JPH0671427A - ＴｉＡｌのろう付方法 - Google Patents
ＴｉＡｌのろう付方法Info
- Publication number
- JPH0671427A JPH0671427A JP24869592A JP24869592A JPH0671427A JP H0671427 A JPH0671427 A JP H0671427A JP 24869592 A JP24869592 A JP 24869592A JP 24869592 A JP24869592 A JP 24869592A JP H0671427 A JPH0671427 A JP H0671427A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- brazing
- tial
- pure
- plated
- base materials
- Prior art date
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- Pending
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- Chemically Coating (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 Ａｌの酸化皮膜の発生を抑制してろう付性を
改良する。 【構成】 ＴｉＡｌ１の表面を酸洗浄後純Ｎｉメッキ２
を施して母材を形成し、２枚の母材の純Ｎｉメッキ２を
施した面間にろう材３を挾み、真空下において両母材を
所定の温度に加熱し、接合する。
改良する。 【構成】 ＴｉＡｌ１の表面を酸洗浄後純Ｎｉメッキ２
を施して母材を形成し、２枚の母材の純Ｎｉメッキ２を
施した面間にろう材３を挾み、真空下において両母材を
所定の温度に加熱し、接合する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はろう付の改良を図ること
ができるＴｉＡｌのろう付方法に関するものである。
ができるＴｉＡｌのろう付方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】ＴｉＡｌはＡｌの含有量が約３５％と極
めて高く、ろう付しようとする接合界面にＡｌの酸化皮
膜が発生してろう付性を悪化する。
めて高く、ろう付しようとする接合界面にＡｌの酸化皮
膜が発生してろう付性を悪化する。
【０００３】従って、従来、ろう付け前の前処理でＴｉ
Ａｌの接合界面を酸洗浄又はエメリー研磨を施し次いで
ろう付を行う方法が用いられている。
Ａｌの接合界面を酸洗浄又はエメリー研磨を施し次いで
ろう付を行う方法が用いられている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】前処理からろう付の実
施までの保管時間は経験的に約６時間以内にキープする
必要があるとされている。しかしながら、上記の方法に
よる実際の製品の製作工程では保管時間を６時間以内に
キープすることは困難で、実用的でないという問題があ
る。
施までの保管時間は経験的に約６時間以内にキープする
必要があるとされている。しかしながら、上記の方法に
よる実際の製品の製作工程では保管時間を６時間以内に
キープすることは困難で、実用的でないという問題があ
る。
【０００５】
【発明の目的】本発明はＴｉＡｌの接合界面に酸化皮膜
が発生するのを防止しろう付性を改良することを目的と
する。
が発生するのを防止しろう付性を改良することを目的と
する。
【０００６】
【研究結果による知見】上記した問題点を解決すべく本
発明者らは、ＴｉＡｌに付着可能な金属で且つ表面に酸
化皮膜が形成されにくく熱処理を行った際に酸化皮膜が
分解され易い金属について鋭意研究の結果、ＮｉはＴｉ
Ａｌに付着可能で且つ酸化皮膜が形成されにくい性質を
備えているという知見を得るに至った。
発明者らは、ＴｉＡｌに付着可能な金属で且つ表面に酸
化皮膜が形成されにくく熱処理を行った際に酸化皮膜が
分解され易い金属について鋭意研究の結果、ＮｉはＴｉ
Ａｌに付着可能で且つ酸化皮膜が形成されにくい性質を
備えているという知見を得るに至った。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明のうち第１の手段
はＴｉＡｌの表面を酸洗浄後純Ｎｉメッキを施して母材
を形成し、２枚の母材の純Ｎｉメッキを施した面間にろ
う材を挾み、真空下において両母材を所定の温度に加熱
し、接合するものであり、第２の手段はＴｉＡｌの表面
にプラズマ溶接によりＮｉコーティングを施して母材を
形成し、２枚の母材の純Ｎｉメッキを施した面間にろう
材を挾み、真空下において両母材を所定の温度に加熱
し、接合するものである。
はＴｉＡｌの表面を酸洗浄後純Ｎｉメッキを施して母材
を形成し、２枚の母材の純Ｎｉメッキを施した面間にろ
う材を挾み、真空下において両母材を所定の温度に加熱
し、接合するものであり、第２の手段はＴｉＡｌの表面
にプラズマ溶接によりＮｉコーティングを施して母材を
形成し、２枚の母材の純Ｎｉメッキを施した面間にろう
材を挾み、真空下において両母材を所定の温度に加熱
し、接合するものである。
【０００８】
【作用】前処理としてＴｉＡｌの表面の接合界面にＮｉ
メッキを施すか或いはＰＶＤ法によりＮｉコーティング
を施したので、Ａｌの酸化皮膜の発生を抑制して、ろう
付性が改良される。
メッキを施すか或いはＰＶＤ法によりＮｉコーティング
を施したので、Ａｌの酸化皮膜の発生を抑制して、ろう
付性が改良される。
【０００９】
【実施例】以下、本発明によるＴｉＡｌのろう付方法に
ついて説明する。
ついて説明する。
【００１０】図１は本発明の一実施例を示す。
【００１１】本実施例においては、ＴｉＡｌ１の表面に
厚さ５〜１０μｍの純Ｎｉメッキ２を施して母材を形成
し、両母材間に厚さ５０〜１００μｍのろう材３（チタ
ンベース４０％、ジルコニウム２０％、ニッケル２０
％、銅２０％で構成されるＴ−２０２０）を挾み、真空
度１．３３×１０ー2Ｐａ以下の炉内で１０分間、９３０
℃の温度に加熱して両母材を接合し、５００〜６００℃
まで炉冷し、約１５０℃で炉外へ取り出す。接合後のＴ
ｉＡｌの引張強度は１４７Ｎであった。
厚さ５〜１０μｍの純Ｎｉメッキ２を施して母材を形成
し、両母材間に厚さ５０〜１００μｍのろう材３（チタ
ンベース４０％、ジルコニウム２０％、ニッケル２０
％、銅２０％で構成されるＴ−２０２０）を挾み、真空
度１．３３×１０ー2Ｐａ以下の炉内で１０分間、９３０
℃の温度に加熱して両母材を接合し、５００〜６００℃
まで炉冷し、約１５０℃で炉外へ取り出す。接合後のＴ
ｉＡｌの引張強度は１４７Ｎであった。
【００１２】図２は、本実施例であるＮｉメッキを施し
たものとＮｉメッキのない従来のものとのろう付性に及
ぼす保持時間の影響を比較したものである。
たものとＮｉメッキのない従来のものとのろう付性に及
ぼす保持時間の影響を比較したものである。
【００１３】図で明らかなように前処理からろう付まで
の保持時間が６時間までは従来のものも、本発明のもの
も共にろう付性に影響はなかったが、保持時間が２〜３
日経過の段階では従来のものはろう付性が低下したのに
対し本発明のものはろう付性は低下しなかった。
の保持時間が６時間までは従来のものも、本発明のもの
も共にろう付性に影響はなかったが、保持時間が２〜３
日経過の段階では従来のものはろう付性が低下したのに
対し本発明のものはろう付性は低下しなかった。
【００１４】図３は本発明の他の実施例を示す。
【００１５】本実施例においてはＴｉＡｌ１の表面にＰ
ＶＤ法により厚さ約５μｍのＮｉコーティング４を施し
て母材を形成し、両母材間に図１の実施例と同様のろう
材３を挾み、図１の実施例と同様の条件で両母材を加熱
し、接合する。
ＶＤ法により厚さ約５μｍのＮｉコーティング４を施し
て母材を形成し、両母材間に図１の実施例と同様のろう
材３を挾み、図１の実施例と同様の条件で両母材を加熱
し、接合する。
【００１６】
【発明の効果】上記した本発明のＴｉＡｌのろう付方法
においては、ＴｉＡｌの接合界面にＮｉメッキを施すか
或いはＰＶＤ法によりＮｉコーティングを施したので、
Ａｌの酸化皮膜の発生を抑制してろう付性が改良される
とともに保管期間も従来のものに比べて長くすることが
できる。
においては、ＴｉＡｌの接合界面にＮｉメッキを施すか
或いはＰＶＤ法によりＮｉコーティングを施したので、
Ａｌの酸化皮膜の発生を抑制してろう付性が改良される
とともに保管期間も従来のものに比べて長くすることが
できる。
【図１】本発明のＴｉＡｌのろう付方法の一実施例を示
す縦断面図である。
す縦断面図である。
【図２】本発明のＮｉメッキを施したものと従来のＮｉ
メッキを施さないものとのろう付性に及ぼす保持時間の
影響についての比較を示す図である。
メッキを施さないものとのろう付性に及ぼす保持時間の
影響についての比較を示す図である。
【図３】本発明のＴｉＡｌのろう付方法の他の実施例を
示す縦断面図である。
示す縦断面図である。
１ ＴｉＡｌ ２ 純Ｎｉメッキ ３ ろう材 ４ Ｎｉコーティング
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ２３Ｃ 18/32
Claims (2)
- 【請求項１】 ＴｉＡｌの表面を酸洗浄後純Ｎｉメッキ
を施して母材を形成し、２枚の母材の純Ｎｉメッキを施
した面間にろう材を挾み、真空下において両母材を所定
の温度に加熱し、接合することを特徴とするＴｉＡｌの
ろう付方法。 - 【請求項２】 ＴｉＡｌの表面にＰＶＤ（Ｐｈｙｓｉｃ
ａｌ ＶａｐｏｒＤｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法（物理蒸着
法）によりＮｉコーティングを施して母材を形成し、２
枚の母材の純Ｎｉメッキを施した面間にろう材を挾み、
真空下において両母材を所定の温度に加熱し、接合する
ことを特徴とするＴｉＡｌのろう付方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24869592A JPH0671427A (ja) | 1992-08-25 | 1992-08-25 | ＴｉＡｌのろう付方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24869592A JPH0671427A (ja) | 1992-08-25 | 1992-08-25 | ＴｉＡｌのろう付方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0671427A true JPH0671427A (ja) | 1994-03-15 |
Family
ID=17181964
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24869592A Pending JPH0671427A (ja) | 1992-08-25 | 1992-08-25 | ＴｉＡｌのろう付方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0671427A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007296546A (ja) * | 2006-04-28 | 2007-11-15 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | ろう付け方法 |
| US7749614B2 (en) * | 2003-07-25 | 2010-07-06 | Onera (Office National D'etudes Et De Recherches Aerospatiales) | Method of brazing a Ti-Al alloy |
| CN105537750A (zh) * | 2016-01-20 | 2016-05-04 | 天津大学 | 非真空低压条件下铜铌棒状金属高强度连接工艺 |
| KR20180010301A (ko) * | 2015-12-23 | 2018-01-30 | 희성정밀 주식회사 | 전기 자동차용 배터리 스택의 쿨링 플레이트 제조 방법 및 이에 의해 제조된 쿨링 플레이트 |
-
1992
- 1992-08-25 JP JP24869592A patent/JPH0671427A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7749614B2 (en) * | 2003-07-25 | 2010-07-06 | Onera (Office National D'etudes Et De Recherches Aerospatiales) | Method of brazing a Ti-Al alloy |
| JP2007296546A (ja) * | 2006-04-28 | 2007-11-15 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | ろう付け方法 |
| KR20180010301A (ko) * | 2015-12-23 | 2018-01-30 | 희성정밀 주식회사 | 전기 자동차용 배터리 스택의 쿨링 플레이트 제조 방법 및 이에 의해 제조된 쿨링 플레이트 |
| CN105537750A (zh) * | 2016-01-20 | 2016-05-04 | 天津大学 | 非真空低压条件下铜铌棒状金属高强度连接工艺 |
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