JPH067228U - セラミックコンデンサ - Google Patents

セラミックコンデンサ

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JPH067228U
JPH067228U JP4540192U JP4540192U JPH067228U JP H067228 U JPH067228 U JP H067228U JP 4540192 U JP4540192 U JP 4540192U JP 4540192 U JP4540192 U JP 4540192U JP H067228 U JPH067228 U JP H067228U
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JP
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幸宏 西
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Abstract

(57)【要約】 【目的】発生するインダクタンスを0.1nH以下に抑
制することができるセラミックコンデンサを提供する。 【構成】基板用電極37をチップ本体31の底面のみに
形成し、内部電極35の長辺と基板用電極37とをVI
Aホール39を介して接続するとともに、内部電極35
の長辺の長さをaとし、内部電極35の短辺の長さをb
とすると、b/aを0.5以下としたことを特徴とす
る。基板用電極37の厚さを20μm以下とすることが
好ましい。

Description

【考案の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】
本考案は、例えば、コンデンサー部を有し、かつ、外部の電気回路基板の配線 と接続するための基板用電極を有するセラミックコンデンサに関わり、特に、非 常に高速でスイッチングする大型コンピュータ等に組み込まれる低インダクタン スのセラミックコンデンサに関するものである。
【0002】
【従来技術】
従来、面実装タイプのセラミックコンデンサとしては、特開昭59−914号 公報等に開示されたチップコンデンサが知られている。
【0003】 図3及び図4は、このようなチップコンデンサを示すもので、このチップコン デンサは誘電体磁器からなるチップ本体11の内部にコンデンサー部13を有し ている。
【0004】 そして、チップ本体11の左右には、外部の電気回路基板の配線と接続される 基板用電極15がそれぞれ形成されており、これらの基板用電極15の厚みは5 0〜100μmとされ、コンデンサー部13を構成する内部電極17の一端がそ れぞれ接続されている。基板用電極15は半田等で基板と接続される。
【0005】
【考案が解決しようとする問題点】
ところで、セラミックコンデンサは、図3に示したように、基板用電極15側 の内部電極17の長さをaとし、基板用電極15側でない方の内部電極17の長 さをbとすると、b/aが大きくなる程、インダクタンスが大きくなることが一 般に知られているが、上記図3及び図4に示したセラミックコンデンサではb/ aが1.5以上と大きかったため、インダクタンスが0.8nH以上と大きくな り、非常に高速でスイッチングする回路モジュールにおいて、ノイズ発生による 回路の誤動作が生じるようになるという問題があった。
【0006】 即ち、近年、特に高速でスイッチングする大型コンピュータ等では、セラミッ クコンデンサの有するインダクタンスが0.1nHよりも大きくなると、ノイズ 発生により誤作動する虞があるが、上記のセラミックコンデンサでは、インダク タンスが0.8nH以上となり、近未来の電子機器に対応することができないと いう問題があった。
【0007】 また、セラミックコンデンサのインダクタンスは、基板用電極15の厚みによ っても左右され、その厚みが厚くなる程、大きくなることが一般に知られている が、従来のチップ状電子部品では、基板用電極15の厚みが50〜100μmと 厚かったため、インダクタンスが大きくなり、非常に高速でスイッチングする回 路モジュールにおいて、ノイズ発生による回路の誤動作が生じるようになるとい う問題があった。
【0008】 一方、このようなノイズ発生による回路の誤動作を防止するべく、図5及び図 6に示すようなセラミックコンデンサが開発されている。このセラミックコンデ ンサは、基板用電極15側の内部電極17の長さをaとし、基板用電極15側で ない方の内部電極17の長さをbとすると、b/aが0.5〜0.7とされてお り、このような構成とすることにより、発生するインダクタンスを0.3nH程 度に抑制することができるが、上記図3及び図4に示したセラミックコンデンサ と同様に、インダクタンスが0.1nHよりも大きくなり、未だノイズ発生によ り誤作動する虞があった。
【0009】 本考案は、発生するインダクタンスを0.1nH以下に抑制することができる セラミックコンデンサを提供することを目的とする。
【0010】
【問題点を解決するための手段】
本考案のセラミックコンデンサは、誘電体層間に長方形状の内部電極を介装し て形成されたコンデンサー部を有するチップ本体と、このチップ本体の表面に形 成され、かつ、外部の電気回路基板の配線と接続する一対の基板用電極とからな るセラミックコンデンサにおいて、前記基板用電極を前記チップ本体の底面のみ に形成し、かつ、前記内部電極の長辺と前記基板用電極とをVIAホールを介し て接続するとともに、前記内部電極の長辺の長さをa、前記内部電極の短辺の長 さをbとした時、b/a=0.5以下としてなるものである。そして、基板用電 極の厚さは20μm以下であることが好ましい。
【0011】
【作用】
本考案のセラミックコンデンサでは、基板用電極をチップ本体の底面のみに形 成し、内部電極の長辺と前記基板用電極とをVIAホールを介して接続するとと もに、内部電極の長辺の長さをaとし、内部電極の短辺の長さをbとすると、b /aを0.5以下とすることにより、セラミックコンデンサに生じるインダクタ ンスを0.1nH以下に抑制することができる。また、基板用電極の厚さを20 μm以下とすることにより、セラミックコンデンサに生じるインダクタンスをさ らに低下させることができる。
【0012】
【実施例】
以下、本考案のセラミックコンデンサを図面に基づいて詳細に説明する。 図1及び図2は、本考案のセラミックコンデンサを示すもので、図において、 符号31は、例えば、BaTiO3 からなるチップ本体を示している。このチッ プ本体31は、例えば、縦3.2mm、横1.6mm、厚さ1.0mmであり、 多数の磁器シートを積層して構成されている。
【0013】 このチップ本体31内にはコンデンサー部33が形成されている。このコンデ ンサー部33は、チップ本体31を構成する磁器シートの間に、例えば、Pdか らなる長方形状の内部電極35を介装して形成されている。
【0014】 そして、チップ本体31の底面には、例えば、Pdからなる2個の基板用電極 37が形成され、これらの基板用電極37は、VIAホール39により内部電極 35に接続されている。VIAホール39は長方形状の内部電極35の長辺に接 続されており、これらのVIAホール39はコンデンサー部33の両側に積層方 向に形成され、それらのVIAホール39の内部には、例えば、Pdからなる導 体が充填されている。これらのVIAホール39の長さは40〜90μm、径は 120〜130μmとされている。また、基板用電極37は、例えば、Pdから なり、縦横0.6mm,厚さ20μm以下とされている。
【0015】 また、内部電極35は、図1に示したように、その長辺の長さをaとし、短辺 の長さをbとすると、b/aが0.5以下とされている。
【0016】 以上のように構成されたセラミックコンデンサでは、基板用電極37をチップ 本体31の底面のみに形成し、内部電極35の長辺に接続されたVIAホール3 9を基板用電極37に接続するとともに、内部電極35の長辺の長さをaとし、 内部電極35の短辺の長さをbとすると、b/aを0.5以下とすることにより 、セラミックコンデンサに生じるインダクタンスを0.1nH以下に抑制するこ とができ、非常に高速でスイッチングする回路モジュールにおいても、ノイズ発 生による回路の誤動作が生じることがない。また、基板用電極37の厚みを20 μm以下としたので、セラミックコンデンサに発生するインダクタンスをさらに 下げることができる。
【0017】 尚、VIAホール39の長さがインダクタンスの発生に関与するので、その長 さはなるべく短くすることが好ましい。
【0018】 実施例1 本考案者等は、上記考案の効果を確認すべく、実験を行った。
【0019】 先ず、BaTiO3 からなる磁器シート成形体と、Pdからなる内部電極層を 交互に積層して、縦3.2mm、横1.6mm、厚さ1.0mmのチップ本体を 作成した。
【0020】 このチップ本体の底面にPdからなる縦0.6mm,横0.6mmの基板用電 極を形成し、この基板用電極と内部電極とを、Pdからなる導体により接続した 。
【0021】 そして、セラミックコンデンサを作成し、内部電極の辺の長さの比b/aの値 を種々変化させて、セラミックコンデンサのインダクタンスの発生状況を、測定 器YHP4191Aにより測定周波数500MHzにおいて測定した。また、基 板用電極の厚みを種々変化させ、セラミックコンデンサのインダクタンスの発生 状況を上記と同様にして測定した。これらの結果を表1に示す。
【0022】
【表1】
【0023】 この表1より、b/aの値が0.5以下となると、インダクタンス値が0.1 nH以下となっていることが確認された。また、b/aの値を0.5以下とする とともに、基板用電極の厚みを20μm以下とすると、インダクタンス値がさら に低下していることが確認された。尚、基板用電極のみの影響を調べるため、V IAホールの長さや断面積等、他の構成は一定とした。
【0024】 尚、本考案の効果確認のため、チップ本体の寸法、材料等の条件を上記と同様 にして作製した図3の従来のセラミックコンデンサでは、基板用電極の厚みを7 0μmと一定にした時に、b/aの値をそれぞれ1.6、1.8と変更させると 、インダクタンスは0.958、1.048nHとなった。また、b/aの値を 1.6と一定にした時に、基板用電極の厚みをそれぞれ70、100μmと変更 した時、インダクタンスはそれぞれ0.958、0.978nHとなった。
【0025】 また、図5の従来のセラミックコンデンサでは、基板用電極の厚みが70μm 、b/aの値が0.558の時、インダクタンスは0.397nHであった。b /aの値を0.558と一定にした時に、基板用電極の厚みをそれぞれ70、1 00μmと変更した時、インダクタンスはそれぞれ0.397、0.417nH となった。
【0026】
【考案の効果】
本考案のセラミックコンデンサでは、基板用電極をチップ本体の底面のみに形 成し、内部電極の長辺と基板用電極とをVIAホールを介して接続するとともに 、内部電極の長辺の長さをaとし、内部電極の短辺の長さをbとすると、b/a を0.5以下とすることにより、セラミックコンデンサに生じるインダクタンス を0.1nH以下に抑制することができ、非常に高速でスイッチングする回路モ ジュールにおいても、ノイズ発生による回路の誤動作を最小限に抑制することが できる。また、基板用電極の厚さを20μm以下とすることにより、セラミック コンデンサに生じるインダクタンスをさらに低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本考案のセラミックコンデンサを示す横断面図
である。
【図2】本考案のセラミックコンデンサの縦断面図であ
る。
【図3】従来のセラミックコンデンサを示す横断面図で
ある。
【図4】従来のセラミックコンデンサの縦断面図であ
る。
【図5】従来の他のセラミックコンデンサを示す横断面
図である。
【図6】従来の他のセラミックコンデンサの縦断面図で
ある。
【符号の説明】
31 チップ本体 33 コンデンサー部 35 内部電極 37 基板用電極 39 VIAホール

Claims (2)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項1】誘電体層間に長方形状の内部電極を介装し
    て形成されたコンデンサー部を有するチップ本体と、こ
    のチップ本体の表面に形成され、かつ、外部の電気回路
    基板の配線と接続する一対の基板用電極とからなるセラ
    ミックコンデンサにおいて、前記基板用電極を前記チッ
    プ本体の底面のみに形成し、かつ、前記内部電極の長辺
    と前記基板用電極とをVIAホールを介して接続すると
    ともに、前記内部電極の長辺の長さをa、前記内部電極
    の短辺の長さをbとした時、b/a=0.5以下とした
    ことを特徴とするセラミックコンデンサ。
  2. 【請求項2】基板用電極の厚さを20μm以下としたこ
    とを特徴とする請求項1記載のセラミックコンデンサ。
JP1992045401U 1992-06-30 1992-06-30 セラミックコンデンサ Expired - Lifetime JP2604203Y2 (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11176691A (ja) * 1997-12-16 1999-07-02 Taiyo Yuden Co Ltd 積層チップ電子部品の製造方法

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