JPH0664123A - ポリカーボネート積層体およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】分子量３８０以上のベンゾトリアゾール系紫外
線吸収剤を１〜３０重量％含有するポリカーボネート樹
脂組成物からなる厚み５〜５００μのポリカーボネート
フィルムを、ポリカーボネート基材の少なくとも一面に
ラミネーション成形してなることを特徴とするポリカー
ボネート積層体およびその製造方法。 【効果】本発明は、共押出方法と異なり、特殊な装置を
用いることなく透明性、耐衝撃性、耐候性に優れたポリ
カーボネート樹脂積層体を提供することが出来る。ま
た、本発明で製造された積層体は、リサイクルすること
が可能である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、ラミネーション成形に
よる耐候性、透明性、リサイクル性に優れたポリカーボ
ネート積層体およびその製造方法に関する。。

【０００２】

【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】ポリカ
ーボネート樹脂は、透明性、耐衝撃性、耐熱性などに優
れており、建築材料、道路用資材、自動車部品などに広
く用いられているが、透明材料であるアクリル樹脂に比
べ耐候性に劣っており、その利用分野、特に屋外分野で
の使用において種々制約を受けている。

【０００３】このため、ポリカーボネート樹脂にアクリ
ル樹脂を共押出する方法（特公昭４７−１９１１９、特
開昭５５５９９２９）が提案されているが、ポリカーボ
ネート樹脂の耐衝撃性が著しく低下するとともに、両樹
脂の屈折率が相違するため、共押出シートの耳部のリサ
イクルを行なうと透明感が失われるといった問題があ
る。

【０００４】一方、紫外線吸収剤を含有してなるポリカ
ーボネート樹脂組成物とポリカーボネート樹脂とを共押
出することにより、耐衝撃性の低下防止ならびにリサイ
クルを可能とする複合体が新たに提案（特開昭５５−５
９９２９、特開昭５９−１０１３６０）されているが、
共押出法には特殊なダイス構造を有する複雑で、かつ高
価な装置ならびに被覆層の厚み調整に高度な技術を必要
とするため、工業的生産法としては最良なる方法とは言
いがたい。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明者は、上述の問題
点に鑑み鋭意研究した結果、特定の紫外線吸収剤を含有
してなるポリカーボネートフィルムをポリカーボネート
基材にラミネーション成形することにより、ポリカーボ
ネート樹脂本来の特長である透明性、耐衝撃性、耐熱性
を保持するとともに優れた耐候性を有し、かつリサイク
ル可能なポリカーボネート積層体を製造することが出来
ることを見出し、本発明に到達したものである。さらに
本発明のポリカーボネート積層体の製造方法において
は、特殊な共押出装置を必要とせず、従来押出加工に用
いられていた装置で積層体を生産することが出来る。

【０００６】すなわち、本発明は、分子量３８０以上の
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤を１〜３０重量％含
有するポリカーボネート樹脂組成物からなる厚み５〜５
００μのポリカーボネートフィルムを、ポリカーボネー
ト基材の少なくとも一面にラミネーション成形してなる
耐候性、透明性、耐衝撃性、耐熱性に優れるポリカーボ
ネート積層体およびその製造方法を提供するものであ
る。

【０００７】以下に、本発明のポリカーボネート積層体
およびその製造方法につき、詳細に説明する。

【０００８】本発明において使用されるポリカーボネー
ト樹脂とは、種々のジヒドロキシジアリール化合物とホ
スゲンとを反応させるホスゲン法、またはジヒドロキシ
ジアリール化合物とジフェニルカーボネートなどの炭酸
エステルとを反応させるエステル交換法によって得られ
る重合体であり、代表的なものとしては、２，２−ビス
（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（ビスフェノール
Ａ）から製造されたポリカーボネート樹脂が挙げられ
る。

【０００９】上記ジヒドロキシジアリール化合物として
は、ビスフェノールＡの他に、ビス（４−ヒドロキシフ
ェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）エタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）
ブタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）オク
タン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）フェニルメタ
ン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル−３−メチ
ルフェニル）プロパン、１，１−ビス（４−ヒドロキシ
−３−第三ブチルフェニル）プロパン、２，２−ビス
（４−ヒドロキシ−３−ブロモフェニル）プロパン、
２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジブロモフェ
ニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，
５−ジクロロフェニル）プロパンのようなビス（ヒドロ
キシアリール）アルカン類、１，１−ビス（４−ヒドロ
キシフェニル）シクロペンタン、１，１−ビス（４−ヒ
ドロキシフェニル）シクロヘキサンのようなビス（ヒド
ロキシアリール）シクロアルカン類、４，４’−ジヒド
ロキシジフェニルエーテル、４，４’−ジヒドロキシ−
３，３’−ジメチルジフェニルエーテルのようなジヒド
ロキシジアリールエーテル類、４，４’−ジヒドロキシ
ジフェニルスルフィド、４，４’−ジヒドロキシ−３，
３’−ジメチルジフェニルスルフィドのようなジヒドロ
キシジアリールスルフィド類、４，４’−ジヒドロキシ
ジフェニルスルホキシド、４，４’−ジヒドロキシ−
３，３’−ジメチルジフェニルスルホキシドのようなジ
ヒドロキシジアリールスルホキシド類、４，４’−ジヒ
ドロキシジフェニルスルホン、４，４’−ジヒドロキシ
−３，３’−ジメチルジフェニルスルホンのようなジヒ
ドロキシジアリールスルホン類等が挙げられる。

【００１０】これらは単独または２種類以上混合して使
用されるが、これらの他に、ピペラジン、ジピペリジル
ハイドロキノン、レゾルシン、４，４’−ジヒドロキシ
ジフェニル等を混合して使用してもよい。

【００１１】さらに、上記のジヒドロキシアリール化合
物と以下に示すような３価以上のフェノール化合物を混
合使用してもよい。

【００１２】３価以上のフェノールとしてはフロログル
シン、４，６−ジメチル−２，４，６−トリ−（４−ヒ
ドロキシフェニル）−ヘプテン−２、４，６−ジメチル
−２，４，６−トリ−（４−ヒドロキシフェニル）−ヘ
プタン、１，３，５−トリ−（４−ヒドロキシフェニ
ル）−ベンゾール、１，１，１−トリ−（４−ヒドロキ
シフェニル）−エタンおよび２，２−ビス−〔４，４−
（４，４’−ジヒドロキシジフェニル）−シクロヘキシ
ル〕−プロパンなどがあげられる。

【００１３】ポリカーボネート樹脂の粘度平均分子量は
通常１０，０００〜１００，０００、好ましくは１５，
０００〜３５，０００である。かかるポリカーボネート
樹脂を製造するに際し、分子量調節剤、触媒等を必要に
応じて使用することができる。

【００１４】本発明のポリカーボネート積層体およびそ
の製造方法におけるフィルムおよび基材として用いられ
るポリカーボネート樹脂の組成、分子量には特に制限は
なく、同一の組成ならびに分子量を有するポリカーボネ
ート樹脂をフィルムと基材の両方に用いることもできる
が、積層体の耐候性、透明性、耐衝撃性、耐熱性、さら
にはリサイクル性の面より、フィルムと基材におけるポ
リカーボネート樹脂の組成が同一で、かつフィルムに用
いられるポリカーボネート樹脂の粘度平均分子量が、基
材におけるそれよりも１０００以上低いことが望まし
い。特にフィルムにおけるポリカーボネート樹脂の粘度
平均分子量が１０，０００〜３０，０００であることが
好ましい。

【００１５】次に、本発明において使用される紫外線吸
収剤とは、分子量３８０以上のベンゾトリアゾール系紫
外線吸収剤である。分子量３８０未満のベンゾトリアゾ
ール系紫外線吸収剤、たとえば分子量３２３の２−（２
−ヒドロキシ−５−ｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリ
アゾールでは、フィルム加工時、ポリカーボネート樹脂
組成物の粘度低下が起こり、厚みの均一なフィルムを得
ることが出来ない。好ましくは３８０〜７００のもので
ある。

【００１６】なお、分子量３８０以上の紫外線吸収剤で
も、ベンゾトリアゾール系以外の化合物、例えばベンゾ
フェノン系やヒンダードアミン系紫外線吸収剤では、耐
候性の改善効果に劣る。

【００１７】分子量３８０以上のベンゾトリアゾール系
紫外線吸収剤としては、２，２−メチレン−ビス−［６
−（２Ｈベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（１，
１，３，３−テトラメチル）−フェノール］、２−［２
−ヒドロキシ−３，５−ビス（α，α−ジメチルベンジ
ル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２
−ヒドロキシ−３（３，４，５，６−テトラ−ヒドロフ
タリミド−メチル）−５−メチルフェニル］ベンゾトリ
アゾールが例示され、一種または二種以上用いることが
出来る。

【００１８】分子量３８０以上のベンゾトリアゾール系
紫外線吸収剤は、フィルムを構成するポリカーボネート
樹脂組成物に１〜３０重量％含有される。１重量％未満
では耐候性に劣り、また３０重量部を越すとフィルム加
工が困難となる。耐候性およびフィルム加工性の面より
かかる紫外線吸収剤３〜１５重量％含有のポリカーボネ
ート樹脂組成物が好ましい。

【００１９】ポリカーボネート樹脂組成物の製造方法に
は何ら制限はなく、上述の紫外線吸収剤を重合途中又は
重合後のポリカーボネート樹脂に配合することにより得
ることが出来る。配合に際しては、バンバリーミキサ
ー、押出機、ロール等公知の混合機を用いることが出来
る。

【００２０】なお、フィルムとなるポリカーボネート樹
脂組成物に対し、必要に応じて他の添加剤、例えば着色
剤、酸化防止剤、熱安定剤、帯電防止剤、滑剤、難燃剤
などを適宜配合することも出来る。

【００２１】上述のポリカーボネート樹脂組成物を用い
て５〜５００μのフィルムを作成する方法にも特に制限
はなく、Ｔダイフィルムキャスト押出機、インフレーシ
ョンフィルム装置などの公知にフィルム押出装置にて作
成することが出来る。

【００２２】５μ未満のフィルムではポリカーボネート
積層体の耐候性に劣る。また、５μ未満のフィルム作成
自身困難となる。５００μを越すフィルムではラミネー
ションによる貼合が困難となる。

【００２３】積層材作成までの間、かかるフィルムを巻
き取って置く場合には、フィルムの片面または両面にシ
ボ加工を施したり、あるいは樹脂組成物中に酸化ケイ素
などのフィルム滑性剤を含有させることによって、フィ
ルム巻取り性を向上させることが望ましい。

【００２４】基材となるポリカーボネート樹脂に対して
も、着色剤、酸化防止剤、熱安定剤、帯電防止剤、滑
剤、難燃剤などの公知の添加剤を、バンバリーミキサ
ー、押出機、ロール等公知の混合機を用いて配合するこ
とが出来る。もちろん、各種の紫外線吸収剤を配合する
こともできるが、コストの面より、フィルムに配合され
ている量（重量％）よりも少ないことが望ましい。

【００２５】ポリカーボネート樹脂基材の厚みには特に
制限はないが、積層材の透明性、耐衝撃性、耐候性など
の面より０．１〜３０ミリ、特に０．５〜１５ミリであ
ることが好ましい。

【００２６】上述のフィルムと基材とからなる積層体の
形状には特に制限はなく、平板、波板、ハニカム構造体
等が例示される。

【００２７】以下に本発明を実施例により具体的に説明
するが、本発明はそれら実施例に限定されるものでな
い。また、“部”は重量基準に基づく。

【００２８】

【実施例】

実施例 １〜３ および 比較例 １〜３ 粘度平均分子量２３，０００のポリカーボネート樹脂
（ただし、リン系酸化防止剤を０．１％含む。）に、表
１に示す各種紫外線吸収剤を配合したのち、２８０℃
で、幅４００ｍｍ、厚さ５０μのフィルムを作成。ロー
ル状に巻き取る。フィルム加工性を表１に示す。

【００２９】粘度平均分子量２８，０００のポリカーボ
ネート樹脂（ただし、リン系酸化防止剤を０．１％含
む。）を用いて、２８０℃で、幅４００ｍｍ、厚さ３ｍ
ｍのシートを押出成形する。その際、Ｔダイにて予め作
成していたフィルムをラミネートした。なお、比較例３
では、ポリカーボネート樹脂組成物のフィルムの代わり
に市販のアクリルフィルム（幅４００ｍｍ、厚さ５０
μ）を用いた。得られたポリカーボネート樹脂積層体の
透明性、耐衝撃性、耐候性を表２に示す。

【００３０】実施例および比較例で得られたポリカーボ
ネート樹脂積層体を粉砕し、粘度平均分子量２８，００
０のポリカーボネート樹脂（ただし、リン系酸化防止剤
を０．１％含む。）に配合（配合量２０％）した後、試
験片を作成。未配合品と比較した。結果をリサイクル性
として表２に示す。

【００３１】評価方法を以下に示す。 フィルム加工性；Ｔダイキャスト法によるフィルムの成
膜性を評価する。 良；○、不良；×

【００３２】透明性；分光光度計にて光線透過率（％）
を測定する。数値の大きい方が優れている。

【００３３】耐衝撃性；５Ｋｇの鋼球を厚み３ｍｍ＋５
０μの切出し試験片の上方（最大１ｍ）より落下させ、
破壊およびクラックを生じない最大エネルギー（Ｋｇ・
ｍ）を測定する。数値の大きい方が優れている。最大高
さ１ｍより落下させても破壊もクラックも生じない場合
は、ＮＢ（非破壊）とする。

【００３４】耐候性；岩崎電気製紫外線照射装置（アイ
スーパー）にて、５００時間照射後のＹＩ値（黄変
度）。数値の小さい方が優れている。

【００３５】リサイクル性；積層体を粉砕した後、粉砕
品１００％で再びシート成形（３ｍｍ厚み）し、分光光
度計にてヘイズ（雲価）（％）を測定する。ヘイズ（雲
価）（％）の小さい方が優れている。

【００３６】

【表１】

【００３７】

【表２】

【００３８】

【発明の効果】本発明は、共押出方法と異なり、特殊な
装置を用いることなく透明性、耐衝撃性、耐候性に優れ
たポリカーボネート樹脂積層体を提供することが出来
る。また、本発明で製造された積層体は、リサイクルす
ることが可能である。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】分子量３８０以上のベンゾトリアゾール系
   紫外線吸収剤を１〜３０重量％含有するポリカーボネー
   ト樹脂組成物からなる厚み５〜５００μのポリカーボネ
   ートフィルムが、ポリカーボネート基材の少なくとも一
   面にラミネーションしてなることを特徴とするポリカー
   ボネート積層体。
2. 【請求項２】分子量３８０以上のベンゾトリアゾール系
   紫外線吸収剤を１〜３０重量％含有するポリカーボネー
   ト樹脂組成物からなる厚み５〜５００μのポリカーボネ
   ートフィルムを、ポリカーボネート基材の少なくとも一
   面にラミネーション成形してなることを特徴とするポリ
   カーボネート積層体の製造方法。