JPH0664375A - バリュードキュメントおよびその製造に用いるエンボシングホイル - Google Patents

バリュードキュメントおよびその製造に用いるエンボシングホイル

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JPH0664375A
JPH0664375A JP5033215A JP3321593A JPH0664375A JP H0664375 A JPH0664375 A JP H0664375A JP 5033215 A JP5033215 A JP 5033215A JP 3321593 A JP3321593 A JP 3321593A JP H0664375 A JPH0664375 A JP H0664375A
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 例えば紙幣、クレジットカード、入場券、切
符などのバリュードキュメントにおいて、そのドキュメ
ントが担持する磁気層上に配された光学回折効果を有す
る層に含まれる金属層が磁気層に含まれる磁化可能粒子
により損傷されるのを防ぐ。 【構成】 最初に磁気層4をプラスチックカード1に設
け、次いでバリヤー層9を、印刷操作により設ける。次
いでその上に蒸着により金属層8を設け、続いて光学回
折効果を有する機密保護層6を印刷により付設する。バ
リヤー層9は、磁気層4中に存在する磁気顔料が金属層
8に影響するのを防ぐ。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はバリュードキュメントに
関するものである。
【0002】
【従来の技術】この明細書におけるバリュードキュメン
トという用語は、ある種の価値、例えば紙幣、クレジッ
トカード、入場券または切符等の価値を有するドキュメ
ントを指す。
【0003】バリュードキュメントの1つの形態は、例
えば米国特許第4,684,795 号の明細書に見られるよう
に、その表面の少なくとも1つに、一方が結合剤中に磁
化可能な粒子の分散からなる磁気層を含み、他方が、例
えばホログラムまたは計算機生成回折層、干渉層または
回折格子といった光学回折効果を有する機密保護層を含
む機密保護の特徴または要素を担持する。そのドキュメ
ントにおいて、機密保護層は少なくとも部分的に前記磁
気層上に重畳して施され、一方磁気層の方を向いた前記
機密保護層の表面が光学回折効果のある空間的構造を有
する。その機密保護層にはさらに反射磁化不可能金属層
が設けられている。
【0004】本発明はまたエンボシングホイルに関し、
さらに詳しくは、排他的ではないが好ましくは熱エンボ
シングホイルが上述した種類のバリュードキュメントの
製造に用いられる。そのようなエンボシングホイルは典
型的に、支持体フイルムおよび、そこから剥離可能で、
該支持体フイルムから始まり、少なくとも光学回折効果
のある透明ラッカー層の形状にある機密保護層を含み、
前記支持体フイルムから離れたその表面に光学回折効果
のある空間的構造を有する転移層、前記機密保護層の空
間的構造上に配された反射金属層、結合剤中に分散され
た磁化可能粒子からなる磁気層、および基体へ前記転移
層を定着させ、前記磁気層により形成されることもある
かまたはその磁気層に結合される接着層からなる。上述
した米国特許第4,684,795 号はまた、そのようなドキュ
メントをエンボシングホイルの手段により製造する原理
を記載しており、一方独国特許第34 22 910 号には、磁
気層および光学回折効果を有する機密保護層を有する適
切なエンボシングホイルについて詳細に記載されてい
る。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】従来、バリュードキュ
メントまたはその種の熱エンボシングホイルの製造は一
般的に、光学回折効果のある構造を明確に示すように作
用し、機密保護層の対応する模様の表面に施される反射
金属層を、真空中での蒸着により施されるアルミニウム
またはアルミニウム合金により形成するという方法を含
む。しかしながら、ある状況下においては、反射金属層
へのアルミニウムの使用は、特に問題のバリュードキュ
メントが湿った雰囲気中で用いられる場合、多くの問題
を生じ得る。さらに詳しくは、ある環境において、アル
ミニウム層がその上の少なくともある点で損傷または破
壊され、もしくは、少なくとも、例えば変色するといっ
たようなその外観に関して変化するような状況が分かっ
ている。そのことは、機密保護特性の適切な機能に不利
に影響する。そのことは特に、光学回折効果を有する機
密保護層の構造が、例えばホログラムまたは計算機生成
回折構造のような機械読取可能な構造である場合に明確
である。
【0006】研究により、ドキュメント上のアルミニウ
ムの破壊または損傷はおそらく、実際は異なる酸化度
の、通常は酸化鉄である磁気層の磁化可能粒子が反射金
属層のアルミニウムと反応してアルミニウムの腐食のき
っかけとなるということが分かった。その反応に含まれ
る正確な機構は知られていない。その損傷は、磁化可能
粒子として用いられる酸化鉄顔料が陽子供与体として作
用するという事実、また別の要因は、使用される酸化鉄
顔料が3.0 から5.5 の範囲にあるpH値を有するという
考察に帰すると思われる。その場合、ある環境下におい
て、局部的要素を、アルミニウムへの対応する損傷に関
して、一方の磁化可能粒子と他方の反射金属層として作
用するアルミニウムとの間に形成することができる。
【0007】本発明の目的は、反射金属層に影響する磁
化可能粒子の結果としての反射金属層への損傷または変
化に関する前述した問題が、少なくとも実質的に減少さ
れることに関するバリュードキュメントを提供すること
にある。
【0008】本発明の別の目的は、その反射金属層に関
する最初の特性が最大に利用できる度合いまで変化しな
いでいるような改善されたバリュードキュメントを提供
することにある。
【0009】さらに本発明の別の目的は、その反射金属
層に関する最初の特性を保持するバリュードキュメント
の製造への熱エンボシングホイルとしてのエンボシング
ホイルを提供することにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明に関して、上述の
および他の目的は、少なくともその表面の1つが、一方
が結合剤中に磁化可能な粒子の分散からなる磁気層を含
み、他方が、例えばホログラムまたは計算機生成回折
層、干渉層または回折格子といった光学回折効果を有す
る機密保護層を含む機密保護要素を担持する、例えば紙
幣、クレジットカード、入場券、切符などのバリュード
キュメントにより達成される。その機密保護層は、少な
くとも部分的に前記磁気層上に重畳して施され、一方磁
気層のほうを向いた前記機密保護層の表面が光学回折効
果のある空間的構造を有し、その上には反射磁化不可能
金属層が設けられている。金属層が前記磁気層の磁化可
能粒子と反応しない金属により形成され、および/また
は前記磁化可能粒子が前記金属層と作用するのを防ぐバ
リヤー層が前記金属層と前記磁気層の間に配されてい
る。
【0011】この点に関して、磁化可能粒子が反射金属
層を形成する金属と反応しないという事実が述べられた
場合、それは真の意味での化学反応の除外のみを意味す
るものではないことをここに特に言及する。この目的は
また、金属層の破壊または損傷を生じ得る局部的要素の
形成または他の現象の発生のような物理的/化学的反応
の発生を防ぐことにある。
【0012】それゆえ、本発明は、上述した反応を少な
くとも制限するように別々にまたは組み合わせて用いら
れる2つの配置を含む。すなわち、一方ではその金属が
磁気層の酸化鉄粒子により及ぼされる対応する影響に十
分抵抗を有し、それゆえ実際に酸抵抗性であり、そのよ
うな顔料とは局部的要素を形成しない反射層の特定の金
属を用いる。他方では、磁気層の磁化可能粒子は、金属
層と磁気層との間にバリヤー層を追加に設けることによ
り、反射金属層への影響を防ぐことができる。そのよう
なバリヤー層は、本発明によるバリュードキュメントが
エンボシングホイルの使用により製造された場合、通常
ラッカーの適した層により形成される。
【0013】上述したように、上記配置の両者を、すな
わち特定の金属の使用およびバリヤー層の付設を適応す
ることができるのが理解されよう。
【0014】本発明の好ましい特徴によると、金属層
は、クロム、銅、銀、金、もしくはその金属の少なくと
も2つからなる合金により形成される。
【0015】本発明の別の好ましい特徴によると、バリ
ヤー層は少なくとも無機顔料の加えられる少なくとも1
つの有機高分子の層からなる。使用される高分子は、例
えば高分子アクリル樹脂、ポリ塩化ビニリデン、PV
C、PVC共重合体、塩化ゴム、ポリエステル、および
シリコン変性結合剤である。使用される無機顔料は、例
えばケイ酸塩および/または二酸化チタンである。その
ような組成のバリヤー層は、バリヤー層を通じての顔料
の移行および金属層に対する損傷を確実に防ぐように、
陽子に関してとにかく確かなバッファまたは確かな吸収
媒質を形成する。
【0016】本発明の別の好ましい特徴によると、バリ
ヤー層は≧7のpH値である。このことは確実に陽子の
通過を防ぐ。
【0017】本発明のさらに別の好ましい特徴による
と、バリヤー層は0.5と5μmの間、好ましくは2と
3の間の厚さである場合、本発明の目的を達成するのに
十分であることが分かった。その厚さは一方では、磁気
層の磁化可能粒子に関して、反射層を確実に保護するの
に十分である。もう一方では、バリヤー層がそのような
小さな厚さである場合、磁気層に蓄積されたデータの読
み易さはどのようにしても不利に影響する可能性はほと
んどない。
【0018】本発明の別の態様によると、前述したおよ
び他の目的は、好ましくは上述した本発明によるバリュ
ードキュメントを製造する、エンボシングホイル、特に
熱エンボシングホイルであって、支持体フイルムおよ
び、そこから剥離可能で、該支持体フイルムから始ま
り、光学回折効果のある、前記支持体フイルムから離れ
たその表面に光学回折効果のある空間的構造を有する少
なくとも1つの透明ラッカー層の形状におる機密保護層
を含み、前記機密保護層の空間的構造上に配された反射
金属層、結合剤中に分散された磁化可能粒子からなる磁
気層、および基体への定着として作用し、前記磁気層に
より形成されることもあるかまたは前記磁気層に結合さ
れる接着層からなるエンボシングにより達成される。そ
の金属層は磁気層の磁化可能粒子と反応しない金属によ
り形成され、および/または前記磁化可能粒子が前記金
属層と作用するのを防ぐバリヤー層が金属層と磁気層の
間に配される。本発明によるエンボシングホイルにおい
て、接着層が前記金属層と前記磁気層または前記金属層
に直接隣接したバリヤー層との間に設けられることによ
り、その金属層が確実に磁気層またはバリヤー層にそれ
ぞれ接着されることが理解されよう。通常接着層はバリ
ヤー層としては十分ではない。しかしながら、バリヤー
層が、同時に接着層として作用できるように選択されて
そしてそのような組成物となることも可能であるが、そ
の点に関して、そのバリヤー層の比較的強いピグメンテ
ーション(pigmentation)の結果として問題が生じ得
る。
【0019】本発明のさらなる目的、特徴および長所
は、本発明による機密保護特性を有するクレジットカー
ド状のバリュードキュメント、およびバリュードキュメ
ントを製造するためのエンボシングホイルの実施態様の
以下の記載から明確となる。
【0020】
【実施例】以下、図面に示す実施例に基づいて本発明を
詳細に説明する。
【0021】最初に、その前面に例えば打ち出した文字
でそのカード保持者の名前2、および3で示した認識番
号を担持する従来のプラスチックカード1からなるクレ
ジットカード状の本発明によるバリュードキュメントを
示す図1について述べる。そのプラスチックカード1に
はその前面に、一方ではそのカードの全幅に亘って広が
った磁気片4が、もう一方では、図1および2に明確に
示すように、部分的にその磁気片4に重畳するがある部
分は磁気片4を超えて投影され、図1においては上のほ
うに、そして図2では左のほうに投影された光学機密保
護特徴5を含む機密要素または特徴が設けられている。
【0022】光学機密保護特徴5は、例えば上述した米
国特許第4,684,795 号の明細書に記載された機密保護特
徴に従った配置にある。その特徴5は、光学効果を有
し、少なくとも部分的に(図1の内側区域)そしてその
下側に光学回折効果を有する構造7が設けられいる透明
機密保護層6からなる。少なくともその構造7の区域に
おいて、光学回折効果を有する機密保護層6には、例え
ば、真空蒸着によりその機密保護層6の構造7に施され
ている金属層8が設けられている。その点で、図1およ
び2に示すバリュードキュメントは上述した米国特許第
4,684,795 号の明細書に記載されたものと実質的に同一
である。
【0023】ここで、図1および2に示すドキュメント
において、磁気層4と金属層8との間には、9で示さ
れ、例えば0.5と5μmの間、好ましくは2と3μm
の間の厚さであるバリヤー層が設けられている。バリヤ
ー層9の目的は、磁気層4中に存在し一般に酸化鉄であ
る磁気顔料が金属層8に影響するのを防ぐことにある。
バリヤー層9および図1と2に示すバリュードキュメン
トまたはクレジットカードのさらなる層の可能性のある
構成物に関して、図3に示すエンボシングホイルのより
詳細な以下の説明を述べる。
【0024】バリヤー層9を設けるかわりに、金属層8
が、例えばクロム、銅、銀、金またはそれらの金属少な
くとも2つの合金である金属のような、磁気層4の磁化
可能粒子と反応しない金属から作ることもまた可能であ
る。バリヤー層9を設け、かつ上述したような、磁気層
4の磁化可能粒子と反応しない金属から金属層8を作る
こともできることが理解されよう。
【0025】図1および2に示したドキュメントまたは
クレジットカードの様々な層は、様々な方法により設け
られる。例えば、最初に磁気層4をプラスチックカード
1に設け、次いでバリヤー層9を、例えば印刷操作によ
り設けることができる。次いで、バリヤー層9が適切な
材料からなる場合、おそらく部分的に、本来蒸着方法に
より製造される金属層8により覆われる。続いて、空間
的構造を金属層8の区域中に製造しなければならない。
その空間的構造を、蒸着による金属層の適用作業の前に
すでに形成しておくことも同様に可能である。最後に、
機密保護層6を、例えば印刷操作を用いて設けることが
できる。
【0026】図1および2に示したバリュードキュメン
トは、全ての層、すなわち磁気層4、バリヤー層9、金
属層8および保護層6が図3に示すようなエンボシング
ホイルを用いて1つの作業工程で施される場合、実質的
により簡単な方法で製造できることを言及する。理論的
に、一方が実質的に磁気層のみからなり、他方がバリヤ
ー層、金属層および保護または機密保護層6を含む2つ
の別々のエンボシングホイルを用いることもできる。例
えば図1に示すクレジットカードをエンボシングホイル
を用いて製造する場合、そのような方法で続けて行なう
ことが必要である。
【0027】全ての機密保護特徴を設けるのに適した、
すなわち1つの工程で反射金属層8に磁気層4の付設と
機密保護層6の付設の両者に適した、エンボシングホイ
ルの部分図を示す図3について述べる。
【0028】図3を参照すると、そこに示すホイルは既
知の方法による担体または支持体フイルム10を含む。参
照番号11により認識される転移層は、例えば、好ましく
は支持体フイルム10から転移層11の剥離を促進するワッ
クスのような材料からなる剥離層(図示せず)を介して
支持体フイルム10上に配される。支持体フイルム10から
始まって、転移層は、光学回折効果のある機密保護層と
して作用するラッカーの透明カバー層6からなる。支持
体フイルム10とは離れた表面に、それゆえ図3の下方向
に面する表面に、ラッカー層6が、光学回折効果を作る
ことのできるような部分的に、空間的な構造を有する。
例えば機密保護層6には、ホログラムまたは計算機生成
回折構造、干渉層たまは回折格子の形状の7で示された
構造が設けられる。その構造7は、一般的に支持体フイ
ルム10に設けられた機密保護層6に設けられる。層6を
形成するラッカーは、熱可塑性ラッカーまたは架橋結合
ラッカーのいずれかである。
【0029】次いで、金属層8が、例えば蒸着操作によ
り真空中で、構造7を有する層6の表面に設けられる。
さらなる層が確実に反射金属層8に接着されることを確
認するために、接着層12が、続いてのさらなる層が設け
られる前に、金属層8に設けられる。次いで接着層12
に、バリヤー層9、磁気層4および基体(図示せず)上
に転移層11を固定するように作用する接着層13が付設さ
れる。この点に関して、接着層13はまた、磁気層4が接
着に適した特性のものである場合には省略することもで
きるも言及しておく。
【0030】図3に関して、それぞれの厚さの層が図3
中の真の大きさとしては示されていないことも注意すべ
きである。通常の環境においては、機密保護層6は約0.
3 と1.2 の間の厚さである。例えばクロム、銅、銀、金
またはそれらの合金からなる金属層8は、既知の方法で
真空蒸着により施され、典型的に約0.01と0.04μmの厚
さである。接着層12は通常約0.2 と0.7 μmの間の厚さ
で施される。すでに述べたように、バリヤー層9は約0.
5 と5μmの間の厚さであり、磁気層8は通常4と12μ
mの間、好ましくは約9μmの厚さである。接着層13の
厚さはほぼ機密保護層6の厚さと対応する。
【0031】様々な層が、例えば上述した独国特許第34
22 910 号に記載されているように、エンボシングホイ
ルの製造から知られている方法により施される。その点
に関して、支持体フイルム10は、例えば約19と23μmの
間の厚さの、様々な層が次いで凹刻印刷ロールを用いて
連続して施されるポリエステルホイルである。この層が
施された後、必要な乾燥工程が行なわれる。機密保護層
6の空間的構造7は、回転エンボシングシリンダーまた
はストロークエンボシング工程のいずれかを用いて製造
される。
【0032】(実施例)図3に示すエンボシングホイル
の様々な層の構成の実施例を以下に述べる。
【0033】保護ラッカーまたは機密保護層6: 成分 重量部 高分子PMMA樹脂 2000 無油シリコンアルキド 300 非イオン湿潤剤 50 メチルエチルケトン 750 低粘度ニトロセルロース 12000 トルエン 2000 ジアセトンアルコール 2500 金属層8:この層は真空蒸着により施され、クロム、
銅、銀、または金、もしくはそれらの合金からなる。
【0034】接着層: 成分 重量部 高分子PMMA樹脂 1200 メチルエチルケトン 3400 トルエン 1000 艶消し剤 100 バリヤー層9: 成分 重量部 メチルエチルケトン 30 トルエン 35 エチルアルコール 15 塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体 (MP:>65℃) 11 不飽和ポリエステル樹脂 (MP:100 ℃、d=1.24g/cm3 ) 3 シリコンポリエステル樹脂 (d=1.18g/cm3 ) 2 疎水化シリカ (水の5%スラリーでpH≧7) 4 磁気層4:この層は、ポリウレタン結合剤中の針状γF
2 3 磁石顔料の分散物、様々なラッカー添加剤およ
びメチルエチルケトンとテトラヒドロフランからなる溶
媒混合物よりなる。
【0035】しかしながら磁気層は必ずしもそのような
組成である必要はない。Fe2 3顔料のかわりに、他
の磁石顔料、例えばCoドープト(Co−doped)
磁気酸化鉄または他の良好に分散された磁気材料(S
r、Ba−フェライト)を使用することもできる。磁気
層の結合剤の組合せもまた、バリヤー層が省略された場
合に重要となり得る、金属8への直接良好な接着がある
ので、接着層12を省略することができるように選択する
こともできる。
【0036】接着層13:層13は例えば既知の熱接着層で
ある。しかしながら、常にその層が付設される必要はな
い。その問題は、エンボシングホイルが打ち出される基
体の組成による。例えばその基体が、一般的なクレジッ
トカードの場合のように、PVCからなる場合、通常特
別な熱接着層を省略することが可能である。
【0037】図3に示すようなエンボシングホイルを付
設する目的のために、転移層11を導きながら、プラスチ
ックカード1上または対応して保護される別のドキュメ
ント上に配し、次いで熱を加えながらそのカードまたは
ドキュメントに押し付ける。その状態で、一方では、転
移層11は、接着層13または対応する接着磁気層4により
保護されるドキュメントの対応表面に結合される。もう
一方では、加えた熱の効果の結果として、転移層11は支
持体フイルム10から剥離される。その剥離は、転移層11
と支持体フイルム10との間に付加的なワックス状剥離層
または分離層がある場合に、特に促進される。
【0038】上述したドキュメントおよび方法並びに組
成物は本発明の原理の実施態様と説明のために述べられ
たものであり、様々な改良と変更が本発明の視野と請求
項から逸脱せずになされることが理解されよう。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による機密保護特徴を有するクレジット
カードの平面図
【図2】図1に示すクレジットカードの線分II-II に沿
った断面図
【図3】熱エンボシングホイルの切出し断面図
【符号の説明】
1 プラスチックカード 2 カード保持者の名前 3 認識番号 4 磁気片 5 光学機密保護特徴 6 透明機密保護層 7 構造 8 金属層 9 バリヤー層 10 支持体フイルム 11 転移層 12、13 接着層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G06K 19/10 19/06 8623−5L G06K 19/00 D

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 少なくともその表面の1つが、一方が結
    合剤中に磁化可能な粒子の分散からなる磁気層を含み、
    他方が、例えばホログラムまたは計算機生成回折層、干
    渉層または回折格子といった光学回折効果を有する機密
    保護層を含む機密保護要素を担持する、例えば紙幣、ク
    レジットカード、入場券、切符などのバリュードキュメ
    ントであって、前記機密保護層が少なくとも部分的に前
    記磁気層上に重畳して施され、該磁気層のほうを向いた
    前記機密保護層の表面が光学回折効果のある空間的構造
    を有し、該表面に反射磁化不可能金属層が設けられ、前
    記金属層(8) が前記磁気層(4) の磁化可能粒子と反応し
    ない金属により形成され、および/または前記磁化可能
    粒子が前記金属層と作用するのを防ぐバリヤー層(9) が
    前記金属層(8) と前記磁気層(4) の間に配されることを
    特徴とするバリュードキュメント。
  2. 【請求項2】 前記金属層(8) が、クロム、銅、銀また
    は金、もしくはその金属の少なくとも2つからなる合金
    により形成されることを特徴とする請求項1記載のドキ
    ュメント。
  3. 【請求項3】 前記バリヤー層(9) が無機顔料の加えら
    れる有機高分子の層であることを特徴とする請求項1ま
    たは2記載のドキュメント。
  4. 【請求項4】 前記バリヤー層(9) が≧7のpH値を有
    することを特徴とする請求項1から3いずれか1項記載
    のドキュメント。
  5. 【請求項5】 前記バリヤー層(9) が0.5と5μmの
    間、好ましくは2と3μmの間の厚さであることを特徴
    とする請求項1から4いずれか1項記載のドキュメン
    ト。
  6. 【請求項6】 好ましくは請求項1から5いずれか1項
    記載のバリュードキュメントを製造するエンボシングホ
    イル、特に熱エンボシングホイルであって、支持体フイ
    ルムおよび、そこから剥離可能で、該支持体フイルムか
    ら始まり、少なくとも光学回折効果のある機密保護層と
    しての透明ラッカー層を含み、前記支持体フイルムから
    離れたその表面に光学回折効果のある空間的構造を有す
    る転移層、前記機密保護層の空間的構造上に配された反
    射金属層、結合剤中に分散された磁化可能粒子からなる
    磁気層、および基体への定着として作用し、前記磁気層
    により形成されることもあるかまたは前記磁気層に結合
    される接着層を有し、前記金属層(8) が前記磁気層(4)
    の磁化可能粒子と反応しない金属により形成され、およ
    び/または前記磁化可能粒子が前記金属層と作用するの
    を防ぐバリヤー層(9) が前記金属層(8) と前記磁気層
    (4) の間に配されることを特徴とするエンボシングホイ
    ル。
  7. 【請求項7】 前記金属層(8) が、クロム、銅、銀また
    は金、もしくはその金属の少なくとも2つからなる合金
    により形成されることを特徴とする請求項6記載のエン
    ボシングホイル。
  8. 【請求項8】 前記金属層(8) が、好ましくは蒸着操作
    により真空中で、光学回折作用を有する前記機密保護層
    (6) の構造(7) に施されることを特徴とする請求項6ま
    たは7記載のエンボシングホイル。
  9. 【請求項9】 前記バリヤー層(9) が無機顔料の加えら
    れる有機高分子の層であることを特徴とする請求項6か
    ら8いずれか1項記載のエンボシングホイル。
  10. 【請求項10】 前記バリヤー層(9) が≧7のpH値を
    有することを特徴とする請求項6から9いずれか1項記
    載のエンボシングホイル。
  11. 【請求項11】 前記バリヤー層(9) が0.5と5μm
    の間、好ましくは2と3μmの間の厚さであることを特
    徴とする請求項6から10いずれか1項記載のエンボシ
    ングホイル。
  12. 【請求項12】 接着層(12)が前記金属層(8) と前記磁
    気層(4) または前記金属層(8) に直接隣接したバリヤー
    層(9) との間に設けられることを特徴とする請求項6か
    ら11いずれか1項記載のエンボシングホイル。
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