JPH0666531B2 - Ｘ線レ−ザ用タ−ゲット支持装置 - Google Patents
Ｘ線レ−ザ用タ−ゲット支持装置Info
- Publication number
- JPH0666531B2 JPH0666531B2 JP17773587A JP17773587A JPH0666531B2 JP H0666531 B2 JPH0666531 B2 JP H0666531B2 JP 17773587 A JP17773587 A JP 17773587A JP 17773587 A JP17773587 A JP 17773587A JP H0666531 B2 JPH0666531 B2 JP H0666531B2
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- JP
- Japan
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- target
- fibrous
- ray laser
- electrode
- electrodes
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- Expired - Lifetime
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S4/00—Devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in wave ranges other than those covered by groups H01S1/00, H01S3/00 or H01S5/00, e.g. phonon masers, X-ray lasers or gamma-ray lasers
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Lasers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、レーザ光を励起源とする再結合型のＸ線レ
ーザ用ターゲット支持装置に関するものである。
ーザ用ターゲット支持装置に関するものである。
Ｘ線レーザに関しては現在種々の提案がなされている
が、最も開発が進んでいて将来性が高いと考えられてい
る方式は、レーザ光を励起源とする再結合型である。そ
の最新の研究成果は、文源（「ラザーフォード・アップ
ルトン研究所におけるＸ線レーザー実験」富江敏尚、電
気学会研究会資料EP−87−13〜23,83〜90頁、昭和62年
２月21日参照）に見られるもので、すでに増幅作用が確
認されており、いずれ産業用に実用化される日も近いと
考えられている。その概略は、ファイバ状のターゲット
にレーザ光を照射してプラズマ化し、そのプラズマが膨
張して冷却される際に、Ｘ線レーザに必要な反転分布を
得るものである。従ってファイバ状のターゲットに沿っ
た方向に大きな利得が得られ、Ｘ線レーザ出力が得られ
る。
が、最も開発が進んでいて将来性が高いと考えられてい
る方式は、レーザ光を励起源とする再結合型である。そ
の最新の研究成果は、文源（「ラザーフォード・アップ
ルトン研究所におけるＸ線レーザー実験」富江敏尚、電
気学会研究会資料EP−87−13〜23,83〜90頁、昭和62年
２月21日参照）に見られるもので、すでに増幅作用が確
認されており、いずれ産業用に実用化される日も近いと
考えられている。その概略は、ファイバ状のターゲット
にレーザ光を照射してプラズマ化し、そのプラズマが膨
張して冷却される際に、Ｘ線レーザに必要な反転分布を
得るものである。従ってファイバ状のターゲットに沿っ
た方向に大きな利得が得られ、Ｘ線レーザ出力が得られ
る。
上記のような方式のＸ線レーザにおいては、ファイバ状
のターゲットの太さはわずか数ミクロンであり、これに
励起用レーザ光を正確にラインフォーカスする必要があ
る。また、利得はファイバ状のターゲットに沿った方向
に得られるため、十分な利得を得るためには、ファイバ
状のターゲットは厳密に直線状でなければならず、ま
た、その方向がＸ線レーザの出力方向を決定する。
のターゲットの太さはわずか数ミクロンであり、これに
励起用レーザ光を正確にラインフォーカスする必要があ
る。また、利得はファイバ状のターゲットに沿った方向
に得られるため、十分な利得を得るためには、ファイバ
状のターゲットは厳密に直線状でなければならず、ま
た、その方向がＸ線レーザの出力方向を決定する。
以上のことからわかるように、このＸ線レーザを実用化
する上では、ファイバ状のターゲットをいかに正確に所
定の位置に直線状に支持するかが重要となる。
する上では、ファイバ状のターゲットをいかに正確に所
定の位置に直線状に支持するかが重要となる。
単にファイバ状のターゲットを直線状に支持するだけで
よければ、ファイバ状のターゲットの両端を単に引っ張
ればよい。その最も簡単な例を第２図に示す。
よければ、ファイバ状のターゲットの両端を単に引っ張
ればよい。その最も簡単な例を第２図に示す。
すなわち、ファイバ11の一端11aを固定部12に固定し、
他端11bにプーリ13を介して錘14を下げ、引長力を加え
ることによりファイバ11を所定の位置に直線状に固定す
るのである。
他端11bにプーリ13を介して錘14を下げ、引長力を加え
ることによりファイバ11を所定の位置に直線状に固定す
るのである。
しかしながらこの方法は、Ｘ線レーザには適用できな
い。その理由はレーザの取出し方向にプーリ13があるた
め、ファイバ11からＸ線レーザ出力を取り出すことがで
きないからである。従って、文献等、これまでの例で
は、ファイバ11の一端11aだけを固定し、自立させてい
るのが現状である。この方式ではファイバ11によって形
成されたファイバ状のターゲットを長い距離にわたって
直線状に支持することは困難であり、従って高い利得を
得ることもできないという問題点があった。
い。その理由はレーザの取出し方向にプーリ13があるた
め、ファイバ11からＸ線レーザ出力を取り出すことがで
きないからである。従って、文献等、これまでの例で
は、ファイバ11の一端11aだけを固定し、自立させてい
るのが現状である。この方式ではファイバ11によって形
成されたファイバ状のターゲットを長い距離にわたって
直線状に支持することは困難であり、従って高い利得を
得ることもできないという問題点があった。
この発明は、上記の問題点を解決するためになされたも
ので、長い距離においてファイバ状のターゲットを所定
の位置で直線状に支持するＸ線レーザ用ターゲット支持
装置を得ることを目的とする。
ので、長い距離においてファイバ状のターゲットを所定
の位置で直線状に支持するＸ線レーザ用ターゲット支持
装置を得ることを目的とする。
この発明にかかるＸ線レーザ用ターゲット支持装置は、
所定の間隔に設定した１対の電極のうちの一方の電極に
ファイバ状のターゲットを貫通させるとともに、他方の
電極に対して先端部を所定の距離に位置せしめるととも
に、他方の電極にファイバ状のターゲットから発生する
レーザを取り出すための透孔を形成し、さらにファイバ
状のターゲットを直線上に保持するため１対の電極間に
電界を発生させる高圧電源を具備したものである。
所定の間隔に設定した１対の電極のうちの一方の電極に
ファイバ状のターゲットを貫通させるとともに、他方の
電極に対して先端部を所定の距離に位置せしめるととも
に、他方の電極にファイバ状のターゲットから発生する
レーザを取り出すための透孔を形成し、さらにファイバ
状のターゲットを直線上に保持するため１対の電極間に
電界を発生させる高圧電源を具備したものである。
この発明においては、高圧電源により印加された電界に
より１対の電極間に電界が発生するので、この電界によ
ってファイバ状のターゲットが直線状に保持される。
より１対の電極間に電界が発生するので、この電界によ
ってファイバ状のターゲットが直線状に保持される。
第１図はこの発明の一実施例を示す概略構成図で、レー
ザ光を励起源とする再結合型Ｘ線レーザのターゲット支
持装置を示すものである。なお、励起用レーザ光をライ
ンフォーカスさせる手段は省略してある。
ザ光を励起源とする再結合型Ｘ線レーザのターゲット支
持装置を示すものである。なお、励起用レーザ光をライ
ンフォーカスさせる手段は省略してある。
この図において、１はカーボン，その他の導体や絶縁体
等の材料からなるファイバ状のターゲットで、Ｘ線レー
ザを取り出すものである。2,3は、電極、４は前記各電
極2,3に接続された高圧電源、５は前記電極３に形成さ
れたＸ線レーザ光取出し用の透孔で、その開口径は各電
極2,3の大きさおよび各電極2,3の距離に比べて十分に小
さいものである。６は前記ファイバ状のターゲット１を
送り出すローラである。
等の材料からなるファイバ状のターゲットで、Ｘ線レー
ザを取り出すものである。2,3は、電極、４は前記各電
極2,3に接続された高圧電源、５は前記電極３に形成さ
れたＸ線レーザ光取出し用の透孔で、その開口径は各電
極2,3の大きさおよび各電極2,3の距離に比べて十分に小
さいものである。６は前記ファイバ状のターゲット１を
送り出すローラである。
上記のように構成された再結合型Ｘ線レーザ用ターゲッ
ト支持装置は、ファイバ状のターゲット１がローラ６の
回転により電極２の裏側2aから電極２の透孔2bを通って
電極2,3間に送り出される。ファイバ状のターゲット１
の後端部1aはローラ６により繰り出し自由に固定されて
いるが、先端部1bは固定されておらず自由端となってお
り、かつ先端部1bと電極３との間は所定の距離に設定さ
れている。そして、高圧電源４から両電極2,3間に電圧
を加えることにより電界が発生し、かつ発生する電界は
簡単に計算することができ、その電気力線は第１図中に
破線で示したものとなる。これから明らかなようにファ
イバ状のターゲット１は平行平板に形成された電極2,3
における直線状の電気力線に沿って引っ張られた形で電
極２に直立し、直線状に保持される。
ト支持装置は、ファイバ状のターゲット１がローラ６の
回転により電極２の裏側2aから電極２の透孔2bを通って
電極2,3間に送り出される。ファイバ状のターゲット１
の後端部1aはローラ６により繰り出し自由に固定されて
いるが、先端部1bは固定されておらず自由端となってお
り、かつ先端部1bと電極３との間は所定の距離に設定さ
れている。そして、高圧電源４から両電極2,3間に電圧
を加えることにより電界が発生し、かつ発生する電界は
簡単に計算することができ、その電気力線は第１図中に
破線で示したものとなる。これから明らかなようにファ
イバ状のターゲット１は平行平板に形成された電極2,3
における直線状の電気力線に沿って引っ張られた形で電
極２に直立し、直線状に保持される。
したがって、ターゲット１に図示しない励起用レーザを
ラインフォーカスさせるとターゲット１の長さ方向に利
得を生じ、Ｘ線レーザ光が発生し、これを透孔５から取
り出す。ターゲット１の先端部分の消耗に応じてローラ
６によりターゲット１を繰り出す。
ラインフォーカスさせるとターゲット１の長さ方向に利
得を生じ、Ｘ線レーザ光が発生し、これを透孔５から取
り出す。ターゲット１の先端部分の消耗に応じてローラ
６によりターゲット１を繰り出す。
この発明は以上説明したように、所定の間隔に設定した
１対の電極のうちの一方の電極にファイバ状のターゲッ
トを貫通させるとともに、他方の電極に対して先端部を
所定の距離に位置せしめるとともに、他方の電極にファ
イバ状のターゲットから発生するレーザを取り出すため
に透孔を形成し、さらにファイバ状のターゲットを直線
上に保持するため１対の電極間に電界を発生させる高圧
電源を具備したので、ファイバ状のターゲットを常時同
一方向に向け、直線状に支持できる上、Ｘ線レーザ出力
を取り出す際において何ら妨げにならない。したがっ
て、ファイバ状のターゲットの位置合わせが容易にな
り、高効率のＸ線レーザを実現できる効果がある。
１対の電極のうちの一方の電極にファイバ状のターゲッ
トを貫通させるとともに、他方の電極に対して先端部を
所定の距離に位置せしめるとともに、他方の電極にファ
イバ状のターゲットから発生するレーザを取り出すため
に透孔を形成し、さらにファイバ状のターゲットを直線
上に保持するため１対の電極間に電界を発生させる高圧
電源を具備したので、ファイバ状のターゲットを常時同
一方向に向け、直線状に支持できる上、Ｘ線レーザ出力
を取り出す際において何ら妨げにならない。したがっ
て、ファイバ状のターゲットの位置合わせが容易にな
り、高効率のＸ線レーザを実現できる効果がある。
第１図はこの発明の一実施例を示す構成図、第２図はフ
ァイバを直線状に支持する従来の支持方式の一例を示す
構成図である。 図中、１はファイバ状のターゲット、2,3は電極、４は
高圧電源、５はＸ線レーザ光取出し用の透孔である。
ァイバを直線状に支持する従来の支持方式の一例を示す
構成図である。 図中、１はファイバ状のターゲット、2,3は電極、４は
高圧電源、５はＸ線レーザ光取出し用の透孔である。
Claims (1)
- 【請求項１】先端部を自由端とするファイバ状のターゲ
ットの支持装置であって、所定の間隔に設定した１対の
電極のうちの一方の電極に前記ファイバ状のターゲット
を貫通させるとともに、他方の電極に対して前記先端部
を所定の距離に位置せしめるとともに、前記他方の電極
に前記ファイバ状のターゲットから発生するレーザを取
り出すための透孔を形成し、さらに前記ファイバ状のタ
ーゲットを直線上に保持するため前記１対の電極間に電
界を発生させる高圧電源を具備したことを特徴とするＸ
線レーザ用ターゲット支持装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17773587A JPH0666531B2 (ja) | 1987-07-16 | 1987-07-16 | Ｘ線レ−ザ用タ−ゲット支持装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17773587A JPH0666531B2 (ja) | 1987-07-16 | 1987-07-16 | Ｘ線レ−ザ用タ−ゲット支持装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6421992A JPS6421992A (en) | 1989-01-25 |
| JPH0666531B2 true JPH0666531B2 (ja) | 1994-08-24 |
Family
ID=16036207
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17773587A Expired - Lifetime JPH0666531B2 (ja) | 1987-07-16 | 1987-07-16 | Ｘ線レ−ザ用タ−ゲット支持装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0666531B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2874722B2 (ja) * | 1993-06-18 | 1999-03-24 | 信越半導体株式会社 | シリコン単結晶の成長方法及び装置 |
-
1987
- 1987-07-16 JP JP17773587A patent/JPH0666531B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6421992A (en) | 1989-01-25 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |