JPH0675111A - ブラックマトリックス基板の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 液晶ディスプレイ等のフラットディスプレ
イ、ＣＣＤ等のイメージャー、あるいはカラーセンサ等
のカラーフィルタに用いることのできる寸法精度が高く
遮光性に優れ、良好な着色層の形成が容易なブラックマ
トリックス基板を低コストで製造することのできる製造
方法を提供する。 【構成】 透明基板上に形成されたブラックマトリック
ス用パターンを有する触媒含有レリーフに無電解メッキ
を行い金属を析出して黒色レリーフを形成し、この黒色
レリーフに、加熱あるいは硬膜剤塗布による硬膜処理を
施す。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明はブラックマトリックス基
板の製造方法に係り、特に、寸法精度が高く遮光性に優
れるとともに、着色層の形成が容易なブラックマトリッ
クス基板の製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、フラットディスプレーとして、モ
ノクロあるいはカラーの液晶ディスプレイが注目されて
いる。例えば、液晶ディスプレイには、３原色の制御を
行うためにアクティブマトリックス方式および単純マト
リックス方式とがあり、いずれの方式においてもカラー
フィルターが用いられている。そして、液晶ディスプレ
イは構成画素部を３原色（Ｒ，Ｇ，Ｂ）とし、液晶の電
気的スイッチングにより３原色の各光の透過を制御して
カラー表示を行うものである。

【０００３】このカラーフィルターは、透明基板上に各
着色層と保護層と透明電極層を形成して構成されてい
る。そして、発色効果や表示コントラストを上げるため
に、着色層のＲ，Ｇ，Ｂの各画素の境界部分に遮光性を
有するパターン（ブラックマトリックス）が形成され
る。また、アクティブマトリックス方式の液晶ディスプ
レイでは、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）をスイッチング
素子として用いているため、光リーク電流を抑制する必
要がある。このため、ブラックマトリックスに対して高
い遮光性が要求される。

【０００４】従来、ブラックマトリックスとしては、蒸
着クロム薄膜をフォトエッチングしてレリーフ形成した
もの、親水性樹脂レリーフを染色したもの、黒色顔料を
分散した感光液を用いてレリーフ形成したもの、黒色電
着塗料を電着して形成したもの、印刷により形成したも
の等があった。

【０００５】しかし、上述の蒸着クロム薄膜をフォトエ
ッチングしてレリーフ形成したものは寸法精度が高いも
のの、蒸着やスパッタ等の真型成膜工程が必要であるこ
とや、製造工程が複雑である為に、製造コストが高く、
また、強い外光の下での表示コントラストを高めるため
にクロムの反射率を抑える必要が生じ、このため、製造
コストが更にかかる低反射クロムのスパッタ等を行う必
要があった。また、上述の黒色染料や顔料を分散した感
光性レジストを用いる方法は、製造コストは安価となる
が、感光性レジストが黒色のためフォトプロセスが不充
分となり易いことや、充分な遮光性を得難い等、高品質
なブラックマトリックスが得られないという問題があっ
た。さらに、上述の印刷方法によるブラックマトリック
ス形成では、製造コストの低減は可能であるものの、寸
法精度が低いという問題があった。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】上述のような問題を解
決するために、透明基板上に親水性樹脂を含有する感光
性レジスト層を形成し、ブラックマトリックス用パター
ンを有するフォトマスクを介して上記の感光性レジスト
層を露光・現像してレリーフを形成し、このレリーフに
無電解メッキの触媒となる金属化合物を含有させて触媒
含有レリーフを形成し、さらに、この触媒含有レリーフ
を無電解メッキ液に接触させることにより金属粒子を析
出させてブラックマトリックスを形成することが行われ
ている。

【０００７】このような無電解メッキを用いたブラック
マトリックス基板の製造方法は、製造工程が複雑ではな
く、またブラックマトリックスの寸法精度が高く遮光性
に優れるものである。しかしながら、このブラックマト
リックス基板を用いて、例えば分散法にしたがって着色
層を形成する場合、良好な着色層を形成できないという
問題があった。すなわち、顔料分散感光剤をブラックマ
トリックス基板の全面に塗布し、その後、所定の着色層
のパターンを有するマスクを介して露光し、現像した時
に、１色目の顔料分散感光剤塗布膜の未露光部分が完全
に除去されずにブラックマトリックス上、あるいは２色
目、３色目の着色部に該当する部分に残存するという現
像不良が発生するという問題があった。

【０００８】本発明は上述のような事情に鑑みてなされ
たものであり、液晶ディスプレイ等のフラットディスプ
レイ、ＣＣＤ等のイメージャー、あるいはカラーセンサ
等のカラーフィルタに用いることのできる寸法精度が高
く遮光性に優れ、良好な着色層の形成が容易なブラック
マトリックス基板を低コストで製造することのできる製
造方法を提供することを目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るために、本発明は透明基板上に触媒含有レリーフを形
成し、該触媒含有レリーフを無電解メッキ液に接触させ
ることにより前記触媒含有レリーフ内に金属粒子を析出
させてブラックマトリックス用パターンを有する黒色レ
リーフを形成し、その後、前記黒色レリーフを加熱ある
いは前記黒色レリーフに硬膜剤を塗布することにより前
記黒色レリーフに硬膜処理を施すような構成とした。

【００１０】

【作用】透明基板上に形成されたブラックマトリックス
用のレリーフに無電解メッキを行い金属を析出して形成
された黒色レリーフによるブラックマトリックス基板
は、光学濃度が高いとともに反射率の低い寸法精度の良
好なものであり、さらに、加熱あるいは硬膜剤塗布によ
る硬膜処理が施されることにより、このブラックマトリ
ックス基板を用いて、例えば分散法にしたがって着色層
を形成しても、黒色レリーフへの顔料分散感光剤の好ま
しくない付着が発生せず、顔料分散感光剤塗布膜の未露
光部分が完全に除去されずにブラックマトリックス上、
あるいは基板上に残存するという現像不良が有効に防止
される。

【００１１】

【実施例】以下、本発明の実施例について図面を参照し
て説明する。図１は、本発明により製造されたブラック
マトリックス基板を用いたアクティブマトリックス方式
による液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）の一例を示す斜視図
であり、図２は同じく概略断面図である。図１および図
２において、ＬＣＤ１はカラーフィルタ１０と透明ガラ
ス基板２０とをシール材３０を介して対向させ、その間
に捩れネマティック（ＴＮ）液晶からなる厚さ約５〜１
０μｍ程度の液晶層４０を形成し、さらに、カラーフィ
ルタ１０と透明ガラス基板２０の外側に偏光板５０，５
１が配設されて構成されている。

【００１２】図３はカラーフィルタ１０の拡大部分断面
図である。図３においてカラーフィルタ１０は、透明基
板１３上に黒色レリーフ（ブラックマトリックス）１４
を形成したブラックマトリックス基板１２と、このブラ
ックマトリックス基板１２のブラックマトリックス１４
間に形成された着色層１６と、このブラックマトリック
ス１４と着色層１６を覆うように設けられた保護層１８
および透明電極１９を備えている。このカラーフィルタ
１０は透明電極１９が液晶層４０側に位置するように配
設されている。そして、着色層１６は赤色パターン１６
Ｒ、緑色パターン１６Ｇ、青色パターン１６Ｂからな
り、各着色パターンの配列は図１に示されるようにモザ
イク配列となっている。尚、着色パターンの配列はこれ
に限定されるものではなく、三角配列、ストライプ配列
等としてもよい。

【００１３】また、透明ガラス基板２０上には表示電極
２２が各着色パターン１６Ｒ、１６Ｇ、１６Ｂに対応す
るように設けられ、各表示電極２２は薄膜トランジスタ
（ＴＦＴ）２４を有している。また、各表示電極２２間
にはブラックマトリックス１４に対応するように走査線
（ゲート電極母線）２６ａとデータ線２６ｂが配設され
ている。

【００１４】このようなＬＣＤ１では、各着色パターン
１６Ｒ、１６Ｇ、１６Ｂが画素を構成し、偏光板５１側
から照明光を照射した状態で各画素に対応する表示電極
をオン、オフさせることで液晶層４０がシャッタとして
作動し、着色パターン１６Ｒ、１６Ｇ、１６Ｂのそれぞ
れの画素を光が透過してカラー表示が行われる。

【００１５】カラーフィルタ１０を構成するブラックマ
トリックス基板１２の透明基板１３としては、石英ガラ
ス、低膨脹ガラス、ソーダライムガラス等の可撓性のな
いリジット材、あるいは透明樹脂フィルム、光学用樹脂
板等の可撓性を有するフレキシブル材等を用いることが
できる。このなかで、特にコーニング社製７０５９ガラ
スは、熱膨脹率の小さい素材であり寸法安定性および高
温加熱処理における作業性に優れ、また、ガラス中にア
ルカリ成分を含まない無アルカリガラスであるため、ア
クティブマトリックス方式によるＬＣＤ用のカラーフィ
ルタに適している。

【００１６】ここで、本発明によるブラックマトリック
ス基板１２の製造の一例を図４を参照して説明する。先
ず透明基板１３上に親水性樹脂を含有する感光性レジス
トを塗布して厚さ０．１〜５．０μｍ程度の感光性レジ
スト層３を形成する（図４（Ａ））。次に、ブラックマ
トリックス用のフォトマスク９を介して感光性レジスト
層３を露光する（図４（Ｂ））。そして、露光後の感光
性レジスト層３を現像してブラックマトリックス用のパ
ターンを有するレリーフ４を形成する（図４（Ｃ））。
次に、この透明基板１３に熱処理（１００〜２００℃、
５〜３０分間）を施した後、無電解メッキの触媒となる
金属化合物の水溶液をレリーフ４にスプレーし水洗して
触媒含有レリーフ５とする（図４（Ｄ））。そして、透
明基板１３上の触媒含有レリーフ５を無電解メッキ液に
接触させることにより黒色レリーフとし、さらに、この
黒色レリーフに加熱あるいは硬膜剤塗布による硬膜処理
を施してブラックマトリックス１４を形成する（図４
（Ｅ））。

【００１７】本発明において用いる感光性レジストとし
ては、例えば、ゼラチン、カゼイン、グルー、卵白アル
ブミン等の天然タンパク質、カルボキシメチルセルロー
ス、ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸、ポリアク
リルアミド、ポリビニルピロリドン、ポリエチレンオキ
サイド、無水マレイン酸共重合体、及び、上記の樹脂の
カルボン酸変性物あるいはスルホン酸変性物等の親水性
樹脂を１種、あるいは複数種を混合したものに対し、例
えば、ジアゾ基を有するジアゾニウム化合物およびパラ
ホルムアルデヒドの反応生成物であるジアゾ樹脂、アジ
ド基を有するアジド化合物、ポリビニルアルコールにケ
イ皮酸を縮合したケイ皮酸縮合樹脂、スチルバゾリウム
塩を用いた樹脂、重クロム酸アンモニウム等の光硬化型
の感光性基を有するものを添加することで感光性を付与
したものを挙げることができる。尚、感光性基は上述の
光硬化型感光性基に限定されないことは勿論である。こ
のように、感光性レジスト中に親水性樹脂が含有されて
いるとにより、上述のように触媒含有レリーフ５が無電
解メッキ液と接触した際に、無電解メッキ液が触媒含有
レリーフ５に浸透し易くなり、触媒含有レリーフ５中に
均一に金属粒子が析出することになる。したがって、形
成されたブラックマトリックス１４は充分な黒さと低反
射率を有することになり、従来のクロム薄膜形成におけ
る金属層による反射という問題が解消され得る。

【００１８】本発明において用いる無電解メッキの触媒
となる金属化合物は、例えばパラジウム、金、銀、白
金、銅等の塩化物、硝酸塩等の水溶性塩、および錯化合
物が用いられ、水溶液として市販されている無電解メッ
キ用のアクチベータ溶液をそのまま用いることができ
る。このような金属化合物を上述のように感光性レジス
ト中に含有させる場合、０．０００１〜０．００１重量
％程度含有されることが好ましい。

【００１９】無電解メッキ液は、例えば次亜リン酸、次
亜リン酸ナトリウム、水素化ホウ素ナトリウム、Ｎ−ジ
メチルアミンボラン、ボラジン誘導体、ヒドラジン、ホ
ルマリン等の還元剤と、例えばニッケル、コバルト、
鉄、銅、クロム等の水溶性の被還元性重金属塩と、メッ
キ速度、還元効率等を向上させるカセイソーダ、水酸化
アンモニウム等の塩基性化合物と、無機酸、有機酸等の
ｐＨ調整剤、クエン酸ナトリウム、酢酸ナトリウム等の
オキシカルボン酸、ホウ酸、炭酸、有機酸、無機酸のア
ルカリ塩に代表される緩衝剤と、重金属イオンの安定性
を目的とした錯化剤の他、反応促進剤、安定剤、界面活
性剤等とを有する無電解メッキ液が使用される。

【００２０】また、２種以上の無電解メッキ液を併用し
てもよい。例えば、まず、核（例えば無電解メッキの触
媒となる金属化合物としてパラジウムを使用した場合は
パラジウムの核）を作り易い水素化ホウ素ナトリウムの
ようなホウ素系還元剤を含む無電解メッキ液を用い、次
に、金属析出速度の速い次亜リン酸系還元剤を含む無電
解メッキ液を用いることができる。

【００２１】本発明における黒色レリーフの加熱による
硬膜処理の条件は、１６０〜２５０℃、好ましくは１８
０〜２２０℃、２０〜１２０分間の範囲において適宜設
定することができる。加熱温度が上記の範囲外では、後
述する着色層１６の形成段階で、黒色レリーフと顔料分
散感光剤との付着が発生し、本発明の効果が奏されな
い。

【００２２】本発明における黒色レリーフの硬膜処理に
用いる硬膜剤としては、無水クロム酸の１重量％水溶
液、Ｎ，Ｎ′−ジメチロール尿素の１重量％水溶液、グ
リオキサールの１重量％水溶液等を挙げることができ
る。また、上記のような硬膜剤を黒色レリーフに塗布す
る方法としては、スプレー塗布、ディッピング等の公知
の方法によることができる。そして、黒色レリーフに硬
膜剤を塗布した後は、水洗、乾燥が行われてブラックマ
トリックス基板１４とされる。

【００２３】尚、上述の例では、無電解メッキに先立っ
て、まず、レリーフが形成された透明基板に熱処理を施
し、次に、無電解メッキの触媒となる金属化合物の水溶
液をレリーフにスプレー塗布するが、これに限定される
ものではない。例えば、無電解メッキの触媒となる金属
化合物の水溶液をレリーフにスプレー塗布した後、熱処
理を施してもよい。

【００２４】上述のようなブラックマトリックス基板１
２のブラックマトリックス１４間における赤色パターン
１６Ｒ、緑色パターン１６Ｇ、青色パターン１６Ｂから
なる着色層１６の形成は、染色法、分散法、印刷法、電
着法等の公知の種々の方法に従って行うことができる。

【００２５】カラーフィルタ１０のブラックマトリック
ス１４と着色層１６を覆うように設けられる保護層１８
は、カラーフィルタ１０の表面平滑化、信頼性の向上、
および液晶層４０への汚染防止等を目的とするものであ
り、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリイミド系樹
脂等の透明樹脂、あるいは二酸化ケイ素等の透明無機化
合物等を用いて形成することができる。保護層の厚さは
０．５〜５０μｍ程度が好ましい。

【００２６】透明共通電極１９としては、例えば酸化イ
ンジウムスズ（ＩＴＯ）膜を用いることができる。ＩＴ
Ｏ膜は蒸着法、スパッタ法等の公知の方法により形成す
ることができ、厚さは２００〜２０００Å程度が好まし
い。

【００２７】次に、実験例を示して本発明を更に詳細に
説明する。 （実験例）透明基板としてコーニング社製７０５９ガラ
ス（厚さ＝１．１ｍｍ）を用い、スピンコート法（回転
数＝１６００r.p.m.、３秒間）により下記組成の感光性
レジストを透明基板上に塗布し、その後、７０℃、１０
分間の条件で乾燥（プリベーク）して感光性レジスト層
（厚さ＝０．６μｍ）を形成した。

【００２８】 （感光性レジストの組成） ・ポリビニルアルコール４．４７重量％水溶液 （日本合成化学製ゴーセナールＴ−３３０） …１０００重量部 ・ジアゾ樹脂５重量％水溶液 （シンコー技研製Ｄ−０１１） …５７．１重量部 次に、感光性レジスト層に対して大日本スクリーン
（株）製の密着プリンターを用いてＶｑ＝６０秒、７５
カウントでブラックマトリックス用のパターン（線幅＝
４５μｍ）を露光した。その後、常温の水を用いて現像
（回転数＝１５０r.p.m.、４５秒間）を行いエアー乾燥
してブラックマトリックス用の線幅４７μｍのレリーフ
を形成した。

【００２９】つぎに、この透明基板に９０℃、３０分間
の熱処理を施し、その後、レリーフ上に塩化パラジウム
水溶液（日本カニゼン製レッドシューマー）をスピンコ
ート法（回転数＝１００r.p.m.、３秒間）により塗布
し、上記のレリーフを触媒含有レリーフとした。

【００３０】その後、透明基板をホウ素系還元剤を含む
３０℃のニッケルメッキ液（奥野製薬製ニッケルメッキ
液トップケミアロイＢ−１）に４分間浸漬してＮｉ粒子
を析出させ、水洗乾燥して黒色レリーフを形成した。

【００３１】次に、この透明基板を下記の表１に示した
条件で加熱して硬膜処理を施し、黒色レリーフ（ブラッ
クマトリックス）を備えたブラックマトリックス基板
（試料１〜３、比較試料１，２）を得た。

【００３２】

【表１】 また、上記と同様にして触媒含有レリーフ内にＮｉ粒子
を析出させて黒色レリーフを形成した後、無水クロム酸
の１重量％水溶液に透明基板を１０分間浸漬して硬膜処
理を施し、水洗、乾燥して、ブラックマトリックス基板
（試料４）を得た。

【００３３】さらに、無水クロム酸の１重量％水溶液の
代りにＮ，Ｎ′−ジメチロール尿素の１重量％水溶液を
用いた他は、試料４と同様にしてブラックマトリックス
基板（試料５）を得た。

【００３４】また、上記の試料１と同様にして触媒含有
レリーフ内にＮｉ粒子を析出させて黒色レリーフを形成
したのみで、この黒色レリーフに硬膜処理を施さなかっ
たブラックマトリックス基板を比較試料３として得た。

【００３５】上記のようにして作成した各ブラックマト
リックス基板（試料１〜５、比較試料１〜３）の黒色レ
リーフの光学濃度Ｄおよび波長５５５ｍｍにおける反射
率Ｒを測定したところ、Ｄ≧３．０、Ｒ≦５％であり、
カラーフィルタ用ブラックマトリックスとして充分な光
学濃度と低い反射率を具備していることがわかった。ま
た、黒色レリーフとガラス基板との密着状態は、浮き、
剥離等が全く見られず良好であった。

【００３６】また、各ブラックマトリックス基板上に、
下記の組成の青色顔料分散感光剤をスピンコート法（回
転数＝２０００r.p.m.、６０秒間）により塗布し、その
後、９０℃、５分間の条件で乾燥して青色顔料分散感光
剤層（厚さ＝１μｍ）を形成した。

【００３７】 （感光性レジストの組成） ・ファストトゲンブルー（青色顔料） … ３重量部 ・ポリビニルアルコール１５％スチルバゾリウムキノリウム（感光性材料） … ５重量部 ・水 …９２重量部 この青色顔料分散感光剤層に常温の水を用いてシャワー
現像を行いエアー乾燥した。その結果、未露光の着色感
材に対して試料１〜５では、すべての青色着色層が現像
されたが、比較試料１〜３では、ブラックマトリックス
上、あるいは着色部に該当する部分、ガラス面露光部に
青色着色層が残ることが確認された。

【００３８】次に、上記の各ブラックマトリックス基板
（試料１〜５、比較試料１〜３）に着色層、保護層およ
び透明電極を形成してカラーフィルタを作成した。着色
層の形成は、まず、ブラックマトリックス層上に、スピ
ンコート法（回転数＝１２００r.p.m.）により赤色感光
性樹脂（ザ・インクテック（株）製ＭＲ−Ｇ（Ｒ））を
塗布した。その後、７０℃、３０分間の条件で乾燥（プ
レベーク）して赤色感光性樹脂層（膜厚＝１．２μｍ）
を形成した。

【００３９】次に、この赤色感光性樹脂層の赤色画素を
形成すべき領域に、赤色画素用のフォトマスク（線幅＝
１００μｍ）の位置合わせを行った後、このフォトマス
クを介して露光を行った。露光装置は大日本スクリーン
（株）製のプロキシミティー露光装置を使用し、露光量
は１５０ｍＪ／cm² とした。その後、常温の水を用いて
シャワー現像（現像時間＝６０秒間）を行い、その後、
１５０℃、３０分間の熱処理（ポストベーク）を施して
赤色画素を形成した。この時点で、試料１〜５、比較試
料１〜３の基板全面を顕微鏡観察により観察した。その
結果、試料１〜５では、フォトマスクのパターン通りの
赤色着色層が形成されたが、比較試料１〜３では、ブラ
ックマトリックス上、あるいは２色目、３色目の着色部
に該当する部分に赤色着色層が形成され、現像不良が発
生したことが確認された。

【００４０】また、試料１〜３の中では、特に試料１に
おいて赤色着色層がシャープであった。同様の工程を繰
り返して、赤色画素、緑色画素、青色画素からなる着色
層を形成した。尚、各画素の作成条件は下記の表２に示
す条件に従った。

【００４１】

【表２】 次に、保護層の形成は、下記に示される組成の塗工液を
スピンコート法（回転数＝１５００r.p.m.）により上記
の着色層上に塗布した（膜厚＝２．０μｍ）。

【００４２】 （保護層形成用の塗工液組成） ・光硬化性アクリレートオリゴマー（ｏ−クレゾールノボラック エポキシアクリレート（分子量１５００〜２０００）） … ３５重量部 ・クレゾールノボラック型エポキシ樹脂 … １５重量部 ・多官能重合性モノマー（ジペンタエリスリトールヘキサ アクリレート（日本化薬製ＤＰＨＡ）） … ５０重量部 ・重合開始剤（チバガイギー社製イルガキュアー） … ２重量部 ・エポキシ硬化剤（ゼネラルエレクトリック社製 UVE1014）… ２重量部 ・エチルセロソルブアセテート …２００重量部 そして、この塗布膜に対して大日本スクリーン（株）製
のプロキシミティー露光装置を使用し露光量１５０ｍＪ
／cm² で全面露光を行った。その後、基板を常温の１，
１，２，２−テトラクロロエタンに１分間浸漬し、塗布
膜の未硬化部分のみを除去し、保護膜を形成した。

【００４３】さらに、この保護膜上にスパッタリング法
により厚さ０．４μｍの酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）
膜を形成して透明電極とし、カラーフィルタを得た。ま
た、着色層を下記のように印刷法により形成してカラー
フィルタを作成した。すなわち、版深６μｍ、幅１１０
μｍのストライプ状の凹部を有する版、及びシリコーン
ブランケットを用い、凹版オフセット印刷法により、ブ
ラックマトリックス基板上のブラックマトリックス間
に、下記インキ組成物Ｓ−１，Ｓ−２，Ｓ−３をこの順
序で印刷し、それぞれブルー、グリーン、レッドの１１
０μｍ幅のストライプパターンを印刷形成した。その
後、前記基板を２００℃で３０分間加熱することによ
り、インキ組成物を熱硬化させて膜厚２〜３μｍの着色
層を得た。

【００４４】 ワニスの組成 ・ポリエステルアクリレート樹脂 （東亜合成化学工業（株）アロニックスＭ−７１００）…７０重量部 ・ジアリルフタレートプレポリマー …３０重量部 インキ組成物（Ｓ−１）の組成 ・ワニス …１００重量部 ・顔料（リオノールブルーＥＳ） （東洋インキ製造（株）製、C.I.Pigment Blue 15:6)…１５．５重量部 ・顔料（リオノゲンバイオレットRL） （東洋インキ製造（株）製、C.I.Pigment Violet 23 ）… ４重量部 インキ組成物（Ｓ−２）の組成 ・ワニス …１００重量部 ・顔料（リオノールグリーン２ＹＳ） （東洋インキ製造（株）製、C.I.PigmentGreen 36 ）…２２重量部 ・顔料（セイカファーストエロー２７００） （大日精化工業（株）製、C.I.Pigment Yellow 83 ）…７．５重量部 インキ組成物（Ｓ−３）の組成 ・ワニス …１００重量部 ・顔料（クロモフタルレッドＡ３Ｂ） （チバ・ガイギー社製、C.I.Pigment Red 177) …３２重量部 ・顔料（セイカファーストエロー２７００） （大日精化工業（株）製、C..Pigment Yellow 83 ）… ８重量部 次に、上述のように保護層と透明電極を形成してカラー
フィルタを得た。

【００４５】このように作成したカラーフィルタの内、
試料１〜５のブラックマトリックス基板を用いて作成さ
れたものは、カラー液晶ディスプレイに使用された場
合、高い発色効果や表示コントラストを示した。しか
し、比較試料１〜３のブラックマトリックス基板を用い
て作成されたものは、カラー液晶ディスプレイに使用さ
れた場合、発色効果や表示コントラストは不十分であっ
た。

【００４６】

【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば形
成された黒色レリーフ（ブラックマトリックス）は、光
学濃度が高いとともに反射率が低く寸法精度の高いもの
であり、かつ透明基板との密着性も良好であり、さら
に、この黒色レリーフ（ブラックマトリックス）は、例
えば顔料分散感光剤との間で好ましくない付着を生ぜ
ず、顔料分散感光剤塗布膜の未露光部分が完全に除去さ
れずにブラックマトリックス上、あるいは基板上に残存
するという現像不良が有効に防止され、このような黒色
レリーフ（ブラックマトリックス）を備えたブラックマ
トリックス基板は、信頼性が高く高コントラストが可能
なカラーフィルタを構成し得るものであるとともに、真
空プロセス等が不要であるため、製造コストの低減が可
能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明により製造されたカラーフィルタを用い
たアクティブマトリックス方式による液晶ディスプレイ
の一例を示す斜視図である。

【図２】図１に示される液晶ディスプレイの概略断面図
である。

【図３】図１に示される液晶ディスプレイに用いられて
いるカラーフィルタの拡大部分断面図である。

【図４】本発明によるブラックマトリックス基板の製造
方法を説明するための工程図である。

【符号の説明】

５…触媒含有レリーフ ９…ブラックマトリックス用のフォトマスク １０…カラーフィルタ １２…ブラックマトリックス基板 １３…透明基板 １４…ブラックマトリックス（黒色レリーフ） １６…着色層 １６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂ…着色パターン

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 透明基板上に触媒含有レリーフを形成
   し、該触媒含有レリーフを無電解メッキ液に接触させる
   ことにより前記触媒含有レリーフ内に金属粒子を析出さ
   せてブラックマトリックス用パターンを有する黒色レリ
   ーフを形成し、その後、前記黒色レリーフを加熱あるい
   は前記黒色レリーフに硬膜剤を塗布することにより前記
   黒色レリーフに硬膜処理を施すことを特徴とするブラッ
   クマトリックス基板の製造方法。