JPH0679256A - 浄水システム - Google Patents
浄水システムInfo
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- JPH0679256A JPH0679256A JP23488692A JP23488692A JPH0679256A JP H0679256 A JPH0679256 A JP H0679256A JP 23488692 A JP23488692 A JP 23488692A JP 23488692 A JP23488692 A JP 23488692A JP H0679256 A JPH0679256 A JP H0679256A
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- Japan
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- water
- tank
- supply
- water purification
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 高置タンク等の貯水タンクから給水される水
の浄化を適切に行なえる浄水システムを提供すること。 【構成】 供給水を一次的に貯留する貯水タンク1と、
貯水タンク1内の水を給送する給水主管路21及び枝管
路22と、貯水タンク1から給水主管路21に送り込ま
れる水を浄化する1次浄水手段31と、枝管路22を流
れる水を浄化する2次浄水手段41とから浄水システム
を構成しているので、供給経路の異なる位置で2段の浄
化を施し、供給水の浄化を確実且つ効果的に行なって良
質の水を水栓等に送り込める。
の浄化を適切に行なえる浄水システムを提供すること。 【構成】 供給水を一次的に貯留する貯水タンク1と、
貯水タンク1内の水を給送する給水主管路21及び枝管
路22と、貯水タンク1から給水主管路21に送り込ま
れる水を浄化する1次浄水手段31と、枝管路22を流
れる水を浄化する2次浄水手段41とから浄水システム
を構成しているので、供給経路の異なる位置で2段の浄
化を施し、供給水の浄化を確実且つ効果的に行なって良
質の水を水栓等に送り込める。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、マンション,オフィス
ビル等の建物に有用な浄水システムに関するものであ
る。
ビル等の建物に有用な浄水システムに関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】マンション,オフィスビル等の建物で
は、その屋上等に設置された高置タンクにポンプを利用
して水道水等を揚水し、該高置タンクから建物内の各部
屋の水栓に供水できるようにしている。
は、その屋上等に設置された高置タンクにポンプを利用
して水道水等を揚水し、該高置タンクから建物内の各部
屋の水栓に供水できるようにしている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、高置タ
ンクから給水される水には、タンク内で発生した錆の他
に藻類や細菌等が混入し易く、水道管から直接水栓に水
を供給する場合に比べて不純物が多く水質が悪化する欠
点がある。
ンクから給水される水には、タンク内で発生した錆の他
に藻類や細菌等が混入し易く、水道管から直接水栓に水
を供給する場合に比べて不純物が多く水質が悪化する欠
点がある。
【0004】本発明は上記事情に鑑みてなされたもの
で、その目的とするところは、高置タンク等の貯水タン
クから給水される水の浄化を適切に行なえる浄水システ
ムを提供することにある。
で、その目的とするところは、高置タンク等の貯水タン
クから給水される水の浄化を適切に行なえる浄水システ
ムを提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項1では、供給水を一時的に貯留する貯水タン
クと、貯水タンク内の水を給送する給水主管路及び枝管
路と、貯水タンクから給水主管路に送り込まれる水を浄
化する1次浄水手段と、枝管路を流れる水を浄化する2
次浄水手段とから、浄水システムを構成している。
め、請求項1では、供給水を一時的に貯留する貯水タン
クと、貯水タンク内の水を給送する給水主管路及び枝管
路と、貯水タンクから給水主管路に送り込まれる水を浄
化する1次浄水手段と、枝管路を流れる水を浄化する2
次浄水手段とから、浄水システムを構成している。
【0006】請求項2では、請求項1記載の浄水システ
ムにおいて、管路を流れる水の水質を検知する水質検知
手段と、水質検知手段から得られた水質情報を報知する
水質報知手段とを設けている。
ムにおいて、管路を流れる水の水質を検知する水質検知
手段と、水質検知手段から得られた水質情報を報知する
水質報知手段とを設けている。
【0007】請求項3では、請求項1または2記載の浄
水システムにおいて、管路を流れる水の流通状態を検知
する流通状態検知手段と、流通状態検知手段から得られ
た流通情報を報知する流通状態報知手段とを設けてい
る。
水システムにおいて、管路を流れる水の流通状態を検知
する流通状態検知手段と、流通状態検知手段から得られ
た流通情報を報知する流通状態報知手段とを設けてい
る。
【0008】
【作用】請求項1記載の浄水システムでは、貯水タンク
から給水主管路に送り込まれる水が1次浄水手段によっ
て浄化され、また枝管路を流れる水が2次浄水手段で浄
化されて、供給水に対し2段の浄化が行なわれる。
から給水主管路に送り込まれる水が1次浄水手段によっ
て浄化され、また枝管路を流れる水が2次浄水手段で浄
化されて、供給水に対し2段の浄化が行なわれる。
【0009】請求項2記載の浄水システムでは、管路を
流れる水の水質、例えば導電率やpH等が水質報知手段
によって報知される。
流れる水の水質、例えば導電率やpH等が水質報知手段
によって報知される。
【0010】請求項3記載の浄水システムでは、管路を
流れる水の流通状態、例えば水圧や流量等が流通状態報
知手段によって報知される。
流れる水の流通状態、例えば水圧や流量等が流通状態報
知手段によって報知される。
【0011】
【実施例】図1には本発明を適用した浄水システムの概
略構成を示してある。同図において、1は高置タンク、
11は揚水管路、21は給水主管路、31は1次浄水装
置、41は2次浄水装置、51は浄水制御装置である。
略構成を示してある。同図において、1は高置タンク、
11は揚水管路、21は給水主管路、31は1次浄水装
置、41は2次浄水装置、51は浄水制御装置である。
【0012】図1の高置タンク1は、図2にも示すよう
に、所定の内容積を有する密閉タンクから成り、マンシ
ョン,オフィスビル等の建物の屋上等に設置されてい
る。この高置タンク1内には、貯留水の水位を検知する
フロ−トスイッチ等の水位センサ2が配置されている。
に、所定の内容積を有する密閉タンクから成り、マンシ
ョン,オフィスビル等の建物の屋上等に設置されてい
る。この高置タンク1内には、貯留水の水位を検知する
フロ−トスイッチ等の水位センサ2が配置されている。
【0013】図1の揚水管路11は、図2にも示すよう
に、上端を高置タンク1の上面に接続されており、下端
を建物の地下まで延設されている。この揚水管路11の
下端には、地下に配置された揚水用ポンプ12及び受水
タンク13を介して水道本管14に接続されている。
尚、受水タンク13内には、水道本管14からの断続的
な給水によって所定水位の水が貯留されている。
に、上端を高置タンク1の上面に接続されており、下端
を建物の地下まで延設されている。この揚水管路11の
下端には、地下に配置された揚水用ポンプ12及び受水
タンク13を介して水道本管14に接続されている。
尚、受水タンク13内には、水道本管14からの断続的
な給水によって所定水位の水が貯留されている。
【0014】図1の給水主管路21は、図2にも示すよ
うに、上端を高置タンク1の側面下端に接続されてお
り、分岐された複数の枝管路22を建物内の各部屋に設
けられた水栓23まで延設されている。また、給水主管
路21の高置タンク寄り位置には塩素発生機24の出口
が混入用ポンプ25を介して接続され、またその下流側
には同部分を流れる水の塩素イオン濃度を検知する塩素
センサ26が設けられている。
うに、上端を高置タンク1の側面下端に接続されてお
り、分岐された複数の枝管路22を建物内の各部屋に設
けられた水栓23まで延設されている。また、給水主管
路21の高置タンク寄り位置には塩素発生機24の出口
が混入用ポンプ25を介して接続され、またその下流側
には同部分を流れる水の塩素イオン濃度を検知する塩素
センサ26が設けられている。
【0015】上記の塩素発生機24は、図3にも示すよ
うに、側面上端に入口24aを側面下端に出口24bを
夫々有する本体槽24cと、本体槽24c内の出口寄り
位置に配置された正電極24dと、本体槽24c内の入
口寄り位置に配置された負電極24eとから構成されて
いる。また、本体槽24cの入口24aには開閉弁を有
する水道管Sが接続され、また出口24bにはポンプ2
5の入口が直接或いは中継パイプ24fを介して接続さ
れている。この塩素発生機24では水道水を電気分解す
ることにより次亜塩素酸イオン(clO- )を正電極2
4dの周辺で生成し、該イオン水をポンプ24によって
給水主管路21内に送り込み供給水に混入できる。
うに、側面上端に入口24aを側面下端に出口24bを
夫々有する本体槽24cと、本体槽24c内の出口寄り
位置に配置された正電極24dと、本体槽24c内の入
口寄り位置に配置された負電極24eとから構成されて
いる。また、本体槽24cの入口24aには開閉弁を有
する水道管Sが接続され、また出口24bにはポンプ2
5の入口が直接或いは中継パイプ24fを介して接続さ
れている。この塩素発生機24では水道水を電気分解す
ることにより次亜塩素酸イオン(clO- )を正電極2
4dの周辺で生成し、該イオン水をポンプ24によって
給水主管路21内に送り込み供給水に混入できる。
【0016】図1の1次浄水装置31は、図2にも示す
ように、高置タンク1の側面上下端に端部を接続された
循環管路32と、循環管路32の下方接続端寄り位置に
介装された循環用ポンプ33と、循環管路32のポンプ
出口側に介装された浄化槽34と、循環管路32のポン
プ33と浄化槽34との間から3方切換弁(以下、単に
切換弁という)35を介して分岐され浄化槽34に至る
再生管路36と、再生管路36に介装された温水生成槽
37とを具備している。
ように、高置タンク1の側面上下端に端部を接続された
循環管路32と、循環管路32の下方接続端寄り位置に
介装された循環用ポンプ33と、循環管路32のポンプ
出口側に介装された浄化槽34と、循環管路32のポン
プ33と浄化槽34との間から3方切換弁(以下、単に
切換弁という)35を介して分岐され浄化槽34に至る
再生管路36と、再生管路36に介装された温水生成槽
37とを具備している。
【0017】また、循環管路32のポンプ33と切換弁
35の間には同部分を流れる水の流量を検知する流量セ
ンサ32aが介装され、また切換弁35と浄化槽34と
の間には切換弁側から順にベンチュリ管32bと逆止弁
32cが介装され、さらに逆止弁32cと浄化槽34と
の間には排水弁32dを具備した排水管路32eが接続
されている。
35の間には同部分を流れる水の流量を検知する流量セ
ンサ32aが介装され、また切換弁35と浄化槽34と
の間には切換弁側から順にベンチュリ管32bと逆止弁
32cが介装され、さらに逆止弁32cと浄化槽34と
の間には排水弁32dを具備した排水管路32eが接続
されている。
【0018】上記のベンチュリ管32bは、図4にも示
すように、中央に向かって徐々に断面径が小さくなる管
材から成り、最小径部分に導入孔32b1を有してい
る。また、ベンチュリ管32bの導入孔32b1には、
無声放電式等のオゾン発生機32fの出口が直接或いは
中継パイプ32b2を介して接続されている。このベン
チュリ管32bではオゾン発生機32fで生成されたオ
ゾン(O3)を導入孔32b1を通じてベンチュリ管32
b内に取り込んで循環水に混入できる。
すように、中央に向かって徐々に断面径が小さくなる管
材から成り、最小径部分に導入孔32b1を有してい
る。また、ベンチュリ管32bの導入孔32b1には、
無声放電式等のオゾン発生機32fの出口が直接或いは
中継パイプ32b2を介して接続されている。このベン
チュリ管32bではオゾン発生機32fで生成されたオ
ゾン(O3)を導入孔32b1を通じてベンチュリ管32
b内に取り込んで循環水に混入できる。
【0019】さらに、循環管路32の浄化槽34の出口
側には浄化槽側から順に、同部分を流れる水の圧力を検
知する水圧センサ32gと、水の導電率を検知する導電
率センサ32hと、水の水素イオン濃度を検知するpH
センサ32iと、開閉弁32jが介装されている。
側には浄化槽側から順に、同部分を流れる水の圧力を検
知する水圧センサ32gと、水の導電率を検知する導電
率センサ32hと、水の水素イオン濃度を検知するpH
センサ32iと、開閉弁32jが介装されている。
【0020】上記の浄化槽34は、図5にも示すよう
に、下面中央に入口34aを上面中央に出口34bを夫
々有し、また側面下端に温水導入口34cを有する本体
槽34dと、本体槽34dの温水導入口34cよりも上
方に配置された整流板34eと、整流板34eの上側に
配置されたプレフィルタ34fと、プレフィルタ34f
の上側に配置された吸着層34gと、吸着層34gの上
側に配置された有底筒状の触媒層34hと、触媒層34
hの内側中央に配置されたUVランプ34iとから構成
されている。吸着層34gは繊維状或いは粒状活性炭か
ら形成され、また触媒層34hは有底筒状に成形された
ゼオライトの表面に触媒となる白金族系酸化物及び酸化
物系セラミックスの複合物を担持させて形成されその周
面部分には多数の孔(図示省略)が設けられている。
尚、白金族系酸化物としてはPt,Rd,Ru等の酸化
物等が、また酸化物系セラミックスとしてはルチル型或
いはアナタ−ゼ型の酸化チタン等が夫々使用される。
に、下面中央に入口34aを上面中央に出口34bを夫
々有し、また側面下端に温水導入口34cを有する本体
槽34dと、本体槽34dの温水導入口34cよりも上
方に配置された整流板34eと、整流板34eの上側に
配置されたプレフィルタ34fと、プレフィルタ34f
の上側に配置された吸着層34gと、吸着層34gの上
側に配置された有底筒状の触媒層34hと、触媒層34
hの内側中央に配置されたUVランプ34iとから構成
されている。吸着層34gは繊維状或いは粒状活性炭か
ら形成され、また触媒層34hは有底筒状に成形された
ゼオライトの表面に触媒となる白金族系酸化物及び酸化
物系セラミックスの複合物を担持させて形成されその周
面部分には多数の孔(図示省略)が設けられている。
尚、白金族系酸化物としてはPt,Rd,Ru等の酸化
物等が、また酸化物系セラミックスとしてはルチル型或
いはアナタ−ゼ型の酸化チタン等が夫々使用される。
【0021】上記の温水生成槽37は、図6にも示すよ
うに、上面中央に入口37aを下面中央に出口37bを
夫々有する本体槽37cと、本体層37cの周面に付設
されたパネル状の電熱ヒ−タ37dと、本体層37c内
に配置されたフロ−トスイッチ等の水位センサ37e
と、本体層37cの内壁に設けられたサ−ミスタ等の温
度センサ37fとから構成されている。
うに、上面中央に入口37aを下面中央に出口37bを
夫々有する本体槽37cと、本体層37cの周面に付設
されたパネル状の電熱ヒ−タ37dと、本体層37c内
に配置されたフロ−トスイッチ等の水位センサ37e
と、本体層37cの内壁に設けられたサ−ミスタ等の温
度センサ37fとから構成されている。
【0022】図1の2次浄水装置41は、図7にも示す
ように、枝管路22に介装された浄化槽42と、枝管路
22の浄化槽42の出口側に介装され同部分を流れる水
の圧力を検知する水圧センサ43とを具備している。
ように、枝管路22に介装された浄化槽42と、枝管路
22の浄化槽42の出口側に介装され同部分を流れる水
の圧力を検知する水圧センサ43とを具備している。
【0023】上記の浄化槽42は、上面一側に入口42
aを上面中央に出口42bを有する本体槽42cと、本
体槽42cの中央に出口42bに及んで配置された内筒
42dと、内筒42dの下端開口部に配置された整流板
42eと、整流板42eの上側に配置されたプレフィル
タ42fと、プレフィルタ42fの上側に配置された第
1吸着層42gと、第1吸着層42gの上側に配置され
た第2吸着層42hと、第2吸着層42hの上側に配置
された整流板42iと、整流板42iの上側中央に配置
された筒状の殺菌層42jと、殺菌層42jの内側に整
流板42iから内筒42dの上壁に及んで配置された筒
状の中空糸膜42kと、殺菌層42jの下端に差し込ま
れた棒状電極42lと、殺菌層42jの上端と僅かな隙
間を介して対向配置された平板状電極42mとから構成
されている。第1吸着層42gは活性炭或いはゼオライ
トの表面に白金族系酸化物、例えばPt,Rd,Ru等
の酸化物をコ−ティングして形成され、また第2吸着層
42hは粒状活性炭から形成されている。また、殺菌層
42jは繊維状活性炭或いは導電性繊維群から形成され
ている。
aを上面中央に出口42bを有する本体槽42cと、本
体槽42cの中央に出口42bに及んで配置された内筒
42dと、内筒42dの下端開口部に配置された整流板
42eと、整流板42eの上側に配置されたプレフィル
タ42fと、プレフィルタ42fの上側に配置された第
1吸着層42gと、第1吸着層42gの上側に配置され
た第2吸着層42hと、第2吸着層42hの上側に配置
された整流板42iと、整流板42iの上側中央に配置
された筒状の殺菌層42jと、殺菌層42jの内側に整
流板42iから内筒42dの上壁に及んで配置された筒
状の中空糸膜42kと、殺菌層42jの下端に差し込ま
れた棒状電極42lと、殺菌層42jの上端と僅かな隙
間を介して対向配置された平板状電極42mとから構成
されている。第1吸着層42gは活性炭或いはゼオライ
トの表面に白金族系酸化物、例えばPt,Rd,Ru等
の酸化物をコ−ティングして形成され、また第2吸着層
42hは粒状活性炭から形成されている。また、殺菌層
42jは繊維状活性炭或いは導電性繊維群から形成され
ている。
【0024】図1の浄水制御装置51は、図8にも示す
ように、CPU,メモリ及び入出力インタ−フェイス等
を具備したマイクロコンピュ−タ構成の制御部52と、
揚水用ポンプ12の駆動部53と、塩素発生機24の駆
動部54と、混入用ポンプ25の駆動部55と、循環用
ポンプ12の駆動部56と、切換弁35,排水弁32d
及び開閉弁32jの駆動部57と、オゾン発生機32f
の駆動部58と、UVランプ34iの駆動部59と、電
熱ヒ−タ37dの駆動部60と、浄化槽42の駆動部6
1と、CRT62を具備している。また、制御部52に
は、高置タンク1の水位センサ2と、給水主管路21の
塩素センサ26と、1次浄水装置31の流量センサ32
a,水圧センサ32g,導電率センサ32h,pHセン
サ32i,水位センサ37e及び温度センサ37fと、
2次浄水装置41の水圧センサ43が接続されている。
ように、CPU,メモリ及び入出力インタ−フェイス等
を具備したマイクロコンピュ−タ構成の制御部52と、
揚水用ポンプ12の駆動部53と、塩素発生機24の駆
動部54と、混入用ポンプ25の駆動部55と、循環用
ポンプ12の駆動部56と、切換弁35,排水弁32d
及び開閉弁32jの駆動部57と、オゾン発生機32f
の駆動部58と、UVランプ34iの駆動部59と、電
熱ヒ−タ37dの駆動部60と、浄化槽42の駆動部6
1と、CRT62を具備している。また、制御部52に
は、高置タンク1の水位センサ2と、給水主管路21の
塩素センサ26と、1次浄水装置31の流量センサ32
a,水圧センサ32g,導電率センサ32h,pHセン
サ32i,水位センサ37e及び温度センサ37fと、
2次浄水装置41の水圧センサ43が接続されている。
【0025】上記の制御部52では、各センサの検知信
号に基づき、メモリに記憶されたプログラムに従って各
駆動部に制御信号を送出すると共に、水質及び流通状態
に関わる情報をCRT62に出力する。
号に基づき、メモリに記憶されたプログラムに従って各
駆動部に制御信号を送出すると共に、水質及び流通状態
に関わる情報をCRT62に出力する。
【0026】ここで、図1に示した浄水システムにおけ
る高置タンク1への揚水動作について説明する。
る高置タンク1への揚水動作について説明する。
【0027】高置タンク1内の貯留水の水位は水位セン
サ2によって常時監視されており、貯留水の水位が所定
水位よりも低下すると揚水用ポンプ12が作動し、受水
タンク13内の水が揚水管路11を通じて高置タンク1
内に供給される。つまり、高置タンク1内の水位は、水
位センサ2の検知信号に基づく揚水用ポンプ12の断続
作動によって設定水位に近づくように制御される。
サ2によって常時監視されており、貯留水の水位が所定
水位よりも低下すると揚水用ポンプ12が作動し、受水
タンク13内の水が揚水管路11を通じて高置タンク1
内に供給される。つまり、高置タンク1内の水位は、水
位センサ2の検知信号に基づく揚水用ポンプ12の断続
作動によって設定水位に近づくように制御される。
【0028】次に、図1に示した浄水システムにおける
給水主管路21への塩素混入動作について説明する。
給水主管路21への塩素混入動作について説明する。
【0029】高置タンク1から給水主管路21に送り込
まれる水の塩素濃度は塩素センサ26によって常時監視
されており、同部分を流れる水の塩素濃度が0.1pp
mよりも低くなると混入用ポンプ25が作動し、塩素発
生機24で生成された次亜塩素酸イオンのイオン水が供
給水に混入される。混入用ポンプ25の運転率は上記水
位センサ2から得られる単位時間当りの水位変化量に比
例しており、供給水には水道基準相当の濃度(0.1p
pm以上)で塩素が含有される。
まれる水の塩素濃度は塩素センサ26によって常時監視
されており、同部分を流れる水の塩素濃度が0.1pp
mよりも低くなると混入用ポンプ25が作動し、塩素発
生機24で生成された次亜塩素酸イオンのイオン水が供
給水に混入される。混入用ポンプ25の運転率は上記水
位センサ2から得られる単位時間当りの水位変化量に比
例しており、供給水には水道基準相当の濃度(0.1p
pm以上)で塩素が含有される。
【0030】次に、図1に示した浄水システムにおける
第1浄水装置31の浄水動作について図9のフロ−チャ
−トを参照して説明する。
第1浄水装置31の浄水動作について図9のフロ−チャ
−トを参照して説明する。
【0031】運転が開始されると切換弁35が浄化槽側
に切換えられると共に、排水弁32dが閉じられ、開閉
弁32jが開かれる(図9のs1)。これと同時に、オ
ゾン発生機32fが作動されると共に、UVランプ34
iが点灯され、循環用ポンプ33が作動される(図9の
s2乃至s4)。
に切換えられると共に、排水弁32dが閉じられ、開閉
弁32jが開かれる(図9のs1)。これと同時に、オ
ゾン発生機32fが作動されると共に、UVランプ34
iが点灯され、循環用ポンプ33が作動される(図9の
s2乃至s4)。
【0032】これにより、高置タンク1内の貯留水が図
2の実線矢印に従って循環管路32及び浄化槽34を循
環する。この循環時にはベンチュリ管32b位置で循環
水にオゾンが混入され、該オゾンによって細菌が死滅す
る。また、浄化槽34に送り込まれた循環水は、プレフ
ィルタ24でごみ,錆,藻類等を除去され、また吸着層
34g及び触媒層34hで臭気や次亜塩素塩,有機塩素
化合物等を吸着されて除去されると共に、UVランプ3
4iからの紫外線によって細菌が死滅する。本例では、
活性炭から成る吸着層34gでトリハロメタン等の有機
塩素化合物が主に吸着され、またゼオライト及び触媒か
ら成る触媒層34hで次亜塩素塩及び陽イオンが主に吸
着される。
2の実線矢印に従って循環管路32及び浄化槽34を循
環する。この循環時にはベンチュリ管32b位置で循環
水にオゾンが混入され、該オゾンによって細菌が死滅す
る。また、浄化槽34に送り込まれた循環水は、プレフ
ィルタ24でごみ,錆,藻類等を除去され、また吸着層
34g及び触媒層34hで臭気や次亜塩素塩,有機塩素
化合物等を吸着されて除去されると共に、UVランプ3
4iからの紫外線によって細菌が死滅する。本例では、
活性炭から成る吸着層34gでトリハロメタン等の有機
塩素化合物が主に吸着され、またゼオライト及び触媒か
ら成る触媒層34hで次亜塩素塩及び陽イオンが主に吸
着される。
【0033】上記循環時において、水位センサ2から得
られる高置タンク1内の水位Lが設定水位Ls以上で、
且つ単位時間当りの水位変化量ΔAが設定値Aよりも大
きくなり、しかも導電率センサ32hから得られる循環
水の導電率dが設定範囲(d1〜d2)以内であると、
つまり高置タンク1内の水の動き(出入り)が増加し、
しかも循環水に含まれる有機系化合物の濃度及び重金属
イオンや細菌の濃度に異常がない場合には、オゾン発生
機32fが停止されると共に、切換弁35が温水生成槽
側に切換えられ、開閉弁32jが閉じられる(図9のs
5乃至s9)。
られる高置タンク1内の水位Lが設定水位Ls以上で、
且つ単位時間当りの水位変化量ΔAが設定値Aよりも大
きくなり、しかも導電率センサ32hから得られる循環
水の導電率dが設定範囲(d1〜d2)以内であると、
つまり高置タンク1内の水の動き(出入り)が増加し、
しかも循環水に含まれる有機系化合物の濃度及び重金属
イオンや細菌の濃度に異常がない場合には、オゾン発生
機32fが停止されると共に、切換弁35が温水生成槽
側に切換えられ、開閉弁32jが閉じられる(図9のs
5乃至s9)。
【0034】これにより、高置タンク1内の貯留水が図
2の破線矢印に従って再生管路36を通じて温水生成槽
37に送り込まれる。この給水によって温水生成槽37
内の水位Fが設定水位Fsまで上昇すると、循環用ポン
プ33が停止され、電熱ヒ−タ37dへの通電が開始さ
れる(図9のs10乃至s12)。そして、電熱ヒ−タ
37dの加熱により温水生成槽37内の水温が設定水
温、例えば70〜80℃になると、電熱ヒ−タ37dへ
の通電が停止され、排水弁32dが開かれる(図9のs
13乃至s15)。
2の破線矢印に従って再生管路36を通じて温水生成槽
37に送り込まれる。この給水によって温水生成槽37
内の水位Fが設定水位Fsまで上昇すると、循環用ポン
プ33が停止され、電熱ヒ−タ37dへの通電が開始さ
れる(図9のs10乃至s12)。そして、電熱ヒ−タ
37dの加熱により温水生成槽37内の水温が設定水
温、例えば70〜80℃になると、電熱ヒ−タ37dへ
の通電が停止され、排水弁32dが開かれる(図9のs
13乃至s15)。
【0035】これにより、浄化槽34内の水が排水管路
32eを通じて排水され、これに伴って温水生成槽37
内の温水が図2の破線矢印に従って該浄化槽34内に取
り込まれ、吸着層34g及び触媒層34hに吸着されて
いる次亜塩素塩及び有機塩素化合物が温水中に脱離し、
これらが触媒層34hの白金族系酸化物及び酸化物系セ
ラミックスの複合物(触媒)に接触しつつ紫外線を浴び
て光触媒反応によって分解され、分解分を含んだ温水が
排水管路32eを通じて外部に排出される。またこの
際、プレフィルタ34fに捕獲されているごみ,錆,藻
類等も水流によって離脱し、上記の分解分と共に排水管
路32eを通じて外部に排出される。
32eを通じて排水され、これに伴って温水生成槽37
内の温水が図2の破線矢印に従って該浄化槽34内に取
り込まれ、吸着層34g及び触媒層34hに吸着されて
いる次亜塩素塩及び有機塩素化合物が温水中に脱離し、
これらが触媒層34hの白金族系酸化物及び酸化物系セ
ラミックスの複合物(触媒)に接触しつつ紫外線を浴び
て光触媒反応によって分解され、分解分を含んだ温水が
排水管路32eを通じて外部に排出される。またこの
際、プレフィルタ34fに捕獲されているごみ,錆,藻
類等も水流によって離脱し、上記の分解分と共に排水管
路32eを通じて外部に排出される。
【0036】排水弁32dは温水生成槽37内の温水が
排水管路32eから完全に排出されるまで所定時間ts
だけ継続して開かれる(図9のs14)。この後はステ
ップs1に戻り、運転が停止されるまで上記の手順が繰
り返される。
排水管路32eから完全に排出されるまで所定時間ts
だけ継続して開かれる(図9のs14)。この後はステ
ップs1に戻り、運転が停止されるまで上記の手順が繰
り返される。
【0037】次に、図1に示した浄水システムにおける
第2浄水装置41の浄水動作について説明する。
第2浄水装置41の浄水動作について説明する。
【0038】各部屋に設けられた水栓23が開かれる
と、枝管路22に介装された浄化槽42内に水が流通す
る。浄化槽42に送り込まれた水は、プレフィルタ42
fでさらにごみ,錆,藻類等を除去され、また第1,第
2吸着層42g,42hで臭気や次亜塩素塩,有機塩素
化合物等を吸着されて除去される。本例では、白金族系
酸化物がコ−ティングされた第1吸着層42gで次亜塩
素塩及び陽イオンが主に吸着され、また第2吸着層42
hでトリハロメタン等の有機塩素化合物が主に吸着され
る。この流通時には両電極42l,42mに1.5V程
度の電圧が印加され、殺菌層42jでは該電圧印加によ
って細菌の繁殖が抑制される。また、中空糸膜42kに
よって微細な不純物及び細菌を除去される。
と、枝管路22に介装された浄化槽42内に水が流通す
る。浄化槽42に送り込まれた水は、プレフィルタ42
fでさらにごみ,錆,藻類等を除去され、また第1,第
2吸着層42g,42hで臭気や次亜塩素塩,有機塩素
化合物等を吸着されて除去される。本例では、白金族系
酸化物がコ−ティングされた第1吸着層42gで次亜塩
素塩及び陽イオンが主に吸着され、また第2吸着層42
hでトリハロメタン等の有機塩素化合物が主に吸着され
る。この流通時には両電極42l,42mに1.5V程
度の電圧が印加され、殺菌層42jでは該電圧印加によ
って細菌の繁殖が抑制される。また、中空糸膜42kに
よって微細な不純物及び細菌を除去される。
【0039】次に、図1に示した浄水システムにおける
水質監視について図10のフロ−チャ−トを参照して説
明する。
水質監視について図10のフロ−チャ−トを参照して説
明する。
【0040】1次浄水装置31の運転時には、浄化槽3
4の出口側に設けられた導電率センサ32hとpHセン
サ32iによって同部分を流れる水の導電率とpHが常
時監視されており、夫々の検出値はCRT62に随時表
示される(図10のs1,S2)。
4の出口側に設けられた導電率センサ32hとpHセン
サ32iによって同部分を流れる水の導電率とpHが常
時監視されており、夫々の検出値はCRT62に随時表
示される(図10のs1,S2)。
【0041】検出された導電率dが設定範囲(d1〜d
2)内にあり、またpHが5〜9の間にある時は、特段
の水質異常なしと判断されその検出値を表示するに止ま
るが(図10のs3,s4)、導電率dがd1よりも低
い場合には同部分を流れる水に有機系化合物が含まれ、
またd2よりも高い場合には同部分を流れる多くの細菌
及び必要以上の重金属イオンが含まれているとみなし、
同内容と浄化槽34の浄化能力が低下している旨が上記
の検出値と合わせてCRT62に表示される(図10の
s5)。また、pHが上記範囲を外れている場合には、
高置タンク1内の貯留水或いは浄化槽34内に異変が生
じているとみなし、同内容と飲用に不適である旨が上記
の検出値と合わせてCRT62に表示される(図10の
s6)。
2)内にあり、またpHが5〜9の間にある時は、特段
の水質異常なしと判断されその検出値を表示するに止ま
るが(図10のs3,s4)、導電率dがd1よりも低
い場合には同部分を流れる水に有機系化合物が含まれ、
またd2よりも高い場合には同部分を流れる多くの細菌
及び必要以上の重金属イオンが含まれているとみなし、
同内容と浄化槽34の浄化能力が低下している旨が上記
の検出値と合わせてCRT62に表示される(図10の
s5)。また、pHが上記範囲を外れている場合には、
高置タンク1内の貯留水或いは浄化槽34内に異変が生
じているとみなし、同内容と飲用に不適である旨が上記
の検出値と合わせてCRT62に表示される(図10の
s6)。
【0042】次に、図1に示した浄水システムにおける
流通状態監視について図11のフロ−チャ−トを参照し
て説明する。
流通状態監視について図11のフロ−チャ−トを参照し
て説明する。
【0043】1次浄水装置31と2次浄水装置41の運
転時には、夫々の浄化槽34,42の出口側に設けられ
た水圧センサ32g,43によって同部分を流れる水の
圧力が常時監視され、また循環用ポンプ33の出口側に
設けられた流量センサ32aによって同部分を流れる水
の流量が常時監視されており、夫々の検出値はCRT6
2に随時表示される(図11のs1,S2)。
転時には、夫々の浄化槽34,42の出口側に設けられ
た水圧センサ32g,43によって同部分を流れる水の
圧力が常時監視され、また循環用ポンプ33の出口側に
設けられた流量センサ32aによって同部分を流れる水
の流量が常時監視されており、夫々の検出値はCRT6
2に随時表示される(図11のs1,S2)。
【0044】各浄化槽34,42の出口側水圧Pが設定
水圧Ps以上で、また流量Qが設定流量Q以上の時は、
特段の流通異常なしと判断されその検出値を表示するに
止まるが(図11のs3,s4)、水圧Pが設定水圧P
sよりも低い場合には各浄化槽34,42に目詰りを生
じているとみなし、同内容と浄化槽34,42のメンテ
ナンスが必要である旨が上記の検出値と合わせてCRT
62に表示される(図11のs5)。また、流量Qは設
定流量Qよりも低い場合には、循環用ポンプ33に作動
不良を生じているか或いは循環管路32に損傷を生じて
いるとみなし、同内容とポンプ33及び管路32のメン
テナンスが必要である旨が上記の検出値と合わせてCR
T62に表示される(図11のs6)。
水圧Ps以上で、また流量Qが設定流量Q以上の時は、
特段の流通異常なしと判断されその検出値を表示するに
止まるが(図11のs3,s4)、水圧Pが設定水圧P
sよりも低い場合には各浄化槽34,42に目詰りを生
じているとみなし、同内容と浄化槽34,42のメンテ
ナンスが必要である旨が上記の検出値と合わせてCRT
62に表示される(図11のs5)。また、流量Qは設
定流量Qよりも低い場合には、循環用ポンプ33に作動
不良を生じているか或いは循環管路32に損傷を生じて
いるとみなし、同内容とポンプ33及び管路32のメン
テナンスが必要である旨が上記の検出値と合わせてCR
T62に表示される(図11のs6)。
【0045】このように上述の浄水システムによれば、
高置タンク1内の貯留水を1次浄水装置31に循環させ
て供給主管路21に送り込まれる水を浄化し、さらに枝
管路22を流れる水を2次浄水装置41で浄化するよう
にしているので、供給経路の異なる位置で2段の浄化を
施し、供給水の浄化を確実且つ効果的に行なって良質の
水を各部屋の水栓23に送り込める利点がある。
高置タンク1内の貯留水を1次浄水装置31に循環させ
て供給主管路21に送り込まれる水を浄化し、さらに枝
管路22を流れる水を2次浄水装置41で浄化するよう
にしているので、供給経路の異なる位置で2段の浄化を
施し、供給水の浄化を確実且つ効果的に行なって良質の
水を各部屋の水栓23に送り込める利点がある。
【0046】また、1次浄水装置31の浄化槽34の出
口側を流れる水の導電率とpHを随時表示することによ
り同部分を流れる水の水質を監視できると共に、該導電
率及びpHから水質異常が判別された場合にはトラブル
原因とメンテナンス指示及び警告を報知して水質管理を
容易に行なえる利点がある。
口側を流れる水の導電率とpHを随時表示することによ
り同部分を流れる水の水質を監視できると共に、該導電
率及びpHから水質異常が判別された場合にはトラブル
原因とメンテナンス指示及び警告を報知して水質管理を
容易に行なえる利点がある。
【0047】さらに、1次,2次浄水装置31,41の
浄化槽34,41の出口側を流れる水の圧力と、1次浄
水装置31のポンプ33の出口側を流れる水の流量を随
時表示することにより同部分を流れる水の流通状態を監
視できると共に、該水圧及び流量から流通異常が判別さ
れた場合にはトラブル原因とメンテナンス指示及び警告
を報知して流通管理を容易に行なえる利点がある。
浄化槽34,41の出口側を流れる水の圧力と、1次浄
水装置31のポンプ33の出口側を流れる水の流量を随
時表示することにより同部分を流れる水の流通状態を監
視できると共に、該水圧及び流量から流通異常が判別さ
れた場合にはトラブル原因とメンテナンス指示及び警告
を報知して流通管理を容易に行なえる利点がある。
【0048】図12には1次浄水装置の他の例を示して
ある。この1次浄水装置71は、高置タンクの側面上下
端に端部を接続された循環管路72と、循環管路72の
下方接続端寄り位置に介装された循環用ポンプ73と、
循環管路73のポンプ出口側に介装された図5同様の浄
化槽74と、循環管路72のポンプ73と浄化槽74と
の間から3方切換弁(以下、単に切換弁という)75を
介して分岐され浄化槽74に至る再生管路76と、再生
管路76に介装された図6同様の温水生成槽77とを具
備している。
ある。この1次浄水装置71は、高置タンクの側面上下
端に端部を接続された循環管路72と、循環管路72の
下方接続端寄り位置に介装された循環用ポンプ73と、
循環管路73のポンプ出口側に介装された図5同様の浄
化槽74と、循環管路72のポンプ73と浄化槽74と
の間から3方切換弁(以下、単に切換弁という)75を
介して分岐され浄化槽74に至る再生管路76と、再生
管路76に介装された図6同様の温水生成槽77とを具
備している。
【0049】また、循環管路72のポンプ73と切換弁
75の間には同部分を流れる水の流量を検知する流量セ
ンサ72aが介装され、また切換弁75と浄化槽74と
の間には切換弁側から順にベンチュリ管72bと逆止弁
72cが介装され、さらに逆止弁72cと浄化槽74と
の間には排水弁72dを具備した排水管路72eが接続
されている。ベンチュリ管72bは図4と同様のもの
で、その導入孔にはオゾン発生機72fの出口が接続さ
れている。
75の間には同部分を流れる水の流量を検知する流量セ
ンサ72aが介装され、また切換弁75と浄化槽74と
の間には切換弁側から順にベンチュリ管72bと逆止弁
72cが介装され、さらに逆止弁72cと浄化槽74と
の間には排水弁72dを具備した排水管路72eが接続
されている。ベンチュリ管72bは図4と同様のもの
で、その導入孔にはオゾン発生機72fの出口が接続さ
れている。
【0050】さらに、循環管路72の浄化槽74の出口
側には浄化槽側から順に、同部分を流れる水の圧力を検
知する水圧センサ72gと、水の導電率を検知する導電
率センサ72hと、水の水素イオン濃度を検知するpH
センサ72iと、開閉弁72jと72kが介装されてい
る。
側には浄化槽側から順に、同部分を流れる水の圧力を検
知する水圧センサ72gと、水の導電率を検知する導電
率センサ72hと、水の水素イオン濃度を検知するpH
センサ72iと、開閉弁72jと72kが介装されてい
る。
【0051】さらにまた、循環管路72の流量センサ7
2aと切換弁75の間と、開閉弁72j,72kの間と
の間には、ストレ−ナ79a内蔵の補助浄化槽79が介
装されたバイパス管路78が設けられており、また該バ
イパス管路78のポンプ側には、排水弁78aを具備し
た排水管路78bが接続されている。
2aと切換弁75の間と、開閉弁72j,72kの間と
の間には、ストレ−ナ79a内蔵の補助浄化槽79が介
装されたバイパス管路78が設けられており、また該バ
イパス管路78のポンプ側には、排水弁78aを具備し
た排水管路78bが接続されている。
【0052】上記の1次浄水装置71では、切換弁75
及び開閉弁72jを閉じることでポンプ73から送り出
された水を補助浄化槽79に循環させ、内蔵のストレ−
ナ79aで比較的大きな不純物を除去することが可能で
あり、ポンプ始動時或いは定期的に同循環を行なうこと
で浄化槽74の浄化負担を軽減できる。また、浄化槽7
4の循環時に開閉弁72kを閉じ排水弁78aを開ける
ことで補助浄化槽79に水を逆流させ、ストレ−ナ79
aに捕獲されている不純物を排水管路78bから外部に
排出し、ストレ−ナ79aの浄化能力を回復させること
ができる。他の作用は図2に示した1次浄水装置31と
同様である。
及び開閉弁72jを閉じることでポンプ73から送り出
された水を補助浄化槽79に循環させ、内蔵のストレ−
ナ79aで比較的大きな不純物を除去することが可能で
あり、ポンプ始動時或いは定期的に同循環を行なうこと
で浄化槽74の浄化負担を軽減できる。また、浄化槽7
4の循環時に開閉弁72kを閉じ排水弁78aを開ける
ことで補助浄化槽79に水を逆流させ、ストレ−ナ79
aに捕獲されている不純物を排水管路78bから外部に
排出し、ストレ−ナ79aの浄化能力を回復させること
ができる。他の作用は図2に示した1次浄水装置31と
同様である。
【0053】図13には2次浄水装置の他の例を示して
ある。この2次浄水装置81は、枝管路22に順に介装
された第1浄化槽82及び第2浄化槽83と、第2浄化
槽83の出口側に介装され同部分を流れる水の圧力を検
知する水圧センサ84とを具備している。
ある。この2次浄水装置81は、枝管路22に順に介装
された第1浄化槽82及び第2浄化槽83と、第2浄化
槽83の出口側に介装され同部分を流れる水の圧力を検
知する水圧センサ84とを具備している。
【0054】第1浄化槽82は、上面一側に入口82a
を上面中央に出口82bを有する本体槽82cと、本体
槽82cの中央に出口82bに及んで配置された内筒8
2dと、内筒82dの下端開口部に配置された整流板8
2eと、整流板82eの上側に配置された第1吸着層8
2fと、第1吸着層82fの上側に配置された第2吸着
層82gと、第2吸着層82gの上側に配置されたプレ
フィルタ82hとから構成されている。第1吸着層82
fは活性炭或いはゼオライトの表面に白金族系酸化物、
例えばPt,Rd,Ru等の酸化物をコ−ティングして
形成され、また第2吸着層82gは粒状活性炭から形成
されている。
を上面中央に出口82bを有する本体槽82cと、本体
槽82cの中央に出口82bに及んで配置された内筒8
2dと、内筒82dの下端開口部に配置された整流板8
2eと、整流板82eの上側に配置された第1吸着層8
2fと、第1吸着層82fの上側に配置された第2吸着
層82gと、第2吸着層82gの上側に配置されたプレ
フィルタ82hとから構成されている。第1吸着層82
fは活性炭或いはゼオライトの表面に白金族系酸化物、
例えばPt,Rd,Ru等の酸化物をコ−ティングして
形成され、また第2吸着層82gは粒状活性炭から形成
されている。
【0055】第2浄化槽83は、下面中央に入口83a
を上面中央に出口83bを有する本体槽83cと、周縁
に孔を有する底板及び周面に孔を有する筒部から成り本
体槽83c内に配置された整流体83dと、整流体83
dの筒部周囲に配置された中空糸膜83eと、中空糸膜
83eの周囲に配置された筒状の殺菌層83fと、殺菌
層83fの下端に差し込まれた棒状電極83gと、殺菌
層83fの上端と僅かな隙間を介して対向配置された平
板状電極83hとから構成されている。殺菌層83fは
繊維状活性炭或いは導電性繊維群から形成されている。
を上面中央に出口83bを有する本体槽83cと、周縁
に孔を有する底板及び周面に孔を有する筒部から成り本
体槽83c内に配置された整流体83dと、整流体83
dの筒部周囲に配置された中空糸膜83eと、中空糸膜
83eの周囲に配置された筒状の殺菌層83fと、殺菌
層83fの下端に差し込まれた棒状電極83gと、殺菌
層83fの上端と僅かな隙間を介して対向配置された平
板状電極83hとから構成されている。殺菌層83fは
繊維状活性炭或いは導電性繊維群から形成されている。
【0056】上記の2次浄水装置81は、先に述べた2
次浄水装置41の浄化槽42の内部機構を2槽に分離構
成したものであり、2次浄水装置41と同様の作用を発
揮できる。
次浄水装置41の浄化槽42の内部機構を2槽に分離構
成したものであり、2次浄水装置41と同様の作用を発
揮できる。
【0057】尚、上述の実施例では、水質を監視するた
めに1次浄水装置の浄化槽出口側に導電率センサとpH
センサを設けたものを示したが、同様のセンサを2次浄
水装置の浄化槽出口側に設けて同部分を流れる水の水質
を同時に監視するようにしてもよい。また、同様のセン
サを揚水管路や供給主管路等に設けるようにすれば、水
質監視及びそのトラブル原因解明をより詳しく行なうこ
とができる。さらに、水質監視には上記以外のセンサ、
例えば各種イオンを検知可能なイオンセンサ等を併用す
るようにしてもよい。
めに1次浄水装置の浄化槽出口側に導電率センサとpH
センサを設けたものを示したが、同様のセンサを2次浄
水装置の浄化槽出口側に設けて同部分を流れる水の水質
を同時に監視するようにしてもよい。また、同様のセン
サを揚水管路や供給主管路等に設けるようにすれば、水
質監視及びそのトラブル原因解明をより詳しく行なうこ
とができる。さらに、水質監視には上記以外のセンサ、
例えば各種イオンを検知可能なイオンセンサ等を併用す
るようにしてもよい。
【0058】また、流通状態を監視するために1次,2
次浄水装置の浄化槽出口側に水圧センサを設け、また1
次浄水装置のポンプ出口側に流量センサを設けたものを
示したが、流量センサを2次浄水装置側にも設けて該装
置を流れる水の流量を同時に監視するようにしてもよ
い。また、同様のセンサを揚水管路や供給主管路等に設
けるようにすれば、流通状態監視及びそのトラブル原因
解明をより詳しく行なうことができる。さらに、流通状
態監視には上記以外のセンサを併用するようにしてもよ
い。
次浄水装置の浄化槽出口側に水圧センサを設け、また1
次浄水装置のポンプ出口側に流量センサを設けたものを
示したが、流量センサを2次浄水装置側にも設けて該装
置を流れる水の流量を同時に監視するようにしてもよ
い。また、同様のセンサを揚水管路や供給主管路等に設
けるようにすれば、流通状態監視及びそのトラブル原因
解明をより詳しく行なうことができる。さらに、流通状
態監視には上記以外のセンサを併用するようにしてもよ
い。
【0059】さらに、1次,2次浄水装置は図示例のも
のに限らず、水の浄化,殺菌等を可能とした種々構造の
浄水装置を利用できることは勿論であり、1次浄水装置
の浄化槽出口側に2次浄水装置の浄化槽を介装したり、
或いは2次浄水装置の浄化槽入口側に1次浄水装置の浄
化槽を介装するようにしてもよい。また、1次浄水装置
における再生動作は循環水の導電率値に拘らず給水頻度
が低い夜間等に強制的に行なうようにしてもよく、また
温水生成槽の電熱ヒ−タは他の熱源や排熱を利用した装
置等であってもよい。さらに、再生時の脱離手段として
温水の代わりに水蒸気を使用してもよい。
のに限らず、水の浄化,殺菌等を可能とした種々構造の
浄水装置を利用できることは勿論であり、1次浄水装置
の浄化槽出口側に2次浄水装置の浄化槽を介装したり、
或いは2次浄水装置の浄化槽入口側に1次浄水装置の浄
化槽を介装するようにしてもよい。また、1次浄水装置
における再生動作は循環水の導電率値に拘らず給水頻度
が低い夜間等に強制的に行なうようにしてもよく、また
温水生成槽の電熱ヒ−タは他の熱源や排熱を利用した装
置等であってもよい。さらに、再生時の脱離手段として
温水の代わりに水蒸気を使用してもよい。
【0060】
【発明の効果】以上詳述したように、請求項1に係る浄
水システムによれば、貯水タンクから供給主管路に送り
込まれる水を1次浄水装置で浄化し、さらに枝管路を流
れる水を2次浄水装置で浄化するようにしているので、
供給経路の異なる位置で2段の浄化を施し、供給水の浄
化を確実且つ効果的に行なって良質の水を水栓等に送り
込める。
水システムによれば、貯水タンクから供給主管路に送り
込まれる水を1次浄水装置で浄化し、さらに枝管路を流
れる水を2次浄水装置で浄化するようにしているので、
供給経路の異なる位置で2段の浄化を施し、供給水の浄
化を確実且つ効果的に行なって良質の水を水栓等に送り
込める。
【0061】請求項2に係る浄水システムによれば、管
路を流れる水の水質を監視できると共に、該水質情報か
らトラブルを事前に察知したり、またトラブル原因を解
明して水質管理を容易に行なうことができる。
路を流れる水の水質を監視できると共に、該水質情報か
らトラブルを事前に察知したり、またトラブル原因を解
明して水質管理を容易に行なうことができる。
【0062】請求項3に係る浄水システムによれば、管
路を流れる水の流通状態を監視できると共に、該流通情
報からトラブルを事前に察知したり、またトラブル原因
を解明して流通管理を容易に行なうことができる。
路を流れる水の流通状態を監視できると共に、該流通情
報からトラブルを事前に察知したり、またトラブル原因
を解明して流通管理を容易に行なうことができる。
【図1】本発明を適用した浄水システムの概略構成図
【図2】図1に示した高置タンクと1次浄水装置の構成
図
図
【図3】図2に示した塩素発生機の断面図
【図4】図2に示したベンチュリ管の断面図
【図5】図2に示した浄化槽の断面図
【図6】図2に示した温水生成槽の断面図
【図7】図1に示した2次浄水装置の断面図
【図8】図1に示した浄水制御装置の構成図
【図9】1次浄水装置に係る浄水制御のフロ−チャ−ト
【図10】水質監視のフロ−チャ−ト
【図11】流通状態監視のフロ−チャ−ト
【図12】1次浄水装置の他の例を示す構成図
【図13】2次浄水装置の他の例を示す断面図
1…高置タンク、11…揚水管路、21…給水主管路、
22…枝管路、31…1次浄水装置、32a…流量セン
サ、32g…水圧センサ、32h…導電率センサ、32
i…pHセンサ、41…2次浄水装置、43…水圧セン
サ、51…浄水制御装置。
22…枝管路、31…1次浄水装置、32a…流量セン
サ、32g…水圧センサ、32h…導電率センサ、32
i…pHセンサ、41…2次浄水装置、43…水圧セン
サ、51…浄水制御装置。
Claims (3)
- 【請求項1】 供給水を一時的に貯留する貯水タンク
と、 貯水タンク内の水を給送する給水主管路及び枝管路と、 貯水タンクから給水主管路に送り込まれる水を浄化する
1次浄水手段と、 枝管路を流れる水を浄化する2次浄水手段とを具備し
た、 ことを特徴とする浄水システム。 - 【請求項2】 管路を流れる水の水質を検知する水質検
知手段と、 水質検知手段から得られた水質情報を報知する水質報知
手段とを設けた、 ことを特徴とする請求項1記載の浄水システム。 - 【請求項3】 管路を流れる水の流通状態を検知する流
通状態検知手段と、 流通状態検知手段から得られた流通情報を報知する流通
状態報知手段とを設けた、 ことを特徴とする請求項1または2記載の浄水システ
ム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23488692A JPH0679256A (ja) | 1992-09-02 | 1992-09-02 | 浄水システム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23488692A JPH0679256A (ja) | 1992-09-02 | 1992-09-02 | 浄水システム |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0679256A true JPH0679256A (ja) | 1994-03-22 |
Family
ID=16977866
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23488692A Pending JPH0679256A (ja) | 1992-09-02 | 1992-09-02 | 浄水システム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0679256A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07308678A (ja) * | 1994-05-18 | 1995-11-28 | Watanabe Kazumasa | 水槽内殺菌脱臭浄化システム |
| JP2011522698A (ja) * | 2008-11-11 | 2011-08-04 | ソウル、メトロポリタン、ガバメント | 残留オゾンを除去する上向流式オゾン接触槽 |
| CN105366741A (zh) * | 2014-08-29 | 2016-03-02 | 江苏开能华宇环保设备有限公司 | 一种新型全自动软水系统 |
| JP2016525939A (ja) * | 2013-06-07 | 2016-09-01 | エルブイディ アクイジション エルエルシー | オゾンを使用して、表面を衛生化する、および水を処理するための装置および方法 |
| CN109215233A (zh) * | 2017-07-07 | 2019-01-15 | 翼猫科技发展(上海)有限公司 | 公用净水机的管理系统、共享系统及其方法 |
| WO2020059491A1 (ja) * | 2018-09-19 | 2020-03-26 | 株式会社カネカ | 検査情報処理方法、検査情報処理装置、コンピュータプログラム及び学習モデル |
-
1992
- 1992-09-02 JP JP23488692A patent/JPH0679256A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07308678A (ja) * | 1994-05-18 | 1995-11-28 | Watanabe Kazumasa | 水槽内殺菌脱臭浄化システム |
| JP2011522698A (ja) * | 2008-11-11 | 2011-08-04 | ソウル、メトロポリタン、ガバメント | 残留オゾンを除去する上向流式オゾン接触槽 |
| JP2016525939A (ja) * | 2013-06-07 | 2016-09-01 | エルブイディ アクイジション エルエルシー | オゾンを使用して、表面を衛生化する、および水を処理するための装置および方法 |
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| CN109215233A (zh) * | 2017-07-07 | 2019-01-15 | 翼猫科技发展(上海)有限公司 | 公用净水机的管理系统、共享系统及其方法 |
| WO2020059491A1 (ja) * | 2018-09-19 | 2020-03-26 | 株式会社カネカ | 検査情報処理方法、検査情報処理装置、コンピュータプログラム及び学習モデル |
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