JPH0660427A

JPH0660427A - 光記録ディスク

Info

Publication number: JPH0660427A
Application number: JP4224915A
Authority: JP
Inventors: Hiroyuki Arioka; 博之有岡; Junji Tominaga; 淳二富永; Koji Yasukawa; 浩司安川; Atsuko Motai; 敦子甕
Original assignee: TDK Corp
Current assignee: TDK Corp
Priority date: 1992-07-31
Filing date: 1992-07-31
Publication date: 1994-03-04

Abstract

(57)【要約】【目的】色素を主成分とする記録層を有する光記録デ
ィスクであって、安価でしかも信頼性の高い光記録ディ
スクを実現する。【構成】基板上に、色素を主成分とする塗布型の記録
層、反射層および保護層を順次有し、前記反射層がＡｇ
またはＡｇ系合金から構成され、前記保護層がＴｉ、Ｚ
ｒ、Ｃｒ、Ｍｇ、ＣａおよびＢａからなる群より選ばれ
る１種以上の元素とＮとを含有することを特徴とする光
記録ディスク。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、色素を主成分とする塗
布型の記録層を有する光記録ディスクに関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、大容量情報担持媒体として、追記
型や書き換え可能型などの各種光記録ディスクが注目さ
れている。追記型光記録ディスクのうち、色素を主成分
とする記録層を用いるものは、記録層が塗布により形成
できるため低コストにて製造可能である。

【０００３】色素を主成分とする記録層を用いる光記録
ディスクとしては、従来、記録層上に空気層を設けたい
わゆるエアーサンドイッチ構造のものが用いられていた
が、最近、記録層表面に反射層を密着して設けることに
より、コンパクトディスク（ＣＤ）規格に対応した再生
が可能な光記録ディスクが提案されている（日経エレク
トロニクス１９８９年１月２３日号，Ｎｏ．４６５，Ｐ
１０７、社団法人近畿化学協会機能性色素部会，１９８
９年３月３日，大阪科学技術センター、PROCEEDINGS SP
IE-THE INTERNATIONAL SOCIETY FOR OPTICAL ENGINEERI
NG VOL.1078 PP80-87,"OPTICAL DATA STORAGE TOPICAL
MEETING"17-19,JANUARY 1989 LOS ANGELES等）。この光
記録ディスクは、透明基板上に、色素層、反射層および
保護膜をこの順に設層して形成され、反射層を色素層に
密着して設けることにより、ＣＤ規格のディスク全厚
１．２mmの構成が可能となっている。

【０００４】記録層に色素を用いた光記録ディスクをＣ
Ｄプレーヤで再生するためには、通常のＣＤにおいて用
いられているＡｌ反射層では反射率が不十分であるた
め、上記提案ではＡｕ反射層を用いている。Ａｕは反射
率が高くしかも耐食性が良好であるが、高価である。こ
のため、Ａｕ以外の高反射率金属で安価なもの、例え
ば、Ａｇや、Ａｇ−Ｃｕ等のＡｇ系合金などの使用が考
えられている。

【０００５】反射層の上の保護膜をＣＤと同様に樹脂材
質とした場合、保護膜を通して空気中の酸素や水蒸気な
どが侵入しやすいが、Ａｕ以外の材料は耐食性が低いた
め、反射層が劣化することがあり、また、反射層の保護
膜側で電位バランスが崩れると、それが色素層側に波及
して色素を劣化させることがある。このため十分な信頼
性が得られない。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、色素を主成
分とする記録層を有する光記録ディスクであって、安価
でしかも信頼性の高い光記録ディスクを実現することを
目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】このような目的は、下記
（１）〜（３）の本発明により達成される。

【０００８】（１）基板上に、色素を主成分とする塗布
型の記録層を有し、前記記録層上に反射層を有し、前記
反射層上に保護層を有し、前記反射層がＡｇまたはＡｇ
系合金から構成され、前記保護層がＴｉ、Ｚｒ、Ｃｒ、
Ｍｇ、ＣａおよびＢａからなる群より選ばれる１種以上
の元素とＮとを含有することを特徴とする光記録ディス
ク。

【０００９】（２）前記保護層の厚さが１００A 以上で
ある上記（１）の光記録ディスク。

【００１０】（３）前記反射層の厚さが２００A 以上で
ある上記（１）または（２）の光記録ディスク。

【００１１】

【作用および効果】本発明の光記録ディスクは、基板上
に、色素を含む記録層、反射層および窒化物からなる保
護層を順次有し、ＣＤ規格に対応可能な密着型の光記録
ディスクである。

【００１２】記録層に色素を用いるＣＤ規格対応の密着
型光記録ディスクの反射層では、要求される反射率を満
足しかつ記録層および反射層自体の保存耐久性を確保す
るために、通常、６００A 以上の厚さとされるため、反
射層をＡｕで構成すると低コスト化が困難となる。しか
し、安価なＡｇやＡｇ系合金等の反射層を用いると、反
射層や色素が劣化しやすい。

【００１３】本発明では、Ａｇ系の反射層の上に窒化物
からなる保護層を設けることにより、ＣＤ規格に対応で
きる十分な反射率を確保すると共に、反射層や色素の劣
化を防ぐ。また、保護層を設けることにより、反射層を
薄くしても十分な強度を保つことができる。

【００１４】また、保護層の窒素含有率を適当な値とす
ることによりＡｕと同様な色彩とすることができるの
で、外観に関してもＡｕの代替品とすることができる。

【００１５】

【具体的構成】以下、本発明の具体的構成について詳細
に説明する。

【００１６】本発明の光記録ディスクは、色素を主成分
とする記録層上に反射層を密着して有し、ＣＤ規格に対
応した再生が可能な光記録ディスクである。本発明の光
記録ディスクの一実施例を図１に示す。

【００１７】図１に示される光記録ディスク１は、基板
２表面に、色素を主成分とする記録層３を有し、記録層
３に密着して、反射層４、保護層５および有機保護コー
ト６を有する密着型光記録ディスクである。

【００１８】基板２は、記録光および再生光（波長６０
０〜９００nm程度、特に波長７７０〜８００nm程度の半
導体レーザー光、特に７８０nm）に対し、実質的に透明
（好ましくは透過率８８％以上）な樹脂あるいはガラス
から形成される。これにより、基板裏面側からの記録お
よび再生が可能となる。

【００１９】基板２は、通常のサイズのディスク状であ
って、記録可能なＣＤとして用いる場合、厚さは１．２
mm程度、直径は８０〜１２０mm程度とする。

【００２０】基板材質としては、樹脂を用いることが好
ましく、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、アモル
ファスポリオレフィン、ＴＰＸ等の各種熱可塑性樹脂が
好適である。基板２は射出成形等の公知の方法に従い製
造すればよい。また、その際、トラッキング用やアドレ
ス用等のために、グルーブ２１等の所定のパターンを基
板表面に形成することが好ましい。なお、基板２製造後
に、２Ｐ法等によりグルーブ等の所定のパターンを有す
る樹脂層を形成してもよい。

【００２１】グルーブは、渦巻状の連続型グルーブであ
ることが好ましく、深さは５００〜３０００A 、幅は
０．２〜１．１μm 、特に０．３〜０．６μm 、ランド
（隣り合うグルーブ同士の間の部分）幅は０．５〜１．
４μm 、特に１．０〜１．３μm であることが好まし
い。グルーブをこのような構成とすることにより、グル
ーブ部の反射レベルを下げることなく、良好なトラッキ
ング信号を得ることができる。なお、グルーブには、ア
ドレス信号用の凹凸を設けることもできる。また、記録
光は、グルーブ内の記録層に照射されるよう構成される
ことが好ましい。

【００２２】記録層３は、１種類の色素だけを含有して
もよく、あるいは２種以上の色素が相溶した構成であっ
てもよい。

【００２３】ＣＤ信号を記録する場合には、記録層３の
記録光および再生光波長における消衰係数（複素屈折率
の虚部）ｋは、０．０３〜０．２５であることが好まし
い。ｋが０．０３未満となると記録層の吸収率が低下
し、通常の記録パワーで記録を行うことが困難となる。
また、ｋが０．２５を超えると、反射率が６０％を下回
ってしまい、ＣＤ規格による再生を行うことが困難とな
る。なお、ｋが０．０３〜０．２０、特に０．０３〜
０．１５であると、きわめて好ましい結果が得られる。

【００２４】また、記録層３の屈折率（複素屈折率の実
部）ｎは、１．８〜４．０、より好ましくは、２．０〜
３．０であることが好ましい。ｎ＜１．８では反射率が
低下し、また信号変調度が小さくなり、ＣＤプレーヤに
よる再生が困難となる傾向にある。また、ｎ＞４．０と
するためには、原料色素の入手が難しい。

【００２５】記録層３に用いる光吸収性の色素として
は、吸収極大が６００〜９００nm、好ましくは６００〜
８００nm、より好ましくは６５０〜７５０nmであれば、
他に特に制限はなく、例えばシアニン系、フタロシアニ
ン系、ナフタロシアニン系、アントラキノン系、アゾ
系、トリフェニルメタン系、ピリリウムないしチアピリ
リウム塩系、スクワリリウム系、クロコニウム系、金属
錯体色素系等から１種ないし２種以上を目的に応じて適
宜選択すればよい。

【００２６】シアニン系色素としては、芳香族縮合環を
有してもよいインドレニン環、特にベンゾインドレニン
環を有するシアニン色素が好ましい。

【００２７】また、光吸収色素にクエンチャーを混合し
てもよい。さらに、色素カチオンとクエンチャーアニオ
ンとのイオン結合体を光吸収色素として用いてもよい。

【００２８】クエンチャーとしては、アセチルアセトナ
ート系、ビスジチオ−α−ジケトン系やビスフェニルジ
チオール系などのビスジチオール系、チオカテコール
系、サリチルアルデヒドオキシム系、チオビスフェノレ
ート系等の金属錯体が好ましい。また、窒素のラジカル
カチオンを有するアミン系化合物やヒンダードアミン等
のアミン系のクエンチャーも好適である。

【００２９】結合体を構成する色素としては、インドレ
ニン環を有するシアニン色素が、またクエンチャーとし
てはビスフェニルジチオール金属錯体等の金属錯体色素
が好ましい。

【００３０】好ましい色素、クエンチャー、結合体の詳
細については特開昭５９−２４６９２号、同５９−５５
７９４号、同５９−５５７９５号、同５９−８１１９４
号、同５９−８３６９５号、同６０−１８３８７号、同
６０−１９５８６号、同６０−１９５８７号、同６０−
３５０５４号、同６０−３６１９０号、同６０−３６１
９１号、同６０−４４５５４号、同６０−４４５５５
号、同６０−４４３８９号、同６０−４４３９０号、同
６０−４７０６９号、同６０−２０９９１号、同６０−
７１２９４号、同６０−５４８９２号、同６０−７１２
９５号、同６０−７１２９６号、同６０−７３８９１
号、同６０−７３８９２号、同６０−７３８９３号、同
６０−８３８９２号、同６０−８５４４９号、同６０−
９２８９３号、同６０−１５９０８７号、同６０−１６
２６９１号、同６０−２０３４８８号、同６０−２０１
９８８号、同６０−２３４８８６号、同６０−２３４８
９２号、同６１−１６８９４号、同６１−１１２９２
号、同６１−１１２９４号、同６１−１６８９１号、同
６１−８３８４号、同６１−１４９８８号、同６１−１
６３２４３号、同６１−２１０５３９号、特願昭６０−
５４０１３号、特開昭６２−３００８８号、同６２−３
２１３２号、同６２−３１７９２号、ＣＭＣ出版刊「機
能性色素の化学」Ｐ７４〜７６等に記載されている。

【００３１】なお、クエンチャーは、光吸収色素と別個
に添加しても、結合体の形で添加してもよいが、光吸収
色素の総計の１モルに対し１モル以下、特に０．０５〜
０．５モル程度添加することが好ましい。これにより、
耐光性が向上する。

【００３２】記録層に用いる色素には、上記のような光
吸収性の色素、色素−クエンチャー混合物、色素−クエ
ンチャー結合体から上記範囲のｎおよびｋを有するもの
を選択すればよいが、新たに分子設計を行ない合成して
もよい。

【００３３】なお、色素の記録光および再生光に対する
ｋは、その骨格や置換基により０〜２程度まで種々変化
しているため、例えばｋが０．０３〜０．２５の色素を
選定するに際しては、その骨格や置換基に制限がある。
このため、塗布溶剤に制限を生じたり、基板材質によっ
ては塗工できないこともある。あるいは気相成膜できな
いこともある。また、新たに分子設計を行なう場合、設
計および合成に大きな労力を必要とする。

【００３４】一方、本発明者らの実験によれば、２種以
上の色素を含有する混合色素層のｋは、用いる各色素単
独から構成される色素層のｋに応じ、その混合比にほぼ
対応する値になることが判明した。従って、本発明で
は、記録層３は２種以上の色素を相溶して形成されても
よい。

【００３５】この際、ほとんどの色素の混合系で混合比
にほぼ比例したｋが得られるものである。すなわち、ｉ
種の色素の混合分率およびｋをそれぞれＣｉおよびｋｉ
としたとき、ｋは、ほぼΣＣｉｋｉとなる。従って、ｋ
の異なる色素同士を、混合比を制御して混合することに
より、ｋ＝０．０３〜０．２５の色素層を得ることがで
きる。このため、きわめて広い範囲の色素群の中から用
いる色素を選択することができる。

【００３６】このことは、波長依存性の改善にも適用で
きる。半導体レーザーの波長は通常±１０nmの範囲にあ
り、市販のＣＤプレーヤにおいては、７７０nmから７９
０nmの範囲で７０％以上の反射率を確保する必要があ
る。一般に色素のｋ値は大きな波長依存性をもつものが
多く、７８０nmでは適切な値であっても、７７０nmある
いは７９０nmでは大きくはずれてしまう場合が多い。こ
のような場合には、第二の色素を混合することによっ
て、７８０±１０nmの範囲で常に適切なｎおよびｋ値が
得られるように設定することができる。

【００３７】この結果、塗布溶剤等の制約などの制限が
緩和され、また、合成が容易で安価な色素の使用や、特
性の良好な色素の使用や、難溶性の色素の使用をも可能
とすることができる。

【００３８】記録層３を混合色素層とする場合、用いる
色素は、ｎ＝１．６〜６．５、ｋ＝０〜２の範囲内のも
のから選択すればよい。

【００３９】なお、ｎおよびｋの測定に際しては、所定
の透明基板上に記録層を例えば４００〜１０００A 程度
の厚さに実際の条件にて設層して、測定用サンプルを作
製する。次いで、この測定用サンプルの基板を通しての
反射率あるいは記録層側からの反射率を測定する。反射
率は、記録再生光波長を用いて鏡面反射（５°程度）に
て測定する。また、サンプルの透過率を測定する。これ
らの測定値から、例えば、共立全書「光学」石黒浩三Ｐ
１６８〜１７８に準じ、ｎ、ｋを算出すればよい。

【００４０】記録層は、色素および有機溶剤を含有する
塗布液を用い、この塗布液を回転する基板上に展開塗布
するスピンコート法により形成される。

【００４１】記録形成のための塗布液に用いる有機溶剤
としては、アルコール系、ケトン系、エステル系、エー
テル系、芳香族系、ハロゲン化アルキル系等から、用い
る色素に応じて適宜選択すればよいが、一分子中に２つ
以上の官能基を有する有機溶剤が好適である。

【００４２】スピンコート後、必要に応じて塗膜を乾燥
させる。

【００４３】このようにして形成される記録層の厚さ
は、目的とする反射率などに応じて適宜設定されるもの
であるが、通常、１０００〜３０００A 程度である。

【００４４】記録層３上には、直接密着して反射層４が
設層される。反射層４は、ＡｇまたはＡｇ系合金から構
成されるが、反射率が高いこと、耐食性が良好であるこ
とからＡｇが好ましい。Ａｇ系合金としては、Ａｇに加
え、Ｃｕ、Ｔｉ、Ｖ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｆ
ｅ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ａｕ、Ａｌ等から
選択される１種以上の元素を含むものが好ましいが、高
反射率を得るためにはＡｇの含有率を４０原子％以上と
することが好ましい。Ａｇ−Ｃｕ合金はＡｕと同様な色
彩を有するので従来好ましく用いられていたが、本発明
では保護層がＡｕと同様な色彩を有するため、反射層に
Ａｇ−Ｃｕ合金を用いる必要はない。

【００４５】反射層上には、密着して保護層５が設層さ
れる。保護層５は、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｃｒ、Ｍｇ、Ｃａおよ
びＢａからなる群より選ばれる１種以上の元素とＮとを
含有する。これらのうちでは、特にＴｉが好ましい。保
護層中の窒素含有率は特に限定されず、耐食性が良好な
範囲、さらに、所望の金色を呈する範囲から適宜選択す
ればよいが、通常、窒素Ｎと金属元素Ｍとの原子比Ｎ／
Ｍが０．２〜５程度となるようにすることが好ましい。

【００４６】反射層４および保護層５を形成するには、
スパッタリング等の各種気相成膜法を用いればよい。Ｎ
を含有させる場合には、反応性スパッタを用いてもよ
く、スパッタターゲットに窒化物を用いてもよい。

【００４７】反射層４の厚さは、２００A 以上であるこ
とが好ましい。反射層の厚さが前記範囲未満となると反
射率が不十分となる傾向にある。保護層５の厚さは１０
０A以上であることが好ましい。保護層の厚さが前記範
囲未満となると反射層の保護効果が不十分となる傾向に
ある。また、反射層の厚さと保護層の厚さの合計は６０
０A 以上であることが好ましい。合計厚さが前記未満と
なると、反射層と保護層との積層体の強度が不十分とな
る傾向にある。合計厚さに特に上限は設けないが、２０
００A を超える厚さとする必要はない。

【００４８】反射層を上記のような構成とすることによ
り、反射層単独では９０％以上の反射率が得られ、ま
た、光記録ディスクとしたときの基板を通しての反射率
（未記録部）は、６０％以上、特に７０％以上が得られ
る。

【００４９】保護層５上には、図示例のように有機保護
コート６が設けられることが好ましいが、設けなくても
よい。

【００５０】有機保護コート６は、保護層５の損傷を避
けるためにスピンコート法により形成されることが好ま
しいが、スクリーン印刷法、ディッピング法またはスプ
レーコート法等を用いてもよい。有機保護コート６の形
成条件は特に限定されず、塗布液の粘度や目的とする厚
さなどに応じて適宜決定すればよい。

【００５１】有機保護コートの厚さは１〜２０μm 程度
とすることが好ましい。厚さが前記範囲未満となると、
設けたことによる効果が不十分となる傾向にある。厚さ
が前記範囲を超えると、硬化の際の収縮によりクラック
が生じたり、ディスクに反りが発生しやすくなってく
る。

【００５２】なお、必要に応じて有機保護コートを２層
以上の多層構成としてもよい。

【００５３】有機保護コート６は、放射線硬化樹脂から
構成することが好ましい。具体的には、放射線硬化型化
合物やその重合用組成物を放射線硬化させた物質から構
成されることが好ましい。このようなものとしては、イ
オン化エネルギーに感応し、ラジカル重合性を示す不飽
和二重結合を有するアクリル酸、メタクリル酸、あるい
はそれらのエステル化合物のようなアクリル系二重結
合、ジアリルフタレートのようなアリル系二重結合、マ
レイン酸、マレイン酸誘導体等の不飽和二重結合等の放
射線照射による架橋あるいは重合する基を分子中に含有
または導入したモノマー、オリゴマーおよびポリマー等
を挙げることができる。これらは多官能、特に３官能以
上であることが好ましく、１種のみ用いても２種以上併
用してもよい。

【００５４】放射線硬化性モノマーとしては、分子量２
０００未満の化合物が、オリゴマーとしては分子量２０
００〜１００００のものが好適である。これらはスチレ
ン、エチルアクリレート、エチレングリコールジアクリ
レート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチ
レングリコールジアクリレート、ジエチレングリコール
メタクリレート、1,6-ヘキサングリコールジアクリレー
ト、1,6-ヘキサングリコールジメタクリレート等も挙げ
られるが、特に好ましいものとしては、ペンタエリスリ
トールテトラアクリレート（メタクリレート) 、ペンタ
エリスリトールアクリレート（メタクリレート) 、トリ
メチロールプロパントリアクリレート（メタクリレー
ト) 、トリメチロールプロパンジアクリレート（メタク
リレート)、ウレタンエラストマーのアクリル変性体、
あるいはこれらのものにＣＯＯＨ等の官能基が導入され
たもの、フェノールエチレンオキシド付加物のアクリレ
ート（メタクリレート) 、特願昭６２−０７２８８８号
に示されるペンタエリスリトール縮合環にアクリル基
（メタクリル基）またはε−カプロラクトン−アクリル
基のついた化合物、および特願昭６２−０７２８８８号
に示される特殊アクリレート類等のアクリル基含有モノ
マーおよび／またはオリゴマーが挙げられる。この他、
放射線硬化性オリゴマーとしては、オリゴエステルアク
リレートやウレタンエラストマーのアクリル変性体、あ
るいはこれらのものにＣＯＯＨ等の官能基が導入された
もの等が挙げられる。

【００５５】また、上記の化合物に加えて、あるいはこ
れにかえて熱可塑性樹脂を放射線感応変性することによ
って得られる放射線硬化型化合物を用いてもよい。この
ような放射線硬化性樹脂の具体例としては、ラジカル重
合性を示す不飽和二重結合を有するアクリル酸、メタク
リル酸、あるいはそれらのエステル化合物のようなアク
リル系二重結合、ジアリルフタレートのようなアリル系
二重結合、マレイン酸、マレイン酸誘導体等の不飽和結
合等の、放射線照射による架橋あるいは重合する基を熱
可塑性樹脂の分子中に含有、または導入した樹脂であ
る。放射線硬化性樹脂に変性できる熱可塑性樹脂の例と
しては、塩化ビニル系共重合体、飽和ポリエスルテル樹
脂、ポリビニルアルコール系樹脂、エポキシ系樹脂、フ
ェノキシ系樹脂、繊維素誘導体等を挙げることができ
る。その他、放射線感応変性に用いることのできる樹脂
としては、多官能ポリエステル樹脂、ポリエーテルエス
テル樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂および誘導体（Ｐ
ＶＰオレフィン共重合体）、ポリアミド樹脂、ポリイミ
ド樹脂、フェノール樹脂、スピロアセタール樹脂、水酸
基を含有するアクリルエステルおよびメタクリルエステ
ルを重合成分として少くとも一種含むアクリル系樹脂等
も有効である。

【００５６】重合用塗布組成物は放射線照射、特に紫外
線照射により硬化されるので、重合用組成物中には光重
合開始剤ないし増感剤が含有されることが好ましい。用
いる光重合開始剤ないし増感剤に特に制限はなく、例え
ば、アセトフェノン系、ベンゾイン系、ベンゾフェノン
系、チオキサントン系等の通常のものから適宜選択すれ
ばよい。なお、光重合開始剤ないし増感剤として、複数
の化合物を併用してもよい。重合用組成物中における光
重合開始剤の含有量は、通常０．５〜５重量％程度とす
ればよい。このような重合用組成物は、常法に従い合成
してもよく、市販の化合物を用いて調製してもよい。

【００５７】有機保護コートを形成するための放射線硬
化型化合物を含有する組成物としては、エポキシ樹脂お
よび光カチオン重合触媒を含有する組成物も好適に使用
される。

【００５８】エポキシ樹脂としては、脂環式エポキシ樹
脂が好ましく、特に、分子内に２個以上のエポキシ基を
有するものが好ましい。脂環式エポキシ樹脂としては、
３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポ
キシシクロヘキサンカルボキシレート、ビス−（３，４
−エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート、ビス−
（３，４−エポキシシクロヘキシル）アジペート、２−
（３，４−エポキシシクロヘキシル−５，５−スピロ−
３，４−エポキシ）シクロヘキサン−メタ−ジオキサ
ン、ビス（２，３−エポキシシクロペンチル）エーテ
ル、ビニルシクロヘキセンジオキシド等の１種以上が好
ましい。脂環式エポキシ樹脂のエポキシ当量に特に制限
はないが、良好な硬化性が得られることから、６０〜３
００、特に１００〜２００であることが好ましい。

【００５９】光カチオン重合触媒は、公知のいずれのも
のを用いてもよく、特に制限はない。例えば、１種以上
の金属フルオロホウ酸塩および三フッ化ホウ素の錯体、
ビス（ペルフルオロアルキルスルホニル）メタン金属
塩、アリールジアゾニウム化合物、６Ａ族元素の芳香族
オニウム塩、５Ａ族元素の芳香族オニウム塩、３Ａ族〜
５Ａ族元素のジカルボニルキレート、チオピリリウム
塩、ＭＦ₆ アニオン（ただしＭは、Ｐ、ＡｓまたはＳ
ｂ）を有する６Ａ族元素、トリアリールスルホニウム錯
塩、芳香族イオドニウム錯塩、芳香族スルホニウム錯塩
等を用いることができ、特に、ポリアリールスルホニウ
ム錯塩、ハロゲン含有錯イオンの芳香族スルホニウム塩
またはイオドニウム塩、３Ａ族元素、５Ａ族元素および
６Ａ族元素の芳香族オニウム塩の１種以上を用いること
が好ましい。

【００６０】また、有機金属化合物と光分解性を有する
有機けい素化合物とを含有する光カチオン重合触媒も用
いることができる。このような光カチオン重合触媒は非
強酸系であるため、光磁気記録ディスクの腐食性の高い
記録層に対する悪影響を避けることができる。有機金属
化合物としては、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、
Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ａl 、Ｚｒ等の金属原子に、アルコ
キシ基、フェノキシ基、β−ジケトナト基等が結合した
錯体化合物が好ましい。これらのうち特に有機アルミニ
ウム化合物が好ましく、具体的には、トリスメトキシア
ルミニウム、トリスプロピオナトアルミニウム、トリス
トリフルオロアセチルアルミニウム、トリスエチルアセ
トアセトナトアルミニウムが好ましい。

【００６１】光分解性を有する有機けい素化合物は、紫
外線等の光照射によりシラノールを生じるものであり、
ペルオキシシラノ基、ｏ−ニトロベンジル基、α−ケト
シリル基等を有するけい素化合物が好ましい。

【００６２】組成物中の光カチオン重合触媒の含有量
は、エポキシ樹脂１００重量部に対し、０．０５〜０．
７重量部、特に０．１〜０．５重量部であることが好ま
しい。

【００６３】このようななかでも、放射線硬化型化合物
としてアクリル基を有するものを用い、光重合増感剤な
いし開始剤を含有する塗膜を放射線、特に紫外線硬化し
たものであることが好ましい。

【００６４】有機保護コートを形成する際には、上記し
たような重合用組成物の塗膜に紫外線を照射して硬化す
るが、場合によっては、加熱後に紫外線を照射してもよ
く、紫外線のかわりに電子線等を照射してもよい。塗膜
に照射する紫外線強度は、通常、５０mW/cm²程度以上、
照射量は、通常、５００〜２０００mJ/cm²程度とすれば
よい。また、紫外線源としては、水銀灯などの通常のも
のを用いればよい。紫外線の照射により、上記各化合物
はラジカル重合する。

【００６５】なお、有機保護コートには、必要に応じて
各種顔料粒子が含まれていてもよい。

【００６６】また、有機保護コート６上には、少なくと
も１層の印刷層から構成されるレーベル印刷層が設けら
れてもよい。レーベル印刷層は、各種顔料を含有する放
射線硬化樹脂組成物を印刷し、これを硬化して形成する
ことが好ましいが、この他、熱硬化性インキを用いても
よい。

【００６７】このような構成の光記録ディスク１に記録
ないし追記を行なうには、例えば７８０nmの記録光を、
基板２を通してパルス状に照射し、照射部の光反射率を
変化させる。なお、記録光を照射すると、記録層３が光
を吸収して発熱し、同時に基板２も加熱される。この結
果、基板２と記録層３との界面近傍において、色素等の
記録層材質の融解や分解が生じ、記録層３と基板２との
界面に圧力が加わり、グルーブの底面や側壁を変形させ
ることがある。

【００６８】

【実施例】以下、本発明の具体的実施例を示し、本発明
をさらに詳細に説明する。

【００６９】図１に示される構成の光記録ディスクサン
プルを作製した。まず、渦巻状の連続グルーブを有する
直径１２０mm、厚さ１．２mmのポリカーボネート樹脂基
板２上に、スピンコート法により色素を含有する記録層
３を形成した。この記録層３上に、反射層４および保護
層５を形成し、さらに、有機保護コート６を順次形成し
た。

【００７０】記録層３形成に用いた塗布液は、色素およ
び有機溶剤を含有するものであり、色素としては、下記
色素Ａ１およびＡ２ならびに一重項酸素クエンチャーを
用い、色素中のＡ１含有率は６０重量％、Ａ２含有率は
３０重量％、一重項酸素クエンチャー含有率は１０重量
％とした。

【００７１】

【化１】

【００７２】また、有機溶剤としては、ジアセトンアル
コールを用いた。そして、塗布液中の色素含有率は５重
量％とした。また、記録層の厚さは２００nmとした。

【００７３】反射層および保護層は、スパッタ法により
形成した。各層の含有元素および厚さを下記表１に示
す。反射層形成にはＡｇ₈₀Ｃｕ₂₀ターゲットを用い、保
護層形成にはＴｉＮターゲットを用いた。なお、比較の
ために、保護層を有しないサンプルも作製した。

【００７４】有機保護コートは、紫外線硬化型樹脂（大
日本インキ製ＳＤ−１７）をスピンコートにより塗工
し、紫外線硬化を行なって形成した。硬化後の有機保護
コートの厚さは５μm であった。

【００７５】上記各サンプルについて、市販のコンパク
トディスクプレーヤで再生を行ない、ＢＬＥＲ（ブロッ
クエラーレート）を測定した。また、８０℃、８０％Ｒ
Ｈの環境で１００時間保存後にも同様な測定を行なっ
た。これらの結果を表１に示す。ＢＬＥＲは１０分間測
定し、１秒あたりの平均値を示した。なお、ＢＬＥＲの
ＣＤ規格は、２２０（カウント／秒）以下である。

【００７６】

【表１】

【００７７】表１に示される結果から、本発明の効果が
明らかである。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の光記録ディスクの一例を示す部分断面
図である。

【符号の説明】

１光記録ディスク２基板２１グルーブ３記録層４反射層５保護層６有機保護コート

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者甕敦子東京都中央区日本橋一丁目13番１号ティーディーケイ株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板上に、色素を主成分とする塗布型の
記録層を有し、前記記録層上に反射層を有し、前記反射
層上に保護層を有し、前記反射層がＡｇまたはＡｇ系合金から構成され、前記
保護層がＴｉ、Ｚｒ、Ｃｒ、Ｍｇ、ＣａおよびＢａから
なる群より選ばれる１種以上の元素とＮとを含有するこ
とを特徴とする光記録ディスク。
【請求項２】前記保護層の厚さが１００A 以上である
請求項１の光記録ディスク。
【請求項３】前記反射層の厚さが２００A 以上である
請求項１または２の光記録ディスク。