JPH0663113B2 - 化成処理性の優れたＺｎ系電気めっき鋼板の製造方法 - Google Patents
化成処理性の優れたＺｎ系電気めっき鋼板の製造方法Info
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- JPH0663113B2 JPH0663113B2 JP10863787A JP10863787A JPH0663113B2 JP H0663113 B2 JPH0663113 B2 JP H0663113B2 JP 10863787 A JP10863787 A JP 10863787A JP 10863787 A JP10863787 A JP 10863787A JP H0663113 B2 JPH0663113 B2 JP H0663113B2
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Description
【発明の詳細な説明】 ＜産業上の利用分野＞ 本発明はZn系電気めっき鋼板の製造方法に係り、特にめ
っき面における化成処理性の優れたZn系電気めっき鋼板
の後後処理方法に関するものである。
っき面における化成処理性の優れたZn系電気めっき鋼板
の後後処理方法に関するものである。
＜従来技術とその問題点＞ Zn系電気めっき鋼板は、素材の材質を劣化させることな
く高耐食性が実現できるため、自動車、家電、建材な
ど、従来冷延鋼板が使用されていた幅広い分野に用途が
拡大されつつある。
く高耐食性が実現できるため、自動車、家電、建材な
ど、従来冷延鋼板が使用されていた幅広い分野に用途が
拡大されつつある。
特に、近年、耐食性向上を目的としてZn−Ni、Zn−Feな
どの電気合金めっき鋼板が開発され、自動車車体への防
錆用めっき鋼板への適用の拡大が盛んに行なわれ、生産
が著しく増加している。
どの電気合金めっき鋼板が開発され、自動車車体への防
錆用めっき鋼板への適用の拡大が盛んに行なわれ、生産
が著しく増加している。
しかし、現在、Zn系電気めっき鋼板上に、りん酸塩化成
処理時に生成するりん酸塩結晶はhopeite（Zn３（P
O４）２・4H２Ｏ）で、このhopeiteは冷延鋼板上に生成
する。
処理時に生成するりん酸塩結晶はhopeite（Zn３（P
O４）２・4H２Ｏ）で、このhopeiteは冷延鋼板上に生成
する。
phosphophyllite（Zn２・Fe（PO４）２・4H２Ｏ）に比
較して塗料の密着性が劣るために、その使用部位は車体
内面が主体で、車体外側に用いることには問題があっ
た。
較して塗料の密着性が劣るために、その使用部位は車体
内面が主体で、車体外側に用いることには問題があっ
た。
本発明者らはこの問題を解決するために、従前に特願昭
61−089747号において、めっき面を陽極電解処理する方
法を提起した。
61−089747号において、めっき面を陽極電解処理する方
法を提起した。
この技術は、Zn系電気めっきをした際、めっき表面に形
成される絶縁物質であるZn（OH）２皮膜を陽極電解処理
することによって除去し、めっき面の化成処理性の改善
を行う方法である。
成される絶縁物質であるZn（OH）２皮膜を陽極電解処理
することによって除去し、めっき面の化成処理性の改善
を行う方法である。
しかしながら、かかる方法は、下記の問題があった。
（１）、めっき面を陽極電解処理することによって、め
っき面に形成したZn（OH）２皮膜が除去でき、りん酸塩
化成処理性が向上する。しかし、例えばZnあるいはZn−
Ni合金めっき鋼板を工業的規模で大量に連続処理した場
合、めっき面から剥離したZn、Ni等が電解液中に溶解
し、蓄積されることになる。
っき面に形成したZn（OH）２皮膜が除去でき、りん酸塩
化成処理性が向上する。しかし、例えばZnあるいはZn−
Ni合金めっき鋼板を工業的規模で大量に連続処理した場
合、めっき面から剥離したZn、Ni等が電解液中に溶解
し、蓄積されることになる。
このような金属イオン、特にNiイオンが溶解した電解液
を用いてめっき面の陽極電解処理を続け、液中にそれら
の金属イオン濃度が0.2g／以上になると、めっき面が
オーバーエッチングされ、Zn系合金めっきにおいては黒
点状の皮膜欠陥、Znめっきに至っては著しい皮膜欠落が
起こり、めっき外観が悪くなり、それらの箇所にはりん
酸塩化成皮膜が形成されず、皮膜欠陥になる。
を用いてめっき面の陽極電解処理を続け、液中にそれら
の金属イオン濃度が0.2g／以上になると、めっき面が
オーバーエッチングされ、Zn系合金めっきにおいては黒
点状の皮膜欠陥、Znめっきに至っては著しい皮膜欠落が
起こり、めっき外観が悪くなり、それらの箇所にはりん
酸塩化成皮膜が形成されず、皮膜欠陥になる。
（２）、したがって、従来の方法では、一定量処理した
後電解液を廃棄しなければならず、経済的に不利であ
る。また電解液の入れ替えが必要となり、ラインのダウ
ンタイムが発生する。このためライン稼動が低下し、生
産性を阻害するとともにコストアップになる。
後電解液を廃棄しなければならず、経済的に不利であ
る。また電解液の入れ替えが必要となり、ラインのダウ
ンタイムが発生する。このためライン稼動が低下し、生
産性を阻害するとともにコストアップになる。
＜発明の目的＞ 本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、Zn系
電気めっき鋼板のめっき面を陽極電解処理するに際し、
電解液中に、ZnイオンやNiイオン等の金属イオンが存在
しても、該電解液を交換することなく、めっき面のオー
バーエッチングの発生を防止し、めっき外観を損なうこ
となく、りん酸塩化成処理性の優れためっき面を容易に
得ることのできるZn系電気めっき鋼板の製造方法を提供
することを目的とする。
電気めっき鋼板のめっき面を陽極電解処理するに際し、
電解液中に、ZnイオンやNiイオン等の金属イオンが存在
しても、該電解液を交換することなく、めっき面のオー
バーエッチングの発生を防止し、めっき外観を損なうこ
となく、りん酸塩化成処理性の優れためっき面を容易に
得ることのできるZn系電気めっき鋼板の製造方法を提供
することを目的とする。
＜発明の構成＞ 本発明者らは、Zn系電気めっき鋼板のめっき面を陽極電
解処理するに際し、電解液中にZnイオンやNiイオンなど
の金属イオンが増加しても、めっき面のオーバーエッチ
ングの発生を防止し、もってめっき外観を損なうことな
く、りん酸塩化成処理性の優れためっき面を得る方法に
ついて種々検討を重ねた結果、電解液中にオキシ酸およ
び／またはオキシ酸塩あるいはアミンなどのNiイオン、
Feイオンとキレート化合物を形成する物質を添加するこ
とが極めて効果的であることを知見し、本発明を完成す
るのに至ったものである。
解処理するに際し、電解液中にZnイオンやNiイオンなど
の金属イオンが増加しても、めっき面のオーバーエッチ
ングの発生を防止し、もってめっき外観を損なうことな
く、りん酸塩化成処理性の優れためっき面を得る方法に
ついて種々検討を重ねた結果、電解液中にオキシ酸およ
び／またはオキシ酸塩あるいはアミンなどのNiイオン、
Feイオンとキレート化合物を形成する物質を添加するこ
とが極めて効果的であることを知見し、本発明を完成す
るのに至ったものである。
すなわち、本発明によれば、鋼板にZn系電気めっきを施
した後、Na、Ｋ、Li、MgおよびAlのりん酸塩または硫酸
塩のうち１種あるいは２種以上と、さらにNiイオンおよ
びFeイオンとキレート化合物を形成する物質とを含むpH
4以上の電解液中で、電流密度が5A／dm２以上かつ電気
量10クーロン／dm２以上にて陽極電解処理を施すことを
特徴とする化成処理性の優れたZn系電気めっき鋼板の製
造方法を提供するものである。
した後、Na、Ｋ、Li、MgおよびAlのりん酸塩または硫酸
塩のうち１種あるいは２種以上と、さらにNiイオンおよ
びFeイオンとキレート化合物を形成する物質とを含むpH
4以上の電解液中で、電流密度が5A／dm２以上かつ電気
量10クーロン／dm２以上にて陽極電解処理を施すことを
特徴とする化成処理性の優れたZn系電気めっき鋼板の製
造方法を提供するものである。
以下、本発明の化成処理性の優れたZn系電気めっき鋼板
の陽極電解処理方法を詳細に説明する。
の陽極電解処理方法を詳細に説明する。
本発明におけるZn系電気めっき鋼板とは、Znめっき鋼
板、Znを主体とするZn系合金めっき鋼板を広く含むもの
である。例えば、Zn−Ni系、Zn−Mn系、Zn−Cr系、Zn−
Fe系合金めっき、さらにはこれらにＰ、Co、Cr、Sn、S
b、Ｖ、Fe、Ti、Ni、Mn、As、Bi等のうち１種または２
種以上を故意に添加あるいは不可避的に混入したもの、
さらにこれにアルミナ、シリカ、チタニア、クロム酸塩
等の粒子を分散させたもの等、あらゆるZn系合金または
複合めっき皮膜を硫酸浴、塩化物浴あるいはそれらの混
合浴などの酸性の液でめっきしたものである。電解液
は、Na、Ｋ、Li、Mg、Alなどのりん酸塩あるいは硫酸塩
の少なくとも１種を主成分とする。上記金属イオンの析
出電位は水素還元電位より低いため、水溶液の電解では
上記金属の析出が起らない。このため、浴中の金属イオ
ン濃度の維持や陰極のメンテナンスが容易であるととも
に、陽極上に生成する酸と陰極上で生成するアルカリと
が当量関係でバランスし、浴pHの維持にとっても好適で
あるからである。
板、Znを主体とするZn系合金めっき鋼板を広く含むもの
である。例えば、Zn−Ni系、Zn−Mn系、Zn−Cr系、Zn−
Fe系合金めっき、さらにはこれらにＰ、Co、Cr、Sn、S
b、Ｖ、Fe、Ti、Ni、Mn、As、Bi等のうち１種または２
種以上を故意に添加あるいは不可避的に混入したもの、
さらにこれにアルミナ、シリカ、チタニア、クロム酸塩
等の粒子を分散させたもの等、あらゆるZn系合金または
複合めっき皮膜を硫酸浴、塩化物浴あるいはそれらの混
合浴などの酸性の液でめっきしたものである。電解液
は、Na、Ｋ、Li、Mg、Alなどのりん酸塩あるいは硫酸塩
の少なくとも１種を主成分とする。上記金属イオンの析
出電位は水素還元電位より低いため、水溶液の電解では
上記金属の析出が起らない。このため、浴中の金属イオ
ン濃度の維持や陰極のメンテナンスが容易であるととも
に、陽極上に生成する酸と陰極上で生成するアルカリと
が当量関係でバランスし、浴pHの維持にとっても好適で
あるからである。
また、硫酸塩あるいはりん酸塩を選んだのは、これらの
水溶液電解では有害ガスの発生がないからである。
水溶液電解では有害ガスの発生がないからである。
そして、本発明の特徴として、前記電解液中に添加する
Niイオン、Feイオンとキレート化合物を形成する物質と
しては、オキシ酸および／またはオキシ酸塩あるいはア
ミンなどがあげられる。
Niイオン、Feイオンとキレート化合物を形成する物質と
しては、オキシ酸および／またはオキシ酸塩あるいはア
ミンなどがあげられる。
前記電解液中へ添加するオキシ酸および／またはオキシ
酸塩としては、クエン酸、酒石酸、乳酸、りんご酸、ヒ
ドロアクリル酸、α−オキシ酪酸、グリセリン酸、グリ
コール酸、タルトロン酸などの脂肪族オキシ酸およびサ
リチル酸、マンデル酸、トロパ酸、没食子酸、ｍ−オキ
シ安息香酸、ｐ−オキシ安息香酸などの芳香族オキシ酸
および／またはそれらのオキシ酸塩などがあげられる。
酸塩としては、クエン酸、酒石酸、乳酸、りんご酸、ヒ
ドロアクリル酸、α−オキシ酪酸、グリセリン酸、グリ
コール酸、タルトロン酸などの脂肪族オキシ酸およびサ
リチル酸、マンデル酸、トロパ酸、没食子酸、ｍ−オキ
シ安息香酸、ｐ−オキシ安息香酸などの芳香族オキシ酸
および／またはそれらのオキシ酸塩などがあげられる。
前記電解液中にオキシ酸および／またはオキシ酸のアル
カリ塩を添加すると、めっき面の外観や化成処理性を劣
化させることなく、化成処理性の優れためっき面が得ら
れるのは、オキシ酸イオンが、各種金属とヒドロキシル
基およびカルボキシル基の酸素によってキレート化し
て、水溶性錯塩を生成し、マスキング剤として働くため
であると考えられる。
カリ塩を添加すると、めっき面の外観や化成処理性を劣
化させることなく、化成処理性の優れためっき面が得ら
れるのは、オキシ酸イオンが、各種金属とヒドロキシル
基およびカルボキシル基の酸素によってキレート化し
て、水溶性錯塩を生成し、マスキング剤として働くため
であると考えられる。
前記オキシ酸および／またはオキシ酸塩の添加量として
はオキシ酸イオンとして5g／以上が好ましい。オキシ
酸イオンが5g／未満では、めっき面の清浄化が困難と
なるとともにめっき面に発生する黒点状のオーバーエッ
チングの防止効果が少ないからである。また、上限はオ
キシ酸および／またはオキシ酸塩の溶解度以下が望まし
い。
はオキシ酸イオンとして5g／以上が好ましい。オキシ
酸イオンが5g／未満では、めっき面の清浄化が困難と
なるとともにめっき面に発生する黒点状のオーバーエッ
チングの防止効果が少ないからである。また、上限はオ
キシ酸および／またはオキシ酸塩の溶解度以下が望まし
い。
また、オキシ酸に代えて、前記電解液中に添加するアミ
ンとしては、メチルアミン、エチルアミン、プロピルア
ミン、イソプロピルアミン、ブチルアミン、アミルアミ
ン、ヘキシルアミン、ヘプチルアミン、オクチルアミ
ン、ノニルアミン、デシルアミン、ウンデシルアミン、
ドデシルアミン、トリデシルアミン、テトラデシルアミ
ン、ペンタデシルアミン、セチルアミン等の脂肪族第一
アミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジプロピル
アミン、ジイソプロピルアミン、ジブチルアミン、ジア
ミルアミン等の脂肪族第二アミンおよびトリメチルアミ
ン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチ
ルアミン、トリアミルアミン等の脂肪族第三アミンや脂
肪族不飽和アミン、脂環式アミンおよび芳香族アミン等
があげられる。
ンとしては、メチルアミン、エチルアミン、プロピルア
ミン、イソプロピルアミン、ブチルアミン、アミルアミ
ン、ヘキシルアミン、ヘプチルアミン、オクチルアミ
ン、ノニルアミン、デシルアミン、ウンデシルアミン、
ドデシルアミン、トリデシルアミン、テトラデシルアミ
ン、ペンタデシルアミン、セチルアミン等の脂肪族第一
アミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジプロピル
アミン、ジイソプロピルアミン、ジブチルアミン、ジア
ミルアミン等の脂肪族第二アミンおよびトリメチルアミ
ン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチ
ルアミン、トリアミルアミン等の脂肪族第三アミンや脂
肪族不飽和アミン、脂環式アミンおよび芳香族アミン等
があげられる。
前記電解液中にアミンを添加すると、めっき面の外観や
化成処理性を劣化させることなく、化成処理性の優れた
めっき面が得られるのは、アミンが金属イオンと錯塩を
形成して金属イオンをキレートし、金属イオンのマスキ
ング剤として働くためであると考えられる。
化成処理性を劣化させることなく、化成処理性の優れた
めっき面が得られるのは、アミンが金属イオンと錯塩を
形成して金属イオンをキレートし、金属イオンのマスキ
ング剤として働くためであると考えられる。
前記アミンの添加量としては2g／以上が好ましい。ア
ミンが2g／未満では、めっき面の清浄化が困難となる
とともにめっき面に発生する黒点状のオーバーエッチン
グの防止効果が少ないからである。また、上限はアミン
の溶解度以下が望ましい。
ミンが2g／未満では、めっき面の清浄化が困難となる
とともにめっき面に発生する黒点状のオーバーエッチン
グの防止効果が少ないからである。また、上限はアミン
の溶解度以下が望ましい。
前記電解液のpHは４以上で化成処理性の改善に効果があ
る。pHが４未満では、めっき層の化学溶解が著しく増加
してめっき割れを起こし、耐食性の低下をきたすからで
ある。
る。pHが４未満では、めっき層の化学溶解が著しく増加
してめっき割れを起こし、耐食性の低下をきたすからで
ある。
また、電流密度が5A／dm２以上では化成処理性の改善が
なされるが、5A／dm２未満では充分な効果が得られず、
また工程上長い時間が必要となり、経済的ではない。
なされるが、5A／dm２未満では充分な効果が得られず、
また工程上長い時間が必要となり、経済的ではない。
電流密度の上限は、電解電圧の上昇による電力ロスを考
慮すると150A／dm２以下が好ましい。
慮すると150A／dm２以下が好ましい。
電気量は10クーロン／dm２以上で化成処理性の改善が可
能であり、10クーロン／dm２未満では充分な効果が得ら
れない。電気量の上限はないが、電気量が増大すると、
金属溶解によりめっき目付量の低下が起り、経済的でな
く500クーロン／dm２以下が好ましい。
能であり、10クーロン／dm２未満では充分な効果が得ら
れない。電気量の上限はないが、電気量が増大すると、
金属溶解によりめっき目付量の低下が起り、経済的でな
く500クーロン／dm２以下が好ましい。
めっき鋼板電解時の極性は陽極（プラス）で化成処理性
の改善が可能であり、極性を陰極（マイナス）にすると
その目的を達成することはできない。この裏付けとし
て、本発明におけるりん酸塩処理性が向上する理由とし
て、明確ではないが、次のように考えられる。
の改善が可能であり、極性を陰極（マイナス）にすると
その目的を達成することはできない。この裏付けとし
て、本発明におけるりん酸塩処理性が向上する理由とし
て、明確ではないが、次のように考えられる。
例えばZn−Niめっきの電析機構は、異常共析型であるこ
とが知られている。
とが知られている。
異常共析とは、本来析出しやすいNi＋イオンより析出し
にくいZn２ ＋イオンが優先的に電析層中に取り込まれる
現象である。これは、通電を開始すると鋼表面のpHが上
昇してまずZn（OH）２皮膜が生成し、このZn（OH）２皮
膜を通して電析が起る。従って、Niの電析は阻害され、
めっき浴中のZnとNiのモル比がZn／Ni＝１／２であるの
に対し、めっき層中のZnとNiのモル比がZn／Ni＝６〜７
と割合が逆転するからである。
にくいZn２ ＋イオンが優先的に電析層中に取り込まれる
現象である。これは、通電を開始すると鋼表面のpHが上
昇してまずZn（OH）２皮膜が生成し、このZn（OH）２皮
膜を通して電析が起る。従って、Niの電析は阻害され、
めっき浴中のZnとNiのモル比がZn／Ni＝１／２であるの
に対し、めっき層中のZnとNiのモル比がZn／Ni＝６〜７
と割合が逆転するからである。
Zn系電気めっき表面における化成処理皮膜の生成反応
は、 Zn＋2H３PO４→ Zn（Ｈ２PO４）２＋Ｈ２↑（initiation） ……（１） 3Zn（Ｈ２PO４）２＋4H２Ｏ→ Zn３（PO４）２4H２Ｏ＋4H３PO４ ……（２） （化成皮膜） である。めっき終了時に、Zn（OH）２皮膜は、めっき表
面をおおっている。Zn（OH）２皮膜は電子伝導性を有さ
ないため、上記反応（１）の金属溶解を阻害し、化成処
理性を低下させる。
は、 Zn＋2H３PO４→ Zn（Ｈ２PO４）２＋Ｈ２↑（initiation） ……（１） 3Zn（Ｈ２PO４）２＋4H２Ｏ→ Zn３（PO４）２4H２Ｏ＋4H３PO４ ……（２） （化成皮膜） である。めっき終了時に、Zn（OH）２皮膜は、めっき表
面をおおっている。Zn（OH）２皮膜は電子伝導性を有さ
ないため、上記反応（１）の金属溶解を阻害し、化成処
理性を低下させる。
Zn（OH）２皮膜は、非常に薄く、めっき直後の板が濡れ
ている状態では、ゲル状でめっき表面をおおっているだ
けである。従って水洗水を強くめっき表面にあてるとそ
の一部は除かれる。
ている状態では、ゲル状でめっき表面をおおっているだ
けである。従って水洗水を強くめっき表面にあてるとそ
の一部は除かれる。
Zn−Niめっきの一部に化成処理性のよいものがみられる
のは、たまたまその部分がZn（OH）２皮膜の少ない部分
であったと推定できる。しかし、水洗水をめっき鋼板全
体にまんべんなくあてることは、設備の維持管理がきわ
めてむずかしく、安定した特性を得るのは不可能であ
る。
のは、たまたまその部分がZn（OH）２皮膜の少ない部分
であったと推定できる。しかし、水洗水をめっき鋼板全
体にまんべんなくあてることは、設備の維持管理がきわ
めてむずかしく、安定した特性を得るのは不可能であ
る。
ここで、本発明によると、めっきの最終セクションで鋼
板側を陽極（プラス）にすることにより、次のアノード
反応が主として起る。
板側を陽極（プラス）にすることにより、次のアノード
反応が主として起る。
Ｈ２Ｏ→１／2 O２↑＋2H＋＋2e− ……（３） Zn→Zn２ ＋＋2e− ……（４） 従って、絶縁物質であるZn（OH）２は、酸素ガスや下層
からのZnの溶解と同時にめっき表面から除かれる。
からのZnの溶解と同時にめっき表面から除かれる。
上記反応は鋼板表面全体で起こり、表面のZn（OH）２が
均一に取り除かれたZn−Niめっき鋼板が得られる。Zn
（OH）２の少ない表面では、鋼板全体より金属溶解の化
成処理初期反応が起こり、多数の結晶初期核が発生す
る。初期結晶は成長するが、数多いため、相互に成長を
阻害して緻密な化成結晶が得られる。
均一に取り除かれたZn−Niめっき鋼板が得られる。Zn
（OH）２の少ない表面では、鋼板全体より金属溶解の化
成処理初期反応が起こり、多数の結晶初期核が発生す
る。初期結晶は成長するが、数多いため、相互に成長を
阻害して緻密な化成結晶が得られる。
すなわち、鋼板側を陽極にすることにより、緻密な化成
結晶を得ることができることになる。
結晶を得ることができることになる。
鋼板側を陰極（マイナス）にすると、カソード反応とし
て水素ガス発生とともに、不純物として金属イオンが存
在するとそれが析出するため、十分にZn（OH）２皮膜が
取り除かれず、むしろ電析した金属が化成むらの原因と
なり、化成処理性の改善がなされない。
て水素ガス発生とともに、不純物として金属イオンが存
在するとそれが析出するため、十分にZn（OH）２皮膜が
取り除かれず、むしろ電析した金属が化成むらの原因と
なり、化成処理性の改善がなされない。
本発明において用いられる鋼材はその種類および寸法に
は限定されず、常法に従って脱脂、酸洗、および水洗な
どの前処理を行ってよい。
は限定されず、常法に従って脱脂、酸洗、および水洗な
どの前処理を行ってよい。
また、これらの前処理に続いてZn系電気めっきを施した
後、本発明法に基づいて陽極電解処理をすれば良い。
後、本発明法に基づいて陽極電解処理をすれば良い。
陽極電解処理槽としては、水平式、縦型式およびラジア
ルセルなどの従来既知の方式が適用でき、液温は室温〜
70℃の間で任意に選択できる。
ルセルなどの従来既知の方式が適用でき、液温は室温〜
70℃の間で任意に選択できる。
陽極電解処理を終ったあと、めっき鋼板は水洗、乾燥さ
れ、製品とされる。
れ、製品とされる。
＜実施例＞ 次に本発明を実施例に基づいて具体的に説明する。
以下の各実施例においては、いずれも板厚0.7mmのSPCC
相当の冷延鋼板を使用してめっきした。
相当の冷延鋼板を使用してめっきした。
［実施例１］ （１）Zn−Ni浴組成 NiSO４・6H２Ｏ 250g／ ZnSO４・7H２Ｏ 130g／ Na２SO４ 40g／ （２）pH 1.6 （３）浴温 60℃ （４）電流密度 50A／dm２ （５）めっき時間 15sec （６）めっき目付量 20g／ｍ２ のめっき条件にて冷延鋼板を電気Zn−Ni合金めっき後、
ただちに水洗を行ない、板表面が濡れたまま引き続き表
１に示した条件でめっき面の陽極電解処理を行ない、そ
の後、水洗乾燥した。
ただちに水洗を行ない、板表面が濡れたまま引き続き表
１に示した条件でめっき面の陽極電解処理を行ない、そ
の後、水洗乾燥した。
電解処理後のめっき表面の外観評価は、目視測定で下記
の通りである。
の通りである。
〇…均一で黒点状のオーバーエッチングなし △…一部に黒点状のオーバーエッチングあり ×…全面に黒点状のオーバーエッチングあり この後、日本ペイント製のりん酸塩処理液グラノジンSD
2000（Dip方式）を用いて化成処理を行なった。化成皮
膜の評価は、目視および走査型電顕観察により、均一
性、皮膜欠陥の有無、結晶の緻密さ等によって評価し、
重量法（クロム酸アンモン液使用）により皮膜付着量を
求めた。
2000（Dip方式）を用いて化成処理を行なった。化成皮
膜の評価は、目視および走査型電顕観察により、均一
性、皮膜欠陥の有無、結晶の緻密さ等によって評価し、
重量法（クロム酸アンモン液使用）により皮膜付着量を
求めた。
評価基準は下記の通りである。
〇…均一で緻密な結晶皮膜 △…点状の皮膜欠陥部ややあり、あるいは結晶が不均一 ×…全面に点状の皮膜欠陥あり 結果を表１に示す。
［実施例２］ （１）Zn浴組成 ZnSO４・7H２Ｏ 400g／ Na２SO４ 35g／ （２）pH ２ （３）浴温 55℃ （４）電流密度 40A／dm２ （５）めっき時間 20sec （６）めっき目付量 20g／ｍ２ のめっき条件にて冷延鋼板を電気Znめっき後、ただちに
水洗を行ない、板表面が濡れたまま引き続き表２に示し
た条件でめっき面の陽極電解処理を行ない、その後、水
洗乾燥した。電解処理液はZn−Niめっき処理後に上記Zn
めっきを行なったものとして、処理液中にNiイオンが混
在したものである。
水洗を行ない、板表面が濡れたまま引き続き表２に示し
た条件でめっき面の陽極電解処理を行ない、その後、水
洗乾燥した。電解処理液はZn−Niめっき処理後に上記Zn
めっきを行なったものとして、処理液中にNiイオンが混
在したものである。
電解処理後のめっき表面の外観、化成処理性の試験方法
は、実施例１と同様であり、評価基準は下記の通りであ
る。
は、実施例１と同様であり、評価基準は下記の通りであ
る。
電解処理後めっき表面外観評価： 〇…均一でオーバーエッチングによる皮膜の欠落なし △…オーバーエッチングによる皮膜の欠落部ややあり、
あるいは結晶が不均一 ×…ほぼ全面にオーバーエッチングによる皮膜の欠落あ
り 化成皮膜外観評価： 〇…均一で緻密な結晶皮膜 △…皮膜欠陥部ややあり ×…ほぼ全面が皮膜欠落 結果を表２に示す。
あるいは結晶が不均一 ×…ほぼ全面にオーバーエッチングによる皮膜の欠落あ
り 化成皮膜外観評価： 〇…均一で緻密な結晶皮膜 △…皮膜欠陥部ややあり ×…ほぼ全面が皮膜欠落 結果を表２に示す。
＜発明の効果＞ 以上詳述したように、本発明によれば、電解液中にZn、
Ni、Fe等の金属イオンが存在しても、めっき面に発生す
るオーバーエッチングを防止し、化成処理後の外観に優
れ、緻密で細かいりん酸塩結晶のめっき面が得られる。
Ni、Fe等の金属イオンが存在しても、めっき面に発生す
るオーバーエッチングを防止し、化成処理後の外観に優
れ、緻密で細かいりん酸塩結晶のめっき面が得られる。
さらに本発明によれば、電解液を交換することなく、め
っき面における化成処理性の優れたZn系電気めっき鋼板
が得られるので、ライン稼動率が高くかつ生産性の高い
Zn系電気めっき鋼板の製造方法が得られるという効果が
ある。
っき面における化成処理性の優れたZn系電気めっき鋼板
が得られるので、ライン稼動率が高くかつ生産性の高い
Zn系電気めっき鋼板の製造方法が得られるという効果が
ある。
Claims (1)
- 【請求項１】鋼板にZn系電気めっきを施した後、Na、
Ｋ、Li、MgおよびAlのりん酸塩または硫酸塩のうち１種
あるいは２種以上と、さらにNiイオンおよびFeイオンと
キレート化合物を形成する物質とを含むpH4以上の電解
液中で、電流密度が5A／dm２以上かつ電気量10クーロン
／dm２以上にて陽極電解処理を施すことを特徴とする化
成処理性の優れたZn系電気めっき鋼板の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10863787A JPH0663113B2 (ja) | 1987-05-01 | 1987-05-01 | 化成処理性の優れたＺｎ系電気めっき鋼板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10863787A JPH0663113B2 (ja) | 1987-05-01 | 1987-05-01 | 化成処理性の優れたＺｎ系電気めっき鋼板の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63274797A JPS63274797A (ja) | 1988-11-11 |
| JPH0663113B2 true JPH0663113B2 (ja) | 1994-08-17 |
Family
ID=14489842
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10863787A Expired - Fee Related JPH0663113B2 (ja) | 1987-05-01 | 1987-05-01 | 化成処理性の優れたＺｎ系電気めっき鋼板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0663113B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2740661B2 (ja) * | 1988-12-19 | 1998-04-15 | 株式会社神戸製鋼所 | 燐酸塩処理性の優れたＺｎ―Ｎｉ系合金電気めっき鋼板 |
| JP2691797B2 (ja) * | 1990-11-10 | 1997-12-17 | 新日本製鐵株式会社 | プレス成形性、化成処理性に優れた亜鉛系めっき鋼板 |
| JP2826902B2 (ja) * | 1990-11-10 | 1998-11-18 | 新日本製鐵株式会社 | プレス成形性、化成処理性に優れた亜鉛系めっき鋼板の製造方法 |
| JP3819944B2 (ja) * | 1994-03-11 | 2006-09-13 | ディップソール株式会社 | 亜鉛又は亜鉛合金上にセラミックス皮膜を形成する方法 |
| US6528182B1 (en) * | 1998-09-15 | 2003-03-04 | Sollac | Zinc coated steel plates coated with a pre-lubricating hydroxysulphate layer and methods for obtaining same |
-
1987
- 1987-05-01 JP JP10863787A patent/JPH0663113B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63274797A (ja) | 1988-11-11 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |