISTING OF HYDROCARBONS; REFORMING OF NAPHTHA; MINERAL WAXES
    • C10G69/00Treatment of hydrocarbon oils by at least one hydrotreatment process and at least one other conversion process
    • C10G69/02Treatment of hydrocarbon oils by at least one hydrotreatment process and at least one other conversion process plural serial stages only
    • C10G69/08Treatment of hydrocarbon oils by at least one hydrotreatment process and at least one other conversion process plural serial stages only including at least one step of reforming naphtha
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明の背景 本発明は、炭化水素からの硫黄の除去、特に極く少量の
チオフエン硫黄の除去に関する。
一般に、石油および合成粗原料中の硫黄は、硫化水素、
有機硫化物、有機二硫化物、チオールとしても公知のメ
ルカプタンおよびチオフエン、ベンゾチオフエンおよび
関連化合物のような芳香環化合物として存在する。芳香
族硫黄含有環化合物中の硫黄を本明細書においては「チ
オフエン硫黄」と称する。
例えば10ppmより多い実質的量の硫黄を含有する供給
物は、慣用的に、慣用的条件下で慣用触媒を使用して水
素化処理して、それによつて供給物中の大部分の硫黄の
形態を硫化水素に変化させる。次いで、硫化水素を蒸
留、ストリツピングまたは関連する方法によつて除去す
る。かような方法では、転化させるのが最も困難な種類
であるチオフエン系硫黄を含む若干の痕跡の硫黄が供給
物中に残る。
かような水素化処理されたナフサ供給物は、リフオーミ
ングとも呼ばれる接触脱水素環化用の供給物としてしば
しば使用される。これらの触媒の若干のもの、特にゼオ
ライトを含有する触媒は硫黄に敏感である。これらの触
媒の他のものは、典型的なリフオーミング供給物中に存
在する濃度の硫黄には耐性がある。
残留硫化水素およびメルカプタン硫黄除去の慣用方法の
一つは硫黄収着剤の使用である。例えば、アール.エ
ル.ヤコブソン(R.L.Jacobson)およびケー・アール.ギ
ブソン(K.R.Gibson)の両者による米国特許第4,20
4,997号および同第4,163,708号を参照さ
れたい。この形態の硫黄の濃度は、適切な収着剤および
条件の使用によつて1ppmより著しく少なく減少させる
ことができるが、残留チオフエン硫黄を0.1ppm未満
またはすべてを除去することは困難である。例えば、エ
ム.ジエー.ミヒルマイヤー(M.J.Michlmayr)による米
国特許第4,179,361号、および、特にこの特許
の実施例1を参照されたい。特に、チオフエン硫黄を除
去するためには非常に低い空間速度が必要なために収着
剤が充填されている大きい反応容器を要し、かような対
策を採つても痕跡のチオフエン硫黄は通過してしまう。
リフオーミング供給流からチオフエン硫黄を含む大部分
の硫黄を除去する方法があれば有利である。
本発明の概要 本発明によつて、 (a)硫黄に対して比較的敏感でないリフオーミング触媒
の存在下の緩和なリフオーミング条件下で供給原料と水
素とを接触させ、それによつて若干のリフオーミング反
応を行なわせ、そして、また痕跡の硫黄化合物を硫化水
素に転化させ、第一流出物を形成し; (b)前記の第一流出物と固体硫黄収着剤と接触させてH
Sを除去し、それによつて、0.1ppm未満の硫黄で
ある第二流出物を形成し; (c)その後の反応容器中における苛酷なリフオーミング
条件下で、前記の第二流出物と比較的に硫黄に敏感であ
る高度に選択的のリフオーミング触媒と接触させること
を特徴とする水素化処理されたナフサ供給原料から残留
硫黄を除去する方法が提供される。
詳細な説明 メルカプタン、チオフエンなどの低分子量硫黄含有不純
物を含有する粗留出物のナフサ留分は、通常、水素化脱
硫前処理に処せられる。この処理からの流出物は蒸留様
工程に処せられてHSが除去される。蒸留工程からの
流出物は、典型的には0.2〜5ppmの間の硫黄、およ
び0.1〜2ppmの間のチオフエン硫黄を含有する。こ
の量は、硫黄に敏感な選択的リフオーミング触媒を短時
間に毒するのに十分な量である。リフオーミング工程へ
の供給量である得られた生成物流を、次いで敏感なリフ
オーミング触媒と接触させる前に高度に有効な硫黄収着
剤と接触させる。この流れを慣用の硫黄収着剤と接触さ
せることによつて大部分の容易に除去されるHSおよ
び大部分のメルカプタンが除去されるが、未転化の任意
のチオフエン硫黄は残留する。チオフエン硫黄は有効に
除去する硫黄収着剤は、例えば1時間−1未満の液空間
速度のような低い空間速度が必要であることが実際の例
において報告されている。
第一リフオーミング触媒 第一リフオーミング触媒は、所望ならば耐火性無機金属
酸化物上に支持された第VIII族金属に助触媒金属を加え
たものである比較的硫黄に敏感でない触媒である。好適
な耐火性無機金属酸化物支持体には、アルミナ、シリ
カ、チタニア、マグネシア、ポリアなど、およびシリカ
とアルミナの組合せ、またはクレーのような天然産混合
酸化物が含まれる。好ましい第VIII族金属は白金であ
る。レニウム、錫、ゲルマニウム、イリジウム、ロジウ
ム、ルテニウムのような助触媒金属も存在できる。比較
的硫黄に敏感でないリフオーミング触媒は、白金に所望
ならばレニウムのような助触媒金属を加えたもの、アル
ミナ支持体および随伴する塩化物から成るのが好まし
い。かようなリフオーミング触媒は、本明細書の参考と
なる米国特許3,415,737号に完全に論議されて
いる。
第一リフオーミング触媒を使用する炭化水素転化方法
は、熱力学的に脱水素反応が行なわれるのに好適な、し
かも、動力学的方法による望ましくない接触分解反応を
抑制するように圧力を調整した水素の存在下で行なわれ
る。使用される圧力は、15〜500psigと変化し、好
ましくは約50〜約300psig間であり;水素;炭化水
素のモル比は、好ましくは1:1〜10:1であり、さ
らに好ましくは、2:1〜6:1である。
硫黄転化反応は、300〜500℃の範囲の温度で受入
れられる速度および選択率で行なわれる。従つて、第一
リフオーミング反応器は、緩和なリフオーミング条件と
して公知である約350〜480℃の間の範囲内の温度
で好ましく作業できる。
第一反応器の作業温度が約300℃より高いときは、硫
黄転化反応速度は所望の反応を行うのに十分である。4
00℃またはそれ以上のように比較的高い温度では、若
干のリフオーミング反応、特にナフテンの脱水素が硫黄
転化と共に起こる。これらのリフオーミング反応は吸熱
性であるため、供給流が第一反応器を通過したとき10
〜50℃の温度低下が起こり得る。第一反応器の作業温
度が500℃より高いときは、接触分解およびコークス
化を伴う不必要な大量のリフオーミングが行なわれる。
これらの望ましくない副反応を制限するためには、発明
者等は第一反応器の温度を約500℃、または好ましく
は480℃に制限する。第一リフオーミング反応器にお
ける炭化水素の液空間速度は、好ましくは3〜15の間
である。
リフオーミング触媒は、供給流中の硫黄に対して異なる
選択性を有する。若干のリフオーミング触媒は、比較的
選択性が低く、硫黄水準が約5ppmより低く保たれてい
るならば実質的に減少された活性を示さない。これらの
触媒が硫黄およびコークスの蓄積によつて失活したとと
きは、これらは一般に硫黄およびコークスを燃焼除去す
ることによつて再生できる。第一リフオーミング触媒は
この型のものが好ましい。
硫黄収着剤 以後「第一流出物」という第一リフオーミング工程から
の流出物を、次いで、硫黄収着剤と接触させる。この硫
黄収着剤は、約300〜400℃の緩和なリフオーミン
グ温度で第一流出物からHSを0.1ppm未満まで除
去できなければならない。この温度で十分に作用する数
種の硫黄収着剤が公知である。収着剤は供給流中の硫黄
の量を0.1ppm未満の量まで減少させ、それによつ
て、以後「第二流出物」と呼ぶ流出物を生成させる。し
かし、水素循環流中の水の濃度は好ましくは100ppm
未満、さらに好ましくは50ppm未満と極めて低く保持
しなければならない。
本発明の硫黄収着剤は、耐火性無機酸化物または炭素支
持体に支持されており、容易に反応して金属流化物を形
成する金属を含有するであろう。好ましい金属には、亜
鉛、モリブデン、コバルト、タングステン、カリウム、
ナトリウム、カルシウム、バリウムなどが含まれる。カ
リウム、ナトリウム、カルシウムおよびバリウムのため
の好ましい支持体は、アルミナ、シリカ、ポリア、マグ
ネシア、チタニアなどのような耐火性無機酸化物であ
る。さらに、亜鉛は、アタパルジヤイト、セピオライ
ト、およびパリゴルスカイトのような繊維状珪酸マグネ
シウムクレー上に支持することができる特に好ましい支
持体は、圧漬強さを増加させるために約5〜30重量%
の結合剤酸化物が転化されたアタパルジヤナイトクレー
支持体である。結合剤酸化物には、アルミナ、シリカ、
チタニアおよびマグネシアのような耐火性無機酸化物が
含まれる。
本発明の好ましい収着剤は、前記の金属20〜40重量
%を含有する支持体である。金属は、含浸のような任意
の慣用な方法によつて支持体上に置くことができる。し
かし、好ましい方法は、金属含有化合物と支持体とを混
練して押出できるペーストを形成する方法である。この
ペーストを押出し、押出物を乾燥および焼する。使用
できる典型的化合物は、焼によつて分解して酸化物を
形成する金属炭酸塩である。
硫黄収着剤を含有する容器である硫黄収着器からの流出
物、すなわち、第二流出物は、0.1ppm未満の硫黄、
好ましくは0.05ppm未満の硫黄を含有するであろ
う。硫黄濃度は長期間0.05ppmと低く維持できる、
比較的硫黄に敏感でないリフオーミング触媒および固定
の硫黄収着剤の両者は、ほぼ同じ寸法でよいから本発明
の可能、かつ好ましい態様は、比較的硫黄に敏感でない
リフオーミング触媒と固体の硫黄収着剤を同じ反応器中
で層にする。次いで、チオフエン硫黄は炭化水素に転化
され、そして、単一工程装置中において除去できる。
一態様においては、1種以上の硫黄収着剤が使用され
る。この態様においては、担体上の亜鉛または酸化亜鉛
のような第一硫黄収着剤が硫黄の少ない流出物の生成の
ために使用され、次いで、第IA族または第IIA族金属
の金属化合物のような第二硫黄収着剤が流出物の硫化水
素濃度を50ppbより低く減少させるために使用され、
次いで、流出物を高度に選択性のリフオーミング触媒と
接触させる。
比較的選択性の大きいリフオーミング触媒 第二流出物は、リフオーミング装置の典型である比較的
高い温度で比較的選択性が大きく、かつ、比較的硫黄に
対して敏感なリフオーミング触媒と接触させる。この比
較的選択性の大きいリフオーミング触媒との接触の間、
パラフイン系供給原料は環化および芳香族化される。本
発明の最初の2工程からの硫黄の除去によつて、硫黄防
御のない場合に比較して触媒の寿命をはるかに長くする
ことができる。
本発明の比較的選択性の大きいリフオーミング触媒は、
1種またはそれ以上の脱水素用成分が装入されている大
細孔ゼオライトである。「大細孔ゼオライト」(large-p
ore zeolite)の用語は、6〜15オングストロームの有
効細孔を有するゼオライトと定義される。
本発明の実際において有用であることが見出されている
大細孔結晶性ゼオライトの中で、L型ゼラオライト、ゼ
オライトX、ゼオライトYおよびホージヤサイトが最も
重要であり、7〜9オングストロークの程度の見掛けの
細孔寸法を有する。
酸化物のモル比によつて表わしたL型ゼオライトの組成
は次の通りである: (0.9〜1.3)M2/nO:Al(5.2〜
6.9)SiO:yHO (式中、Mはカチオンを示し、nはMの原子価を表わ
し、そして、yは0〜約9の任意の値である)。ゼオラ
イトL、そのX線回折図、その性質およびその製造方法
は、米国特許第3,216,789号に記載されてい
る。実際の式は、結晶構造を変化させることなく変える
ことができる;例えば珪素:アルミニウム(Si:A
l)のモル比は1.0〜3.5と変えることができる。
酸化物のモル比によつて表わしたゼオライトYの光学式
は次のように書くことができる: (0.7〜1.1)NaO:Al:SiO
yHO (式中、Xは3〜約6の値であり、yは約9までの値で
ある)。ゼオライトYは、識別のために上式を使用する
ことができる特徴のある粉末X−線回折図を有する。ゼ
オライトYは、米国特許第3,130,007号にさら
に詳細に記述されている。米国特許第3,130,00
7号は、本発明において有用であるゼオライトが示され
ているので本明細書の参考となる。
ゼオライトXは、式 (0.7〜1.1)M2/nO:Al:(2.0
〜3.0)SiO:yHO (式中、Mは特にアルカリまたはアルカリ土類金属であ
る金属を表わし、nはMの原子価であり、そして、yは
Mの素生、および結晶性ゼオライトの水和度によつて約
8までの任意の値である)によつて表わすことができる
合成結晶性ゼオライト状モレキユラーシーブである。ゼ
オライトX、そのX線回折図、その性質、およびその製
造方法は、米国特許第2,882,244号に詳細に記
述されている。
本発明の比較的硫黄に敏感なリフオーミング触媒は、1
種またはそれ以上の脱水素用成分が装入されているL型
ゼオライトが好ましい。
本発明の好ましい元素は、大細孔ゼオライト中のアルカ
リ土類金属の存在である。このアルカル土類金属は、バ
リウム、ストロンチウムまたはカルシウムのいずれでも
よく、好ましくはバリウムである。アルカリ土類金属
は、合成、含浸またはイオン交換によつてゼオライト中
に配合できる。バリウムでは比較的酸性の少ない触媒が
得られるため、他のアルカリ土類金属よりバリウムが好
ましい。強い酸度はクラツキングを促進させ、選択率を
低下させるのでこの触媒においては望ましくない。
一態様においては、ゼオライトのイオン交換のための公
知の方法を使用して、アルカリ金属の少なくとも一部を
バリウムで交換する。この方法にはゼオライトと過剰の
Ba++イオンを含有する溶液との接触が含まれる。バ
リウムは、ゼオライト重量の0.1〜35%を構成すべ
きである。
本発明による大細孔ゼオライト脱水素環化触媒には、例
えばニツケル、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、イ
リジウムまたは白金のような第VIII族金属の1種または
それ以上が装入される。
好ましい第VIII族金属はイリジウムおよび特に白金であ
る、これらは他の第VIII族金属より脱水素環化に対する
選択性が大きく、かつ、脱水素環化条件下で安定性が高
い。
脱水素環化触媒中の白金の好ましい%は、0.1〜5
%、好ましくは0.2〜1%の間である。
第VIII族金属は、合成、含浸または適切な塩の水性溶液
中でのイオン交換によつて大細孔ゼオライト中に導入さ
れる。ゼオライト中に2種の第VIII族金属の導入を望む
ときには、作業を同時または逐次的に行うことができ
る。
実施例1 これは本発明の実施例である。測定された量の各種の不
純物を含有する供給原料を、リフオーミング触媒上およ
び次いで、硫黄収着剤上を通過させた。比較的敏感でな
いリフオーミング触媒は、米国特許第3,415,73
7号の方法によつて製造した。
硫黄収着剤は、150gのアルミナと450gのアタパ
ルジヤイトクレーとを混合し、800gの炭酸亜鉛を添
加し、乾燥粉末を相互に混合することによつて製造し
た。これに混合できるペーストになるだけの水を加え、
次いで、これを押出した。得られた押出物を乾燥させ、
焼した。
硫黄収着剤は次の性質を有した: かさ密度 0.70g/cc 細孔容積 0.60cc/g N表面積 86m2/g 圧漬強さ 1.51lbs/mm. 最終触媒は、金属として約40重量%の亜鉛を含有し
た。
リフオーマー供給物を最初に比較的選択性の小さいリフ
オーミング触媒と接触させ、次いで硫黄収着器と接触さ
せた。チオフエンを、硫黄を含まない供給物に添加し
て、硫黄濃度を約10ppmにした。硫黄収着器からの生
成物の硫黄を分析した。硫黄濃度が0.1ppmより低け
れば、比較的硫黄に敏感なリフオーミング触媒のための
供給物として使用した。
データを第I表に表示する。
実施例2 比較的敏感でないリフオーミング触媒としてアルミナ上
の白金、および硫黄収着剤としてアルミナ上の酸化亜鉛
との混合物25cm3を含有する小型の水素化処理用反応
器を組立てた。この反応器からの流出物を、高度に選択
性であるが硫黄に対して非常に敏感なリフオーミング触
媒であるバリウム交換したLゼオライト100cc上を通
過させた。供給原料は、軽質ナフサ供給原料であつた。
この結果を第II表に示す。300時間で1ppmの硫黄を
添加した。温度を上昇させ88.5容量%のC 収率
を得た。
第II表 作業時間 温度゜F 200 855 400 860 600 860 800 870 1000 875 1200 875 比較例 硫黄の存在下で同じLゼオライトリフオーミング触媒を
使用したときは、これは急速に失活した。一定のC
生産を維持するために温度を調整し、270〜360時
間のオンストリームで、0.5ppmの硫黄を添加した
が、硫黄の防御は存在しなかつた。このリフオーミング
触媒があまり急速に失活したので、450時間後はC
生産を一定に維持することはできなかつた。この結果
を第III表に示す。
この比較は、本発明が硫黄に対して比較的敏感性の高い
触媒を完全に保護し、その寿命を著しく長くすることを
示している。
前記の実施例は本発明の好ましい態様の説明であつて、
添付の請求の範囲を狭める積りはない。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 フイールド,レズリ エイ アメリカ合衆国 94608 カリフオルニア 州,エメリイビル,アパートメント ナン バー 455,アドミラル ドライブ ナン バー 3 (56)参考文献 米国特許3706653(US,A) 米国特許3769201(US,A) 米国特許3898153(US,A) 米国特許4155835(US,A) 米国特許4348271(US,A)

Claims (18)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】水素化処理されたナフサ供給原料から残留
    硫黄を除去する方法において、 (a)硫黄に比較的敏感でないリフォーミング触媒の存在
    下、緩和なリフォーミング条件下で、前記の供給原料と
    水素とを接触させ、それによって若干のリフォーミング
    反応を行い、そして、また、痕跡量の硫黄化合物をH2S
    に転化させ、第一流出物を形成し; (b)該第一流出物と固体の硫黄収着剤とを接触させて前
    記のH2Sを除去し、それによって、0.1ppm未満の硫黄を
    含有する第二流出物を形成し; (c)続く反応器中において、前記の第二流出物と、硫黄
    に比較的敏感である高度に選択性のリフォーミング触媒
    とを接触させる ことを特徴とする前記の方法。
  2. 【請求項2】前記の供給原料が0.2〜10ppmの硫黄を含有
    する請求の範囲第1項に記載の方法。
  3. 【請求項3】前記の供給原料が、0.1〜5ppmのチオフェ
    ン硫黄を含有する請求の範囲第1項に記載の方法。
  4. 【請求項4】前記の第二流出物が0.05ppmより多くない
    硫黄を含有する請求の範囲第1項に記載の方法。
  5. 【請求項5】前記の第二流出物が、0.05ppmより多くな
    いチオフェン硫黄を含有する請求の範囲第1項に記載の
    方法。
  6. 【請求項6】前記の供給原料と前記の第一リフォーミン
    グ触媒とを、少なくとも5時間−1の液空間速度で接触
    させる請求の範囲第1項に記載の方法。
  7. 【請求項7】前記の第一流出物と前記の硫黄収着剤と
    を、少なくとも3時間−1、そして、さらに好ましくは
    5時間−1より大きい液空間速度で接触させる請求の範
    囲第1項に記載の方法。
  8. 【請求項8】前記の第一リフォーミング転化用触媒が、
    耐火性無機酸化物上に置かれた第VIII族触媒金属から成
    る請求の範囲第1項に記載の方法。
  9. 【請求項9】前記の硫黄収着剤に、耐火性無機物質多孔
    質支持体上に支持された亜鉛、モリブデン、コバルト、
    タングステンから成る群から選ばれる金属が含まれる請
    求の範囲第1項に記載の方法。
  10. 【請求項10】前記の多孔質支持体を、アルミナ、シリ
    カ、チタニア、マグネシアおよび炭素から成る群から選
    ぶ請求の範囲第9項に記載の方法。
  11. 【請求項11】前記の多孔質支持体に、アタパルジャイ
    トクレーが含まれる請求の範囲第9項に記載の方法。
  12. 【請求項12】前記の多孔質支持体に、アルミナ、シリ
    カ、チタニア、およびマグネシアから成る群から選ばれ
    る結合剤酸化物が含まれる請求の範囲第11項に記載の
    方法。
  13. 【請求項13】前記の硫黄収着剤に、耐火性無機酸化物
    上に支持された周期表の第I−A族またはII−A族から
    選ばれる金属の金属化合物が含まれる請求の範囲第1項
    に記載の方法。
  14. 【請求項14】前記の金属をナトリウム、カリウム、バ
    リウムおよびカルシウムから成る群から選ぶ請求の範囲
    第13項に記載の方法。
  15. 【請求項15】前記の耐火性無機酸化物が、アルミナで
    ある請求の範囲第13項に記載の方法。
  16. 【請求項16】前記の痕跡の硫黄化合物が、主としてチ
    オフェン硫黄を含有する請求の範囲第1項に記載の方
    法。
  17. 【請求項17】前記の硫黄に比較的敏感でないリフォー
    ミング触媒および前記の固体の硫黄収着剤を、同じ反応
    容器中において混合する請求の範囲第1項に記載の方
    法。
  18. 【請求項18】(a)有機硫黄化合物を含有する水素化処
    理されたナフサ供給原料を、水素の存在下で、480℃以
    下の温度、50〜300psigの圧力、H2/HC2:1〜6:1の水素再
    循環比および3〜15LSVHの空間速度で、アルミナ上に白
    金を含有する、硫黄に比較的敏感でないリフォーミング
    触媒と接触させ、若干のリフォーミング反応を行い、そ
    して有機硫黄化合物をナフサ供給原料の実質的な水素化
    分解なしにH2Sに転化し、それによって第一流出物を形
    成し、 (b)該第一流出物を300゜〜450℃の温度で、アルミナ上に
    カリウムを含有する固体の硫黄収着剤と接触させ、H2S
    を0.05ppm未満まで除去し、それにより第二流出物を形
    成し、 (c)該第二流出物を、リフォーミング条件下で、高度に
    選択性であり、かつ高度に硫黄に敏感なリフォーミング
    触媒と接触させることを特徴とする、 有機硫黄化合物を含有する水素化処理されたナフサ供給
    原料から残留硫黄を除去し、ナフサ供給原料をリフォー
    ミングするための請求の範囲第1項に記載の方法。
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