JPH0660808B2 - 微小変位測定方法および微小変位測定装置 - Google Patents
微小変位測定方法および微小変位測定装置Info
- Publication number
- JPH0660808B2 JPH0660808B2 JP18134586A JP18134586A JPH0660808B2 JP H0660808 B2 JPH0660808 B2 JP H0660808B2 JP 18134586 A JP18134586 A JP 18134586A JP 18134586 A JP18134586 A JP 18134586A JP H0660808 B2 JPH0660808 B2 JP H0660808B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- diffraction grating
- light
- beat signal
- phase difference
- optical heterodyne
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
- G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
- G03F9/7049—Technique, e.g. interferometric
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
- G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
- G03F9/7003—Alignment type or strategy, e.g. leveling, global alignment
- G03F9/7023—Aligning or positioning in direction perpendicular to substrate surface
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Optical Transform (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、回折格子を用いて物体の微小な変位測定を行
なう方法およびそのための装置に関するものである。
なう方法およびそのための装置に関するものである。
ＬＳＩの高集積化に伴い、微細化する集積回路パタンを
高精度で露光，転写する紫外線またはＸ線露光装置、あ
るいは高精度でパタン描画する電子ビーム露光装置等に
おいては、ステージの精密位置検出ならびに位置決めを
行なう移動量（変位）測定技術の進展は不可欠のものと
なっている。
高精度で露光，転写する紫外線またはＸ線露光装置、あ
るいは高精度でパタン描画する電子ビーム露光装置等に
おいては、ステージの精密位置検出ならびに位置決めを
行なう移動量（変位）測定技術の進展は不可欠のものと
なっている。
従来より回析格子を用いて微小な変位測定を行なう方法
として、光ヘテロダイン干渉を利用するものが提案され
ており、第５図にそのような回折格子と光ヘテロダイン
干渉とを組み合わせた微小変位測定装置の一例を示す。
第５図において符号１は、周波数が互いにわずかに異な
り、かつ偏光面が互いに直交する２波長の単色光を発す
る２波長直交偏光レーザ光源、２はビームスプリッタ
ー、３ａ，３ｂは集光レンズ、４ａ，４ｂは偏光板、５
ａ，５ｂは光検出器、６ａ，６ｂはプレアンプ、７ａ，
７ｂ，７ｃ，７ｄは平面ミラー、８は偏光ビームスプリ
ッター、９は反射型回折格子、１０は移動ステージ、１
１はステージ駆動部、１２は検出信号処理部、１３は変
位表示部、１４，１５は入射光、１６は合成回折光であ
る。
として、光ヘテロダイン干渉を利用するものが提案され
ており、第５図にそのような回折格子と光ヘテロダイン
干渉とを組み合わせた微小変位測定装置の一例を示す。
第５図において符号１は、周波数が互いにわずかに異な
り、かつ偏光面が互いに直交する２波長の単色光を発す
る２波長直交偏光レーザ光源、２はビームスプリッタ
ー、３ａ，３ｂは集光レンズ、４ａ，４ｂは偏光板、５
ａ，５ｂは光検出器、６ａ，６ｂはプレアンプ、７ａ，
７ｂ，７ｃ，７ｄは平面ミラー、８は偏光ビームスプリ
ッター、９は反射型回折格子、１０は移動ステージ、１
１はステージ駆動部、１２は検出信号処理部、１３は変
位表示部、１４，１５は入射光、１６は合成回折光であ
る。
この装置においては、２波長直交偏光レーザ光源１から
発したレーザ光の一部をビームスプリッター２を介して
取り出し、集光レンズ３ａでレーザ光を集光し、偏光板
４ａを用いて光ヘテロダイン干渉させ、光検出器５ａで
検出してプレアンプ６ａを通し、基準ビート信号として
検出信号処理部１２に入力する。一方、２波長直交偏光
レーザ光源１から発した光の一部は、ビームスプリッタ
ー２，平面ミラー７ａを介して偏光ビームスプリッター
８に入る。偏光ビームスプリッター８により偏光面が互
いに直交し周波数がわずかに異なる二つの単色光、すな
わちＰ偏光の入射光１４とＳ偏光の入射光１５に分割
し、これらを平面ミラー７ｂ，７ｃを介して後述する所
定の入射角で反射型回折格子９に入射する。回折格子９
から得られる２波長の回折光を光学的に合成し、合成回
折光１６として平面ミラー７ｄ，集光レンズ３ｂ，偏光
板４ｂを通し、光ヘテロダイン干渉させて光検出器５ｂ
で検出し、回折光ビート信号としてプレアンプ６ｂを通
して上記の検出信号処理部１２に入力する。検出信号処
理部１２では、回折格子９の変位に対応した基準ビート
信号と回折光ビート信号との位相差を検出し、その位相
差を変位量に換算して変位表示部１３で回折格子９の変
位量を表示する。また、位相差があらかじめ設定した任
意の値で一定となるように、検出信号処理部１２よりス
テージ駆動部１１に制御信号を送り、回折格子９を定め
られた位置にサーボ制御することもできる。
発したレーザ光の一部をビームスプリッター２を介して
取り出し、集光レンズ３ａでレーザ光を集光し、偏光板
４ａを用いて光ヘテロダイン干渉させ、光検出器５ａで
検出してプレアンプ６ａを通し、基準ビート信号として
検出信号処理部１２に入力する。一方、２波長直交偏光
レーザ光源１から発した光の一部は、ビームスプリッタ
ー２，平面ミラー７ａを介して偏光ビームスプリッター
８に入る。偏光ビームスプリッター８により偏光面が互
いに直交し周波数がわずかに異なる二つの単色光、すな
わちＰ偏光の入射光１４とＳ偏光の入射光１５に分割
し、これらを平面ミラー７ｂ，７ｃを介して後述する所
定の入射角で反射型回折格子９に入射する。回折格子９
から得られる２波長の回折光を光学的に合成し、合成回
折光１６として平面ミラー７ｄ，集光レンズ３ｂ，偏光
板４ｂを通し、光ヘテロダイン干渉させて光検出器５ｂ
で検出し、回折光ビート信号としてプレアンプ６ｂを通
して上記の検出信号処理部１２に入力する。検出信号処
理部１２では、回折格子９の変位に対応した基準ビート
信号と回折光ビート信号との位相差を検出し、その位相
差を変位量に換算して変位表示部１３で回折格子９の変
位量を表示する。また、位相差があらかじめ設定した任
意の値で一定となるように、検出信号処理部１２よりス
テージ駆動部１１に制御信号を送り、回折格子９を定め
られた位置にサーボ制御することもできる。
ここで、回折格子９の変位量ΔＸと、基準ビート信号お
よび回折光ビート信号の位相差Δφとの関係について第
６図を参照して説明する。第６図において符号１７は反
射型回折格子、１８ａ，１８ｂは波長λ１の入射光、１
９ａ，１９ｂは波長λ２の入射光、２０ａ，２０ｂは合
成回折光である。
よび回折光ビート信号の位相差Δφとの関係について第
６図を参照して説明する。第６図において符号１７は反
射型回折格子、１８ａ，１８ｂは波長λ１の入射光、１
９ａ，１９ｂは波長λ２の入射光、２０ａ，２０ｂは合
成回折光である。
偏光面が互いに直交し、かつ周波数が互いにわずかにず
れている波長λ１，波長λ２の入射光１８ａ，１９ａ
が、回折格子１７の格子面の法線方向に対してそれぞれ
ｎ次回折角θｎ１，θｎ２で回折格子１７の例えばＡ点
に入射した場合、回折格子１７のＡ点から格子面の法線
方向に入射光１８ａ，１９ａのｎ次回折光それぞれが出
射する。それらのｎ次回折光は、格子面の法線方向にお
いて光学的に合成されて合成回折光２０ａとなり、光ヘ
テロダイン干渉ビート信号検出が可能となる。ここで、
回折格子１７が格子ラインに直交する方向に変位量ΔＸ
移動してＡ点がＡ′点に変位した場合、同様に入射光１
８ｂ，１９ｂに対してそれぞれのｎ次回折光が出射し、
それらが光学的に合成されて合成回折光２０ｂとなる。
回折格子１７の格子ピッチをＰとすると、ｎ次回折角θ
ｎ１，θｎ２、波長λ１，λ２の間にはsin θｎ１＝ｎ・λ１／Ｐ（ｎは正の整数）……（１）sin θｎ２＝ｎ・λ２／Ｐ（ 〃 ）……（２） の関係がある。回折格子１７がΔＸだけ変位することに
より、入射光１８ａと１８ｂとにはΔＸ・sinθｎ１，
入射光１９ａと１９ｂとには−ΔＸ・sinθｎ２の光路
長差がそれぞれ生じる。したがって、合成回折光２０ａ
と２０ｂとから得られる光ヘテロダイン干渉ビート信号
には、位相差Δφが生じ、このΔφは、 Δφ＝（２π・ΔＸ・sinθｎ１／λ１） ＋（２π・ΔＸ・sinθｎ２／λ２）…（３） となる。（３）式に（１），（２）式を代入すると、 となり、位相差Δφは、回折格子１７の変位ΔＸに対し
Ｐ／２ｎを周期として変化する。
れている波長λ１，波長λ２の入射光１８ａ，１９ａ
が、回折格子１７の格子面の法線方向に対してそれぞれ
ｎ次回折角θｎ１，θｎ２で回折格子１７の例えばＡ点
に入射した場合、回折格子１７のＡ点から格子面の法線
方向に入射光１８ａ，１９ａのｎ次回折光それぞれが出
射する。それらのｎ次回折光は、格子面の法線方向にお
いて光学的に合成されて合成回折光２０ａとなり、光ヘ
テロダイン干渉ビート信号検出が可能となる。ここで、
回折格子１７が格子ラインに直交する方向に変位量ΔＸ
移動してＡ点がＡ′点に変位した場合、同様に入射光１
８ｂ，１９ｂに対してそれぞれのｎ次回折光が出射し、
それらが光学的に合成されて合成回折光２０ｂとなる。
回折格子１７の格子ピッチをＰとすると、ｎ次回折角θ
ｎ１，θｎ２、波長λ１，λ２の間にはsin θｎ１＝ｎ・λ１／Ｐ（ｎは正の整数）……（１）sin θｎ２＝ｎ・λ２／Ｐ（ 〃 ）……（２） の関係がある。回折格子１７がΔＸだけ変位することに
より、入射光１８ａと１８ｂとにはΔＸ・sinθｎ１，
入射光１９ａと１９ｂとには−ΔＸ・sinθｎ２の光路
長差がそれぞれ生じる。したがって、合成回折光２０ａ
と２０ｂとから得られる光ヘテロダイン干渉ビート信号
には、位相差Δφが生じ、このΔφは、 Δφ＝（２π・ΔＸ・sinθｎ１／λ１） ＋（２π・ΔＸ・sinθｎ２／λ２）…（３） となる。（３）式に（１），（２）式を代入すると、 となり、位相差Δφは、回折格子１７の変位ΔＸに対し
Ｐ／２ｎを周期として変化する。
すなわち、前記第５図における回折格子９からの合成回
折光１６が入射光１４，１５のｎ次回折光の合成回折光
である場合、前記光検出器６ａ，６ｂで検出される基準
ビート信号と回折光ビート信号との位相差Δφは、回折
格子９の格子ピッチをＰとすると、回折格子９の変位量
Ｐ／２ｎを１周期として変化する。したがって、検出信
号処理部１２において例えば位相検波し、位相差をＤＣ
信号に変換し、例えば位相差０゜ごとにＤＣ信号からパ
ルス信号を生成し、そのパルス信号をカウントすること
によって、分解能Ｐ／２ｎの精度で回折格子９の変位測
定が可能である。さらに、位相差０゜から３６０゜まで
のＤＣ信号変化を例えば１／３６０に補間して位相差の
検出分解能を１゜に設定し、前記パルス間の回折格子の
変位を位相差検出することにより、回折格子９の変位を
分解能Ｐ／（２ｎ・３６０）で検出することができる。
なお、回折格子９の変位の方向は、基準ビート信号に対
する回折光ビート信号の位相差の正負を弁別することに
より容易に判定することができる。
折光１６が入射光１４，１５のｎ次回折光の合成回折光
である場合、前記光検出器６ａ，６ｂで検出される基準
ビート信号と回折光ビート信号との位相差Δφは、回折
格子９の格子ピッチをＰとすると、回折格子９の変位量
Ｐ／２ｎを１周期として変化する。したがって、検出信
号処理部１２において例えば位相検波し、位相差をＤＣ
信号に変換し、例えば位相差０゜ごとにＤＣ信号からパ
ルス信号を生成し、そのパルス信号をカウントすること
によって、分解能Ｐ／２ｎの精度で回折格子９の変位測
定が可能である。さらに、位相差０゜から３６０゜まで
のＤＣ信号変化を例えば１／３６０に補間して位相差の
検出分解能を１゜に設定し、前記パルス間の回折格子の
変位を位相差検出することにより、回折格子９の変位を
分解能Ｐ／（２ｎ・３６０）で検出することができる。
なお、回折格子９の変位の方向は、基準ビート信号に対
する回折光ビート信号の位相差の正負を弁別することに
より容易に判定することができる。
ところが、上記従来の微小変位測定装置においては、回
折格子面の法線方向についての微小変位を検出できない
という欠点があった。
折格子面の法線方向についての微小変位を検出できない
という欠点があった。
このことについて、第７図を参照して説明する。第７図
において符号２１は反射型回折格子、２２ａ，２２ｂは
波長λ１の入射光、２３ａ，２３ｂは波長λ２の入射
光、２４ａ，２４ｂは合成回折光である。波長λ１，λ
２のレーザー光の入射角はそれぞれｎ次回折角θｎ１，
θｎ２である。
において符号２１は反射型回折格子、２２ａ，２２ｂは
波長λ１の入射光、２３ａ，２３ｂは波長λ２の入射
光、２４ａ，２４ｂは合成回折光である。波長λ１，λ
２のレーザー光の入射角はそれぞれｎ次回折角θｎ１，
θｎ２である。
入射光２２ａ，２３ａが回折格子２１のＢ点に入射した
場合、格子面の法線方向に入射光２２ａ，２３ａのｎ次
回折光がそれぞれ出射し、それらが光学的に合成されて
合成回折光２４ａとなる。ここで、回折格子２１が法線
方向に変位量ΔＺ移動してＢ点がＢ′点に変位した場
合、同様に入射光２２ｂ，２３ｂに対してｎ次回折光が
それぞれ出射して合成回折光２４ｂとなる。入射光２２
ａと２２ｂとには−ΔＺ（１＋cos θｎ１），入射光２
３ａと２３ｂとには−ΔＺ（１＋cos θｎ２）の光路長
差がそれぞれ生じるので、合成回折光２４ａと２４ｂと
から得られる光ヘテロダイン干渉ビート信号には位相差
Δφが生じ、このΔφは、 Δφ＝｛２π・ΔＺ（１＋cos θｎ２）／λ２｝ −｛２π・ΔＺ（１＋cos θｎ１）／λ１｝ ＝２π・ΔＺ・｛（λ１−λ２） ＋（λ１cos θｎ２−λ２cos θｎ１）｝ ／λ１λ２ ……（５） となる。
場合、格子面の法線方向に入射光２２ａ，２３ａのｎ次
回折光がそれぞれ出射し、それらが光学的に合成されて
合成回折光２４ａとなる。ここで、回折格子２１が法線
方向に変位量ΔＺ移動してＢ点がＢ′点に変位した場
合、同様に入射光２２ｂ，２３ｂに対してｎ次回折光が
それぞれ出射して合成回折光２４ｂとなる。入射光２２
ａと２２ｂとには−ΔＺ（１＋cos θｎ１），入射光２
３ａと２３ｂとには−ΔＺ（１＋cos θｎ２）の光路長
差がそれぞれ生じるので、合成回折光２４ａと２４ｂと
から得られる光ヘテロダイン干渉ビート信号には位相差
Δφが生じ、このΔφは、 Δφ＝｛２π・ΔＺ（１＋cos θｎ２）／λ２｝ −｛２π・ΔＺ（１＋cos θｎ１）／λ１｝ ＝２π・ΔＺ・｛（λ１−λ２） ＋（λ１cos θｎ２−λ２cos θｎ１）｝ ／λ１λ２ ……（５） となる。
ところが、波長λ１，λ２のレーザ光の周波数差Δｆす
なわちビート信号の周波数は、例えば数十ＫＨｚ〜数Ｍ
Ｈｚ程度であって光の周波数に比べて非常に小さく、 ｜λ１−λ２｜＝（Δｆ／Ｃ）・λ１・λ２ ≒０ （Ｃは光速） ……（６） となり、λ１≒λ２，θｎ１≒θｎ２となって、（５）
式の位相差ΔφはΔＺの値に関係なく常に０となってし
まう。
なわちビート信号の周波数は、例えば数十ＫＨｚ〜数Ｍ
Ｈｚ程度であって光の周波数に比べて非常に小さく、 ｜λ１−λ２｜＝（Δｆ／Ｃ）・λ１・λ２ ≒０ （Ｃは光速） ……（６） となり、λ１≒λ２，θｎ１≒θｎ２となって、（５）
式の位相差ΔφはΔＺの値に関係なく常に０となってし
まう。
このように、従来の微小変位測定装置においては回折格
子面の法線方向についての微小変位ΔＺを検出できない
ものであった。したがって紫外線露光装置における焦点
合わせ、あるいはＸ線露光装置におけるマスク・ウエハ
間のギャップ設定等のウエハ面の法線方向の制御が必要
不可欠な場合には、上記のような従来の装置は適用でき
ないものであった。このため従来においては、２方向の
変位を測定するためには他の測定装置を用いなければな
らず、装置が大型化，複雑化するという問題を有してい
た。
子面の法線方向についての微小変位ΔＺを検出できない
ものであった。したがって紫外線露光装置における焦点
合わせ、あるいはＸ線露光装置におけるマスク・ウエハ
間のギャップ設定等のウエハ面の法線方向の制御が必要
不可欠な場合には、上記のような従来の装置は適用でき
ないものであった。このため従来においては、２方向の
変位を測定するためには他の測定装置を用いなければな
らず、装置が大型化，複雑化するという問題を有してい
た。
本発明は上記の事情に鑑みてなされたもので、回折格子
面の法線方向の微小変位についても測定することのでき
る方法およびそのための装置を提供することを目的とし
ている。
面の法線方向の微小変位についても測定することのでき
る方法およびそのための装置を提供することを目的とし
ている。
この発明の微小変位測定方法は、周波数が互いにわずか
に異なる２波長の単色光を合成し光ヘテロダイン干渉さ
せて基準ビート信号を生成するとともに、前記２波長の
単色光のいずれか一方を分光してそれら分光した単色光
をそれぞれ互いに異なる方向から物体上に固定した回折
格子に対して入射させ、かつ前記２波長の単色光の他方
を前記回折格子に対して入射させて前記一方の単色光の
それぞれの分光の回折光と前記他方の単色光の回折光と
をそれぞれ合成して第１および第２の光ヘテロダイン干
渉ビート信号を生成し、前記基準ビート信号と前記第１
の光ヘテロダイン干渉ビート信号との位相差、および前
記基準ビート信号と前記第２の光ヘテロダイン干渉ビー
ト信号との位相差をそれぞれ検出することによって、そ
れら位相差から前記物体の前記回折格子の格子ラインに
直交する方向の微小変位およびその回折格子の法線方向
の微小変位をそれぞれ測定することを特徴としている。
に異なる２波長の単色光を合成し光ヘテロダイン干渉さ
せて基準ビート信号を生成するとともに、前記２波長の
単色光のいずれか一方を分光してそれら分光した単色光
をそれぞれ互いに異なる方向から物体上に固定した回折
格子に対して入射させ、かつ前記２波長の単色光の他方
を前記回折格子に対して入射させて前記一方の単色光の
それぞれの分光の回折光と前記他方の単色光の回折光と
をそれぞれ合成して第１および第２の光ヘテロダイン干
渉ビート信号を生成し、前記基準ビート信号と前記第１
の光ヘテロダイン干渉ビート信号との位相差、および前
記基準ビート信号と前記第２の光ヘテロダイン干渉ビー
ト信号との位相差をそれぞれ検出することによって、そ
れら位相差から前記物体の前記回折格子の格子ラインに
直交する方向の微小変位およびその回折格子の法線方向
の微小変位をそれぞれ測定することを特徴としている。
また、この発明の微小変位測定装置は、物体上に固定さ
れた回折格子と、周波数が互いにわずかに異なる２波長
の単色光を発生する光源と、その光源から発せられた２
波長の単色光を合成し光ヘテロダイン干渉させて基準ビ
ート信号を生成する第１の光合成検出手段と、前記光源
から発せられた２波長の単色光のいずれか一方を分光す
る分光手段と、前記分光されたそれぞれの単色光および
前記他方の単色光を前記回折格子に所定の角度を有した
方向からそれぞれ入射させる入射角調整手段と、前記一
方の単色光のそれぞれの分光の回折光と前記他方の単色
光の回折光とをそれぞれ合成して第１、第２の光ヘテロ
ダイン干渉ビート信号を生成する第２、第３の光合成検
出手段と、前記第１および第２の光合成検出手段によっ
てそれぞれ生成された基準ビート信号および第１の光ヘ
テロダイン干渉ビート信号とから第１の位相差信号を算
出処理して前記物体の前記回折格子の格子ラインに直交
する方向の変位量に換算する第１の信号処理装置と、そ
の第１の信号処理装置によって算出処理された第１の位
相差信号および前記第１、第３の光合成検出手段によっ
てそれぞれ生成された基準ビート信号、第２の光ヘテロ
ダイン干渉ビート信号とから第２の位相差信号を算出処
理して前記物体の前記回折格子の法線方向の変位量に換
算する第２の信号処理装置とを具備してなることを特徴
としている。
れた回折格子と、周波数が互いにわずかに異なる２波長
の単色光を発生する光源と、その光源から発せられた２
波長の単色光を合成し光ヘテロダイン干渉させて基準ビ
ート信号を生成する第１の光合成検出手段と、前記光源
から発せられた２波長の単色光のいずれか一方を分光す
る分光手段と、前記分光されたそれぞれの単色光および
前記他方の単色光を前記回折格子に所定の角度を有した
方向からそれぞれ入射させる入射角調整手段と、前記一
方の単色光のそれぞれの分光の回折光と前記他方の単色
光の回折光とをそれぞれ合成して第１、第２の光ヘテロ
ダイン干渉ビート信号を生成する第２、第３の光合成検
出手段と、前記第１および第２の光合成検出手段によっ
てそれぞれ生成された基準ビート信号および第１の光ヘ
テロダイン干渉ビート信号とから第１の位相差信号を算
出処理して前記物体の前記回折格子の格子ラインに直交
する方向の変位量に換算する第１の信号処理装置と、そ
の第１の信号処理装置によって算出処理された第１の位
相差信号および前記第１、第３の光合成検出手段によっ
てそれぞれ生成された基準ビート信号、第２の光ヘテロ
ダイン干渉ビート信号とから第２の位相差信号を算出処
理して前記物体の前記回折格子の法線方向の変位量に換
算する第２の信号処理装置とを具備してなることを特徴
としている。
本発明では、２波長の単色光の一方を分光することによ
って合計３本の単色光を回折格子に対して入射させ、そ
れらの回折光から第１、第２の光ヘテロダイン干渉ビー
ト信号を生成する。そして、それら第１、第２の光ヘテ
ロダイン干渉ビート信号と基準ビート信号に基づいて、
回折格子の微小変位を２方向すなわち回折格子の格子ラ
インに直交する方向と回折格子の法線方向の双方に対し
て検出する。
って合計３本の単色光を回折格子に対して入射させ、そ
れらの回折光から第１、第２の光ヘテロダイン干渉ビー
ト信号を生成する。そして、それら第１、第２の光ヘテ
ロダイン干渉ビート信号と基準ビート信号に基づいて、
回折格子の微小変位を２方向すなわち回折格子の格子ラ
インに直交する方向と回折格子の法線方向の双方に対し
て検出する。
以下、本発明の実施例を第１図ないし第４図を参照して
説明する。
説明する。
第１図は本発明に係る微小変位測定装置の第１実施例を
示す。第１図において符号２５は２波長直交偏光レーザ
光源（光源）、２６ａ，２６ｂはビームスプリッター、
２７は偏光ビームスプリッター、２８ａ，２８ｂ，２８
ｃ，３３ａ，３３ｂ，３４ａ，３４ｂ，３４ｃ，３４ｄ
は平面ミラー、２９ａ，２９ｂ，２９ｃは集光レンズ、
３０ａ，３０ｂ，３０ｃは偏光板、３１ａ，３１ｂ，３
１ｃは光検出器、３２ａ，３２ｂ，３２ｃはプレアン
プ、３５は反射型回折格子、３６はＺ移動ステージ、３
７はＸＹ移動ステージ、３８はＸ変位検出信号処理部
（第１の信号処理装置）、３９はＺ変位検出信号処理部
（第２の信号処理装置）、４０はＸ変位表示部、４１は
Ｚ変位表示部、４２はＺステージ駆動部、４３はＸＹス
テージ駆動部、４４，４５，４６は入射光、４７，４８
は合成回折光である。
示す。第１図において符号２５は２波長直交偏光レーザ
光源（光源）、２６ａ，２６ｂはビームスプリッター、
２７は偏光ビームスプリッター、２８ａ，２８ｂ，２８
ｃ，３３ａ，３３ｂ，３４ａ，３４ｂ，３４ｃ，３４ｄ
は平面ミラー、２９ａ，２９ｂ，２９ｃは集光レンズ、
３０ａ，３０ｂ，３０ｃは偏光板、３１ａ，３１ｂ，３
１ｃは光検出器、３２ａ，３２ｂ，３２ｃはプレアン
プ、３５は反射型回折格子、３６はＺ移動ステージ、３
７はＸＹ移動ステージ、３８はＸ変位検出信号処理部
（第１の信号処理装置）、３９はＺ変位検出信号処理部
（第２の信号処理装置）、４０はＸ変位表示部、４１は
Ｚ変位表示部、４２はＺステージ駆動部、４３はＸＹス
テージ駆動部、４４，４５，４６は入射光、４７，４８
は合成回折光である。
この第１実施例の装置においては、２波長直交偏光レー
ザ光源２５から発したレーザ光の一部をビームスプリッ
ター２６ａ，平面ミラー２８ａ，集光レンズ２９ａ，偏
光板３０ａを介して光検出器３１ａ（第１の光合成検出
手段）で検出し、光ヘテロダイン干渉の基準ビート信号
としてプレアンプ３２ａを通してＸ変位検出信号処理部
３８、およびＺ変位検出信号処理部３９に入力する。一
方、２波長直交偏光レーザ光源２５から発したレーザ光
は、ビームスプリッター２６ａを介して偏光ビームスプ
リッター２７に入り、ここでＰ偏光，Ｓ偏光の２つのレ
ーザ光に分離され、Ｐ偏光成分は平面ミラー３３ａ，３
４ｂを介して後述する所定の入射角で入射光４４として
反射型回折格子３５に入射する。Ｓ偏光成分はビームス
プリッター２６ｂ（分光手段）によりさらに分割され、
平面ミラー３４ｃを介して入射光４５として、また平面
ミラー３３ｂ，３４ａを介して入射光４６として、それ
ぞれ反射型回折格子３５に入射する。入射光４４，４５
により回折格子３５から得られる合成回折光４７を平面
ミラー２８ｂ，集光レンズ２９ｂ，偏光板３０ｂを介し
て光検出器３１ｂ（第２の光合成検出手段）で検出し、
第１の光ヘテロダイン干渉ビート信号としてプレアンプ
３２ｂを通してＸ変位検出信号処理部３８に入力する。
さらに、入射光４４，４６により回折格子３５から得ら
れる合成回折光４８を平面ミラー３４ｄ，２８ｃ，集光
レンズ２９ｃ，偏光板３０ｃを介して光検出器３１ｃ
（第３の光合成検出手段）で検出し、第２の光ヘテロダ
イン干渉ビート信号としてプレアンプ３２ｃを通してＺ
変位検出信号処理部３９に入力する。Ｘ変位検出信号処
理部３８では、回折格子面内で格子ライン方向に直交す
る方向（第１図において左右方向。以後Ｘ方向という）
についての回折格子３５の変位に対応した基準ビート信
号と第１の光ヘテロダイン干渉ビート信号との位相差を
検出し、その位相差を変位量に換算し、Ｘ変位表示部４
０で変位量を表示する。Ｚ変位検出信号処理部３９で
は、基準ビート信号と第２の光ヘテロダイン干渉ビート
信号との位相差を検出し、さらにＸ変位検出信号処理部
３８より基準ビート信号と第１の光ヘテロダイン干渉ビ
ート信号との位相差信号（第１の位相差信号）を入力し
て加算処理することにより、回折格子面の法線方向（第
１図において上下方向。以後Ｚ方向という）についての
回折格子３５の変位に対応した位相差信号（第２の位相
差信号）を生成し、その位相差を変位量に換算してＺ変
位表示部４１で表示する。また、位相差があらかじめ設
定した任意の値で一定となるように、ＸおよびＺ変位検
出信号処理部３８，３９よりＺおよびＸＹステージ駆動
部４２，４３に制御信号を送り、回折格子３５を定めら
れた位置にサーボ制御する。
ザ光源２５から発したレーザ光の一部をビームスプリッ
ター２６ａ，平面ミラー２８ａ，集光レンズ２９ａ，偏
光板３０ａを介して光検出器３１ａ（第１の光合成検出
手段）で検出し、光ヘテロダイン干渉の基準ビート信号
としてプレアンプ３２ａを通してＸ変位検出信号処理部
３８、およびＺ変位検出信号処理部３９に入力する。一
方、２波長直交偏光レーザ光源２５から発したレーザ光
は、ビームスプリッター２６ａを介して偏光ビームスプ
リッター２７に入り、ここでＰ偏光，Ｓ偏光の２つのレ
ーザ光に分離され、Ｐ偏光成分は平面ミラー３３ａ，３
４ｂを介して後述する所定の入射角で入射光４４として
反射型回折格子３５に入射する。Ｓ偏光成分はビームス
プリッター２６ｂ（分光手段）によりさらに分割され、
平面ミラー３４ｃを介して入射光４５として、また平面
ミラー３３ｂ，３４ａを介して入射光４６として、それ
ぞれ反射型回折格子３５に入射する。入射光４４，４５
により回折格子３５から得られる合成回折光４７を平面
ミラー２８ｂ，集光レンズ２９ｂ，偏光板３０ｂを介し
て光検出器３１ｂ（第２の光合成検出手段）で検出し、
第１の光ヘテロダイン干渉ビート信号としてプレアンプ
３２ｂを通してＸ変位検出信号処理部３８に入力する。
さらに、入射光４４，４６により回折格子３５から得ら
れる合成回折光４８を平面ミラー３４ｄ，２８ｃ，集光
レンズ２９ｃ，偏光板３０ｃを介して光検出器３１ｃ
（第３の光合成検出手段）で検出し、第２の光ヘテロダ
イン干渉ビート信号としてプレアンプ３２ｃを通してＺ
変位検出信号処理部３９に入力する。Ｘ変位検出信号処
理部３８では、回折格子面内で格子ライン方向に直交す
る方向（第１図において左右方向。以後Ｘ方向という）
についての回折格子３５の変位に対応した基準ビート信
号と第１の光ヘテロダイン干渉ビート信号との位相差を
検出し、その位相差を変位量に換算し、Ｘ変位表示部４
０で変位量を表示する。Ｚ変位検出信号処理部３９で
は、基準ビート信号と第２の光ヘテロダイン干渉ビート
信号との位相差を検出し、さらにＸ変位検出信号処理部
３８より基準ビート信号と第１の光ヘテロダイン干渉ビ
ート信号との位相差信号（第１の位相差信号）を入力し
て加算処理することにより、回折格子面の法線方向（第
１図において上下方向。以後Ｚ方向という）についての
回折格子３５の変位に対応した位相差信号（第２の位相
差信号）を生成し、その位相差を変位量に換算してＺ変
位表示部４１で表示する。また、位相差があらかじめ設
定した任意の値で一定となるように、ＸおよびＺ変位検
出信号処理部３８，３９よりＺおよびＸＹステージ駆動
部４２，４３に制御信号を送り、回折格子３５を定めら
れた位置にサーボ制御する。
この装置では、入射光４４，４５をＺ方向に対してそれ
ぞれｎ次回折角で入射した場合、回折格子３５のＸ方向
の変位量ΔＸと、基準ビート信号と第１の光ヘテロダイ
ン干渉ビート信号との位相差Δφｘとの関係は、第６図
および第７図で説明した従来の装置による場合と同様
に、 となり、また、Ｚ方向の変位量ΔＺに対して位相差は変
化せず一定となる。
ぞれｎ次回折角で入射した場合、回折格子３５のＸ方向
の変位量ΔＸと、基準ビート信号と第１の光ヘテロダイ
ン干渉ビート信号との位相差Δφｘとの関係は、第６図
および第７図で説明した従来の装置による場合と同様
に、 となり、また、Ｚ方向の変位量ΔＺに対して位相差は変
化せず一定となる。
一方、回折格子３５の変位量ΔＸ，ΔＺと、基準ビート
信号および第２の光ヘテロダイン干渉ビート信号との位
相差Δφｚｘとは次のような関係にあり、それについて
第２図および第３図を参照して説明する。第２図におい
て符号４９は反射型回折格子、５０ａ，５０ｂは波長λ
１の入射光、５１ａ，５１ｂは波長λ２の入射光、５２
ａ，５２ｂは合成回折光である。
信号および第２の光ヘテロダイン干渉ビート信号との位
相差Δφｚｘとは次のような関係にあり、それについて
第２図および第３図を参照して説明する。第２図におい
て符号４９は反射型回折格子、５０ａ，５０ｂは波長λ
１の入射光、５１ａ，５１ｂは波長λ２の入射光、５２
ａ，５２ｂは合成回折光である。
偏光面が互いに直交し周波数が互いにわずかにずれた波
長λ１，λ２の入射光５０ａ，５１ａが、Ｚ方向に対し
てそれぞれｎ次回折角θｎ１、ｎ次回折角の３倍の角度
３θｎ２で回折格子４９の例えばＡ点に入射した場合、
回折格子４９のＡ点からＺ方向に対してｎ次回折角の２
倍の角度２θｎ１の方向に入射光５０ａの＋ｎ次回折
光、入射光５１ａの−ｎ次回折光がそれぞれ出射する。
上述したように、式（６）よりθｎ１≒θｎ２となり、
入射光５０ａ，５１ａのそれぞれ＋ｎ次，−ｎ次回折光
は光学的に合成されて合成回折光５２ａとなり、光ヘテ
ロダイン干渉ビート信号検出が可能となる。
長λ１，λ２の入射光５０ａ，５１ａが、Ｚ方向に対し
てそれぞれｎ次回折角θｎ１、ｎ次回折角の３倍の角度
３θｎ２で回折格子４９の例えばＡ点に入射した場合、
回折格子４９のＡ点からＺ方向に対してｎ次回折角の２
倍の角度２θｎ１の方向に入射光５０ａの＋ｎ次回折
光、入射光５１ａの−ｎ次回折光がそれぞれ出射する。
上述したように、式（６）よりθｎ１≒θｎ２となり、
入射光５０ａ，５１ａのそれぞれ＋ｎ次，−ｎ次回折光
は光学的に合成されて合成回折光５２ａとなり、光ヘテ
ロダイン干渉ビート信号検出が可能となる。
ここで、回折格子４９が変位量ΔＸ移動してＡ点がＡ′
点に変位した場合、同様に入射光５０ｂ，５１ｂに対し
てそれぞれの＋ｎ次，−ｎ次回折光が光学的に合成され
合成回折光５２ｂとなる。回折格子４９がΔＸ変位する
ことにより、入射光５０ａと５０ｂとにはΔＸ・（sin
θｎ１−sin２θｎ１），入射光５１ａと５１ｂとには
ΔＸ・（sin３θｎ２−sin２θｎ２）の光路長差がそれ
ぞれ生じる。したがって合成回折光５２ａと５２ｂとか
ら得られる光ヘテロダイン干渉ビート信号には、位相差
Δφ′ｚｘが生じ、このΔφ′ｚｘは Δφ′ｚｘ＝２π・ΔＸ・｛（sinθｎ１ −sin２θｎ１）／λ１−（sin３θｎ２ −sin２θｎ２）／λ２｝ ……（８） となる。ここでθｎ１≒θｎ２，sin３θｎ２≒３sinθ
ｎ２，λ１≒λ２であるから（８）式は、 となり、ΔＸに対する基準ビート信号と第２の光ヘテロ
ダイン干渉ビート信号との位相差Δφ′ｚｘは、式
（７）で示されている基準ビート信号と第１の光ヘテロ
ダイン干渉ビート信号との位相差Δφｘと位相のずれ方
向が反対となる。
点に変位した場合、同様に入射光５０ｂ，５１ｂに対し
てそれぞれの＋ｎ次，−ｎ次回折光が光学的に合成され
合成回折光５２ｂとなる。回折格子４９がΔＸ変位する
ことにより、入射光５０ａと５０ｂとにはΔＸ・（sin
θｎ１−sin２θｎ１），入射光５１ａと５１ｂとには
ΔＸ・（sin３θｎ２−sin２θｎ２）の光路長差がそれ
ぞれ生じる。したがって合成回折光５２ａと５２ｂとか
ら得られる光ヘテロダイン干渉ビート信号には、位相差
Δφ′ｚｘが生じ、このΔφ′ｚｘは Δφ′ｚｘ＝２π・ΔＸ・｛（sinθｎ１ −sin２θｎ１）／λ１−（sin３θｎ２ −sin２θｎ２）／λ２｝ ……（８） となる。ここでθｎ１≒θｎ２，sin３θｎ２≒３sinθ
ｎ２，λ１≒λ２であるから（８）式は、 となり、ΔＸに対する基準ビート信号と第２の光ヘテロ
ダイン干渉ビート信号との位相差Δφ′ｚｘは、式
（７）で示されている基準ビート信号と第１の光ヘテロ
ダイン干渉ビート信号との位相差Δφｘと位相のずれ方
向が反対となる。
一方、第３図において符号５３は反射型回折格子、５４
ａ，５４ｂは波長λ１の入射光、５５ａ，５５ｂは波長
λ２の入射光、５６ａ，５６ｂは合成回折光である。波
長λ１，λ２の入射光５４ａ，５５ａがＺ方向に対して
それぞれｎ次回折角θｎ１、ｎ次回折角の３倍の角度３
θｎ２で回折格子５３の例えばＢ点に入射した場合、Ｚ
方向に対してｎ次回折角の２倍の角度２θｎ１の方向に
入射光５４ａの＋ｎ次回折光、入射光５５ａの−ｎ次回
折光が出射して合成回折光５６ａとなり、光ヘテロダイ
ン干渉ビート信号が検出可能となる。ここで、回折格子
５３が変位量ΔＺ移動してＢ点がＢ′点に変位した場
合、同様に入射光５４ｂ，５５ｂに対してそれぞれ＋ｎ
次，−ｎ次回折光が光学的に合成されて合成回折光５６
ｂとなる。回折格子５３がΔＺ変位することにより、入
射光５４ａと５４ｂとには−ΔＺ・（cos θｎ１＋cos
２θｎ１），入射光５５ａと５５ｂとには−ΔＺ・（co
s ３θｎ２＋cos ２θｎ２）の光路長差がそれぞれ生じ
る。したがって、合成回折光５６ａと５６ｂとから得ら
れる光ヘテロダイン干渉ビート信号には、位相差Δφ″
ｚｘが生じ、 Δφ″ｚｘ＝２π・ΔＺ｛（cos ３θｎ２ ＋cos ２θｎ２）／λ２−（cos θｎ１ −cos ２θｎ１）／λ１｝ ……（１０） となる。λ１≒λ２，θｎ１≒θｎ２を考慮すると、 Δφ″ｚｘ≒２π・ΔＺ・（cos ３θｎ１ −cos θｎ１）／λ１ ……（１１） となり、 ΔＺ＝λ１／（cos ３θｎ１−cos θｎ１） の周期で位相が変化することがわかる。
ａ，５４ｂは波長λ１の入射光、５５ａ，５５ｂは波長
λ２の入射光、５６ａ，５６ｂは合成回折光である。波
長λ１，λ２の入射光５４ａ，５５ａがＺ方向に対して
それぞれｎ次回折角θｎ１、ｎ次回折角の３倍の角度３
θｎ２で回折格子５３の例えばＢ点に入射した場合、Ｚ
方向に対してｎ次回折角の２倍の角度２θｎ１の方向に
入射光５４ａの＋ｎ次回折光、入射光５５ａの−ｎ次回
折光が出射して合成回折光５６ａとなり、光ヘテロダイ
ン干渉ビート信号が検出可能となる。ここで、回折格子
５３が変位量ΔＺ移動してＢ点がＢ′点に変位した場
合、同様に入射光５４ｂ，５５ｂに対してそれぞれ＋ｎ
次，−ｎ次回折光が光学的に合成されて合成回折光５６
ｂとなる。回折格子５３がΔＺ変位することにより、入
射光５４ａと５４ｂとには−ΔＺ・（cos θｎ１＋cos
２θｎ１），入射光５５ａと５５ｂとには−ΔＺ・（co
s ３θｎ２＋cos ２θｎ２）の光路長差がそれぞれ生じ
る。したがって、合成回折光５６ａと５６ｂとから得ら
れる光ヘテロダイン干渉ビート信号には、位相差Δφ″
ｚｘが生じ、 Δφ″ｚｘ＝２π・ΔＺ｛（cos ３θｎ２ ＋cos ２θｎ２）／λ２−（cos θｎ１ −cos ２θｎ１）／λ１｝ ……（１０） となる。λ１≒λ２，θｎ１≒θｎ２を考慮すると、 Δφ″ｚｘ≒２π・ΔＺ・（cos ３θｎ１ −cos θｎ１）／λ１ ……（１１） となり、 ΔＺ＝λ１／（cos ３θｎ１−cos θｎ１） の周期で位相が変化することがわかる。
したがって、式（９），（１１）より、前記回折格子３
５（第１図参照）の微小変位ΔＸ，ΔＺに対して、基準
ビート信号と第２の光ヘテロダイン干渉ビート信号との
位相差Δφｚｘは、 Δφｚｘ＝Δφ′ｚｘ＋Δφ″ｚｘ ＝−Δφｘ＋２π・ΔＺ・ （cos ３θｎ１−cos θｎ１）／λ１……（１２） となる。すなわち、前記Ｚ変位検出信号処理部３９にお
いて、基準ビート信号と第２の光ヘテロダイン干渉ビー
ト信号との位相差Δφｚｘを検出し、前記Ｘ変位検出信
号処理部３８において検出した基準ビート信号と第１の
光ヘテロダイン干渉ビート信号との位相差Δφｘとの加
算処理を行なうことにより、次式（１３）に示すよう
に、回折格子３５の微小変位ΔＺに対応した位相差信号
Δφｚを検出することができる。
５（第１図参照）の微小変位ΔＸ，ΔＺに対して、基準
ビート信号と第２の光ヘテロダイン干渉ビート信号との
位相差Δφｚｘは、 Δφｚｘ＝Δφ′ｚｘ＋Δφ″ｚｘ ＝−Δφｘ＋２π・ΔＺ・ （cos ３θｎ１−cos θｎ１）／λ１……（１２） となる。すなわち、前記Ｚ変位検出信号処理部３９にお
いて、基準ビート信号と第２の光ヘテロダイン干渉ビー
ト信号との位相差Δφｚｘを検出し、前記Ｘ変位検出信
号処理部３８において検出した基準ビート信号と第１の
光ヘテロダイン干渉ビート信号との位相差Δφｘとの加
算処理を行なうことにより、次式（１３）に示すよう
に、回折格子３５の微小変位ΔＺに対応した位相差信号
Δφｚを検出することができる。
Δφｚ＝Δφｚｘ＋Δφｘ＝２π・ΔＺ・ （cos ３θｎ１−cos θｎ１）／λ１……（１３） したがって、検出信号処理部３８，３９において、例え
ば位相検波し、位相差信号Δφｘ，ΔφｚをＤＣ信号に
変換し、例えば位相差０゜ごとにＤＣ信号からパルス信
号を生成し、そのパルス信号をカウントすることによ
り、分解能Ｐ／２ｎ，λ１／（cos ３θｎ１−cos θｎ
１）でそれぞれ回折格子３５のＸ方向，Ｚ方向の変位測
定が可能である。さらに、位相差０゜から３６０゜まで
のＤＣ信号変化を例えば１／３６０に補完して位相差の
検出分解能を１゜に設定し、前記パルス間に回折格子３
５の変位を位相差検出することにより、回折格子３５の
Ｘ方向，Ｚ方向の変位をそれぞれ分解能，Ｐ／２ｎ・３
６０，λ１／（cos ３θｎ１−cos θｎ１）・３６０で
検出することができる。なお、Ｘ方向，Ｚ方向の変位の
方向は、基準ビート信号に対する第１あるいは第２の光
ヘテロダイン干渉ビート信号の位相差の正負を弁別する
ことにより容易に判定することができる。
ば位相検波し、位相差信号Δφｘ，ΔφｚをＤＣ信号に
変換し、例えば位相差０゜ごとにＤＣ信号からパルス信
号を生成し、そのパルス信号をカウントすることによ
り、分解能Ｐ／２ｎ，λ１／（cos ３θｎ１−cos θｎ
１）でそれぞれ回折格子３５のＸ方向，Ｚ方向の変位測
定が可能である。さらに、位相差０゜から３６０゜まで
のＤＣ信号変化を例えば１／３６０に補完して位相差の
検出分解能を１゜に設定し、前記パルス間に回折格子３
５の変位を位相差検出することにより、回折格子３５の
Ｘ方向，Ｚ方向の変位をそれぞれ分解能，Ｐ／２ｎ・３
６０，λ１／（cos ３θｎ１−cos θｎ１）・３６０で
検出することができる。なお、Ｘ方向，Ｚ方向の変位の
方向は、基準ビート信号に対する第１あるいは第２の光
ヘテロダイン干渉ビート信号の位相差の正負を弁別する
ことにより容易に判定することができる。
以上で第１実施例を説明したが、次に第４図を参照して
第２実施例を説明する。
第２実施例を説明する。
第４図は、本発明に係る微小変位測定装置の第２実施例
を示すもので、第４図において符号５７は２波長直交偏
光レーザ光源（光源）、５８ａ，５８ｂはビームスプリ
ッター、５９ａ，５９ｂ，５９ｃ，５９ｄ，６５ａ，６
５ｂ，６５ｃは平面ミラー、６０ａ，６０ｂ，６０ｃは
集光レンズ、６１ａ，６１ｂ，６１ｃ，６１ｄは偏光
板、６２ａ，６２ｂ，６２ｃは光検出器、６３ａ，６３
ｂ，６３ｃはプレアンプ、６４は１／２波長板、６６は
反射型回折格子、６７はＺ移動ステージ、６８はＸＹ移
動ステージ、６９はＺステージ駆動部、７０はＸＹステ
ージ駆動部、７１はＸ変位検出信号処理部（第１の信号
処理装置）、７２はＺ変位検出信号処理部（第２の信号
処理装置）、７３はＸ変位表示部、７４はＺ変位表示
部、７５ａ，７５ｂは偏光ビームスプリッター、７６
ａ，７６ｂは入射光、７７ａ，７７ｂは回折光である。
を示すもので、第４図において符号５７は２波長直交偏
光レーザ光源（光源）、５８ａ，５８ｂはビームスプリ
ッター、５９ａ，５９ｂ，５９ｃ，５９ｄ，６５ａ，６
５ｂ，６５ｃは平面ミラー、６０ａ，６０ｂ，６０ｃは
集光レンズ、６１ａ，６１ｂ，６１ｃ，６１ｄは偏光
板、６２ａ，６２ｂ，６２ｃは光検出器、６３ａ，６３
ｂ，６３ｃはプレアンプ、６４は１／２波長板、６６は
反射型回折格子、６７はＺ移動ステージ、６８はＸＹ移
動ステージ、６９はＺステージ駆動部、７０はＸＹステ
ージ駆動部、７１はＸ変位検出信号処理部（第１の信号
処理装置）、７２はＺ変位検出信号処理部（第２の信号
処理装置）、７３はＸ変位表示部、７４はＺ変位表示
部、７５ａ，７５ｂは偏光ビームスプリッター、７６
ａ，７６ｂは入射光、７７ａ，７７ｂは回折光である。
この第２実施例の装置は、第１図で示した第１実施例の
装置とはレーザ−ビームの回折格子６６への入射方向が
一部逆となっており、回折格子６６には２波長直交偏光
レーザ光がビームスプリッター５８ａ，５８ｂを介して
Ｚ方向から入射光７６ａとして入射する。回折格子６６
からの±ｎ次回折光７７ａ，７７ｂは、それぞれ互いに
直交する偏光面をを有した２波長のＰ偏光、Ｓ偏光から
なる。回折光７７ａから平面ミラー６５ｂ，５９ｃ、偏
光ビームスプリッター７５ａを介してＳ偏光の単色光を
取り出し、回折光７７ｂから平面ミラー６５ｃ、偏光ビ
ームスプリッター７５ｂ，７５ａを介してＰ偏光の単色
光を取り出し、両偏光の単色光を光学的に合成して平面
ミラー５９ｂ、集光レンズ６０ｂ、偏光板６１ｂを介し
て光ヘテロダイン干渉させて光検出器（第２の光合成検
出手段）６２ｂにより第１の光ヘテロダイン干渉ビート
信号を検出する。
装置とはレーザ−ビームの回折格子６６への入射方向が
一部逆となっており、回折格子６６には２波長直交偏光
レーザ光がビームスプリッター５８ａ，５８ｂを介して
Ｚ方向から入射光７６ａとして入射する。回折格子６６
からの±ｎ次回折光７７ａ，７７ｂは、それぞれ互いに
直交する偏光面をを有した２波長のＰ偏光、Ｓ偏光から
なる。回折光７７ａから平面ミラー６５ｂ，５９ｃ、偏
光ビームスプリッター７５ａを介してＳ偏光の単色光を
取り出し、回折光７７ｂから平面ミラー６５ｃ、偏光ビ
ームスプリッター７５ｂ，７５ａを介してＰ偏光の単色
光を取り出し、両偏光の単色光を光学的に合成して平面
ミラー５９ｂ、集光レンズ６０ｂ、偏光板６１ｂを介し
て光ヘテロダイン干渉させて光検出器（第２の光合成検
出手段）６２ｂにより第１の光ヘテロダイン干渉ビート
信号を検出する。
一方、ビームスプリッター５８ｂ（分光手段）で分割し
たレーザ光を平面ミラー５９ｄ、偏光板６１ｄを介して
Ｐ偏光の単色光を取り出し、１／２波長板６４により偏
光面を９０゜回転させて平面ミラー６５ａを介し、Ｚ方
向に対してｎ次回折角の２倍の角度より入射光７６ｂと
して回折格子６６に入射させる。入射光７６ｂの−ｎ次
回折光は回折光７７ｂと同一の方向に回折し、入射光７
６ａの＋ｎ次回折光７７ｂのＳ偏光の単色光と光ヘテロ
ダイン干渉する。入射光７６ｂの−ｎ次回折光と回折光
７７ｂのＳ偏光との合成回折光を平面ミラー６５ｃ、偏
光ビームスプリッター７５ｂを介して取り出し、集光レ
ンズ６０ｃ、偏光板６１ｃを介して光ヘテロダイン干渉
させ、光検出器６２ｃ（第３の光合成検出手段）により
第２の光ヘテロダイン干渉ビート信号を検出する。
たレーザ光を平面ミラー５９ｄ、偏光板６１ｄを介して
Ｐ偏光の単色光を取り出し、１／２波長板６４により偏
光面を９０゜回転させて平面ミラー６５ａを介し、Ｚ方
向に対してｎ次回折角の２倍の角度より入射光７６ｂと
して回折格子６６に入射させる。入射光７６ｂの−ｎ次
回折光は回折光７７ｂと同一の方向に回折し、入射光７
６ａの＋ｎ次回折光７７ｂのＳ偏光の単色光と光ヘテロ
ダイン干渉する。入射光７６ｂの−ｎ次回折光と回折光
７７ｂのＳ偏光との合成回折光を平面ミラー６５ｃ、偏
光ビームスプリッター７５ｂを介して取り出し、集光レ
ンズ６０ｃ、偏光板６１ｃを介して光ヘテロダイン干渉
させ、光検出器６２ｃ（第３の光合成検出手段）により
第２の光ヘテロダイン干渉ビート信号を検出する。
さらに、ビームスプリッター５８ａによりレーザ光の一
部を取り出し、平面ミラー５９ａ、集光レンズ６０ａ、
偏光板６１ａを介して光ヘテロダイン干渉させて光検出
器６２ａ（第１の光合成検出手段）より基準ビート信号
を検出する。基準ビート信号、第１および第２の光ヘテ
ロダイン干渉ビート信号をそれぞれプレアンプ６３ａ，
６３ｂ，６３ｃを通し、Ｘ変位検出信号処理部７１へ基
準ビート信号と第１の光ヘテロダイン干渉ビート信号を
入力し、Ｚ変位検出信号処理部７２へ基準ビート信号と
第２の光ヘテロダイン干渉ビート信号を入力する。検出
信号処理部７１，７２では第１実施例の場合と同様に、
それぞれ位相検波して位相差をΔφｘ，Δφｚを回折格
子６６の変位量ΔＸ，ΔＺに換算し、変位表示部７３，
７４により表示する。また位相差が一定となるように検
出信号処理部７１，７２よりそれぞれステージ駆動部７
０，６９に制御信号を送り、回折格子６６を定められた
位置にサーボ制御する。
部を取り出し、平面ミラー５９ａ、集光レンズ６０ａ、
偏光板６１ａを介して光ヘテロダイン干渉させて光検出
器６２ａ（第１の光合成検出手段）より基準ビート信号
を検出する。基準ビート信号、第１および第２の光ヘテ
ロダイン干渉ビート信号をそれぞれプレアンプ６３ａ，
６３ｂ，６３ｃを通し、Ｘ変位検出信号処理部７１へ基
準ビート信号と第１の光ヘテロダイン干渉ビート信号を
入力し、Ｚ変位検出信号処理部７２へ基準ビート信号と
第２の光ヘテロダイン干渉ビート信号を入力する。検出
信号処理部７１，７２では第１実施例の場合と同様に、
それぞれ位相検波して位相差をΔφｘ，Δφｚを回折格
子６６の変位量ΔＸ，ΔＺに換算し、変位表示部７３，
７４により表示する。また位相差が一定となるように検
出信号処理部７１，７２よりそれぞれステージ駆動部７
０，６９に制御信号を送り、回折格子６６を定められた
位置にサーボ制御する。
この第２実施例においては、上述と同様の解析を行なう
ことにより、回折格子６６の変位ΔＸ，ΔＺと位相差信
号Δφｘ，Δφｚとの間には、次のような関係式が成り
立つことは明らかである。
ことにより、回折格子６６の変位ΔＸ，ΔＺと位相差信
号Δφｘ，Δφｚとの間には、次のような関係式が成り
立つことは明らかである。
Δφｚ＝２π・ΔＺ・（cos ２θｎ１−１） （θｎ１はｎ次回折角）……（１５） 以上で本発明の実施例を説明したが、本発明は上記実施
例に限定されるものではない。たとえば、上記第１，第
２実施例においては２波長の単色光光源として２波長直
交偏光レーザ光源を用いたが、２波長の単色光としてブ
ラッグセルなどの音響光学素子を用いて生成した光を用
いても同様の効果を得ることができる。また、第１図に
おいては、偏光板を使用せずに回折格子面において２波
長の単色光の偏光面の方向が一致するように、２波長の
単色光のいずれか一方の光路系に１／２波長板を組み込
むことによっても干渉性のよい光ヘテロダイン干渉ビー
ト信号が得られ、同様の効果を得ることができる。
例に限定されるものではない。たとえば、上記第１，第
２実施例においては２波長の単色光光源として２波長直
交偏光レーザ光源を用いたが、２波長の単色光としてブ
ラッグセルなどの音響光学素子を用いて生成した光を用
いても同様の効果を得ることができる。また、第１図に
おいては、偏光板を使用せずに回折格子面において２波
長の単色光の偏光面の方向が一致するように、２波長の
単色光のいずれか一方の光路系に１／２波長板を組み込
むことによっても干渉性のよい光ヘテロダイン干渉ビー
ト信号が得られ、同様の効果を得ることができる。
また、上記実施例では、回折格子への入射光の方向およ
び回折格子からの回折光の方向が、回折格子面に垂直な
Ｚ方向を含み格子ラインの方向に垂直な面内にある場合
について述べたが、前記Ｚ方向を含み格子ラインの方向
に垂直な面に対して所定の角度を有した方向から２波長
の単色光を入射して、所定の角度を有した方向において
回折光を検出し、光学的に合成して光ヘテロダイン干渉
ビート信号を生成する方法を用いても同様の効果を得る
ことができる。
び回折格子からの回折光の方向が、回折格子面に垂直な
Ｚ方向を含み格子ラインの方向に垂直な面内にある場合
について述べたが、前記Ｚ方向を含み格子ラインの方向
に垂直な面に対して所定の角度を有した方向から２波長
の単色光を入射して、所定の角度を有した方向において
回折光を検出し、光学的に合成して光ヘテロダイン干渉
ビート信号を生成する方法を用いても同様の効果を得る
ことができる。
また、本発明において用いる回折格子としては、吸収型
回折格子，位相型回折格子のいずれを用いてもよく、さ
らにバイナリー回折格子に限定されることなく、正弦波
状回折格子，フレーズ回折格子などの種々の回折格子を
用いることも可能である。また、反射型回折格子の他に
透過型回折格子を用いることも可能である。
回折格子，位相型回折格子のいずれを用いてもよく、さ
らにバイナリー回折格子に限定されることなく、正弦波
状回折格子，フレーズ回折格子などの種々の回折格子を
用いることも可能である。また、反射型回折格子の他に
透過型回折格子を用いることも可能である。
さらに、上記実施例では、周波数の異なる２つの波長の
レーザー光のそれぞれの１次回折光どうしが２方向にお
いて合成回折光となるように設定したが、２つの合成回
折光を得る方法としては、高次の回折光、あるいは異な
る次数の回折光の合成回折光を用いても良く、その場合
には位相差信号の周期が変わるだけであり、位相差信号
に応じた検出信号処理を行なうことによってＸ，Ｚ方向
の変位を検出でき、同様の効果を得ることができる。
レーザー光のそれぞれの１次回折光どうしが２方向にお
いて合成回折光となるように設定したが、２つの合成回
折光を得る方法としては、高次の回折光、あるいは異な
る次数の回折光の合成回折光を用いても良く、その場合
には位相差信号の周期が変わるだけであり、位相差信号
に応じた検出信号処理を行なうことによってＸ，Ｚ方向
の変位を検出でき、同様の効果を得ることができる。
なお、２つの回折格子を用いてそれらの格子ライン方向
が互いに直交するように物体上に設置すれば、互いに直
交するＸ，Ｙ，Ｚの３軸について高精度の微小変位測定
を行なうことが可能となる。
が互いに直交するように物体上に設置すれば、互いに直
交するＸ，Ｙ，Ｚの３軸について高精度の微小変位測定
を行なうことが可能となる。
以上で詳細に説明したように、本発明の微小変位測定方
法によれば、周波数が互いにわずかに異なる２波長の単
色光のうちいずれか一方を分光して回折格子に入射し、
それらの分光のそれぞれの回折光と他方の単色光の回折
光とをそれぞれ合成することによって第１、第２の光ヘ
テロダイン干渉ビート信号を生成させるようにしたこと
により、回折格子の２方向の微小変位、すなわち回折格
子の格子ラインに直角な方向の微小変位と回折格子の法
線方向の微小変位を、それぞれ第１、第２の光ヘテロダ
イン干渉ビート信号の位相変化として測定できる。しか
も、光源の強度変動や回折格子の回折効率が変動するこ
と等によって回折光強度が変動したような場合であって
も、回折光のビート信号の振幅が変動するのみで位相変
化に影響はないので、位相差検出を高安定かつ高精度で
行うことができる。したがって、物体の２方向の微小変
位をそれぞれ高精度で測定することが可能であるという
効果を奏する。
法によれば、周波数が互いにわずかに異なる２波長の単
色光のうちいずれか一方を分光して回折格子に入射し、
それらの分光のそれぞれの回折光と他方の単色光の回折
光とをそれぞれ合成することによって第１、第２の光ヘ
テロダイン干渉ビート信号を生成させるようにしたこと
により、回折格子の２方向の微小変位、すなわち回折格
子の格子ラインに直角な方向の微小変位と回折格子の法
線方向の微小変位を、それぞれ第１、第２の光ヘテロダ
イン干渉ビート信号の位相変化として測定できる。しか
も、光源の強度変動や回折格子の回折効率が変動するこ
と等によって回折光強度が変動したような場合であって
も、回折光のビート信号の振幅が変動するのみで位相変
化に影響はないので、位相差検出を高安定かつ高精度で
行うことができる。したがって、物体の２方向の微小変
位をそれぞれ高精度で測定することが可能であるという
効果を奏する。
また、本発明の微小変位測定装置は、検出光学系を一体
にまとめることにより小型簡便なものと構成できるの
で、上記方法の実施に用いて有効である。
にまとめることにより小型簡便なものと構成できるの
で、上記方法の実施に用いて有効である。
第１図ないし第４図は本発明の実施例を示す図である。
第１図ないし第３図は第１実施例を示すもので、第１図
はこの第１実施例の装置の概略構成図、第２図および第
３図はそれぞれ回折格子の拡大図である。第４図は第２
実施例の装置の概略構成図である。 第５図ないし第７図は従来の微小変位測定装置を示すも
ので、第５図はこの従来の装置の概略構成図、第６図お
よび第７図はそれぞれ回折格子の拡大図である。 ２５……２波長直交偏光レーザー光源（光源）、 ２６ｂ……ビームスプリッター（分光手段）、 ３１ａ……光検出器（第１の光合成検出手段）、 ３１ｂ……光検出器（第２の光合成検出手段）、 ３１ｃ……光検出器（第３の光合成検出手段）、 ３３ａ，３３ｂ，３４ａ，３４ｂ，３４ｃ……平面ミラ
ー（入射角調整手段）、 ３５，４９，５３……回折格子、 ３６……Ｚ移動ステージ（物体）、 ３７……ＸＹ移動ステージ（物体）、 ３８……Ｘ変位検出信号処理部（第１の信号処理装
置）、 ３９……Ｚ変位検出信号処理部（第２の信号処理装
置）、 ５７……２波長直交偏光レーザー光源（光源）、 ５８ｂ……ビームスプリッター（分光手段）、 ６３ａ……光検出器（第１の光合成検出手段）、 ６３ｂ……光検出器（第２の光合成検出手段）、 ６３ｃ……光検出器（第３の光合成検出手段）、 ５９ｄ，６５ａ……平面ミラー（入射角調整手段） ６６……回折格子、 ６７……Ｚ移動ステージ（物体）、 ６８……ＸＹ移動ステージ（物体）、 ７１……Ｘ変位検出信号処理部（第１の信号処理装
置）、 ７２……Ｚ変位検出信号処理部（第２の信号処理装
置）。
第１図ないし第３図は第１実施例を示すもので、第１図
はこの第１実施例の装置の概略構成図、第２図および第
３図はそれぞれ回折格子の拡大図である。第４図は第２
実施例の装置の概略構成図である。 第５図ないし第７図は従来の微小変位測定装置を示すも
ので、第５図はこの従来の装置の概略構成図、第６図お
よび第７図はそれぞれ回折格子の拡大図である。 ２５……２波長直交偏光レーザー光源（光源）、 ２６ｂ……ビームスプリッター（分光手段）、 ３１ａ……光検出器（第１の光合成検出手段）、 ３１ｂ……光検出器（第２の光合成検出手段）、 ３１ｃ……光検出器（第３の光合成検出手段）、 ３３ａ，３３ｂ，３４ａ，３４ｂ，３４ｃ……平面ミラ
ー（入射角調整手段）、 ３５，４９，５３……回折格子、 ３６……Ｚ移動ステージ（物体）、 ３７……ＸＹ移動ステージ（物体）、 ３８……Ｘ変位検出信号処理部（第１の信号処理装
置）、 ３９……Ｚ変位検出信号処理部（第２の信号処理装
置）、 ５７……２波長直交偏光レーザー光源（光源）、 ５８ｂ……ビームスプリッター（分光手段）、 ６３ａ……光検出器（第１の光合成検出手段）、 ６３ｂ……光検出器（第２の光合成検出手段）、 ６３ｃ……光検出器（第３の光合成検出手段）、 ５９ｄ，６５ａ……平面ミラー（入射角調整手段） ６６……回折格子、 ６７……Ｚ移動ステージ（物体）、 ６８……ＸＹ移動ステージ（物体）、 ７１……Ｘ変位検出信号処理部（第１の信号処理装
置）、 ７２……Ｚ変位検出信号処理部（第２の信号処理装
置）。
Claims (2)
- 【請求項１】周波数が互いにわずかに異なる２波長の単
色光を合成し光ヘテロダイン干渉させて基準ビート信号
を生成するとともに、前記２波長の単色光のいずれか一
方を分光してそれら分光した単色光をそれぞれ互いに異
なる方向から物体上に固定した回折格子に対して入射さ
せ、かつ前記２波長の単色光の他方を前記回折格子に対
して入射させて前記一方の単色光のそれぞれの分光の回
折光と前記他方の単色光の回折光とをそれぞれ合成して
第１および第２の光ヘテロダイン干渉ビート信号を生成
し、前記基準ビート信号と前記第１の光ヘテロダイン干
渉ビート信号との位相差、および前記基準ビート信号と
前記第２の光ヘテロダイン干渉ビート信号との位相差を
それぞれ検出することによって、それら位相差から前記
物体の前記回折格子の格子ラインに直交する方向の微小
変位およびその回折格子の法線方向の微小変位をそれぞ
れ測定することを特徴とする微小変位測定方法。 - 【請求項２】物体上に固定された回折格子と、周波数が
互いにわずかに異なる２波長の単色光を発生する光源
と、その光源から発せられた２波長の単色光を合成し光
ヘテロダイン干渉させて基準ビート信号を生成する第１
の光合成検出手段と、前記光源から発せられた２波長の
単色光のいずれか一方を分光する分光手段と、前記分光
されたそれぞれの単色光および前記他方の単色光を前記
回折格子に所定の角度を有した方向からそれぞれ入射さ
せる入射角調整手段と、前記一方の単色光のそれぞれの
分光の回折光と前記他方の単色光の回折光とをそれぞれ
合成して第１、第２の光ヘテロダイン干渉ビート信号を
生成する第２、第３の光合成検出手段と、前記第１およ
び第２の光合成検出手段によってそれぞれ生成された基
準ビート信号および第１の光ヘテロダイン干渉ビート信
号とから第１の位相差信号を算出処理して前記物体の前
記回折格子の格子ラインに直交する方向の変位量に換算
する第１の信号処理装置と、その第１の信号処理装置に
よって算出処理された第１の位相差信号および前記第
１、第３の光合成検出手段によってそれぞれ生成された
基準ビート信号、第２の光ヘテロダイン干渉ビート信号
とから第２の位相差信号を算出処理して前記物体の前記
回折格子の法線方向の変位量に換算する第２の信号処理
装置とを具備してなることを特徴とする微小変位測定装
置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18134586A JPH0660808B2 (ja) | 1986-08-01 | 1986-08-01 | 微小変位測定方法および微小変位測定装置 |
| FR878706393A FR2598797B1 (fr) | 1986-05-07 | 1987-05-06 | Procede de mesure et/ou d'ajustement du deplacement d'un objet et appareil pour la mise en oeuvre de ce procede |
| DE3715864A DE3715864C2 (de) | 1986-05-07 | 1987-05-07 | Verfahren und Vorrichtung zum Erfassen/Einstellen einer Verschiebung |
| US07/492,259 US5000573A (en) | 1986-05-07 | 1990-03-12 | Method of alignment with the use of diffraction gratings and an apparatus therefor |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18134586A JPH0660808B2 (ja) | 1986-08-01 | 1986-08-01 | 微小変位測定方法および微小変位測定装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6338102A JPS6338102A (ja) | 1988-02-18 |
| JPH0660808B2 true JPH0660808B2 (ja) | 1994-08-10 |
Family
ID=16099076
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18134586A Expired - Fee Related JPH0660808B2 (ja) | 1986-05-07 | 1986-08-01 | 微小変位測定方法および微小変位測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0660808B2 (ja) |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0323242A3 (en) * | 1987-12-28 | 1989-10-18 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Method and apparatus for aligning two objects, and method and apparatus for providing a desired gap between two objects |
| JPH05152186A (ja) * | 1991-05-01 | 1993-06-18 | Canon Inc | 測定装置及び露光装置及び露光装置の位置決め方法 |
| US5477324A (en) * | 1994-08-26 | 1995-12-19 | Georgia Tech Research Corporation | Method and apparatus for detecting surface wave vector dynamics using three beams of coherent light |
| NL1036742A1 (nl) * | 2008-04-18 | 2009-10-20 | Asml Netherlands Bv | Stage system calibration method, stage system and lithographic apparatus comprising such stage system. |
| JP5814339B2 (ja) | 2010-03-30 | 2015-11-17 | ザイゴ コーポレーションＺｙｇｏ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ | 干渉計エンコーダ・システム |
| JP5618898B2 (ja) | 2010-08-31 | 2014-11-05 | Dmg森精機株式会社 | 変位検出装置 |
| JP5849103B2 (ja) * | 2011-02-01 | 2016-01-27 | ザイゴ コーポレーションＺｙｇｏ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ | 干渉ヘテロダイン光学エンコーダシステム |
| JP5862857B2 (ja) * | 2011-07-15 | 2016-02-16 | 株式会社ニコン | エンコーダ装置、光学装置、及び露光装置 |
| WO2013070848A1 (en) * | 2011-11-09 | 2013-05-16 | Zygo Corporation | Low coherence interferometry using encoder systems |
| CN111457843B (zh) * | 2019-04-26 | 2021-07-30 | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 | 位移测量装置、位移测量方法及光刻设备 |
-
1986
- 1986-08-01 JP JP18134586A patent/JPH0660808B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6338102A (ja) | 1988-02-18 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5485272A (en) | Radiation-source unit for generating a beam having two directions of polarisation and two frequencies | |
| US4710026A (en) | Position detection apparatus | |
| US5000573A (en) | Method of alignment with the use of diffraction gratings and an apparatus therefor | |
| US5610718A (en) | Apparatus and method for detecting a relative displacement between first and second diffraction gratings arranged close to each other wherein said gratings have different pitch sizes | |
| EP1707916B1 (en) | Method and apparatus for measuring displacement of a sample | |
| US5157458A (en) | Polarization interferometer spectrometer | |
| JPS62172203A (ja) | 相対変位測定方法 | |
| JPH0660808B2 (ja) | 微小変位測定方法および微小変位測定装置 | |
| JPH06137830A (ja) | 干渉計測方法及び干渉計測装置 | |
| CN100492179C (zh) | 干涉仪 | |
| JP3109900B2 (ja) | 測定装置 | |
| USRE34010E (en) | Position detection apparatus | |
| TW200928301A (en) | Apparatus for measuring displacement by using wavelength-modulated heterodyne grating interferometer | |
| JPH0749926B2 (ja) | 位置合わせ方法および位置合わせ装置 | |
| CN107036527B (zh) | 同步测量绝对寻址距离与偏摆角度的光学系统与方法 | |
| JPS63172904A (ja) | 回折格子による位置検出方法および位置検出装置 | |
| JPH0799325B2 (ja) | 微小変位測定方法および微小変位測定装置 | |
| JP2931082B2 (ja) | 微小変位測定方法およびその装置 | |
| JP3499044B2 (ja) | 微少変位量測定方法及び装置 | |
| JPH02298804A (ja) | 干渉計測装置 | |
| JP2775000B2 (ja) | 移動量測定方法及び移動量測定装置 | |
| JPH06137814A (ja) | 微小変位測定方法およびその装置 | |
| JP3184913B2 (ja) | 表面形状測定方法及び表面形状測定器 | |
| JPH09138110A (ja) | 回折格子を用いた位置合わせ方法およびその装置 | |
| JP2517027B2 (ja) | 移動量測定方法及び移動量測定装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |