JPH066248B2 - Ｘｙステ−ジ - Google Patents
Ｘｙステ−ジInfo
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- JPH066248B2 JPH066248B2 JP60229289A JP22928985A JPH066248B2 JP H066248 B2 JPH066248 B2 JP H066248B2 JP 60229289 A JP60229289 A JP 60229289A JP 22928985 A JP22928985 A JP 22928985A JP H066248 B2 JPH066248 B2 JP H066248B2
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- Japan
- Prior art keywords
- axis
- movable
- guide
- stage
- guides
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- Expired - Lifetime
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70716—Stages
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23Q—DETAILS, COMPONENTS, OR ACCESSORIES FOR MACHINE TOOLS, e.g. ARRANGEMENTS FOR COPYING OR CONTROLLING; MACHINE TOOLS IN GENERAL CHARACTERISED BY THE CONSTRUCTION OF PARTICULAR DETAILS OR COMPONENTS; COMBINATIONS OR ASSOCIATIONS OF METAL-WORKING MACHINES, NOT DIRECTED TO A PARTICULAR RESULT
- B23Q1/00—Members which are comprised in the general build-up of a form of machine, particularly relatively large fixed members
- B23Q1/25—Movable or adjustable work or tool supports
- B23Q1/44—Movable or adjustable work or tool supports using particular mechanisms
- B23Q1/56—Movable or adjustable work or tool supports using particular mechanisms with sliding pairs only, the sliding pairs being the first two elements of the mechanism
- B23Q1/60—Movable or adjustable work or tool supports using particular mechanisms with sliding pairs only, the sliding pairs being the first two elements of the mechanism two sliding pairs only, the sliding pairs being the first two elements of the mechanism
- B23Q1/62—Movable or adjustable work or tool supports using particular mechanisms with sliding pairs only, the sliding pairs being the first two elements of the mechanism two sliding pairs only, the sliding pairs being the first two elements of the mechanism with perpendicular axes, e.g. cross-slides
- B23Q1/621—Movable or adjustable work or tool supports using particular mechanisms with sliding pairs only, the sliding pairs being the first two elements of the mechanism two sliding pairs only, the sliding pairs being the first two elements of the mechanism with perpendicular axes, e.g. cross-slides a single sliding pair followed perpendicularly by a single sliding pair
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70716—Stages
- G03F7/70725—Stages control
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Machine Tool Units (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- A Measuring Device Byusing Mechanical Method (AREA)
- Length Measuring Devices With Unspecified Measuring Means (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 ＜産業上の利用分野＞ この発明は精密工作機，ロボット，精密測定機，半導体
製造装置等に適用し、精密な位置決めを行う移動テーブ
ル装置、所謂ＸＹステージに関する。
製造装置等に適用し、精密な位置決めを行う移動テーブ
ル装置、所謂ＸＹステージに関する。
＜発明の概要＞ この発明は、定盤上にＸ軸方向、Ｙ軸方向に往復動する
可動ガイド、および両可動ガイドの交叉部に自在ステー
ジを配備したＸＹステージであって、Ｘ軸可動ガイドお
よびＹ軸可動ガイドをそれぞれ平行する一対の真直ガイ
ド部材にて構成し、ＸＹ何れか一方の可動ガイドの軸身
部に長孔を開設して他方の可動ガイドを直交して貫通さ
せ、その交叉部においてＸ軸，Ｙ軸方向に互いに対向し
た真直ガイド部材に対し自在ステージを支承して、両可
動ガイドの可動位置高さとステージの重心位置高さを完
全同一となすことにより、ステージの走り特性、応答性
を向上し且つ組立、調整作業の簡易化を実現したもので
ある ＜発明の背景＞ 従来この種ＸＹステージは、第４図乃至第６図に示す如
く、定盤７上にＸ軸方向、Ｙ軸方向に往復動するＸ軸可
動ガイド８ａ、Ｙ軸可動ガイド８ｂを立体交叉して配備
し、その交叉部に自在ステージ９を移動自在に支持して
いる。この自在ステージ９には、上下に変位をずらせて
直交する案内溝９１，９２を形成し、これにＸ軸可動ガ
イド８ａ、Ｙ軸可動ガイド８ｂを軸受機構９３を介して
摺動自在に軸承し、斯るステージ９のテーブル９４上
に、ウエハ駆動機構95を備えたウエハステージ９６を搭
載している。ところが、上記構造のＸＹステージでは、
自在ステージ９に対し、ＸＹ可動ガイド８ａ，８ｂが立
体交叉して貫通するため、ウエハステージ９６およびそ
の駆動機構９５、Ｌ形ミラ９７等はテーブル９４上に搭
載することが不可欠となり、従って、ＸＹ可動ガイド８
ａ，８ｂの可動位置の相違および両可動ガイドの可動位
置に対する自在ステージ９の重心位置が高位置となるこ
とによって、移動時のピッチング運動が大となり、走り
特性の劣化を招くと共に、ピッチング運動が抑まるまで
位置決め整定できないため、ステップ動作における位置
決め整定に長時間を要す不利を生じている。しかも、Ｘ
Ｙ可動ガイド８ａ，８ｂの直交調整が困難であり、特に ＸＹ可動ガイド８ａ，８ｂとステージ９との間には８個
の軸受機構９３が設けられ、各軸受機構９３は相対関係
をもつため組立て調整が複雑である。つまり、８個の軸
受機構９３を総て均等に作動すべく組立てることが困難
なため、ＸＹ可動ガイド８ａ，８ｂに対しステージ９が
不均衡に支持され、これがヨーイング、ピッチングのお
おきな原因にもなっている。更に前記各軸受機構９３の
取付け、軸受すきまの調整作業はステージ上のテーブル
９４を取外した状態で行われるため、ステージ最終使用
状態のもとで、軸受すきまを設定することが出来ない
等、多くの問題があった。
可動ガイド、および両可動ガイドの交叉部に自在ステー
ジを配備したＸＹステージであって、Ｘ軸可動ガイドお
よびＹ軸可動ガイドをそれぞれ平行する一対の真直ガイ
ド部材にて構成し、ＸＹ何れか一方の可動ガイドの軸身
部に長孔を開設して他方の可動ガイドを直交して貫通さ
せ、その交叉部においてＸ軸，Ｙ軸方向に互いに対向し
た真直ガイド部材に対し自在ステージを支承して、両可
動ガイドの可動位置高さとステージの重心位置高さを完
全同一となすことにより、ステージの走り特性、応答性
を向上し且つ組立、調整作業の簡易化を実現したもので
ある ＜発明の背景＞ 従来この種ＸＹステージは、第４図乃至第６図に示す如
く、定盤７上にＸ軸方向、Ｙ軸方向に往復動するＸ軸可
動ガイド８ａ、Ｙ軸可動ガイド８ｂを立体交叉して配備
し、その交叉部に自在ステージ９を移動自在に支持して
いる。この自在ステージ９には、上下に変位をずらせて
直交する案内溝９１，９２を形成し、これにＸ軸可動ガ
イド８ａ、Ｙ軸可動ガイド８ｂを軸受機構９３を介して
摺動自在に軸承し、斯るステージ９のテーブル９４上
に、ウエハ駆動機構95を備えたウエハステージ９６を搭
載している。ところが、上記構造のＸＹステージでは、
自在ステージ９に対し、ＸＹ可動ガイド８ａ，８ｂが立
体交叉して貫通するため、ウエハステージ９６およびそ
の駆動機構９５、Ｌ形ミラ９７等はテーブル９４上に搭
載することが不可欠となり、従って、ＸＹ可動ガイド８
ａ，８ｂの可動位置の相違および両可動ガイドの可動位
置に対する自在ステージ９の重心位置が高位置となるこ
とによって、移動時のピッチング運動が大となり、走り
特性の劣化を招くと共に、ピッチング運動が抑まるまで
位置決め整定できないため、ステップ動作における位置
決め整定に長時間を要す不利を生じている。しかも、Ｘ
Ｙ可動ガイド８ａ，８ｂの直交調整が困難であり、特に ＸＹ可動ガイド８ａ，８ｂとステージ９との間には８個
の軸受機構９３が設けられ、各軸受機構９３は相対関係
をもつため組立て調整が複雑である。つまり、８個の軸
受機構９３を総て均等に作動すべく組立てることが困難
なため、ＸＹ可動ガイド８ａ，８ｂに対しステージ９が
不均衡に支持され、これがヨーイング、ピッチングのお
おきな原因にもなっている。更に前記各軸受機構９３の
取付け、軸受すきまの調整作業はステージ上のテーブル
９４を取外した状態で行われるため、ステージ最終使用
状態のもとで、軸受すきまを設定することが出来ない
等、多くの問題があった。
＜発明の目的＞ この発明は極めて簡単な構成によってＸＹ可動ガイドの
駆動位置高さおよびこの駆動位置高さとステージの重心
位置高さを同一高さに設定し、ステージのヨーイング，
ピッチング等を防止して走り特性、応答性を向上し且つ
組立、調整作業の簡易化を実現した新規なＸＹステージ
を提供することを目的とする。
駆動位置高さおよびこの駆動位置高さとステージの重心
位置高さを同一高さに設定し、ステージのヨーイング，
ピッチング等を防止して走り特性、応答性を向上し且つ
組立、調整作業の簡易化を実現した新規なＸＹステージ
を提供することを目的とする。
＜発明の構成および効果＞ 上記の目的を達成するため、この発明では、定盤上にＸ
軸方向、Ｙ軸方向に往復動する可動ガイドおよび両可動
ガイドの交叉部に自在ステージを配備したＸＹステージ
において、Ｘ軸可動ガイドおよびＹ軸可動ガイドをそれ
ぞれ平行する一対の真直ガイド部材にて構成し、何れか
一方の可動ガイドの軸身部に長孔を形成して他方の可動
ガイドを直交して貫通させ、両可動ガイドの交叉部にお
いてＸ軸、Ｙ軸方向に互いに平行したガイド部材の対向
面を案内面として自在ステージを摺動可能に支承して成
る。
軸方向、Ｙ軸方向に往復動する可動ガイドおよび両可動
ガイドの交叉部に自在ステージを配備したＸＹステージ
において、Ｘ軸可動ガイドおよびＹ軸可動ガイドをそれ
ぞれ平行する一対の真直ガイド部材にて構成し、何れか
一方の可動ガイドの軸身部に長孔を形成して他方の可動
ガイドを直交して貫通させ、両可動ガイドの交叉部にお
いてＸ軸、Ｙ軸方向に互いに平行したガイド部材の対向
面を案内面として自在ステージを摺動可能に支承して成
る。
上記の構成によると、Ｘ軸可動ガイドとＹ軸可動ガイド
の駆動位置高さ、および該可動位置高さとステージの重
心位置高さを完全同一高さに設定できる。この結果、ス
テップ送り時の加速減速の際、ステージがあおり動作、
つまりピッチングを起こすことがなくなる、という大き
な効果が得られ、ステージの走り特性および応答性を向
上し得る。しかも、ＸＹ可動ガイドの交叉部において、
Ｘ軸，Ｙ軸方向に互いに平行した真直ガイド部材の対向
面を案内面としてステージを支承するため、ステージの
上面へウエハ駆動機構、ウエハステージ，Ｌ形ミラー等
を搭載した状態の侭、各軸受すきまを調整し得、以て、
組立て作業，調整作業が一段と簡易となる。更に、平行
した真直ガイドの内側寸法は、結合部材の部品長さによ
って定まり、結合部材の寸法精度を管理するだけで軸受
すきまを同一寸法精度に組立調整できるため、生産性，
組立性が大幅に向上する等、実用上の優れた効果を有
す。
の駆動位置高さ、および該可動位置高さとステージの重
心位置高さを完全同一高さに設定できる。この結果、ス
テップ送り時の加速減速の際、ステージがあおり動作、
つまりピッチングを起こすことがなくなる、という大き
な効果が得られ、ステージの走り特性および応答性を向
上し得る。しかも、ＸＹ可動ガイドの交叉部において、
Ｘ軸，Ｙ軸方向に互いに平行した真直ガイド部材の対向
面を案内面としてステージを支承するため、ステージの
上面へウエハ駆動機構、ウエハステージ，Ｌ形ミラー等
を搭載した状態の侭、各軸受すきまを調整し得、以て、
組立て作業，調整作業が一段と簡易となる。更に、平行
した真直ガイドの内側寸法は、結合部材の部品長さによ
って定まり、結合部材の寸法精度を管理するだけで軸受
すきまを同一寸法精度に組立調整できるため、生産性，
組立性が大幅に向上する等、実用上の優れた効果を有
す。
＜実施例の説明＞ 第１図は本発明にかかるＸＹステージの平面図を示す。
ＸＹステージの定盤１は、上面に平坦な摺動面１１を形
成し、周辺に互いに平行したＸ軸ガイド１２，１２ａお
よびＹ軸ガイド１３，13aを配備して、対向するガイド
間にＸ軸可動ガイド２、Ｙ軸可動ガイド３を往復摺動可
能に支持している。両可動ガイド２，３は、各々一対の
真直ガイド部材２１，３１をステージに応じて適当間隔
に平行させ、両端を連結部材２２，32にて一体結合して
いる。両可動ガイド２，３の何れか一方、実施例ではＸ
軸可動ガイド３における真直ガイド部材２１，２１の軸
身部に対向した長孔２４を形成し、この長孔２４に対し
Ｙ軸可動ガイド３を貫通して交叉させ、ＸＹ可動ガイド
２，３の両端は、それぞれ軸受５を介して対向するＸ軸
ガイド１２，１２ａ、Ｙ軸ガイド１３，１３ａに対し摺
動可能に支持すると共に、各々連結部材２２，３２に移
動子２３，34、また、Ｘ軸ガイド、Ｙ軸ガイドに固定子
１４，１５を構成して往復駆動装置を構成している。前
記ＸＹ可動ガイド２，３の交叉部に対し、Ｘ軸、Ｙ軸方
向に互いに平行したガイド部材21，２１および３１，３
１の対向面を案内面として自在ステージ４を支承してい
る。
成し、周辺に互いに平行したＸ軸ガイド１２，１２ａお
よびＹ軸ガイド１３，13aを配備して、対向するガイド
間にＸ軸可動ガイド２、Ｙ軸可動ガイド３を往復摺動可
能に支持している。両可動ガイド２，３は、各々一対の
真直ガイド部材２１，３１をステージに応じて適当間隔
に平行させ、両端を連結部材２２，32にて一体結合して
いる。両可動ガイド２，３の何れか一方、実施例ではＸ
軸可動ガイド３における真直ガイド部材２１，２１の軸
身部に対向した長孔２４を形成し、この長孔２４に対し
Ｙ軸可動ガイド３を貫通して交叉させ、ＸＹ可動ガイド
２，３の両端は、それぞれ軸受５を介して対向するＸ軸
ガイド１２，１２ａ、Ｙ軸ガイド１３，１３ａに対し摺
動可能に支持すると共に、各々連結部材２２，３２に移
動子２３，34、また、Ｘ軸ガイド、Ｙ軸ガイドに固定子
１４，１５を構成して往復駆動装置を構成している。前
記ＸＹ可動ガイド２，３の交叉部に対し、Ｘ軸、Ｙ軸方
向に互いに平行したガイド部材21，２１および３１，３
１の対向面を案内面として自在ステージ４を支承してい
る。
自在ステージ４は、前記交叉部における各ガイド部材の
案内面に対向する角筒体４１の上下に鍔壁４２，４３を
設けてなり、このステージ４を軸受部材として交叉部に
おける各ガイド部材２１，３１に摺動可能に支持すると
共に、該ステージ４の角筒体４１の内部にウエハ駆動機
構４４、この駆動機構４４の上面にウエハステージ４
５、鍔壁上にＬ形ミラー４６を配備してなるものであ
る。
案内面に対向する角筒体４１の上下に鍔壁４２，４３を
設けてなり、このステージ４を軸受部材として交叉部に
おける各ガイド部材２１，３１に摺動可能に支持すると
共に、該ステージ４の角筒体４１の内部にウエハ駆動機
構４４、この駆動機構４４の上面にウエハステージ４
５、鍔壁上にＬ形ミラー４６を配備してなるものであ
る。
上記ステージ４は、摺動性を有す軸受材料にて構成する
も可く、或いはまた、角筒体４１および鍔壁４２，４３
に圧力空気源に連通する空気導孔を穿設して各ガイド部
材２１，３１および定盤と対向する面に噴出口を開設
し、ステージ４自体に空気軸受を構成するも可い。尤も
別途空気軸受を取付けることも勿論可能である。本実施
例では上記の如く、定盤１上に往復動可能に配備したＸ
軸可動ガイド２、Ｙ軸可動ガイド３を、各々平行する一
対の真直ガイド部材２１，３１にて構成し、一方の可動
ガイド２の軸身部に長孔２４を形成して他方の可動ガイ
ド３を直交して貫通させ、両可動ガイド２，３の交叉部
に対し、Ｘ軸Ｙ軸方向に互いに平行したガイド部材２
１，３１の対向面を案内面として自在ステージ４を摺動
可能に支持したから、両可動ガイド２，３の可動位置高
さとステージ４の重心位置高さを全て同一高さに設定で
きるため、ステージ走行時のピッチングを一挙に解消
し、走り特性、応答性を向上し得る。しかも、ウエハス
テージ４５および駆動機構４４を搭載した侭、軸受すき
まを調整できる等、構成簡易にして発明目的を達成した
効果を有す。
も可く、或いはまた、角筒体４１および鍔壁４２，４３
に圧力空気源に連通する空気導孔を穿設して各ガイド部
材２１，３１および定盤と対向する面に噴出口を開設
し、ステージ４自体に空気軸受を構成するも可い。尤も
別途空気軸受を取付けることも勿論可能である。本実施
例では上記の如く、定盤１上に往復動可能に配備したＸ
軸可動ガイド２、Ｙ軸可動ガイド３を、各々平行する一
対の真直ガイド部材２１，３１にて構成し、一方の可動
ガイド２の軸身部に長孔２４を形成して他方の可動ガイ
ド３を直交して貫通させ、両可動ガイド２，３の交叉部
に対し、Ｘ軸Ｙ軸方向に互いに平行したガイド部材２
１，３１の対向面を案内面として自在ステージ４を摺動
可能に支持したから、両可動ガイド２，３の可動位置高
さとステージ４の重心位置高さを全て同一高さに設定で
きるため、ステージ走行時のピッチングを一挙に解消
し、走り特性、応答性を向上し得る。しかも、ウエハス
テージ４５および駆動機構４４を搭載した侭、軸受すき
まを調整できる等、構成簡易にして発明目的を達成した
効果を有す。
第１図は本発明の一実施例にかかるＸＹステージの平面
図、第２図は第１図II−II線断面図、第３図はIII−III
線断面図、第４図は従来例の平面図、第５図はVI−VI線
断面図、第６図は従来のＸＹ可動ガイドの交叉部分の斜
面図である。 １‥‥定盤 11‥‥摺動面 12，12a‥‥Ｘ軸ガイド 13，13a‥‥Ｙ軸ガイド ２‥‥Ｘ軸可動ガイド 24‥‥長孔 21‥‥ガイド部材 ３‥‥Ｙ軸可動ガイド 31‥‥ガイド部材 ４‥‥ステージ
図、第２図は第１図II−II線断面図、第３図はIII−III
線断面図、第４図は従来例の平面図、第５図はVI−VI線
断面図、第６図は従来のＸＹ可動ガイドの交叉部分の斜
面図である。 １‥‥定盤 11‥‥摺動面 12，12a‥‥Ｘ軸ガイド 13，13a‥‥Ｙ軸ガイド ２‥‥Ｘ軸可動ガイド 24‥‥長孔 21‥‥ガイド部材 ３‥‥Ｙ軸可動ガイド 31‥‥ガイド部材 ４‥‥ステージ
Claims (2)
- 【請求項１】上面に摺動面を形成した定盤と、この定盤
の周辺に各々平行配備された一対のＸ軸ガイドおよびＹ
軸ガイドと、平行する一対の真直ガイド部材を有し両端
を対向するＸ軸ガイドに往復動可能に支持したＸ軸可動
ガイドと、軸身部に互いに対向して長孔を形成した平行
する一対の真直ガイド部材を有し、前記Ｘ軸可動ガイド
に対し長孔を貫通させ両端をＹ軸ガイドに往復動可能に
支持したＹ軸可動ガイドと、両可動ガイドの交叉部にお
いてＸ軸，Ｙ軸方向に互いに平行したガイド部材に摺動
可能に支持された自在ステージとを具備して成るＸＹス
テージ。 - 【請求項２】Ｘ軸可動ガイドとＹ軸可動ガイドの可動位
置高さ、および、両可動ガイドの可動位置高さと自在ス
テージの重心位置高さが同一高さに設定されている特許
請求の範囲第１項記載のＸＹステージ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60229289A JPH066248B2 (ja) | 1985-10-14 | 1985-10-14 | Ｘｙステ−ジ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60229289A JPH066248B2 (ja) | 1985-10-14 | 1985-10-14 | Ｘｙステ−ジ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6288526A JPS6288526A (ja) | 1987-04-23 |
| JPH066248B2 true JPH066248B2 (ja) | 1994-01-26 |
Family
ID=16889788
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60229289A Expired - Lifetime JPH066248B2 (ja) | 1985-10-14 | 1985-10-14 | Ｘｙステ−ジ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH066248B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5228358A (en) * | 1990-02-21 | 1993-07-20 | Canon Kabushiki Kaisha | Motion guiding device |
| DE9007052U1 (de) * | 1990-06-25 | 1990-08-30 | Fa. Carl Zeiss, 7920 Heidenheim | Koordinatenmeßgerät in Ständerbauweise |
| JP2004152902A (ja) | 2002-10-29 | 2004-05-27 | Canon Inc | 位置決め装置 |
| EP2221668B1 (en) * | 2009-02-24 | 2021-04-14 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and positioning assembly |
| JP6456149B2 (ja) * | 2015-01-13 | 2019-01-23 | 株式会社トプコン | 測量機器 |
-
1985
- 1985-10-14 JP JP60229289A patent/JPH066248B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6288526A (ja) | 1987-04-23 |
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