JPH0673512A - 金属系材料の熱処理装置 - Google Patents
金属系材料の熱処理装置Info
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- JPH0673512A JPH0673512A JP4004227A JP422792A JPH0673512A JP H0673512 A JPH0673512 A JP H0673512A JP 4004227 A JP4004227 A JP 4004227A JP 422792 A JP422792 A JP 422792A JP H0673512 A JPH0673512 A JP H0673512A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 金属系材料に水素を吸蔵させた後に水素を放
出させる熱処理に際し、水素の繰り返し使用を可能にす
ることを目的とする。 【構成】 金属系材料に水素を吸蔵させる水素吸蔵処
理、および、前記水素を吸蔵した金属系材料から水素を
放出させる水素放出処理を行う複数の熱処理炉と、これ
らの熱処理炉を相互に連通させて、各熱処理炉間に水素
流通用の閉回路を形成する連通路と、この連通路の途中
に設けられて、前記熱処理炉が水素吸蔵処理を行う際
に、その内部を昇圧するとともに水素を供給し、かつ、
これらの熱処理炉が水素放出処理を行う際にその内部を
減圧するとともに水素を排出する圧力制御手段とを備え
ていることを特徴とする。
出させる熱処理に際し、水素の繰り返し使用を可能にす
ることを目的とする。 【構成】 金属系材料に水素を吸蔵させる水素吸蔵処
理、および、前記水素を吸蔵した金属系材料から水素を
放出させる水素放出処理を行う複数の熱処理炉と、これ
らの熱処理炉を相互に連通させて、各熱処理炉間に水素
流通用の閉回路を形成する連通路と、この連通路の途中
に設けられて、前記熱処理炉が水素吸蔵処理を行う際
に、その内部を昇圧するとともに水素を供給し、かつ、
これらの熱処理炉が水素放出処理を行う際にその内部を
減圧するとともに水素を排出する圧力制御手段とを備え
ていることを特徴とする。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、金属系材料の熱処理装
置に係わり、特に、金属系材料への水素の吸蔵およびこ
の水素を吸蔵した金属系材料からの水素の放出を行うこ
とにより、前記金属系材料の組織を変更して物性調整を
行い、あるいは、金属系材料の破砕を行うようにした熱
処理装置に関するものである。
置に係わり、特に、金属系材料への水素の吸蔵およびこ
の水素を吸蔵した金属系材料からの水素の放出を行うこ
とにより、前記金属系材料の組織を変更して物性調整を
行い、あるいは、金属系材料の破砕を行うようにした熱
処理装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、例えば金属系材料の物性調整等
(例えば、希土類(R)ー鉄(Fe)ーボロン(B)系
合金の結晶粒の微細化による磁気特性の向上、あるい
は、チタン(Ti)系合金の組織の粗大化による疲労強
度や耐クリープ特性の改善)を行う一方法として、前述
したように、ある処理温度下で、前記金属系材料に水素
を吸蔵させたのちに再度その水素を放出させることによ
り、金属組織を変更することが行われており、その熱処
理装置として従来においては、図5に示す構造のものが
検討されている。
(例えば、希土類(R)ー鉄(Fe)ーボロン(B)系
合金の結晶粒の微細化による磁気特性の向上、あるい
は、チタン(Ti)系合金の組織の粗大化による疲労強
度や耐クリープ特性の改善)を行う一方法として、前述
したように、ある処理温度下で、前記金属系材料に水素
を吸蔵させたのちに再度その水素を放出させることによ
り、金属組織を変更することが行われており、その熱処
理装置として従来においては、図5に示す構造のものが
検討されている。
【0003】この熱処理装置1は、金属系材料Wが搬入
されるとともに、この金属系材料Wを所定の処理温度に
加熱する熱処理炉2と、この熱処理炉2に給気路3を介
して接続され、反応用の水素を貯蔵する水素ボンベ4
と、前記熱処理炉2に接続され、この熱処理炉2内の気
体を吸引して排気する排気手段5と、この排気手段5に
よって排気された気体を焼却処理して装置外へ放出する
排気処理手段6とを備えた構成となっており、前記水素
ボンベ4においては、水素を冷却して液化処理すること
により貯蔵の容積効率を高めるようにしている。
されるとともに、この金属系材料Wを所定の処理温度に
加熱する熱処理炉2と、この熱処理炉2に給気路3を介
して接続され、反応用の水素を貯蔵する水素ボンベ4
と、前記熱処理炉2に接続され、この熱処理炉2内の気
体を吸引して排気する排気手段5と、この排気手段5に
よって排気された気体を焼却処理して装置外へ放出する
排気処理手段6とを備えた構成となっており、前記水素
ボンベ4においては、水素を冷却して液化処理すること
により貯蔵の容積効率を高めるようにしている。
【0004】そして、この熱処理装置1においては、金
属系材料Wを前記熱処理炉2内に搬入したのちに、前記
水素ボンベ4から熱処理炉2内に水素を供給するととも
に、この熱処理炉2内の温度を500℃〜1000℃に
保持することにより、前記金属系材料Wを水素ガス雰囲
気中において所定温度に加熱して水素を吸蔵させ、次い
で、前記熱処理炉2内の温度を前記温度に保持しつつ、
熱処理炉2内を真空状態まで減圧することにより、水素
を吸蔵した金属系材料Wから水素を放出させるようにし
ている。
属系材料Wを前記熱処理炉2内に搬入したのちに、前記
水素ボンベ4から熱処理炉2内に水素を供給するととも
に、この熱処理炉2内の温度を500℃〜1000℃に
保持することにより、前記金属系材料Wを水素ガス雰囲
気中において所定温度に加熱して水素を吸蔵させ、次い
で、前記熱処理炉2内の温度を前記温度に保持しつつ、
熱処理炉2内を真空状態まで減圧することにより、水素
を吸蔵した金属系材料Wから水素を放出させるようにし
ている。
【0005】また、前記金属系材料Wから放出された水
素は、排気手段5によって熱処理炉2から吸引され、そ
の後段の排気処理手段6において焼却処理されたのちに
装置外へ放出されるようになっている。
素は、排気手段5によって熱処理炉2から吸引され、そ
の後段の排気処理手段6において焼却処理されたのちに
装置外へ放出されるようになっている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】ところで、前述の従来
の技術においては、金属系材料Wの熱処理に用いられる
水素は、水素ボンベ4から熱処理炉2へ供給されたのち
に排気処理手段6を経て大気へ放出されるものであるか
ら、一つの処理工程毎に新たな水素を供給しなければな
らず、この結果、水素の消費量が膨大なものとなってし
まい、加えて、この水素を貯蔵するために、大容量の水
素ボンベ4が必要となるといった問題点を有している。
の技術においては、金属系材料Wの熱処理に用いられる
水素は、水素ボンベ4から熱処理炉2へ供給されたのち
に排気処理手段6を経て大気へ放出されるものであるか
ら、一つの処理工程毎に新たな水素を供給しなければな
らず、この結果、水素の消費量が膨大なものとなってし
まい、加えて、この水素を貯蔵するために、大容量の水
素ボンベ4が必要となるといった問題点を有している。
【0007】一方、このような問題点への対処方法とし
て、例えば、熱処理炉2から排出される水素を供給側の
水素ボンベ4へ戻すことが考えられる。
て、例えば、熱処理炉2から排出される水素を供給側の
水素ボンベ4へ戻すことが考えられる。
【0008】しかしながら、このような方法において
も、一旦気化した水素を液体に戻すための液化処理施設
が必要となり、また、冷却した水素を使用に当たって再
度加熱しなければならず、これによって熱処理装置が全
体として大型化するとともに、処理施設の建設コストの
高騰を招いてしまい、有効な解決手段とはなり得ていな
い。
も、一旦気化した水素を液体に戻すための液化処理施設
が必要となり、また、冷却した水素を使用に当たって再
度加熱しなければならず、これによって熱処理装置が全
体として大型化するとともに、処理施設の建設コストの
高騰を招いてしまい、有効な解決手段とはなり得ていな
い。
【0009】そして、特に、生産性向上のために、前記
熱処理を複数の熱処理炉2を用いて行う場合には、水素
の供給系を各熱処理炉毎に設けなければならないことか
ら、水素の使用量がさらに増え、これに伴い、設備の一
層の大型化を招いてしまう。
熱処理を複数の熱処理炉2を用いて行う場合には、水素
の供給系を各熱処理炉毎に設けなければならないことか
ら、水素の使用量がさらに増え、これに伴い、設備の一
層の大型化を招いてしまう。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明は、前述した従来
の技術における問題点を有効に解消し得る金属系材料の
熱処理装置を提供せんとするもので、特に、金属系材料
に水素を吸蔵させる水素吸蔵処理、および、前記水素を
吸蔵した金属系材料から水素を放出させる水素放出処理
を行う複数の熱処理炉と、これらの熱処理炉を相互に連
通させて、各熱処理炉間に水素流通用の閉回路を形成す
る連通路と、この連通路の途中に設けられて、前記熱処
理炉が水素吸蔵処理を行う際に、その内部を昇圧すると
ともに水素を供給し、かつ、これらの熱処理炉が水素放
出処理を行う際にその内部を減圧するとともに水素を排
出する圧力制御手段とを備えていることを特徴とし、前
記圧力制御手段が、真空排気手段であること、また、圧
力制御手段が、真空排気手段とその排気側に設けられた
圧力調整手段とによって構成されていることを特徴とす
る。
の技術における問題点を有効に解消し得る金属系材料の
熱処理装置を提供せんとするもので、特に、金属系材料
に水素を吸蔵させる水素吸蔵処理、および、前記水素を
吸蔵した金属系材料から水素を放出させる水素放出処理
を行う複数の熱処理炉と、これらの熱処理炉を相互に連
通させて、各熱処理炉間に水素流通用の閉回路を形成す
る連通路と、この連通路の途中に設けられて、前記熱処
理炉が水素吸蔵処理を行う際に、その内部を昇圧すると
ともに水素を供給し、かつ、これらの熱処理炉が水素放
出処理を行う際にその内部を減圧するとともに水素を排
出する圧力制御手段とを備えていることを特徴とし、前
記圧力制御手段が、真空排気手段であること、また、圧
力制御手段が、真空排気手段とその排気側に設けられた
圧力調整手段とによって構成されていることを特徴とす
る。
【0011】
【作用】本発明の金属系材料の熱処理装置によれば、一
つの熱処理炉が金属系材料へ水素を吸蔵させる工程にあ
る場合には、この熱処理炉が所定温度に加熱されたのち
に、その内部に圧力制御手段によって水素が供給され、
かつ、内部圧力が所定圧力に昇圧され、これによって、
熱処理炉内において金属系材料の水素吸蔵現象が生じ、
金属系材料の水素吸蔵処理がなされる。
つの熱処理炉が金属系材料へ水素を吸蔵させる工程にあ
る場合には、この熱処理炉が所定温度に加熱されたのち
に、その内部に圧力制御手段によって水素が供給され、
かつ、内部圧力が所定圧力に昇圧され、これによって、
熱処理炉内において金属系材料の水素吸蔵現象が生じ、
金属系材料の水素吸蔵処理がなされる。
【0012】そして、一つの熱処理炉における水素吸蔵
処理が終了して、この熱処理炉における処理が水素放出
処理に切り換えられると、圧力制御手段によってこの熱
処理炉内の水素が吸引排出され、かつ、この水素の排出
に伴い熱処理炉内が減圧され、この結果、熱処理炉内に
おいて、金属系材料からの水素の放出現象が生じ、この
金属系材料の水素放出処理が行われる。
処理が終了して、この熱処理炉における処理が水素放出
処理に切り換えられると、圧力制御手段によってこの熱
処理炉内の水素が吸引排出され、かつ、この水素の排出
に伴い熱処理炉内が減圧され、この結果、熱処理炉内に
おいて、金属系材料からの水素の放出現象が生じ、この
金属系材料の水素放出処理が行われる。
【0013】一方、このように一つの熱処理炉において
水素放出処理が行われている間に、この熱処理炉に連通
路を介して接続されている他の熱処理炉においては、そ
の内部を所定温度に加熱して水素吸蔵処理を行うための
準備が平行して行われており、一つの熱処理炉における
水素放出処理が完了した時点であるいは平行して、圧力
制御手段によって一つの熱処理炉から吸引された水素が
他の熱処理炉へ送り込まれる。
水素放出処理が行われている間に、この熱処理炉に連通
路を介して接続されている他の熱処理炉においては、そ
の内部を所定温度に加熱して水素吸蔵処理を行うための
準備が平行して行われており、一つの熱処理炉における
水素放出処理が完了した時点であるいは平行して、圧力
制御手段によって一つの熱処理炉から吸引された水素が
他の熱処理炉へ送り込まれる。
【0014】これによって、他の熱処理炉に対する内部
圧力の昇圧操作と水素の充填操作とが行われて、他の熱
処理炉において水素吸蔵処理が行われる。
圧力の昇圧操作と水素の充填操作とが行われて、他の熱
処理炉において水素吸蔵処理が行われる。
【0015】このように、本発明においては、金属系材
料の熱処理に用いられる水素が各熱処理炉間において授
受され、装置外への放出が抑制され、また、1基に必要
な量の水素によって少なくとも2基以上の熱処理炉にお
ける熱処理が可能となり、水素の使用量の軽減ならびに
装置の大型化の抑制が可能となる。
料の熱処理に用いられる水素が各熱処理炉間において授
受され、装置外への放出が抑制され、また、1基に必要
な量の水素によって少なくとも2基以上の熱処理炉にお
ける熱処理が可能となり、水素の使用量の軽減ならびに
装置の大型化の抑制が可能となる。
【0016】
【実施例】以下、本発明の第1実施例について、図1を
参照して説明すれば、本実施例に示す金属系材料の熱処
理装置10は、金属系材料Wに水素を吸蔵させる水素吸
蔵処理、および、前記水素を吸蔵した金属系材料Wから
水素を放出させる水素放出処理を行う複数(本実施例に
おいては2基)の熱処理炉A・Bと、これらの熱処理炉
A・Bを相互に連通させて、各熱処理炉A・B間に水素
流通用の閉回路を形成する連通路11と、この連通路1
1の途中に設けられて、前記熱処理炉A(B)が水素吸
蔵処理を行う際に、その内部を昇圧するとともに水素を
供給し、かつ、これらの熱処理炉A・Bが水素放出処理
を行う際にその内部を減圧するとともに水素を排出する
圧力制御手段12とを備えた概略構成となっている。
参照して説明すれば、本実施例に示す金属系材料の熱処
理装置10は、金属系材料Wに水素を吸蔵させる水素吸
蔵処理、および、前記水素を吸蔵した金属系材料Wから
水素を放出させる水素放出処理を行う複数(本実施例に
おいては2基)の熱処理炉A・Bと、これらの熱処理炉
A・Bを相互に連通させて、各熱処理炉A・B間に水素
流通用の閉回路を形成する連通路11と、この連通路1
1の途中に設けられて、前記熱処理炉A(B)が水素吸
蔵処理を行う際に、その内部を昇圧するとともに水素を
供給し、かつ、これらの熱処理炉A・Bが水素放出処理
を行う際にその内部を減圧するとともに水素を排出する
圧力制御手段12とを備えた概略構成となっている。
【0017】次いで、これらの詳細について説明すれ
ば、前記各熱処理炉A・Bは、本実施例においては、金
属系材料Wを熱処理に先立って加熱する予熱室13と、
この予熱室13に連設されて、前記金属系材料Wの水素
吸蔵処理および水素放出処理を行う熱処理室14と、こ
の熱処理室14に連設されて、この熱処理室14から搬
出された熱処理後の金属系材料Wの冷却を行う冷却室1
5とを備えた構成となっており、各予熱室13、熱処理
室14、および、冷却室15は相互に連通ならびに遮蔽
可能となされている。また、前記各熱処理炉A・Bは、
グラファイト、タングステンあるいはモリブデン等から
なるヒータを真空容器内に備えた内熱式や、カンタルあ
るいはシリコニット等のヒータを真空容器外に備えた外
熱式が用いられる。
ば、前記各熱処理炉A・Bは、本実施例においては、金
属系材料Wを熱処理に先立って加熱する予熱室13と、
この予熱室13に連設されて、前記金属系材料Wの水素
吸蔵処理および水素放出処理を行う熱処理室14と、こ
の熱処理室14に連設されて、この熱処理室14から搬
出された熱処理後の金属系材料Wの冷却を行う冷却室1
5とを備えた構成となっており、各予熱室13、熱処理
室14、および、冷却室15は相互に連通ならびに遮蔽
可能となされている。また、前記各熱処理炉A・Bは、
グラファイト、タングステンあるいはモリブデン等から
なるヒータを真空容器内に備えた内熱式や、カンタルあ
るいはシリコニット等のヒータを真空容器外に備えた外
熱式が用いられる。
【0018】前記連通路11は、前記各熱処理炉A・B
の熱処理室14を連通するように設けられており、その
途中に、前記圧力制御手段12が設けられ、前記両熱処
理室14間を気密に連通させて、これらの間に外気と遮
断された水素の閉回路を形成するようになっている。
の熱処理室14を連通するように設けられており、その
途中に、前記圧力制御手段12が設けられ、前記両熱処
理室14間を気密に連通させて、これらの間に外気と遮
断された水素の閉回路を形成するようになっている。
【0019】前記圧力制御手段12は、その容積を増減
させる構成でかつ装置外部との気体の交換のない構成の
もの、例えば、シリンダー等が用いられており、前記連
通路11の、前記圧力制御手段12の両側のそれぞれに
設けられた開閉弁16・17の作用により、前記両熱処
理炉A・Bの熱処理室14の一つへ選択的に連通させら
れ、連通させられたこれらの熱処理室14の容積を拡大
することにより、各熱処理室14を減圧するとともにそ
の内部の水素を取り込み、また、容積を減少させること
により、各熱処理室14内を昇圧するとともにその内部
に水素を送り込むようになっている。
させる構成でかつ装置外部との気体の交換のない構成の
もの、例えば、シリンダー等が用いられており、前記連
通路11の、前記圧力制御手段12の両側のそれぞれに
設けられた開閉弁16・17の作用により、前記両熱処
理炉A・Bの熱処理室14の一つへ選択的に連通させら
れ、連通させられたこれらの熱処理室14の容積を拡大
することにより、各熱処理室14を減圧するとともにそ
の内部の水素を取り込み、また、容積を減少させること
により、各熱処理室14内を昇圧するとともにその内部
に水素を送り込むようになっている。
【0020】そして、前記各熱処理室14の内部温度や
内部圧力の制御、および、前記圧力制御手段12や各開
閉弁16・17の作動制御は、図示しないマイクロコン
ピュータ等の制御手段によって、予め設定された温度や
圧力ならびに手順によって制御されるようになってい
る。
内部圧力の制御、および、前記圧力制御手段12や各開
閉弁16・17の作動制御は、図示しないマイクロコン
ピュータ等の制御手段によって、予め設定された温度や
圧力ならびに手順によって制御されるようになってい
る。
【0021】一方、本実施例において熱処理の対象とさ
れる金属系材料Wの組成は例えば、以下のとおりであ
る。
れる金属系材料Wの組成は例えば、以下のとおりであ
る。
【0022】その一つは、RーFeーB系合金で次のよ
うな組成を有する。 R :10〜20at% B : 3〜10at% Fe:残部および不可避不純物 また、必要に応じて次の組成が添加される。 Co:0.1〜50at% M :0.001〜5.0at% 但し、MはAl、Si、Ga、Ti、V、Cr、Zr、
Nb、Mo、Hf、Ta、W、C、Nの内の1種又は2
種以上である。
うな組成を有する。 R :10〜20at% B : 3〜10at% Fe:残部および不可避不純物 また、必要に応じて次の組成が添加される。 Co:0.1〜50at% M :0.001〜5.0at% 但し、MはAl、Si、Ga、Ti、V、Cr、Zr、
Nb、Mo、Hf、Ta、W、C、Nの内の1種又は2
種以上である。
【0023】また、他の一つは、Ti系合金の構造材で
あり、例えば次の合金組成が挙げられる。
あり、例えば次の合金組成が挙げられる。
【0024】1)Al:6.5wt%、Sn:1.4w
t%、Zr:1wt%、Mo:2.9wt%、Cr:
2.1wt%、Fe:1.7wt%、および、残部がT
iである合金 2)Al:6wt%、V:4wt%、および、残部がT
iである合金 3)Al:6wt%、Sn:2wt%、Zr:4wt
%、Mo:2wt%、および、残部がTiである合金 4)V:10wt%、Fe:2wt%、Al:3wt
%、および、残部がTiである合金
t%、Zr:1wt%、Mo:2.9wt%、Cr:
2.1wt%、Fe:1.7wt%、および、残部がT
iである合金 2)Al:6wt%、V:4wt%、および、残部がT
iである合金 3)Al:6wt%、Sn:2wt%、Zr:4wt
%、Mo:2wt%、および、残部がTiである合金 4)V:10wt%、Fe:2wt%、Al:3wt
%、および、残部がTiである合金
【0025】他に、ZrーCo系、TiーFe系、(T
i、Zr)ーNi系、希土類(R)ーNi系合金等の水
素吸蔵合金の活性化処理や粉末化処理としても使用でき
る。
i、Zr)ーNi系、希土類(R)ーNi系合金等の水
素吸蔵合金の活性化処理や粉末化処理としても使用でき
る。
【0026】そして、前述のように構成された本実施例
の熱処理装置10において金属系材料Wの熱処理を行う
場合の具体例について、前記2つの組成のそれぞれにつ
いて行った2つの実験例に基づいて説明すれば、以下の
とおりである。
の熱処理装置10において金属系材料Wの熱処理を行う
場合の具体例について、前記2つの組成のそれぞれにつ
いて行った2つの実験例に基づいて説明すれば、以下の
とおりである。
【0027】(実験例1)まず、熱処理に用いられる金
属系材料Wとして、前者のRーFeーB系合金を用いた
実施例について説明する。
属系材料Wとして、前者のRーFeーB系合金を用いた
実施例について説明する。
【0028】表1の1〜4に示す組成のRーFeーB系
合金を、プラズマ・アーク溶解炉にて溶解したのちに鋳
造したのちに、それぞれAr雰囲気中で1130℃、2
0時間の条件で均質化処理を行う。この金属系材料W
は、粒径120μm程度の粗大な強磁性相を有する。
合金を、プラズマ・アーク溶解炉にて溶解したのちに鋳
造したのちに、それぞれAr雰囲気中で1130℃、2
0時間の条件で均質化処理を行う。この金属系材料W
は、粒径120μm程度の粗大な強磁性相を有する。
【0029】
【表1】
【0030】このような金属系材料Wが一方の外熱式の
カンタル線ヒータを備えた熱処理炉Aの予熱室13にお
いて真空状態で予備加熱されたのちに真空状態で熱処理
室14内に設置されると、予熱室13と熱処理室14と
が気密に遮蔽され、熱処理室14の内部加熱が開始され
る。
カンタル線ヒータを備えた熱処理炉Aの予熱室13にお
いて真空状態で予備加熱されたのちに真空状態で熱処理
室14内に設置されると、予熱室13と熱処理室14と
が気密に遮蔽され、熱処理室14の内部加熱が開始され
る。
【0031】一方、前記熱処理室14の内部温度は、そ
れぞれに設けられている温度センサーによって検出され
て制御手段へフィードバックされており、このフィード
バック信号に基づき、熱処理室14の内部温度が所定の
温度(約300℃)に保持される。
れぞれに設けられている温度センサーによって検出され
て制御手段へフィードバックされており、このフィード
バック信号に基づき、熱処理室14の内部温度が所定の
温度(約300℃)に保持される。
【0032】そして、稼働初期においては、別途設けら
れている図示しない水素貯蔵手段等から、所定量の水素
が前記一方の熱処理炉Aの熱処理室14へ、所定圧力
(約1atm以下)の下に送り込まれる。ここで、熱処
理炉A熱処理室14の内部圧力は、圧力センサーによっ
て検出されて制御手段へフィードバックされ、このフィ
ードバック信号に基づいて前述の圧力に保持される。
れている図示しない水素貯蔵手段等から、所定量の水素
が前記一方の熱処理炉Aの熱処理室14へ、所定圧力
(約1atm以下)の下に送り込まれる。ここで、熱処
理炉A熱処理室14の内部圧力は、圧力センサーによっ
て検出されて制御手段へフィードバックされ、このフィ
ードバック信号に基づいて前述の圧力に保持される。
【0033】このような水素の供給が完了した後に、熱
処理炉A内の温度が制御手段によって昇温し約830℃
に調整されて、前記金属系材料Wが前記温度下において
約3時間保持され、これによって、金属系材料Wに水素
が吸蔵される。
処理炉A内の温度が制御手段によって昇温し約830℃
に調整されて、前記金属系材料Wが前記温度下において
約3時間保持され、これによって、金属系材料Wに水素
が吸蔵される。
【0034】次いで、前記熱処理炉A内の温度を830
℃に保持した状態で、制御装置から一方の開閉弁16へ
駆動信号が出力されて、一方の熱処理炉Aの熱処理室1
4とが連通させられるとともに、圧力制御手段12へ駆
動信号が出力されて、熱処理炉A内の気体を吸引するよ
うに作動させられる。
℃に保持した状態で、制御装置から一方の開閉弁16へ
駆動信号が出力されて、一方の熱処理炉Aの熱処理室1
4とが連通させられるとともに、圧力制御手段12へ駆
動信号が出力されて、熱処理炉A内の気体を吸引するよ
うに作動させられる。
【0035】これによって、熱処理炉A内の圧力が減少
させられるとともに、その内部の水素が圧力制御手段1
2に吸引されることにより、前記熱処理炉Aにおいて、
金属系材料Wに吸蔵されていた水素が放出されて前記金
属系材料Wの脱水素が行われ、さらに、このよう脱水素
処理が行われたのちに前記開閉弁16が閉塞されて、熱
処理炉Aの熱処理室14と圧力制御手段12との連通が
遮断される。
させられるとともに、その内部の水素が圧力制御手段1
2に吸引されることにより、前記熱処理炉Aにおいて、
金属系材料Wに吸蔵されていた水素が放出されて前記金
属系材料Wの脱水素が行われ、さらに、このよう脱水素
処理が行われたのちに前記開閉弁16が閉塞されて、熱
処理炉Aの熱処理室14と圧力制御手段12との連通が
遮断される。
【0036】そして、この時の前記熱処理炉A内の圧力
は、圧力センサーからの検出信号と、この検出信号に基
づく制御手段による圧力制御手段12の作動量の制御に
より、1×10-1Torr以下に保持される。
は、圧力センサーからの検出信号と、この検出信号に基
づく制御手段による圧力制御手段12の作動量の制御に
より、1×10-1Torr以下に保持される。
【0037】ちなみにこの処理を行った後の前記各組成
のNdーFeーB系合金は、400μm以下に粉砕さ
れ、かつ、粉末内部に0.2〜0.4μmのNd2Fe
14Bの再結晶粒からなる組織を有するとともに、所望
の磁気特性を有することが確認された。
のNdーFeーB系合金は、400μm以下に粉砕さ
れ、かつ、粉末内部に0.2〜0.4μmのNd2Fe
14Bの再結晶粒からなる組織を有するとともに、所望
の磁気特性を有することが確認された。
【0038】さらに、熱処理炉Aにおける金属系材料W
の水素放出処理と平行して、他方の熱処理炉Bにおいて
は、新たな金属系材料Wが予熱処理を施されたのちに熱
処理室14へ搬入され、この熱処理室14において所定
温度に加熱されることにより、水素吸蔵処理が可能な状
態となされている。
の水素放出処理と平行して、他方の熱処理炉Bにおいて
は、新たな金属系材料Wが予熱処理を施されたのちに熱
処理室14へ搬入され、この熱処理室14において所定
温度に加熱されることにより、水素吸蔵処理が可能な状
態となされている。
【0039】これより、制御手段により他方の開閉弁1
7が開放動作させられるとともに、圧力制御手段12が
作動させられることにより、この圧力制御手段12に吸
引されていた水素が前述した所定圧力の下に、他方の熱
処理炉Bの熱処理室14へ送り込まれ、この他方の熱処
理炉Bにおける水素吸蔵処理が行われ、また、この水素
吸蔵処理が完了したのちにおいては、前記圧力制御手段
12が逆方向に作動させられて、前記他方の熱処理炉B
に送り込まれていた水素が吸引されることにより、この
熱処理炉Bでの水素放出処理が行われる。
7が開放動作させられるとともに、圧力制御手段12が
作動させられることにより、この圧力制御手段12に吸
引されていた水素が前述した所定圧力の下に、他方の熱
処理炉Bの熱処理室14へ送り込まれ、この他方の熱処
理炉Bにおける水素吸蔵処理が行われ、また、この水素
吸蔵処理が完了したのちにおいては、前記圧力制御手段
12が逆方向に作動させられて、前記他方の熱処理炉B
に送り込まれていた水素が吸引されることにより、この
熱処理炉Bでの水素放出処理が行われる。
【0040】このような他方の熱処理炉Bにおける金属
系材料Wへの熱処理が完了したのちに他方の開閉弁17
が閉じられることにより、この他方の熱処理炉Bと圧力
制御手段12との連通が遮断されて、他方の熱処理炉B
での金属系材料Wへの熱処理が完了する。
系材料Wへの熱処理が完了したのちに他方の開閉弁17
が閉じられることにより、この他方の熱処理炉Bと圧力
制御手段12との連通が遮断されて、他方の熱処理炉B
での金属系材料Wへの熱処理が完了する。
【0041】このように、本実施例の熱処理装置10に
おいては、金属系材料Wの熱処理に用いられる水素が、
各熱処理炉A・Bとの間で圧力調整手段12を介して授
受されて、水素の装置外への放出が抑制されるから、水
素の使用量が大幅に削減されるとともに、排気処理系の
諸設備が不要であるから、装置の大型化ないしは設備費
用の高騰を抑制することができ、しかも、稼働初期に充
填した1基分の水素量によって2基の熱処理炉A・Bが
稼働させられるから、この点からも装置の大型化が抑制
される。
おいては、金属系材料Wの熱処理に用いられる水素が、
各熱処理炉A・Bとの間で圧力調整手段12を介して授
受されて、水素の装置外への放出が抑制されるから、水
素の使用量が大幅に削減されるとともに、排気処理系の
諸設備が不要であるから、装置の大型化ないしは設備費
用の高騰を抑制することができ、しかも、稼働初期に充
填した1基分の水素量によって2基の熱処理炉A・Bが
稼働させられるから、この点からも装置の大型化が抑制
される。
【0042】そして、各熱処理炉A・Bにおける金属系
材料Wの出し入れ、例えば、予熱室13および冷却室1
5と熱処理室14間の出し入れや、熱処理室14の真空
排気処理の際に、熱処理に用いられた水素が外部へ漏洩
し、熱処理の繰り返しによって装置内の水素量が減少す
ることが考えられるが、その減少量は極めて少なく、仮
に、減少量が熱処理に必要とされる量以下になった場合
においても、その減少量分を補給するだけで対応可能で
あり、水素貯蔵設備も少容量のものですむ。
材料Wの出し入れ、例えば、予熱室13および冷却室1
5と熱処理室14間の出し入れや、熱処理室14の真空
排気処理の際に、熱処理に用いられた水素が外部へ漏洩
し、熱処理の繰り返しによって装置内の水素量が減少す
ることが考えられるが、その減少量は極めて少なく、仮
に、減少量が熱処理に必要とされる量以下になった場合
においても、その減少量分を補給するだけで対応可能で
あり、水素貯蔵設備も少容量のものですむ。
【0043】ここで、本実施例の熱処理装置10におい
て、初期の水素充填量を35Nm3とし、前記各組成の
金属系材料Wに対してそれぞれ10回の処理を行った後
の水素の減少量を測定した結果を表2の左欄に示す。
て、初期の水素充填量を35Nm3とし、前記各組成の
金属系材料Wに対してそれぞれ10回の処理を行った後
の水素の減少量を測定した結果を表2の左欄に示す。
【0044】
【表2】
【0045】そして、前記表2の右欄は、比較のため
に、同様の前記各金属系材料Wについて、従来の装置に
よって熱処理を行った際の水素の残存量を示すものであ
る。
に、同様の前記各金属系材料Wについて、従来の装置に
よって熱処理を行った際の水素の残存量を示すものであ
る。
【0046】この結果からも明らかなように、本実験例
によれば、殆ど水素の減少が見られず、極めて大きな効
果が得られる。
によれば、殆ど水素の減少が見られず、極めて大きな効
果が得られる。
【0047】(実験例2)次いで、金属系材料Wとして
後者のTi系合金を用いた実験例について説明する。
後者のTi系合金を用いた実験例について説明する。
【0048】まず、表3の1.2で示す組成を有し、平
均粒径120μmのTi系合金粉末のそれぞれについ
て、温度750℃、2000atm、および、3時間保
持の条件下で熱間静水圧プレスを行い、所定形状の金属
系材料Wとしての構造部材を作成した。
均粒径120μmのTi系合金粉末のそれぞれについ
て、温度750℃、2000atm、および、3時間保
持の条件下で熱間静水圧プレスを行い、所定形状の金属
系材料Wとしての構造部材を作成した。
【0049】
【表3】
【0050】この金属系材料Wを内熱式のグラファイト
・ヒーター備えた熱処理炉A(B)内に設置し、熱処理
装置10の各構成要素を制御手段によって作動させるこ
とにより、前記実施例と同様にして850℃、1atm
の雰囲気下で前記金属系材料Wに水素を吸蔵させ、その
後に、850℃、1×10-4Torrの条件下で前記金
属系材料Wの脱水素処理を行った。
・ヒーター備えた熱処理炉A(B)内に設置し、熱処理
装置10の各構成要素を制御手段によって作動させるこ
とにより、前記実施例と同様にして850℃、1atm
の雰囲気下で前記金属系材料Wに水素を吸蔵させ、その
後に、850℃、1×10-4Torrの条件下で前記金
属系材料Wの脱水素処理を行った。
【0051】このような熱処理によって、前記粗大なα
+β相を有するTi系合金が得られ、このような組成の
Ti系合金は、高サイクル疲労強度や耐クリープ特性に
優れている。そして、この場合にも、熱処理に用いられ
る水素は、各熱処理炉A・Bとの間で、前記圧力制御手
段12を介して授受されることにより、装置外への水素
の漏洩が抑制される。
+β相を有するTi系合金が得られ、このような組成の
Ti系合金は、高サイクル疲労強度や耐クリープ特性に
優れている。そして、この場合にも、熱処理に用いられ
る水素は、各熱処理炉A・Bとの間で、前記圧力制御手
段12を介して授受されることにより、装置外への水素
の漏洩が抑制される。
【0052】ここで、初期状態の水素充填量を35Nm
3とした本実施例の装置によって、前記処理を各Ti系
合金に対してそれぞれ20回行った際の水素の減少量を
測定した結果を表4の左欄に示し、また、表4の右欄に
は、比較のために、本実施例の各Ti系合金に対して従
来の装置を用いて熱処理を行った場合における水素の減
少量を示した。
3とした本実施例の装置によって、前記処理を各Ti系
合金に対してそれぞれ20回行った際の水素の減少量を
測定した結果を表4の左欄に示し、また、表4の右欄に
は、比較のために、本実施例の各Ti系合金に対して従
来の装置を用いて熱処理を行った場合における水素の減
少量を示した。
【0053】
【表4】
【0054】この結果からも明らかなように、本実験例
においても水素の減少はなく、従来装置に比して、大幅
な改善がなされている。
においても水素の減少はなく、従来装置に比して、大幅
な改善がなされている。
【0055】一方、図2は本発明の第2実施例を示すも
ので、本実施例の熱処理装置20は、前述した実施例に
おいて示した2基の熱処理炉A・Bに、さらにもう1基
の熱処理炉Cを加えて構成したものである。
ので、本実施例の熱処理装置20は、前述した実施例に
おいて示した2基の熱処理炉A・Bに、さらにもう1基
の熱処理炉Cを加えて構成したものである。
【0056】そして、本実施例においては、各熱処理炉
A〜Cの熱処理室14が複数の連通路11(11a・1
1b・11c)によって直列に連結されており、それぞ
れの連通路11a・11b・11cの途中に、前記実施
例と同様の圧力制御手段12(12a・12b・12
c)と一対の開閉弁16(16a・16b・16c)・
17(17a・17b・17c)が設けられている。
A〜Cの熱処理室14が複数の連通路11(11a・1
1b・11c)によって直列に連結されており、それぞ
れの連通路11a・11b・11cの途中に、前記実施
例と同様の圧力制御手段12(12a・12b・12
c)と一対の開閉弁16(16a・16b・16c)・
17(17a・17b・17c)が設けられている。
【0057】このように構成された熱処理装置20は、
各圧力制御手段12a・12b・12cおよび開閉弁1
6(16a・16b・16c)・17(17a・17b
・17c)の作動を順次制御することにより、水素を熱
処理炉Aから熱処理炉Bへ送り込み、次いで、この熱処
理炉Bから熱処理炉Cへ送り込み、さらに、この熱処理
炉Bから前記熱処理炉Cへと循環させることにより、各
熱処理炉A・B・Cにおいて、順次、金属系材料Wへの
水素吸蔵処理ならびに水素放出処理を行わせるようにな
っている。
各圧力制御手段12a・12b・12cおよび開閉弁1
6(16a・16b・16c)・17(17a・17b
・17c)の作動を順次制御することにより、水素を熱
処理炉Aから熱処理炉Bへ送り込み、次いで、この熱処
理炉Bから熱処理炉Cへ送り込み、さらに、この熱処理
炉Bから前記熱処理炉Cへと循環させることにより、各
熱処理炉A・B・Cにおいて、順次、金属系材料Wへの
水素吸蔵処理ならびに水素放出処理を行わせるようにな
っている。
【0058】このような本実施例における熱処理装置2
0においても、熱処理に用いられる水素が、各熱処理炉
A・B・C間を循環させられるのみで装置外への漏洩が
抑制されるから、水素の使用量が大幅に削減されるとと
もに、各熱処理炉A・B・Cの処理サイクル(搬入処
理、予熱処理、水素吸蔵処理、水素放出処理、冷却処
理、および、搬出処理)が時間的に重なり合わなけれ
ば、1基分の水素量で3基の熱処理炉A・B・Cの稼働
が可能となり、3基の熱処理炉A・B・Cを並列的に独
立して稼働させる場合に比して、装置の小型化が可能と
なる。
0においても、熱処理に用いられる水素が、各熱処理炉
A・B・C間を循環させられるのみで装置外への漏洩が
抑制されるから、水素の使用量が大幅に削減されるとと
もに、各熱処理炉A・B・Cの処理サイクル(搬入処
理、予熱処理、水素吸蔵処理、水素放出処理、冷却処
理、および、搬出処理)が時間的に重なり合わなけれ
ば、1基分の水素量で3基の熱処理炉A・B・Cの稼働
が可能となり、3基の熱処理炉A・B・Cを並列的に独
立して稼働させる場合に比して、装置の小型化が可能と
なる。
【0059】また、図3は本発明の第3実施例を示すも
ので、本実施例に示す熱処理装置30は、各熱処理炉A
・Bの熱処理室14を、2系統の連通路31・32によ
って連絡し、それぞれの連通路31・32の途中を、第
1実施例に示した圧力制御手段12を構成する真空排気
手段33に接続し、かつ、それぞれの連通路31・32
の途中で、前記真空排気手段33の吸引側に開閉弁34
・35を設けた構成となっている。
ので、本実施例に示す熱処理装置30は、各熱処理炉A
・Bの熱処理室14を、2系統の連通路31・32によ
って連絡し、それぞれの連通路31・32の途中を、第
1実施例に示した圧力制御手段12を構成する真空排気
手段33に接続し、かつ、それぞれの連通路31・32
の途中で、前記真空排気手段33の吸引側に開閉弁34
・35を設けた構成となっている。
【0060】そして、このように構成された本実施例の
熱処理装置30は、各熱処理炉A・Bにおける熱処理
は、第1実施例と同様であるが、両熱処理炉A・B間の
水素の循環方法に違いがある。
熱処理装置30は、各熱処理炉A・Bにおける熱処理
は、第1実施例と同様であるが、両熱処理炉A・B間の
水素の循環方法に違いがある。
【0061】すなわち、例えば、熱処理炉Aにおいて水
素吸蔵処理が完了すると、まず、閉状態にある2つの開
閉弁のうち、真空排気手段33と熱処理炉Aとの間に配
設された開閉弁34が開放されるとともに、真空排気手
段33が作動させられることにより、熱処理炉A内の気
体が吸引されて他の熱処理炉Bへ送り込まれる。
素吸蔵処理が完了すると、まず、閉状態にある2つの開
閉弁のうち、真空排気手段33と熱処理炉Aとの間に配
設された開閉弁34が開放されるとともに、真空排気手
段33が作動させられることにより、熱処理炉A内の気
体が吸引されて他の熱処理炉Bへ送り込まれる。
【0062】これによって、熱処理炉Aにおいて熱処理
室14の内部圧力が減少させられて水素放出減少が生
じ、この放出された水素が前記真空排気手段33によっ
て他の熱処理炉Bへ送り込まれて、他の熱処理炉Bの熱
処理室14の内部圧力が上昇させられ、これによってこ
の他の熱処理炉Bにおいて水素吸蔵処理が行われる。
室14の内部圧力が減少させられて水素放出減少が生
じ、この放出された水素が前記真空排気手段33によっ
て他の熱処理炉Bへ送り込まれて、他の熱処理炉Bの熱
処理室14の内部圧力が上昇させられ、これによってこ
の他の熱処理炉Bにおいて水素吸蔵処理が行われる。
【0063】ここで、前記他の熱処理炉Bへ送り込まれ
る水素の圧力は、圧力センサーによって検出される熱処
理炉Bの熱処理室14の内部圧力に関するフィードバッ
ク信号に基づいて、前記真空排気手段33の作動量が制
御されることにより、前述の実施例と同様の価に調整さ
れる。
る水素の圧力は、圧力センサーによって検出される熱処
理炉Bの熱処理室14の内部圧力に関するフィードバッ
ク信号に基づいて、前記真空排気手段33の作動量が制
御されることにより、前述の実施例と同様の価に調整さ
れる。
【0064】次いで、開放されていた開閉弁34が閉塞
されることにより他の熱処理炉Bが密閉状態に保持さ
れ、水素吸蔵のために必要な時間が経過したのちに、他
の開閉弁35が開放されるとともに、真空排気手段33
が作動させられることにより、他の熱処理炉Bの熱処理
室14内の水素が吸引されて一方の熱処理炉Aの熱処理
室14へ送り込まれて、前述と同様の現象により、他の
熱処理炉Bにおいて水素放出処理が行われ、かつ、一方
の熱処理炉Aにおいて水素吸蔵処理が開始される。
されることにより他の熱処理炉Bが密閉状態に保持さ
れ、水素吸蔵のために必要な時間が経過したのちに、他
の開閉弁35が開放されるとともに、真空排気手段33
が作動させられることにより、他の熱処理炉Bの熱処理
室14内の水素が吸引されて一方の熱処理炉Aの熱処理
室14へ送り込まれて、前述と同様の現象により、他の
熱処理炉Bにおいて水素放出処理が行われ、かつ、一方
の熱処理炉Aにおいて水素吸蔵処理が開始される。
【0065】以上の操作が繰り返されることにより、各
熱処理炉A・Bにおいて交互に金属系材料Wへの熱処理
が行われるが、本実施例においても、前記第1実施例と
同様に、熱処理に用いられる水素が両熱処理炉間で授受
されるのみで装置外への漏洩が抑えられ、これによって
水素の使用量が抑制されるとともに、2基の熱処理炉が
1基分の水素で稼働させられ、さらに、水素貯蔵手段も
少容量のものですみ、装置の大型化が抑制される。
熱処理炉A・Bにおいて交互に金属系材料Wへの熱処理
が行われるが、本実施例においても、前記第1実施例と
同様に、熱処理に用いられる水素が両熱処理炉間で授受
されるのみで装置外への漏洩が抑えられ、これによって
水素の使用量が抑制されるとともに、2基の熱処理炉が
1基分の水素で稼働させられ、さらに、水素貯蔵手段も
少容量のものですみ、装置の大型化が抑制される。
【0066】また、本実施例では、一方の熱処理炉Aが
水素放出処理の状態にある場合、真空排気手段33によ
って、前記熱処理炉Aから水素を強制的に吸引するとと
もに、前記水素を水素吸蔵処理の状態にある他の熱処理
炉Bへ強制的に送り込んでその内部圧力を上昇させるこ
とにより、一方の熱処理炉Aにおける減圧処理と他方の
熱処理炉Bにおける昇圧処理、ならびに、両者間の水素
の移動を同時かつ強制的に行うことにより、これらの各
処理が確実かつ迅速に行われる。
水素放出処理の状態にある場合、真空排気手段33によ
って、前記熱処理炉Aから水素を強制的に吸引するとと
もに、前記水素を水素吸蔵処理の状態にある他の熱処理
炉Bへ強制的に送り込んでその内部圧力を上昇させるこ
とにより、一方の熱処理炉Aにおける減圧処理と他方の
熱処理炉Bにおける昇圧処理、ならびに、両者間の水素
の移動を同時かつ強制的に行うことにより、これらの各
処理が確実かつ迅速に行われる。
【0067】さらに、図4は本発明の第4実施例を示す
もので、本実施例に示す熱処理装置40は、前記第3実
施例において、圧力制御手段12を真空排気手段33と
した例について示したのに代えて、さらに、前記圧力制
御手段12を真空排気手段33と、その排気側に設けら
れた圧力調整手段41とによって構成したもので、残余
の構成は、前記第3実施例と同様である。
もので、本実施例に示す熱処理装置40は、前記第3実
施例において、圧力制御手段12を真空排気手段33と
した例について示したのに代えて、さらに、前記圧力制
御手段12を真空排気手段33と、その排気側に設けら
れた圧力調整手段41とによって構成したもので、残余
の構成は、前記第3実施例と同様である。
【0068】そして、本実施例における作用は殆ど前記
第3実施例と同様であるが、第3実施例において、真空
排気手段33の作動量を制御することによって水素の供
給圧力(換言すれば、水素吸蔵処理状態にある熱処理炉
の熱処理室14内の内部圧力)を調整するようにしてい
るのに対して、本実施例においては、圧力調整手段41
によってその調整を行うようにした点に特徴がある。
第3実施例と同様であるが、第3実施例において、真空
排気手段33の作動量を制御することによって水素の供
給圧力(換言すれば、水素吸蔵処理状態にある熱処理炉
の熱処理室14内の内部圧力)を調整するようにしてい
るのに対して、本実施例においては、圧力調整手段41
によってその調整を行うようにした点に特徴がある。
【0069】このような構成とすることにより、前記水
素の供給圧力をきめ細かく、かつ、高精度の調整が可能
となり、また、この供給圧力の調整と、水素を吸引して
水素放出処理状態にある熱処理炉の減圧作用とが独立さ
せられることにより、熱処理の安定性が確保される。
素の供給圧力をきめ細かく、かつ、高精度の調整が可能
となり、また、この供給圧力の調整と、水素を吸引して
水素放出処理状態にある熱処理炉の減圧作用とが独立さ
せられることにより、熱処理の安定性が確保される。
【0070】なお、前記各実施例は一例であって、適用
する金属系材料の種類や設計要求等に基づき種々変更可
能である。例えば、前記各実施例においては、熱処理に
水素単体を用いる例について示したが、これに代えて、
不活性ガスとの混合気体を用いることも可能であり、こ
の場合には、混合気体の水素分圧を圧力制御の制御因子
とすればよい。
する金属系材料の種類や設計要求等に基づき種々変更可
能である。例えば、前記各実施例においては、熱処理に
水素単体を用いる例について示したが、これに代えて、
不活性ガスとの混合気体を用いることも可能であり、こ
の場合には、混合気体の水素分圧を圧力制御の制御因子
とすればよい。
【0071】また、第3実施例ならびに第4実施例にお
いても第2実施例と同様に、3基以上の熱処理炉を設け
ることも可能である。
いても第2実施例と同様に、3基以上の熱処理炉を設け
ることも可能である。
【0072】
【発明の効果】以上説明したように、本発明に係わる金
属系材料の熱処理装置によれば、次のような優れた効果
を奏する。
属系材料の熱処理装置によれば、次のような優れた効果
を奏する。
【0073】複数の熱処理炉間に水素の授受を行う閉回
路を形成して、前記水素を複数の熱処理炉の間で授受さ
せて繰り返し使用を可能とし、これによって複数の熱処
理炉を単一の熱処理炉に必要な水素量で稼働させること
ができ、生産性の向上を図りつつ水素の使用量を軽減す
ることができ、かつ、装置の大型化を抑制することがで
きる。
路を形成して、前記水素を複数の熱処理炉の間で授受さ
せて繰り返し使用を可能とし、これによって複数の熱処
理炉を単一の熱処理炉に必要な水素量で稼働させること
ができ、生産性の向上を図りつつ水素の使用量を軽減す
ることができ、かつ、装置の大型化を抑制することがで
きる。
【0074】また、熱処理に用いられる水素を貯蔵する
手段を別途設ける必要がなくなり、この点からも装置の
大型化を抑制することができる。
手段を別途設ける必要がなくなり、この点からも装置の
大型化を抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施例を示すブロック図である。
【図2】本発明の第2実施例を示すブロック図である。
【図3】本発明の第3実施例を示すブロック図である。
【図4】本発明の第4実施例を示すブロック図である。
【図5】一従来例を示すブロック図である。
10 熱処理装置 11 連通路 12 圧力制御手段 20 熱処理装置 30 熱処理装置 31 連通路 32 連通路 33 真空排気手段 40 熱処理装置 41 圧力調整手段 A 熱処理炉 B 熱処理炉 C 熱処理炉 W 金属系材料
Claims (3)
- 【請求項1】 金属系材料に水素を吸蔵させる水素吸蔵
処理、および、前記水素を吸蔵した金属系材料から水素
を放出させる水素放出処理を行う複数の熱処理炉と、こ
れらの熱処理炉を相互に連通させて、各熱処理炉間に水
素流通用の閉回路を形成する連通路と、この連通路の途
中に設けられて、前記熱処理炉が水素吸蔵処理を行う際
に、その内部を昇圧するとともに水素を供給し、かつ、
これらの熱処理炉が水素放出処理を行う際にその内部を
減圧するとともに水素を排出する圧力制御手段とを備え
ていることを特徴とする金属系材料の熱処理装置。 - 【請求項2】 圧力制御手段が、真空排気手段であるこ
とを特徴とする請求項1記載の金属系材料の熱処理装
置。 - 【請求項3】 圧力制御手段が、真空排気手段とその排
気側に設けられた圧力調整手段とによって構成されてい
ることを特徴とする請求項1記載の金属系材料の熱処理
装置。
Priority Applications (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4004227A JPH0673512A (ja) | 1992-01-13 | 1992-01-13 | 金属系材料の熱処理装置 |
| TW081109386A TW205572B (ja) | 1991-11-28 | 1992-11-24 | |
| US07/981,223 US5354040A (en) | 1991-11-28 | 1992-11-25 | Apparatus for closed cycle hydrogenation recovery and rehydrogenation |
| EP92310876A EP0545644A1 (en) | 1991-11-28 | 1992-11-27 | Method for heat treating metallic materials and apparatus therefor |
| KR1019920022581A KR960010820B1 (ko) | 1991-11-28 | 1992-11-27 | 금속계 재료의 열처리장치 |
| CN92114548A CN1035200C (zh) | 1991-11-28 | 1992-11-28 | 金属材料的热处理方法及其装置 |
| US08/246,076 US5505794A (en) | 1991-11-28 | 1994-05-19 | Method for heat treating metallic materials and apparatus therefor |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4004227A JPH0673512A (ja) | 1992-01-13 | 1992-01-13 | 金属系材料の熱処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0673512A true JPH0673512A (ja) | 1994-03-15 |
Family
ID=11578690
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4004227A Pending JPH0673512A (ja) | 1991-11-28 | 1992-01-13 | 金属系材料の熱処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0673512A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6129643A (en) * | 1996-03-08 | 2000-10-10 | Koyo Seiko Co., Ltd. | Variable diameter pulley |
-
1992
- 1992-01-13 JP JP4004227A patent/JPH0673512A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6129643A (en) * | 1996-03-08 | 2000-10-10 | Koyo Seiko Co., Ltd. | Variable diameter pulley |
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