JPH0663389A

JPH0663389A - 自動合成反応装置

Info

Publication number: JPH0663389A
Application number: JP21608092A
Authority: JP
Inventors: Toru Sugawara; 徹菅原; Motoaki Shintani; 元章新谷; Norichika Matsumoto; 憲親松本
Original assignee: Takeda Chemical Industries Ltd
Current assignee: Takeda Pharmaceutical Co Ltd
Priority date: 1992-08-13
Filing date: 1992-08-13
Publication date: 1994-03-08

Abstract

(57)【要約】【目的】全体の構成が簡単で温度制御,ｐＨ制御,液滴
下を相関的に制御でき、かつ、複数液同時滴下を行える
自動合成反応装置を提供する。【構成】複数の試薬容器から配管を介して試薬を供給
する反応容器の内部に液温度センサーとｐＨセンサーを
設けると共に、これらセンサーからの検出信号に応じて
開閉する電磁弁を上記配管に設け、かつ、これら電磁弁
にタイマーに接続してタイマーにより上記電磁弁を開閉
させると共に、上記温度センサーとｐＨセンサーの夫々
の検出信号で上記タイマーを入・切させている。また、
上記反応容器を囲む熱媒体容器を設け、該熱媒体容器に
循環させる熱媒体を上記液温度センサーあるいは熱媒体
温度センサーからの検出値により所要温度となるように
制御している。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は自動合成反応装置に関
し、詳しくは、温度あるいは温度とｐＨを一定範囲内に
保持しながら試薬を反応させるための装置で、特に、上
記条件下におい反応容器に対して複数の試薬容器より複
数液の同時滴下を行えるようにするものである。

【０００２】

【従来の技術】一般に、自動合成反応装置では、合成に
必要な基本操作を合成手順に基づいて順次実行して目的
とする化合物を合成している。すなわち、試薬や溶媒の
注入、滴下、温度可変、攪拌、抽出、濃縮、洗浄、乾
燥、ｐＨの制御、蒸留、還流など様々な操作を組み合わ
せ実行している。また、合成した化合物の精製、分取な
どの装置も組み合わせて使用できるようにしている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記機
能を全て合わせ持った自動合成反応装置は、装置が大型
になると共に価格も高価になり、また、装置の排気設備
も特別に必要になる。

【０００４】また、従来の自動合成反応装置では、一般
に反応容器内の溶液の温度調整、ｐＨ調整は別個の反応
容器で行っており、よって、複数の反応容器の間で液を
移送しながら行う必要があった。さらに、温度あるいは
温度とｐＨの両方を自動調整しながら温度あるいは温度
とｐＨが所要範囲になった時に自動的に所要量の試薬を
供給する手段は設けられていなかった。よって、反応容
器内の液の温度あるいは温度とｐＨを一定範囲に保ちな
がら反応制御することが必要な場合に、通常、熟練者が
反応容器内の液の温度及びｐＨを測定しながら、温度調
整およびｐＨ調整を行い、かつ、試薬の滴下、各反応容
器への入れ換えを手動で行っているため、手数がかかる
と共に、正確な制御が行えず、下記のように収率が悪化
する問題があった。

【０００５】即ち、ｐＨが一定範囲内で、かつ、反応液
の温度が一定範囲内の時に反応制御を行う必要があ場
合、一定範囲を越えて温度を冷却し過ぎると反応の進行
が遅れて最適な反応が行えず、逆に、反応液の温度が急
激に上昇すると、反応容器の冷却の時間遅れのために反
応液の温度が高くなる。このため最適条件のもとでの反
応を行うことができず、思わぬ副反応あるいは分解など
を伴うため収率が悪くなる欠点がある。

【０００６】さらにまた、従来の自動合成反応装置で
は、滴下反応で二液以上の同時滴下が出来なかった。即
ち、２個以上の試薬容器から１個の反応容器に対して配
管を通して同時に滴下されず、時間的にズラして別個に
滴下されているのが現状である。その結果、従来は、常
に一定比率で、一定条件下での反応が出来ないなどの問
題があった。

【０００７】上記した問題より、従来は、温度を一定範
囲内に保ち、しかもｐＨの値を一定範囲内に保ちなが
ら、二液の滴下を同一条件下で制御して自動的に反応さ
せることが殆んど不可能であった。

【０００８】さらに、従来の自動合成反応装置では、非
常にゆっくりした温度勾配で自動的に温度を精密に上昇
あるいは下降する制御が出来なかった。よって、例え
ば、低温で反応した状態から急に温度が上昇する場合に
は、未反応の物質あるいは目的生成物が分解したりする
恐れがあった。このように温度勾配が大きいと未反応物
質あるいは目的生成物の分解がおこりやすく、合成収率
の低下をもたらすことが時としてある。これに対して、
未反応の状態のままであっても穏やかな昇温がなされる
と、少しずつではあるが反応が進行して収率が上がるこ
ともあり、、上記したように、従来の装置では非常にゆ
っくりとした温度勾配で反応液の温度を制御することが
出来なかった。

【０００９】本発明は上記した問題に鑑みてなされたも
ので、装置の小型化を図り、実験台上やドラフト内に設
置できるようにして、手狭な実験室を有効に使用できる
装置を提供することを目的としている。また、装置を構
成する部品点数の削減によりコスト低下を図ると共に、
故障が少なく精度の高い反応を行うことが出来る自動合
成反応装置を提供せんとするものである。

【００１０】更に、本発明は、反応液の温度が一定範囲
内の時に、あるいは温度とｐＨが一定範囲内の時のみ自
動的に試薬を反応容器に滴下して、反応を行うことが出
来るようにすると共に、上記反応容器に対して２個以上
の試薬容器から同一条件で同時滴下も可能とする自動合
成反応装置を提供せんとするものである。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明は、熱媒体容器で
包囲した反応容器の内部に、配管を介して試薬容器から
試薬を供給して自動的に合成反応を行う装置において、
上記反応容器内に液温度センサーを設ける一方、上記配
管に開閉弁を介設すると共に、上記熱媒体容器と反応容
器との間に入れる熱媒体の温度制御手段を設け、かつ、
上記開閉弁および温度制御手段を上記液温度センサーか
らの検出信号に応じて動作して、反応容器内の液温度を
所要の一定範囲内に制御すると共に、該一定温度範囲内
で反応容器内に試薬を供給するように上記開閉弁を動作
する制御回路を設けていることを特徴とする自動合成反
応装置を提供するものである。

【００１２】本発明の自動合成反応装置では、上記熱媒
体容器と反応容器との間に熱媒体温度センサーを設け
て、該熱媒体温度センサーからの検出信号に応じて熱媒
体温度制御手段を動作して制御するようにし、熱媒体温
度の温度制御の応答性を良好にし、迅速に反応容器内の
温度を所要の一定範囲内に制御するようにしても良い。
特に、熱媒体容器と反応容器との間には、熱媒体槽に溜
めている所要温度の冷却媒体を循環させる一方、反応容
器外側面と熱媒体容器の内側面との隙間の熱媒体流路に
ヒーター等の加熱手段を配置し、該加熱手段による冷却
媒体の加熱により所要温度となるように温度制御する構
成とすることが好ましい。該構成にすると、反応熱によ
り急激に反応容器内の溶液温度が反応熱により急激に変
化する場合、熱媒体容器内の局部的な熱媒体の温度を制
御を行うことにより、反応容器内の液温度を所要温度と
なるように迅速に調整することが出来る。

【００１３】また、本発明の自動合成反応装置では、上
記反応容器内の液を温度およびｐＨが一定範囲内の時に
反応させる必要がある場合に備えて、上記液温度センサ
ーと共に液のｐＨを直接的に検出するｐＨセンサーを設
け、かつ、反応容器に配管を介して連結する上記試薬容
器の少なくとも１つはｐＨ調整用試薬を充填しておくこ
とが好ましい。上記反応容器内の溶液のｐＨを一定範囲
内に制御しつつ、ｐＨが一定範囲内の時に試薬を反応容
器に滴下して反応させる必要がある場合、上記制御回路
で、ｐＨセンサーからの検出信号に応じてｐＨが所要の
一定範囲内になるように上記開閉弁を動作してｐＨ調整
液を反応容器に供給すると共に、反応容器内の液温度お
よびｐＨが所要の一定範囲内の時に他の試薬容器から試
薬を反応容器に供給するように制御している。

【００１４】上記反応容器と試薬容器とを接続する配管
に介設する開閉弁は、電磁弁とすると共に該電磁弁を動
作するタイマーを設け、上記制御回路からの動作信号に
より上記タイマーで設定した所要時間だけ電磁弁を開弁
する構成としている。かつ、上記タイマーによる設定時
間を手動操作可として、開閉弁の開弁時間を必要に応じ
て微調節出来るようにしている。

【００１５】本発明の自動合成反応装置では、特に、反
応容器に対して複数の試薬容器から複数の試薬を同時滴
下することが出来るようにすることを特徴としており、
そのため、上記反応容器に対して複数の試薬容器を夫々
電磁弁を設けた配管を介して接続すると共に各電磁弁に
タイマーを夫々接続し、上記制御回路は、上記タイマー
により上記電磁弁を一定時間間隔で同じタイミングで開
閉させると共に、上記液温度センサーおよびｐＨセンサ
ーの検出信号で上記タイマーを入,切させ、反応容器内
の溶液の温度およびｐＨが所要の一定範囲内の時に試薬
容器から複数の試薬を同時に供給する構成としている。

【００１６】上記試薬容器から反応容器への試薬の供給
は一定圧を負荷した状態で滴下して行い、所要量の試薬
を精度よく反応容器に滴下出来るようにしている。さら
に、本装置では、試薬容器や反応容器の自動洗浄手段も
備えている。

【００１７】

【作用】上記したように、本発明の自動合成反応装置で
は、反応容器内に液温度センサーを直接配置したので、
反応液内の温度変化を直接測定でき、反応容器内の液が
一定の温度範囲内にある時に試薬の滴下を行うことが出
来る。同様に、反応容器内部にｐＨセンサーを配置して
いるため、一定のｐＨ範囲内での条件下で滴下制御が可
能になる。即ち、上記液温度センサーとｐＨセンサーと
の両方を反応容器内部に配置して、これらセンサーから
の検出値に応じて、液温度が一定範囲内で且つｐＨが一
定範囲内の時のみ試薬の供給を行うように制御している
ため、所望の反応を自動的に達成することが出来る。

【００１８】さらに、試薬容器から反応容器への配管に
設けた電磁弁からなる開閉弁をタイマーで動作し、該タ
イマーの出力スイッチを設定された短い時間だけ入と
し、すぐに切となるワンシュットマルチバイブレーター
の機能を持たせているため、電磁弁はこの限られた時間
だけ動作し、試薬の正確な量を滴下する。かつ、液の量
が変動しても一定圧で押し出すので確実に所要量の試薬
の滴下を行うことが出来る。

【００１９】さらに、反応容器に対して複数個の試薬容
器より複数の試薬を電磁開閉弁の開動作で同時滴下する
ことが出来る。本装置の滴下法では滴下動作中でもツイ
ンタイマーのダイアルの設定時間(入になっている時間)
を微調整することで、１回の滴下量をコントロールする
ことができる。

【００２０】さらにまた、反応容器内部に設けた液温度
センサーと、反応容器と熱媒体容器との間に設けた熱媒
体温度センサーとの検出値に応じて、熱媒体の温度を制
御しているため、例えば、３分に１℃の割合で上昇させ
る等の緩やか温度制御を行うことが出来る。

【００２１】また、本自動合成反応装置は、１つの反応
容器で温度調整、ｐＨ調整および合成反応を行うことが
出来、しかも、反応容器を異なる大きさのものと交換す
ることにより、小容量から大容量のスケールまでの合成
を行うことができる。

【００２２】

【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照して詳細
に説明する。図１は、本発明に係る自動合成装置の概略
構成図であって、該自動合成装置はドラフト内に設置さ
れるものである。反応容器１１の外側は所定のギャップ
を隔てて熱媒体容器１２で囲繞しており、熱媒体容器１
２の上端開口部はシリコンゴム部材を用いて閉封してい
る。反応容器１１および熱媒体容器１２は外部から反応
状況を確認できるよう透明ガラス製である。熱媒体容器
１２は、真空断熱構造をなし、反応容器１１と熱媒体容
器１２とのギャップ部に熱媒体としてシリコンオイルの
供給および排出するためのポート１３,１４を備えてい
る。

【００２３】反応容器１１の上端開口には蓋１５をテフ
ロンパッキングを挟みワンタッチジョイント１６により
取り付けらている。上記蓋１５には後述する撹拌軸、ｐ
Ｈセンサーおよび液温度センサーの取付軸及び試薬容器
と接続した配管を貫通させる穴を穿設している。

【００２４】反応容器１１の中心部には蓋１５を貫通さ
せて撹拌器の回転軸１８を垂下し、該回転軸１８の下端
に攪拌器１７を取り付け、撹拌器１７を反応容器１１の
底部中心に配置している。上記回転軸１８にパルスモー
タＭに連結し、一方向あるいは矢印方向に交互に回転動
作するようにしている。

【００２５】図中、ＴＣ１は反応容器１１内の液体温度
を検出する液温度センサー、ＰＨＳは反応容器１１内の
液体のｐＨを検出するｐＨセンサーであり、蓋１５を貫
通して反応容器１１の内部に垂下している。ＴＣ２は熱
媒体容器１２内の熱媒体の温度を検出する熱媒体温度セ
ンサーである。

【００２６】反応容器１１の底面裏の熱媒体容器１２内
部にヒータ１９を取り付けると共に、マグネット・スピ
ンナー２０を投入し、熱媒体容器１２の底部側に配置し
たスターラー２１の回転磁力により上記スピンナー２０
を回転させるようにしている。尚、上記モーターＭで上
方より回転軸１８を回転させて撹拌器１７を回転させる
以外に、回転軸を取り外して撹拌子 (スピンナー）を反
応容器１１に投入し、下方のスターラーにより上記撹拌
子を回転させて反応容器１１内の溶液を撹拌するように
しても良い。(図６参照)

【００２７】Ｙ₁からＹ₄は反応試薬の容器であり、ｐＨ
を一定範囲内に調整する必要がある場合には、上記容器
の１つ(本実施例では容器Ｙ₄)にｐＨ調整液を充填して
いる。上記容器は目的によって溶媒容器にもなる。上記
試薬容器は反応容器１１上方に配置して、夫々の配管を
通して反応容器１１内へ試薬、溶媒等を投入するように
している。容器Ｙ₁,Ｙ₄の配管には、夫々一対の電磁弁
Ｖ１,Ｖ４を設けて、液の投入を制御している。電磁弁
Ｖ１,Ｖ４は、夫々図４に示す回路で、スイッチＰＳ１
１,ＰＳ１２,ＰＳ５１,ＰＳ５２で制御している。

【００２８】スイッチＰＳ１２は反応装置の制御回路の
ＣＰＵ信号で開閉を制御し、ＰＳ１１はタイマーＴＭ１
で入時の時間が制御され、容器Ｙ₁内の試薬をＰＳ１１
およびＰＳ１２が同時に入時のみ反応容器１１内へ投入
するように電磁弁Ｖ１を制御している。スイッチＰＳ５
２は反応装置の制御回路のＣＰＵ信号で開閉を制御し、
ＰＳ５１はタイマーＴＭ２で入時の時間が制御され、容
器Ｙ₄内の試薬(ｐＨ調整液)をＰＳ５１およびＰＳ５２
が同時に入時のみ反応容器１１内へ投入するように電磁
弁Ｖ４を制御している。容器Ｙ₁,Ｙ₄の配管にも開閉を
制御する電磁弁Ｖ２,Ｖ３を設けている。

【００２９】上記各容器Ｙ₁,Ｙ₂,Ｙ₃,Ｙ₄には、夫々密
閉蓋を持つ液の投入口Ｉ₁,Ｉ₂,Ｉ₃,Ｉ₄を設けると共
に、各容器内へ一定圧力を加えるチューブライン３１
と、一定の減圧にするチューブライン３２とを接続して
いる。上記チューブライン３１には、図２に示すよう
に、減圧弁ＰＲを介してエヤー・ポンプＡＰと接続した
ラインＡ’を連通させて一定圧力を導入し、各容器Ｙ₁
からＹ₄へ一定圧力を加えている。また、上記チューブ
ライン３２には、図３に示すように真空ポンプＶＰをラ
インＶで接続し、該真空ポンプＶＰは廃液容器Ｄとも接
続している。さらに、上記エヤー・ポンプＡＰおよび真
空ポンプＶＰは夫々反応容器１１と外部取出し容器Ｂお
よびラインＡ、Ｖを介して接続している。

【００３０】上記各容器Ｙ₁からＹ₄には、電磁弁Ｖ₁〜
Ｖ₄の閉時に投入口Ｉ₁〜Ｉ₄から、夫々試薬あるいは溶
媒を投入し、投入後に蓋で密閉している。

【００３１】図１において、Ｍｅは例えばメタノールか
らなる洗浄溶媒の保存容器、Ｈは例えば水からなる洗浄
溶媒の保存容器であり、これら容器Ｍe、Ｈを電磁弁を
介して上記チューブライン３１に接続している。

【００３２】上記加圧チューブライン３１から一定圧力
を各容器内に加えると、容器Ｙ₁内の液は、電磁弁Ｖ₁の
開時に反応容器１１内へ投入される。また、反応終了後
には、例えば、電磁弁Ｖ₁の閉時に一定真空で容器Ｙ₁を
減圧にして、洗浄溶媒 (Ｍｅ又はＨ）を選択して、所要
の洗浄液を容器Ｙ₁に注入することが出来る。他の容器
についても同様である。

【００３３】上記容器Ｙ₁,Ｙ₄内の液が反応容器１１内
へ投入されるのは、各配管に設けた一対のタイマーＴＭ
１,ＴＭ２による電磁弁Ｖ₁,Ｖ₄の開時で、該電磁弁Ｖ₁,
Ｖ₄を図５に示すタイマーＴＭ１,ＴＭ２のタイムチャー
トで開閉することにより、容器Ｙ₁,Ｙ₄の液を同時に一
定間隔で反応容器１１内へ滴下している。

【００３４】図５では約５秒毎のインターバル(時間Ｔ
０)で滴下する場合のタイムチャートを示している。ツ
インタイマー(ＴＭ１およびＴＭ２はオムロン製Ｈ３Ｂ
Ｆ−８を用いた)の入と同時にスイッチＰＳ１２,ＰＳ５
２も入となり、ＰＳ１２,ＰＳ５２はＴ０時間後に切と
なる。しかし、ツインタイマーの出力スイッチＰＳ１
１,ＰＳ５１はそれぞれ設定された短い時間だけ入とな
りすぐに切となる(ワンショットマルチバイブレータの
機能を持っている)ため、電磁弁Ｖ１,Ｖ４はこの限られ
た時間だけ作動し、容器Ｙ₁,Ｙ₄より液を正確な量だけ
滴下する。尚、液の量が変動しても一定圧で押し出すの
で、確実に二液の同時滴下が行える。上記滴下法を用い
ると、滴下動作中でも、ツインタイマーのダイアルの設
定時間(入になっている時間)を微調整することで、１回
の滴下量をコントロールできる。この機能は実験者がコ
ックを微調整する動作と同じ機能である。尚、容器Ｙ₁
の一液のみ滴下したければ、スイッチＰＳ１２のみ切断
すればよい。

【００３５】上記反応容器１１の外側と熱媒体容器１２
の内側のギャップは熱媒体の流通路とし、熱媒体容器１
２に設けた一対のポート１３、１４と熱媒体を蓄える熱
媒体槽４１との間に熱媒体を循環させる配管４２を接続
している。上記配管４２に熱媒体槽４１において、一端
４２ａを熱媒体内部まで垂下させると共に、他端４２ｂ
を熱媒体の液面上方に配置しており、配管４２の一端４
２ａと熱媒体容器１２のポート１３との間にポンプＰ１
を介設し、熱媒体槽４１から上記ポート１３を通して熱
媒体を熱媒体容器１２へ流入させ、ポート１４より配管
４２を通して熱媒体槽４１に循環させている。

【００３６】上記熱媒体槽４１に溜めて配管４２を循環
させる熱媒体として、本実施例では、−２０℃のシリコ
ンオイルを用い、冷却媒体を熱媒体として使用してい
る。この冷却媒体を、後述するように、熱媒体容器１１
の内部に設置したヒータ１９により加熱して熱媒体容器
内の熱媒体温度が所要温度となるように制御している。

【００３７】よって、反応容器１１の内部の液温度が反
応熱により急激に上昇して、熱媒体容器１２内の熱媒体
温度を急激に低下したい場合には、上記ポンプＰ１を逆
回転させて熱媒体容器１２内部の熱媒体を熱媒体槽４１
へ戻し、戻した後にポンプＰ１を正回転させて熱媒体槽
４１の熱媒体を熱媒体容器１２へ供給することにより、
熱媒体容器１２の内部の熱媒体温度を急激に低下させ
て、反応液の温度を所要の一定範囲内に迅速に低下させ
ることが出来る。さらに、上記ポンプＰ１を逆転させて
熱媒体容器１２から熱媒体槽４１への熱媒体の戻る量を
調節することで、熱媒体容器１２内の熱媒体の液面を反
応容器１１内の溶液の液面に高さを調節することを可能
としている。

【００３８】図中、４３は反応容器１１から内部の液を
電磁弁４４を介して取出容器Ｂへ取り出す液取出管、４
７は反応容器１１から内部の気体を還流管４５及び電磁
弁４６を介して外部へ取出すチューブラインである。

【００３９】上記したように、反応容器１１内の液は、
反応容器１１の底面外側と熱媒体容器１２の底面内側と
の間に配置したヒーター１９により熱媒体の温度を制御
することにより一定温度範囲となるように制御してい
る。上記制御システムは図６に示す通りである。図６に
おいて、ＴＣは温度コントローラであり、熱媒体温度セ
ンサーＴＣ２で検出した温度とコンピュータで指示した
設定温度の差に基づき、熱媒体の温度および反応容器１
１内の液が所定の温度となるようにヒータ１９を入又は
切している。

【００４０】さらに、図６において、ＩＦは制御コンピ
ュータＣＰＵよりシリアルで伝送路を介して送信される
シリアル信号をパラレル信号に変換するインターフェー
ス (オプトマックス社製、Ｕ.Ｓ.Ａ）である。ラインＰ
ＨはｐＨセンサーＰＨＳとインターフェースを接続する
ラインである。ｐＨセンサーからラインＰＨを通して反
応容器１１の溶液のｐＨ値を出力し、該検出値とＣＰＵ
で設定したｐＨ値との差異に基づいて、図１に示すｐＨ
調整液を充填した試薬容器Ｙ₄と反応容器１１とを接続
する配管に設けた電磁弁Ｖ４を開閉動作して、ｐＨ調整
液を反応容器１１内に滴下し、反応溶液が所定のｐＨと
なるように制御している。

【００４１】インターフェースＩＦは出力ラインＰ１'
からの出力信号により熱媒体循環用ポンプＰ１を動作制
御し、かつ、出力ラインＥＶを介して各電磁弁Ｖ１〜Ｖ
４のスイッチと接続して、これら電磁弁の開閉制御を行
っている。温度センサーＴＣlは、上記したように、反
応容器１１の内部に垂下して液の温度を直接測定し、イ
ンターフェースに検出値を入力している。該検出値がＣ
ＰＵで予め設定している一定の温度範囲から外れると、
図４に示すように、電磁弁Ｖ１、Ｖ４のスイッチＰＳ１
２、５２およびタイマーＴＭ１,ＴＭ２にＣＰＵより信
号を出力して、電磁弁Ｖ１、Ｖ４を切する一方、一定範
囲内になると入するようにしている。

【００４２】さらに、熱媒体温度センサーＴＣ２からの
検出信号を温度コントローラーＴＣに入力し、該検出値
とＣＰＵに予め入力している設定値との差異に基づいて
温度コントローラーＴＣによりヒータ１９を動作して、
熱媒体温度を所要の範囲内になるように制御し、該熱媒
体温度の制御により、反応容器１１内の溶液の温度が所
要範囲内になるように制御している。あるいは、必要に
応じて、熱媒体温度を緩やかに上昇させている。

【００４３】詳しくは、例えば反応温度を５〜１０℃に
制御する場合には、熱媒体槽４１に蓄えたシリコン液
は、クーラー５０の働きによって−２０℃に冷却してい
る。この−２０℃の熱媒体はポンプＰ１で反応容器１１
と熱媒体容器１２との間のギャップに送り込まれ、ヒー
ター１９により局所的に加熱し、反応容器１１内の液の
温度を設定温度になるよう電力制御している。この熱媒
体容器１２内の熱媒体温度はＴＣ２の熱電対で検知され
る。試薬の滴下反応に伴う反応容器１１内の液の温度は
液温度センサーＴＣ１でいちはやく検出される。反応生
成熱で液温度が設定した一定範囲を越えると、即ち、本
実施例の１０℃以上に上昇すると、試薬の滴下を一時停
止する。このため、冷却シリコンからなる熱媒体の循環
で反応容器内の液温度は設定温度(５℃)近くまで自動的
に冷却する。したがって、５〜１０℃の温度範囲を保持
することができる。逆に、反応容器内の液温度を室温
(約２５℃）以上の昇温する必要がある場合は、冷却シ
リコンが絶えず循環していると共にヒーター１９の熱容
量が少ないために温度上昇は生じなくなるので、ポンプ
Ｐ１を停止して冷却シリコンの循環を停止し、局所ヒー
ター１９で加熱して昇温する。所定温度になるよう温度
センサーＴＣ２で検出し、温度コントローラＴＣで制御
している。尚、温度制御中には絶えず反応容器１１内の
溶液および熱媒体は撹拌して、温度むらが生じないよう
に回転している。

【００４４】

【実験例１】本発明の自動合成装置を用いてベンゾイル
酢酸エチルを合成する場合について説明する。この合成
は文献；オーガニックシンセシス〔Organic synthes
is,col,vol.,IV,４１５(１９６３)〕に明らかな如く、
その反応式は以下の反応式１に示す通りである。

【００４５】

【化１】

【００４６】上記反応式は下記の反応工程により得られ
る。上記１(１９.５ｇ)、水(５０ml)、ヘキサン(２５ｍ
ｌ)の溶液を反応容器内に入れ、５℃に温度制御する。
ついで、３３％の上記３を反応容器に滴下して、温度１
０℃以下、ｐＨ１１以下に制御する。ついで、激しく撹
拌しながら、１０℃以下の温度条件下で、上記２(２３
ｇ)、３３％の上記３(２７ml)を反応容器に滴下する。
この滴下は２時間かけて同時滴下で行う。滴下終了後に
室温に自然昇温させ、ついで、１時間かけて３５℃まで
昇温させる。その後、撹拌を停止し、分液を行って有機
層を除く。ついで、上記５(８.０g)を滴下して、ゆっく
りと１晩撹拌する。ついで、ＮａＣｌ（９.０g）を加え
た後、分液を行い水層を除き、冷水洗(１０ml)を３回行
い、濃縮、蒸留をおこなって、最終生成物ベンゾイル酢
酸エチルを得る。

【００４７】上記反応工程を、本発明に係わる上記自動
合成反応装置により行った実験例について以下に詳述す
る。その合成操作手順は、下記の１８の工程によりな
る。

【００４８】１) 合成プログラムを読み込む(セミオー
トプログラム実行)。反応容器１１を５℃に冷却する。２) アセト酢酸エチル(１):１９.１ml、水:５０.０m
l、ヘキサン:２５.０mlを反応容器１１に入れ、攪拌す
る。３) 塩化ベンゾイル(２):１９.１mlを試薬容器Ｙ₁へ入
れる。４) ３３％水酸化ナトリウム(３)水溶液:３９.５mlを
試薬容器Ｙ₄に入れる。５) 自動合成プログラムにきりかえて実行する。・・
・・・自動合成操作を開始する。滴下：容器Ｙ₄の３３％水酸化ナトリウム水溶液を
滴下する。電磁弁Ｖ４を自動制御して、ｐＨが１１にな
るよう自動調節すると共に、５〜１０℃の温度を保つ。ｐＨが１１になると、容器Ｙ₁とＹ₄の二液の同時滴下
開始(ツインタイマーＴＭ１,ＴＭ２)する。反応温度を
５〜１０℃を保つ。（反応温度が１０℃を越えると二液
の滴下停止,冷却する) ｐＨの値が１０.８以下になると、塩化ベンゾイル(２)
の滴下を一時停止し、３３％水酸化ナトリウム水溶液の
み滴下する (一液の滴下開始）。ｐＨが１０.８以上に
なると同時滴下再開する。塩化ベンゾイルがすべて反応
容器に入り、ｐＨが１１.３を越えると反応終了する。自動昇温：冷却シリコン循環ポンプＰ１を停止し、５
℃から３５℃まで１.５時間を要して自動昇温させる。６) 攪拌停止、自動合成プログラムからセミオートプ
ログラムに切り替える。反応容器１１の溶液を容器Ｂに
移動する。７) 分液：下層の水層のみ反応容器１１に移動し、有
機層を捨てる。８) 塩化アンモニウム(結晶)：８.０gを反応容器１１
に入れ、ゆっくり１晩攪拌する。９) ＮａＣｌ：９.０gを反応容器１１に入れて撹拌す
る。反応容器１１の生成物を容器Ｂに移動し、かつ、容
器Ｂから分液ロートＣ(図示せず)に移し変える。１０) 分液：下層の水層を捨てる、上層は分液ロート
Ｃに残す。１１) 反応容器１１にジクロロメタン：約１５mlを入
れてすすぎ、この液を容器Ｂに移動する。容器Ｂをすす
ぎ分液ロートＣに入れる(回収)。１２) 水洗：冷水１０mlを分液ロートに入れる。１３) 分液：分液し、容器Ｅ(図示せず)に下層をと
り、上層(水層)は捨てる。下層を分液ロートＣに移す。１４) １２)水洗,１３)分液の操作を３回行う。１５) 濃縮：ロータリーエバポレーターにて容器Ｅの
生成物を濃縮(４０℃,約３０分)する。１６) 蒸留：蒸留装置で１３０℃,８mmＨgで蒸留する
(ロータリーポンプ,トラップ−７０℃)。初留温度４０
℃,９０℃付近で切り替えて精製物を補集する。１７) 最終生成物６:ベンゾイル酢酸エチルを得る。１８) 洗浄,乾燥:自動で装置の洗浄を行う。

【００４９】上記自動合成操作５）の工程の制御フロー
チャートを図７乃至図１２に示す。図７は、制御フロー
チャートの全体の概略を示し、Ｓ１乃至Ｓ３は上記手順
の４)工程、Ｖ,Ｓ５は５)工程、Ｗ,Ｓ７は５)工
程、Ｓ８,Ｙは５)工程を示す。上記Ｖ,Ｗ,Ｙの詳細は
夫々図８乃至図１２に示す。

【００５０】図７の工程Ｓ１はイニシャルセットで、装
置の初期化、即ち、反応容器１１に上記アセト酢酸エチ
ル、水、ヘキサンを入れると共に、試薬容器Ｙ₁に塩化
ベンゾイル、Ｙ₄に３３％水酸化ナトリウム水溶液を入
れ、かつ、スターラー２１のＯＮ、熱媒体槽４１のクー
ラーを動作してシリコンオイルの冷却を行うと共に、ポ
ンプＰ１を駆動してシリコンを熱媒体容器１２へと循環
させ冷却作動を開始し、反応容器１１を５℃に冷却し、
かつ、インターフェースの初期化を行う。

【００５１】Ｓ２の画面１は画面の表示で反応式表示、
温度表示を行う。Ｓ３の準備は合成の準備はよいか？
５℃になったか？を確認する。

【００５２】Ｖの一液の滴下は、５〜１０℃で容器Ｙ₄
の水酸化ナトリウム水溶液を滴下する。(この時点で発
熱する。) 上記水酸化ナトリウム水溶液の滴下でｐＨが１１以上と
なるように制御し、Ｓ５のｐＨ＞＝１１？はｐＨの値が
１１.０になったかを確認する。Ｗの二液の滴下は１０
℃以下でｐＨが１０.５〜１０.８を保ち同時滴下を行
う。(温度コントローラーの働きで設定温度(５℃)以下
には下らないように制御している。)

【００５３】Ｓ７の(ｐＨ＝＞１１.３)はpＨの値が１
１.３になったかを確認する。Ｓ８のＰ１ＯＦＦは冷却
循環ポンプＰ１停止を昇温するため停止する。Ｙの自動
昇温は５℃から３５℃まで９０分で自動昇温を行う。

【００５４】上記工程に示すように、合成の準備がよけ
れば５〜１０℃の温度内でｐＨ調整液の一液の滴下が始
まり、ｐＨの値が１１.０(設定値)になると、反応試薬
とｐＨ調整液との二液の滴下が始まる。この二液の滴下
は反応溶液の温度を(設定値内)５〜１０℃以内に保ち、
かつ、ｐＨを１１以上に保持した状態で行う。塩化ベン
ゾイルを反応容器１１に全部入り、ｐＨが１１.３にな
ると自動昇温が開始する。

【００５５】図８は、ＶのｐＨ調整液(水酸化ナトリウ
ム水溶液)の一液滴下工程の詳細を示すものである。Ｖ
１で液温度センサーによる溶液温度の測定を行う。Ｖ２
で１０℃以下かを確認し、ＮＯの場合、Ｖ３で電磁弁Ｖ
４を切して滴下を行わず、Ｖ４で表示し、再度Ｖ１の温
度測定を行う。温度が１０℃以下の場合、Ｙ₄からの滴
下を行い、Ｖ５でｐＨ測定を行い、Ｖ６で表示する。Ｖ
７でｐＨ＜＝１１.０をみて、ｐＨが１１.０以下である
と、Ｖ８でタイマーにより電磁弁Ｖ４の開弁時間を制御
しながら滴下を継続し、ｐＨが１１以上になると、Ｖ９
で電磁弁Ｖ４をＯＦＦして水酸化ナトリウム水溶液の滴
下を停止する。

【００５６】図９は、容器Ｙ₁から塩化ベンゾイル、Ｙ₄
からの水酸化ナトリウム水溶液の同時滴下の工程を詳細
に示すものである。上記容器Ｙ₁, Ｙ₄からに二液の同時
滴下を行っている状態で、Ｗ１で液温度センサーで反応
容器１１内の溶液の温度測定を行う。Ｗ２でｐＨセンサ
ーによる溶液のｐＨ測定を行う。Ｗ３で温度が１０℃以
下かをみて、ＮＯであるとＷ４で電磁弁Ｖ１とＶ４の両
方を切して二液の滴下停止し、Ｗ５で表示して、冷却す
るのを待つ。Ｗ３で温度が１０℃以下であると、Ｗ６で
二液の同時滴下を行う。Ｗ７でｐＨ測定する。Ｗ８でｐ
Ｈ＞１０.５を確認して、ｐＨが１０.５以下ならＷ９で
電磁弁Ｖ１を切し、塩化ベンゾイルの滴下を一時停止
し、Ｗ１０で溶液Ｙ₄から水酸化ナトリウム水溶液のみ
の一液の滴下を行い、ｐＨを上げる。Ｗ１１でｐＨ＜＝
１０.８を確認する。ｐＨが１０.８以上になれば、Ｗ１
５で二液の同時滴下を再開する。ｐＨが１０.８以上で
あると、Ｗ１２のディレイでは約５秒間時間待する。Ｗ
１３でフォトセンサＰＳ１でＹ₁容器内の液を検出す
る。上記フォトセンサＰＳ１で検出する液がなくなると
ＰＳ１＝１となり、Ｗ１４で、ＰＳ１＝１か否かを確認
する。ＰＳ１＝１の時、Ｗ１７で電磁弁Ｖ１をＯＦＦ
し、Ｗ１８でＹ₄から一液の滴下を行い、ついで、Ｗ１
９でｐＨの測定し、Ｗ２０でｐＨ＝＞１１.３を確認す
る。ＮＯの時、再度、Ｗ１８に戻り、ＹＥＳの時、終了
する。

【００５７】図１０はタイマー滴下を示す。ＶＴ１で容
器Ｙ₄の電磁弁Ｖ４に接続したタイマーＴＭ２を入す
る。ＶＴ２で上記電磁弁Ｖ４を入する。ＶＴ３でディレ
イする(待時間約５秒)。ＶＴ４で電磁弁Ｖ４を切する。
ＶＴ５でタイマーＴＭ２を切する。ＶＴ６でディレイす
る(待時間約５秒)。

【００５８】図１１は、Ｗ１５の同時滴下のタイマーの
制御を示す。ＷＴ１でタイマーＴＭ１,ＴＭ２を入す
る。ＷＴ２で電磁弁Ｖ１,Ｖ４を入する。ＷＴ３でディ
レイする(待時間約５秒)。ＷＴ４で電磁弁Ｖ１,Ｖ４を
切する。ＷＴ５でタイマーＴＭ１,ＴＭ２を切する。Ｗ
Ｔ６でディレイする(待時間約５秒)。ツインタイマーの
入の時間はダイアル目盛で設定できる。溶液の吐出する
時間はＶ１およびＶ４の開の時間に同期し、かつ、ツイ
ンタイマーの設定したごく短い時間 △Ｔ₁,△Ｔ₂だけで
ある。尚、ツインタイマーの設定時間を夫々独立して△
Ｔ₁'および△Ｔ₂'の時間に変更することで滴下量の微調
節が可能となる。

【００５９】図１２は、自動昇温Ｙの詳細を示す。Ｙ₁
工程でＴＣ１＝５としてスタート開始温度を５℃とす
る。Ｙ₂でＴＳ＝ＴＣ１とする。ＴＣ１はカウンターで
ある。Ｙ₃で設定温度を送信(ＴＳ)して温度コントロー
ラーへ設定値を送信する。温度コントローラーは温度セ
ンサーＴＳ２で温度を検出する。設定温度との差がなく
なるようにヒーターで電力制御する。Ｙ₄でディレイ３
分として時間３分待ちする。Ｙ₅でＴＣ１＝ＴＣ１＋１
とする。Ｙ₆でＴＣ１≧３５？として３５℃になったか
を確認する。本実施例では反応終了後５℃より３５℃ま
で９０分で昇温する。ＴＣ１は５℃、最終到達温度は３
５゜である。３分毎に設定温度を＋１℃上げる。通信回
線(ＲＳ２３２Ｃ)を介して温度コントローラに設定温度
の指令を行なう。温度制御のしくみは図１２に示す。昇
温する前に循環ポンプを切する。

【００６０】上記したフローチャートで示す制御態様に
基づいて前記合成反応操作手順で行った実験例１におい
ては、最終生成物ベンゾイル酢酸エチルは２０.２０ｇ
得ることが出来、収率は７０.１％であった。尚、本発
明の自動合成反応装置を用いずに、上記合成反応操作を
実験熟練者が行った場合、最も高い収率で６８％である
（上記文献に因る）。このように、本装置では、反応容器内の溶液の温度およ
びｐＨを調整しながら、これら温度とｐＨとが一定範囲
内に時に自動的に二液の滴下を行うようにしたため、実
験熟練者を必要とせず、しかも、実験熟練者による操作
よりも高い収率を上げるが出来た。

【００６１】

【実験例２】本発明による自動合成反応装置を用いて、
N-ベンジカルバミン酸エチルの合成をおこなった。この
合成は文献；オーガニックシンセシス〔Ｏrganic synt
hes-is col.vol.,N,780（1963）〕に明らかなように、
その反応式は下記の反応式２に示す通りである。

【００６２】

【化２】

【００６３】上記反応式は従来下記の反応工程より得ら
れている。氷冷下に上記１(２５g)、氷水(１２.５ml)及
び砕氷(３７.５g)を混ぜ、掻き交ぜながら上記２(１３.
１２５g)を反応温度１０〜１５℃に保ちながら滴下する
（１〜１.５時間要する）。ついで、水(１２.５ml)およ
び砕氷(２５ｇ)を加える。その後、上記２(１３.１３
ｇ)と同時に水酸化ナトリウム水溶液(１０ｇを水３２.
５mlに溶かした液)を同時に加え、かつ、液温を１０〜
１５℃に保ちながら滴下する(２.５〜３時間要する)。
さらに、３０分間撹拌した後、析出物をろ取し、十分な
量の冷水で洗い、ついで風乾して結晶を得る。

【００６４】上記反応工程を本発明の自動合成反応装置
で行い、本装置では冷却能力が優れているので、氷は使
用せずに、下記の方法で合成を行った。反応容器１１を
冷却シリコンオイルからなる冷却媒体の循環により冷却
し、２℃に冷却した状態で、反応容器１１に上記１(２
５.５ml)と水(５０ml)を入れた。ついで、２〜５℃に
保持しながら、上記２(１１.９ml)を容器Ｙ₁より一液滴
下を行った（１時間）。その後、２〜５℃に保持しなが
ら、容器Ｙ₁より上記２(１１.９ml)と容器Ｙ₄よりｐＨ
を５〜７に保持するように３３％水酸化ナトリウム水溶
液(３２.５ml)を滴下し、二液同時滴下を行った(１.５
時間)。その後、３０分間撹拌し、ろ過、水洗、乾燥を
順次行って、結晶を得た。

【００６５】上記N-ベンジカルバミン酸エチル合成結果
は下記の表１に示す通りであった。

【００６６】

【表１】

【００６７】尚、上記実験例２ではｐＨ値を制御せずに
行った場合、３例中２例は結晶せずに液滴の状態のまま
であった。そこでｐＨ値を上記のように５〜７の範囲に
保持しながら反応を行ったところ、結晶を得ることが出
来た。該結果より、反応時にｐＨ制御が重要な要因であ
ることが判明した。

【００６８】

【実験例３】本発明による自動合成反応装置を用いて、
ヒドラゾジカルボン酸ジエチルの合成をおこなった。こ
の合成は文献;オーガニックシンセシス〔Ｏrganic syn
the-sis col.vol.,VI,411（1963）〕に明らかなように、
その反応式は下記の反応式３に示す通りである。

【００６９】

【化３】

【００７０】上記反応式は従来下記の反応工程より得ら
れている。ヒドラジン−水和物１(７.５g)、９５％エタ
ノール(７５ml)を撹拌下、１０℃に冷却した反応容器に
クロロ炭酸エチル２(１６.３g)を滴下し、溶液温度を１
５〜２０℃に保ちながら反応させ、全量滴下が終了する
と、上記２と炭酸ナトリウム３(１５.９g) 水(７５ml )
を同時滴下し、滴下終了は上記２が少しだけ速くなるよ
うに滴下する。滴下終了後、容器の内側を水(２０ml)で
洗い、３０分かき混ぜる。沈澱をろ取し、１０００mlの
冷水で洗った後、８０℃で減圧乾燥して最終生成物４の
結晶を得る。

【００７１】上記反応工程を本発明装置により行った。
各試薬、溶媒の量は上記従来と同量とした。反応容器１
１に上記１と９５％エタノールを入れ、反応容器１１を
熱媒体の循環で１０℃に冷却し、ついで、１５〜２０℃
の範囲に調整しながら上記２を容器Ｙ₁より滴下させ
た。ついで、温度を２０℃以下に調整しながら、上記と
同量の上記試薬２を容器Ｙ₁から、同時に容器Ｙ₄から上
記３および水と共に同時滴下して、上記４の結晶を得
た。

【００７２】上記４の結晶は１９.０８ｇ、母液より１.
８８gの計２０.９６gの結晶が得られ、収率は７９.４％
であった。合成結果は下記の表２に示す通りである。

【００７３】

【表２】

【００７４】上記実験例３では、反応溶液の温度を所定
の範囲内に制御し、該温度範囲内で試薬の滴下を行うこ
とにより、容易に反応を行うことが出来た。尚、実験例
３ではｐＨの調整は行っていない。

【００７５】

【発明の効果】以上の説明より明らかなように、本発明
は、反応容器内に温度センサーを配置して液の温度を直
接測定し、該センサーからの検出値により試薬容器から
の試薬の滴下を制御すると共に、該液温度センサーある
いは熱媒体温度センサーからの検出値に応じて熱媒体の
温度制御を行っているため、反応容器内の液温度を所要
範囲内に保持しながら試薬の滴下を行い、反応させるこ
とが出来る。

【００７６】かつ、反応容器内にｐＨセンサーを配置し
て、該ｐＨセンサーからの検出値に応じてｐＨ調整液を
反応容器内に滴下してｐＨが所要の一定範囲になるよう
に調整を行うため、反応容器内の液のｐＨと温度とが一
定範囲内の時に試薬を滴下して反応させる必要がある合
成時に、有効に用いることが出来る。

【００７７】さらに、反応容器に対して複数個の試薬容
器を配管を介して接続し、該配管に電磁弁からなる開閉
弁を介設し、ＣＰＵの指令によって一定時間間隔で同じ
タイミングで開閉させると共に、一定加圧下で滴下させ
るため、常に、一定比率で、一定条件下で二液の滴下に
よる反応を精度よく生じさせることが出来る。さらにま
た、上記電磁弁をタイマーで開弁時間を制御し、かつ、
該タイマーを手動操作により調節出来るため、滴下量の
微調節を容易に行うことが出来る。

【００７８】例えば、本発明にかかる自動合成反応装置
と従来用いられているコーデックス社ＣＯＮＴＲＡＶＥ
Ｓ自動合成装置と比較すると、後者が熱媒体の高さを反
応液の高さに調節、二液の同時滴下、温度、ｐＨ、同時
滴下を制御、自動滴下時における滴下量の変更、自動洗
浄機能(試薬、反応容器)が不能で自動昇温のみが可能で
あるのに比して、前者は上記全ての作用を行うことがで
きる利点を有するものである。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の自動合成反応装置の概略の構成図で
ある。

【図２】図１の装置を駆動するエアーポンプの回路図
である。

【図３】図１の装置を駆動する真空ポンプの回路図で
ある。

【図４】図１の装置のタイマーの電気回路図である。

【図５】図４の回路の信号波形図である。

【図６】図１の装置の温度制御の方式図である。

【図７】図１の装置の制御フローチャート図である。

【図８】図７の一液滴下のフローチャート図である。

【図９】図７の二液滴下のタイマーのフローチャート
図である。

【図１０】図８のタイマー滴下のフローチャート図で
ある。

【図１１】図９の同時滴下のフローチャート図であ
る。

【図１２】図６の自動昇温のフローチャート図であ
る。

【符号の説明】

１１反応容器１２熱媒体容器１５蓋１７撹拌子２０スピンナー２１マグネチックスターラ４１熱媒体槽４２配管Ｂ外部容器Ｍ洗浄溶媒容器 (メタノール）Ｈ洗浄溶媒容器 (水）Ｄ廃液容器ＴＣ１液温度センサーＴＣ２熱媒体温度センサーＰＨＳｐＨセンサーＶ１,Ｖ２,Ｖ３,Ｖ４電磁弁ＴＭ１,ＴＭ２タイマーＹ₁,Ｙ₂,Ｙ₃,Ｙ₄ 容器ＡＰエアーポンプＰＲ減圧弁ＶＰ真空ポンプＩＦインターフェースＰＳ１〜ＰＳ５フォトセンサーＶ真空ラインのトラップへの接続Ａエアーポンプに接続Ｌリ−ク (開放）

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】熱媒体容器で包囲した反応容器の内部
に、配管を介して試薬容器から試薬を供給して自動的に
合成反応を行うものであって、上記反応容器内に液温度センサーを設ける一方、上記配
管に開閉弁を介設すると共に、上記熱媒体容器と反応容
器との間に入れる熱媒体の温度制御手段を設け、かつ、上記開閉弁および温度制御手段を上記液温度センサーか
らの検出信号に応じて動作して、反応容器内の液温度を
所要の一定範囲内に制御すると共に、該一定温度範囲内
で反応容器内に試薬を供給するように上記開閉弁を動作
する制御回路を設けていることを特徴とする自動合成反
応装置。
【請求項２】熱媒体容器で包囲した反応容器の内部
に、配管を介して試薬容器から試薬を供給して自動的に
合成反応を行うものであって、上記反応容器内に液温度センサーを設けると共に、上記
配管に開閉弁を介設する一方、上記熱媒体容器と反応容
器との間に熱媒体温度センサーを設けると共に、該熱媒
体の温度を制御する手段を設け、上記熱媒体温度センサーからの検出信号に応じて熱媒体
温度制御手段を動作して反応容器内の液温度を所要の一
定範囲内に制御すると共に、液温度センサーからの検出
信号に応じて液温度が上記一定範囲内の時に反応容器内
に試薬を供給するように上記開閉弁を作動する制御回路
を設けていることを特徴とする自動合成反応装置。
【請求項３】上記反応容器内にｐＨセンサーを設ける
と共に、該反応容器に配管を介して連結する上記試薬容
器の少なくとも１つはｐＨ調整用試薬の容器とし、上記制御回路は、ｐＨセンサーからの検出信号に応じて
ｐＨが所要の一定範囲内になるように上記開閉弁を動作
してｐＨ調整液を反応容器に供給すると共に、反応容器
内の液温度およびｐＨが所要の一定範囲内の時に他の試
薬容器から試薬を反応容器に供給するように制御してい
る前記請求項のいずれか１項に記載の自動合成反応装
置。
【請求項４】上記開閉弁を電磁弁とすると共に該電磁
弁を動作するタイマーを設け、上記制御回路からの動作
信号により上記タイマーで設定した所要時間だけ電磁弁
を開弁する構成としている前記請求項のいずれか１項に
記載の自動合成反応装置。
【請求項５】上記タイマーによる設定時間を手動操作
可としている請求項４記載の自動合成反応装置。
【請求項６】上記反応容器に対して複数の試薬容器を
夫々電磁弁を設けた配管を介して接続すると共に各電磁
弁にタイマーを夫々接続し、上記制御回路は、上記タイマーにより上記電磁弁を一定
時間間隔で同じタイミングで開閉させると共に、上記液
温度センサーおよびｐＨセンサーの検出信号で上記タイ
マーを入,切させ、反応容器内の溶液の温度およびｐＨ
が所要の一定範囲内の時に試薬容器から二以上の試薬を
同時に供給する構成としている請求項４および５のいず
れか１項に記載の自動合成反応装置。
【請求項７】上記試薬容器から反応容器への試薬の供
給は一定圧を負荷した状態で滴下して行う構成としてい
る前記請求項のいずれか１項に記載の自動合成反応装
置。