JPH0680526A - 抗菌材 - Google Patents
抗菌材Info
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- JPH0680526A JPH0680526A JP4233726A JP23372692A JPH0680526A JP H0680526 A JPH0680526 A JP H0680526A JP 4233726 A JP4233726 A JP 4233726A JP 23372692 A JP23372692 A JP 23372692A JP H0680526 A JPH0680526 A JP H0680526A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 塩素イオン含有水を変色させない銀錯塩を用
いた抗菌材 【構成】 酢酸銀、亜硫酸ナトリウム、チオ硫酸ナトリ
ウムにて生成したチオスルファト銀錯塩溶液にシリカゲ
ル加えて銀錯塩を担持させる。チオスルファト銀錯塩溶
液とシリカゲルとの混合物から銀錯塩を担持したシリカ
ゲルを分離する。銀錯塩を担持したシリカゲルとポリメ
チルメタアクリレートを粉体表面改質装置を用いて、回
転数１，５００ｒ．ｐ．ｍ．にて５分間処理して、オー
ダードミクスチャーを形成させる。さらに同装置で回転
数１０，０００ｒ．ｐ．ｍ．にて４分間の固定化および
成膜処理を施し、ポリメチルメタアクリレートでコーテ
ィングされた抗菌材を得る。
いた抗菌材 【構成】 酢酸銀、亜硫酸ナトリウム、チオ硫酸ナトリ
ウムにて生成したチオスルファト銀錯塩溶液にシリカゲ
ル加えて銀錯塩を担持させる。チオスルファト銀錯塩溶
液とシリカゲルとの混合物から銀錯塩を担持したシリカ
ゲルを分離する。銀錯塩を担持したシリカゲルとポリメ
チルメタアクリレートを粉体表面改質装置を用いて、回
転数１，５００ｒ．ｐ．ｍ．にて５分間処理して、オー
ダードミクスチャーを形成させる。さらに同装置で回転
数１０，０００ｒ．ｐ．ｍ．にて４分間の固定化および
成膜処理を施し、ポリメチルメタアクリレートでコーテ
ィングされた抗菌材を得る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、銀錯塩をシリカゲルに
担持させた抗菌材に関する。
担持させた抗菌材に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より、抗菌抗黴性材料をシリカゲル
等の多孔質粒体に担持させた抗菌材が知られている。こ
れらの抗菌材では、例えば一部有機窒素系抗菌材にて
は、該抗菌材あるいはこれを混合した合成樹脂と接触し
た水などの液中に溶出した抗菌成分が排水環境汚染の原
因となるほか、下水処理の活性汚泥に影響を及ぼすなど
の問題がある。また、このような環境汚染をもたらしに
くい抗菌材として、銀錯塩をシリカゲルに担持させた抗
菌材が提案されている。
等の多孔質粒体に担持させた抗菌材が知られている。こ
れらの抗菌材では、例えば一部有機窒素系抗菌材にて
は、該抗菌材あるいはこれを混合した合成樹脂と接触し
た水などの液中に溶出した抗菌成分が排水環境汚染の原
因となるほか、下水処理の活性汚泥に影響を及ぼすなど
の問題がある。また、このような環境汚染をもたらしに
くい抗菌材として、銀錯塩をシリカゲルに担持させた抗
菌材が提案されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところが、抗菌抗黴性
材料として銀錯塩を使用した抗菌材では、溶出した銀イ
オンが水道水などに含まれている塩素イオンと反応して
水を変色させることがあり、これが新たに問題とされて
いる。
材料として銀錯塩を使用した抗菌材では、溶出した銀イ
オンが水道水などに含まれている塩素イオンと反応して
水を変色させることがあり、これが新たに問題とされて
いる。
【０００４】そこで、本発明は環境汚染の原因となりに
くく、しかも塩素イオン含有水に使用しても水を変色さ
せない抗菌材を提供することを目的とする。
くく、しかも塩素イオン含有水に使用しても水を変色さ
せない抗菌材を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段及び作用】本発明は、かか
る課題を解決するための手段として次の構成を採用し
た。即ち、本発明の抗菌材は、銀錯塩を担持させたシリ
カゲルの表面に水不溶性ポリマのコーティング層を設け
たことを特徴とする。
る課題を解決するための手段として次の構成を採用し
た。即ち、本発明の抗菌材は、銀錯塩を担持させたシリ
カゲルの表面に水不溶性ポリマのコーティング層を設け
たことを特徴とする。
【０００６】以下、本発明につき更に詳しく説明する。
本発明で使用するシリカゲルの製造方法には特に限定は
なく、気相法、湿式法など公知の方法で製造可能であ
る。その粒径は特に限定されず、使用目的に応じて、適
宜の粒径のものを選択して使用できる。
本発明で使用するシリカゲルの製造方法には特に限定は
なく、気相法、湿式法など公知の方法で製造可能であ
る。その粒径は特に限定されず、使用目的に応じて、適
宜の粒径のものを選択して使用できる。
【０００７】例えば合成樹脂に混合する場合であれば、
その平均粒子径は約０．１〜１００μｍの範囲が好まし
い。この粒径範囲であると合成樹脂との混合効率が特に
良好となり、合成樹脂表面に均等に抗菌効果が得られ
る。抗菌材の粒径をこれ以下にしても合成樹脂表面にて
得られる抗菌効果には大きな差はなく、樹脂中で抗菌材
が凝集しやすく、分散不良になりやすい。また、抗菌材
の粒径が大きくなると、例えば混合した合成樹脂の引張
強度が部分的に下がることがある。したがって、合成樹
脂に混合する場合の抗菌材の粒径は上記の範囲が好まし
い。
その平均粒子径は約０．１〜１００μｍの範囲が好まし
い。この粒径範囲であると合成樹脂との混合効率が特に
良好となり、合成樹脂表面に均等に抗菌効果が得られ
る。抗菌材の粒径をこれ以下にしても合成樹脂表面にて
得られる抗菌効果には大きな差はなく、樹脂中で抗菌材
が凝集しやすく、分散不良になりやすい。また、抗菌材
の粒径が大きくなると、例えば混合した合成樹脂の引張
強度が部分的に下がることがある。したがって、合成樹
脂に混合する場合の抗菌材の粒径は上記の範囲が好まし
い。
【０００８】細孔容積、平均細孔径も、用途に応じて適
宜の範囲を選択し得る。使用可能な銀錯塩の形態には特
に限定はなく、亜硫酸塩、亜硫酸水素塩、両者の混合
物、チオスルファト塩などの形態で用いることができ
る。銀錯塩をシリカゲルに担持させる方法に特に限定は
ないが、上記形態の銀錯塩を溶質とする溶液中にシリカ
ゲルを加えて攪拌し、銀錯塩をシリカゲルに吸着させた
後、濾過あるいは蒸散などにてシリカゲルを溶液から分
離する方法が簡便である。
宜の範囲を選択し得る。使用可能な銀錯塩の形態には特
に限定はなく、亜硫酸塩、亜硫酸水素塩、両者の混合
物、チオスルファト塩などの形態で用いることができ
る。銀錯塩をシリカゲルに担持させる方法に特に限定は
ないが、上記形態の銀錯塩を溶質とする溶液中にシリカ
ゲルを加えて攪拌し、銀錯塩をシリカゲルに吸着させた
後、濾過あるいは蒸散などにてシリカゲルを溶液から分
離する方法が簡便である。
【０００９】水不溶性のポリマに限定はないが、例えば
ポリメチルメタアクリレート、ポリスチレン等が使用可
能である。銀錯塩を担持したシリカゲルに水不溶性のポ
リマのコーティング層を設ける方法も特に限定されな
い。例えば、粉体表面改質装置を用いる方法や、シリカ
ゲルを水に懸濁させて、懸濁液中のシリカゲル表面に沈
着させた難溶性の複塩を重合開始剤としてモノマを重合
させて、シリカゲルの表面上にポリマのコーティング層
を形成する開始剤沈着重合法がある。
ポリメチルメタアクリレート、ポリスチレン等が使用可
能である。銀錯塩を担持したシリカゲルに水不溶性のポ
リマのコーティング層を設ける方法も特に限定されな
い。例えば、粉体表面改質装置を用いる方法や、シリカ
ゲルを水に懸濁させて、懸濁液中のシリカゲル表面に沈
着させた難溶性の複塩を重合開始剤としてモノマを重合
させて、シリカゲルの表面上にポリマのコーティング層
を形成する開始剤沈着重合法がある。
【００１０】形成されるコーティング層の厚さは、シリ
カゲルとモノマの比、モノマの重合時間や温度、モノマ
と溶液の比等の反応条件によって調節可能であるが、シ
リカゲル粒子直径の１／１００〜１／５程度の範囲が好
ましい。コーティング層の厚さがシリカゲル粒子直径の
１／１００以下であると、担持された銀錯塩の経時放出
速度が大きくなり、徐放期間すなわち抗菌効果維持期間
が短くなると共に抗菌材が変色しやすくなる。また、コ
ーティング層の厚さがシリカゲル粒子直径の１／５を越
えると、銀錯塩の放出が過剰に制限されることがある。
カゲルとモノマの比、モノマの重合時間や温度、モノマ
と溶液の比等の反応条件によって調節可能であるが、シ
リカゲル粒子直径の１／１００〜１／５程度の範囲が好
ましい。コーティング層の厚さがシリカゲル粒子直径の
１／１００以下であると、担持された銀錯塩の経時放出
速度が大きくなり、徐放期間すなわち抗菌効果維持期間
が短くなると共に抗菌材が変色しやすくなる。また、コ
ーティング層の厚さがシリカゲル粒子直径の１／５を越
えると、銀錯塩の放出が過剰に制限されることがある。
【００１１】ただし、水不溶性ポリマのコーティング層
の厚さは、使用目的等に応じて適宜選定されればよく、
上記の範囲に限定されるものではない。銀錯塩の大部分
はシリカゲルの細孔に吸着されて担持される。細孔に吸
着された銀錯塩は徐々に放出されて周囲に抗菌効果を及
ぼす。表面に設けられた水不溶性ポリマのコーティング
層が銀錯塩の放出を制限し、長期にわたって抗菌材の効
能を維持する。
の厚さは、使用目的等に応じて適宜選定されればよく、
上記の範囲に限定されるものではない。銀錯塩の大部分
はシリカゲルの細孔に吸着されて担持される。細孔に吸
着された銀錯塩は徐々に放出されて周囲に抗菌効果を及
ぼす。表面に設けられた水不溶性ポリマのコーティング
層が銀錯塩の放出を制限し、長期にわたって抗菌材の効
能を維持する。
【００１２】水道水のような塩素イオンを含む水と接触
しても、その水を変色させない理由は明確ではないが、
水不溶性ポリマのコーティング層を設けたことにより疎
水性の表面となり、水と接触しにくくなるためと考えら
れる。
しても、その水を変色させない理由は明確ではないが、
水不溶性ポリマのコーティング層を設けたことにより疎
水性の表面となり、水と接触しにくくなるためと考えら
れる。
【００１３】
【実施例】以下に好適な実施例をあげて本発明を詳細に
説明する。 （実施例１）４０℃のイオン交換水３００ｍｌに酢酸銀
２．３２ｇを加えてホモジナイザで約５分間攪拌し、酢
酸銀溶液を得た。この酢酸銀溶液に亜硫酸ナトリウム１
０．０ｇを攪拌しながら加え、溶液が透明になるまで攪
拌を継続した。その後、この溶液にチオ硫酸ナトリウム
６．６ｇを加えて約５分間攪拌し、チオスルファト銀錯
塩溶液を得た。
説明する。 （実施例１）４０℃のイオン交換水３００ｍｌに酢酸銀
２．３２ｇを加えてホモジナイザで約５分間攪拌し、酢
酸銀溶液を得た。この酢酸銀溶液に亜硫酸ナトリウム１
０．０ｇを攪拌しながら加え、溶液が透明になるまで攪
拌を継続した。その後、この溶液にチオ硫酸ナトリウム
６．６ｇを加えて約５分間攪拌し、チオスルファト銀錯
塩溶液を得た。
【００１４】このチオスルファト銀錯塩溶液に平均粒子
径２．６μｍのシリカゲル（商品名サイロイド＃５５、
富士デヴィソン化学(株)製）５０．０ｇを加えて約１０
分間攪拌し、シリカゲルに銀錯塩を担持させた。続い
て、チオスルファト銀錯塩溶液とシリカゲルとの混合物
をロータリーエバポレータ（商品名ロータリーエバポレ
ーターＲＥ４７、ヤマト科学(株)製）にて、温度約５０
℃、圧力を約３０００Ｐａ以下に保って溶媒成分を蒸発
させて除去し、銀錯塩を担持したシリカゲルを得た。
径２．６μｍのシリカゲル（商品名サイロイド＃５５、
富士デヴィソン化学(株)製）５０．０ｇを加えて約１０
分間攪拌し、シリカゲルに銀錯塩を担持させた。続い
て、チオスルファト銀錯塩溶液とシリカゲルとの混合物
をロータリーエバポレータ（商品名ロータリーエバポレ
ーターＲＥ４７、ヤマト科学(株)製）にて、温度約５０
℃、圧力を約３０００Ｐａ以下に保って溶媒成分を蒸発
させて除去し、銀錯塩を担持したシリカゲルを得た。
【００１５】上記にて得た銀錯塩を担持したシリカゲル
２５．０ｇと粒径０．５μｍのポリメチルメタアクリレ
ート（商品名ＭＰ−１０００、綜研化学(株)製）１１．
４ｇを粉体表面改質装置（商品名ハイブリダリゼーショ
ンシステムＮＨＳ−Ｏ型、(株)奈良機械製作所製）を用
いて、回転数１，５００ｒ．ｐ．ｍ．にて５分間処理し
て、オーダードミクスチャーを形成させた。さらに同装
置で回転数１０，０００ｒ．ｐ．ｍ．にて４分間の固定
化および成膜処理を施し、抗菌材を得た。
２５．０ｇと粒径０．５μｍのポリメチルメタアクリレ
ート（商品名ＭＰ−１０００、綜研化学(株)製）１１．
４ｇを粉体表面改質装置（商品名ハイブリダリゼーショ
ンシステムＮＨＳ−Ｏ型、(株)奈良機械製作所製）を用
いて、回転数１，５００ｒ．ｐ．ｍ．にて５分間処理し
て、オーダードミクスチャーを形成させた。さらに同装
置で回転数１０，０００ｒ．ｐ．ｍ．にて４分間の固定
化および成膜処理を施し、抗菌材を得た。
【００１６】ＳＥＭでの観察では、オーダードミクスチ
ャーの形成、固定化および成膜処理はいずれも良好であ
った。ポリメチルメタアクリレートのコーティング層の
厚さは約０．１〜０．４μｍであった。 （ＭＩＣ（最小発育阻止濃度）の測定）上記実施例１で
得た抗菌材を試料として、以下の方法で最小発育阻止濃
度を測定した。
ャーの形成、固定化および成膜処理はいずれも良好であ
った。ポリメチルメタアクリレートのコーティング層の
厚さは約０．１〜０．４μｍであった。 （ＭＩＣ（最小発育阻止濃度）の測定）上記実施例１で
得た抗菌材を試料として、以下の方法で最小発育阻止濃
度を測定した。
【００１７】即ち、任意濃度にて試料を添加した複数の
寒天平板培地に接種用菌液を接種し培養する。菌が発育
を阻止された際の、試料の最低濃度を最小発育阻止濃度
とした。結果を表１に示す。寒天平板培地の調整、接種
用菌液の調整及び培養は、以下のようになされた。 ・寒天平板培地の調製 滅菌精製水で、次の濃度の試料懸濁液を調整した。試料
濃度は、４０，０００ｐｐｍ、２０，０００ｐｐｍ、１
０，０００ｐｐｍ、５，０００ｐｐｍ、２，５００ｐｐ
ｍ、１，２５０ｐｐｍ、６２５ｐｐｍ、３１３ｐｐｍ、
１５６ｐｐｍ、７８ｐｐｍである。
寒天平板培地に接種用菌液を接種し培養する。菌が発育
を阻止された際の、試料の最低濃度を最小発育阻止濃度
とした。結果を表１に示す。寒天平板培地の調整、接種
用菌液の調整及び培養は、以下のようになされた。 ・寒天平板培地の調製 滅菌精製水で、次の濃度の試料懸濁液を調整した。試料
濃度は、４０，０００ｐｐｍ、２０，０００ｐｐｍ、１
０，０００ｐｐｍ、５，０００ｐｐｍ、２，５００ｐｐ
ｍ、１，２５０ｐｐｍ、６２５ｐｐｍ、３１３ｐｐｍ、
１５６ｐｐｍ、７８ｐｐｍである。
【００１８】次に、溶解後５０〜６０℃となった感受性
測定用培地（Ｍｕｅｌｌｅｒ−Ｈｉｎｔｏｎ寒天培地
（ＤＩＦＣＯ社製））に、上記の各懸濁液を培地の１／
９量加えて、充分に混合した後、シャーレに分けて固化
させ、寒天平板培地とした。また、実施例１で使用した
のと同じシリカゲルを試料として、上記と同様に寒天平
板培地を調製し、これを比較例１とした。 ・接種用菌液の調製 増菌用培地［ミューラー ヒントン ブロス（Ｍｕｅｌ
ｌｅｒ−ＨｉｎｔｏｎＢｒｏｔｈ）（ＤＩＦＣＯ社
製）］にて、３５℃で一夜培養した試験菌株の菌液を同
培地で希釈し、１ｍｌ当りの菌数が約１０6になるよう
に調製した。使用した試験菌株は以下のとおりである。
測定用培地（Ｍｕｅｌｌｅｒ−Ｈｉｎｔｏｎ寒天培地
（ＤＩＦＣＯ社製））に、上記の各懸濁液を培地の１／
９量加えて、充分に混合した後、シャーレに分けて固化
させ、寒天平板培地とした。また、実施例１で使用した
のと同じシリカゲルを試料として、上記と同様に寒天平
板培地を調製し、これを比較例１とした。 ・接種用菌液の調製 増菌用培地［ミューラー ヒントン ブロス（Ｍｕｅｌ
ｌｅｒ−ＨｉｎｔｏｎＢｒｏｔｈ）（ＤＩＦＣＯ社
製）］にて、３５℃で一夜培養した試験菌株の菌液を同
培地で希釈し、１ｍｌ当りの菌数が約１０6になるよう
に調製した。使用した試験菌株は以下のとおりである。
【００１９】大腸菌：エスケリチャ コーライ（Ｅｓｃ
ｈｅｒｉｃｈｉａ ｃｏｌｉ） ＩＦＯ ３３０１ 黄色ブドウ球菌：スタフィロコッカス オーレオス（Ｓ
ｔａｐｈｙｌｏｃｏｃｃｕｓ ａｕｒｅｕｓ） ＩＦＯ
１２７３２ ・培養 接種用菌液を寒天平板培地に、ニクロム線ループ（内径
約１ｍｍ）で２ｃｍ程度画線塗抹し、３５℃で１日間培
養した。
ｈｅｒｉｃｈｉａ ｃｏｌｉ） ＩＦＯ ３３０１ 黄色ブドウ球菌：スタフィロコッカス オーレオス（Ｓ
ｔａｐｈｙｌｏｃｏｃｃｕｓ ａｕｒｅｕｓ） ＩＦＯ
１２７３２ ・培養 接種用菌液を寒天平板培地に、ニクロム線ループ（内径
約１ｍｍ）で２ｃｍ程度画線塗抹し、３５℃で１日間培
養した。
【００２０】
【表１】
【００２１】表１から明らかなように、実施例１の抗菌
材を試料として混合した寒天平板培地では、抗菌性成分
として毒性の低い銀錯塩を使用しているにもかかわら
ず、比較例１の寒天平板培地よりもはるかに低い混合濃
度で菌の発育を阻止する。 （実施例２）４０℃のイオン交換水３００ｍｌに酢酸銀
２．３２ｇを加えてホモジナイザで約５分間攪拌し、酢
酸銀溶液を得た。この酢酸銀溶液に亜硫酸ナトリウム１
０．０ｇを攪拌しながら加え、溶液が透明になるまで攪
拌を継続した。その後、この溶液にチオ硫酸ナトリウム
６．６ｇを加えて約５分間攪拌し、チオスルファト銀錯
塩溶液を得た。
材を試料として混合した寒天平板培地では、抗菌性成分
として毒性の低い銀錯塩を使用しているにもかかわら
ず、比較例１の寒天平板培地よりもはるかに低い混合濃
度で菌の発育を阻止する。 （実施例２）４０℃のイオン交換水３００ｍｌに酢酸銀
２．３２ｇを加えてホモジナイザで約５分間攪拌し、酢
酸銀溶液を得た。この酢酸銀溶液に亜硫酸ナトリウム１
０．０ｇを攪拌しながら加え、溶液が透明になるまで攪
拌を継続した。その後、この溶液にチオ硫酸ナトリウム
６．６ｇを加えて約５分間攪拌し、チオスルファト銀錯
塩溶液を得た。
【００２２】このチオスルファト銀錯塩溶液に平均粒子
径２．６μｍのシリカゲル（商品名サイロイド＃５５、
富士デヴィソン化学(株)製）５０．０ｇを加えて約１０
分間攪拌し、シリカゲルに銀錯塩を担持させた。続い
て、チオスルファト銀錯塩溶液とシリカゲルとの混合物
をロータリーエバポレータ（商品名ロータリーエバポレ
ーターＲＥ４７、ヤマト科学(株)製）にて、温度約５０
℃、圧力を約３０００Ｐａ以下に保って溶媒成分を蒸発
させて除去し、銀錯塩を担持したシリカゲルを得た。
径２．６μｍのシリカゲル（商品名サイロイド＃５５、
富士デヴィソン化学(株)製）５０．０ｇを加えて約１０
分間攪拌し、シリカゲルに銀錯塩を担持させた。続い
て、チオスルファト銀錯塩溶液とシリカゲルとの混合物
をロータリーエバポレータ（商品名ロータリーエバポレ
ーターＲＥ４７、ヤマト科学(株)製）にて、温度約５０
℃、圧力を約３０００Ｐａ以下に保って溶媒成分を蒸発
させて除去し、銀錯塩を担持したシリカゲルを得た。
【００２３】上記にて得た銀錯塩を担持したシリカゲル
２０ｇをイオン交換水５００ｍｌ中に分散させてシリカ
ゲル懸濁液とした。このシリカゲル懸濁液にセチルトリ
メチルアンモニウムブロミド（ＣＴＡＢｒ）２．１３ｇ
を加え、攪拌しながら、さらに過硫酸カリウム０．５４
ｇを加え、生成した難溶性の複塩をシリカゲル表面に沈
着させた。
２０ｇをイオン交換水５００ｍｌ中に分散させてシリカ
ゲル懸濁液とした。このシリカゲル懸濁液にセチルトリ
メチルアンモニウムブロミド（ＣＴＡＢｒ）２．１３ｇ
を加え、攪拌しながら、さらに過硫酸カリウム０．５４
ｇを加え、生成した難溶性の複塩をシリカゲル表面に沈
着させた。
【００２４】次いで、該液中にスチレンモノマ６．３１
ｇを加えて、恒温槽中にて５０℃で５時間保持し、スチ
レンを重合させた。その後、クペロンを加えて重合反応
を停止させた。重合反応停止後、吸引濾過にて沈澱物を
分離した。
ｇを加えて、恒温槽中にて５０℃で５時間保持し、スチ
レンを重合させた。その後、クペロンを加えて重合反応
を停止させた。重合反応停止後、吸引濾過にて沈澱物を
分離した。
【００２５】沈澱物にイオン交換水洗浄およびメタノー
ル洗浄を施し、常圧乾燥後、真空乾燥機で圧力約３００
０Ｐａ、温度６０℃、１２時間乾燥して抗菌材を得た。
ポリスチレンのコーティング層の厚さは約０．１〜０．
５μｍであった。難溶性の複塩を生成させる素材として
は、上記セチルトリメチルアンモニウムブロミド（ＣＴ
ＡＢｒ）と過硫酸カリウムとの組合せの他に、オクチル
トリメチルアンモニウムブロミド、ラウリルトリメチル
アンモニウムブロミド、ステアリルトリメチルアンモニ
ウムブロミド等のＣ6〜Ｃ18程度の長鎖のアルキルアン
モニウム四級塩と、過硫酸カリウム又は過硫酸アンモニ
ウムのいずれかとの組合せが可能である。
ル洗浄を施し、常圧乾燥後、真空乾燥機で圧力約３００
０Ｐａ、温度６０℃、１２時間乾燥して抗菌材を得た。
ポリスチレンのコーティング層の厚さは約０．１〜０．
５μｍであった。難溶性の複塩を生成させる素材として
は、上記セチルトリメチルアンモニウムブロミド（ＣＴ
ＡＢｒ）と過硫酸カリウムとの組合せの他に、オクチル
トリメチルアンモニウムブロミド、ラウリルトリメチル
アンモニウムブロミド、ステアリルトリメチルアンモニ
ウムブロミド等のＣ6〜Ｃ18程度の長鎖のアルキルアン
モニウム四級塩と、過硫酸カリウム又は過硫酸アンモニ
ウムのいずれかとの組合せが可能である。
【００２６】また、上記長鎖のアルキルアンモニウム四
級塩と過硫酸カリウム又は過硫酸アンモニウムとのモル
比を、１：２〜１：４に設定すると、反応が好適に行わ
れ、均一な被覆が行われるので望ましい。上記難溶性の
複塩とは、例えば、過硫酸ジ（セチルトリメチルアンモ
ニウム）｛［Ｃ16Ｈ33Ｎ+（ＣＨ3）3］2Ｓ2Ｏ8｝であ
る。
級塩と過硫酸カリウム又は過硫酸アンモニウムとのモル
比を、１：２〜１：４に設定すると、反応が好適に行わ
れ、均一な被覆が行われるので望ましい。上記難溶性の
複塩とは、例えば、過硫酸ジ（セチルトリメチルアンモ
ニウム）｛［Ｃ16Ｈ33Ｎ+（ＣＨ3）3］2Ｓ2Ｏ8｝であ
る。
【００２７】なお、重合反応の促進は、加熱によってな
されてもよいし、レドックス系の開始剤として還元剤を
添加してもよい。レドックス系の開始剤を用いる場合の
還元剤としては、ＮａＨＳＯ3やアミン類が好適であ
る。 （ＭＩＣ（最小発育阻止濃度）の測定）上記実施例２で
得た抗菌材を試料として、上記実施例１におけると同様
の方法で最小発育阻止濃度を測定した。また、下記にて
調製した抗菌材を比較例２として同様に最小発育阻止濃
度を測定した。 （比較例２）イオン交換水６０ｍｌを４０℃に加熱し、
それに酢酸銀０．４６ｇを加え、４０〜５０℃で約５分
間攪拌した後濾紙（Ｎｏ．２）で濾過し、未溶解の酢酸
銀を除去する。こうして得られた溶液に、亜硫酸ナトリ
ウム２．０ｇを攪拌しながら加えた。亜硫酸ナトリウム
を加えて白く濁った溶液が透明になるまで攪拌し、その
後、チオ硫酸ナトリウム１．３２ｇを加えて攪拌し、シ
リカゲル（製品名「サイロイド＃５５」：富士デヴィソ
ン化学(株)製）を１０．０ｇ加えて、１０分間攪拌し、
シリカゲルに銀錯塩を担持させた。この後、このチオス
ルファト銀錯塩溶液とシリカゲルとの混合物を、ロータ
リエバポレータ（製品名「ロータリーエバポレーターＲ
Ｅ４７」：ヤマト科学(株)製）に入れて温度５０℃、約
３０００Ｐａ以下にて溶媒成分を蒸発させ除去した。そ
の後、得られたシリカゲルを更にロータリエバポレータ
にて温度５０℃、約３０００Ｐａ以下のもとで１２時間
真空乾燥した。
されてもよいし、レドックス系の開始剤として還元剤を
添加してもよい。レドックス系の開始剤を用いる場合の
還元剤としては、ＮａＨＳＯ3やアミン類が好適であ
る。 （ＭＩＣ（最小発育阻止濃度）の測定）上記実施例２で
得た抗菌材を試料として、上記実施例１におけると同様
の方法で最小発育阻止濃度を測定した。また、下記にて
調製した抗菌材を比較例２として同様に最小発育阻止濃
度を測定した。 （比較例２）イオン交換水６０ｍｌを４０℃に加熱し、
それに酢酸銀０．４６ｇを加え、４０〜５０℃で約５分
間攪拌した後濾紙（Ｎｏ．２）で濾過し、未溶解の酢酸
銀を除去する。こうして得られた溶液に、亜硫酸ナトリ
ウム２．０ｇを攪拌しながら加えた。亜硫酸ナトリウム
を加えて白く濁った溶液が透明になるまで攪拌し、その
後、チオ硫酸ナトリウム１．３２ｇを加えて攪拌し、シ
リカゲル（製品名「サイロイド＃５５」：富士デヴィソ
ン化学(株)製）を１０．０ｇ加えて、１０分間攪拌し、
シリカゲルに銀錯塩を担持させた。この後、このチオス
ルファト銀錯塩溶液とシリカゲルとの混合物を、ロータ
リエバポレータ（製品名「ロータリーエバポレーターＲ
Ｅ４７」：ヤマト科学(株)製）に入れて温度５０℃、約
３０００Ｐａ以下にて溶媒成分を蒸発させ除去した。そ
の後、得られたシリカゲルを更にロータリエバポレータ
にて温度５０℃、約３０００Ｐａ以下のもとで１２時間
真空乾燥した。
【００２８】こうして得られた銀錯塩を担持したシリカ
ゲルに、以下のようにしてコーティングを施した。ま
ず、メチルアルコール１０ｍｌ、テトラエトキシシラン
１０ｍｌ、銀錯塩を担持したシリカゲル１０ｇおよびイ
オン交換水０．２ｍｌとをロータリエバポレータにいれ
て、温度５０℃、約３０００Ｐａ以下にて溶媒成分の除
去を行うと同時にシリカコーティングを施す。固化した
ものをロータリエバポレータにて、温度５０℃、約３０
００Ｐａ以下にて１２時間真空乾燥させ、抗菌材を得
た。
ゲルに、以下のようにしてコーティングを施した。ま
ず、メチルアルコール１０ｍｌ、テトラエトキシシラン
１０ｍｌ、銀錯塩を担持したシリカゲル１０ｇおよびイ
オン交換水０．２ｍｌとをロータリエバポレータにいれ
て、温度５０℃、約３０００Ｐａ以下にて溶媒成分の除
去を行うと同時にシリカコーティングを施す。固化した
ものをロータリエバポレータにて、温度５０℃、約３０
００Ｐａ以下にて１２時間真空乾燥させ、抗菌材を得
た。
【００２９】実施例２の抗菌材および比較例２の抗菌材
による最小発育阻止濃度の測定結果を表２に示す。ただ
し、使用した菌株は次のものであるが、その培養は上記
実施例１と同様に行った。 黄色ブドウ球菌：スタフィロコッカス オーレオス（Ｓ
ｔａｐｈｙｌｏｃｏｃｃｕｓ ａｕｒｅｕｓ） ＩＦＯ
１２７３２
による最小発育阻止濃度の測定結果を表２に示す。ただ
し、使用した菌株は次のものであるが、その培養は上記
実施例１と同様に行った。 黄色ブドウ球菌：スタフィロコッカス オーレオス（Ｓ
ｔａｐｈｙｌｏｃｏｃｃｕｓ ａｕｒｅｕｓ） ＩＦＯ
１２７３２
【００３０】
【表２】
【００３１】表２から明らかなように、実施例２の抗菌
材を試料として混合した寒天平板培地では、比較例２の
寒天平板培地よりもはるかに低い混合濃度で菌の発育を
阻止する。 （水変色試験）実施例１および実施例２の抗菌材をそれ
ぞれ充填したカラムに水道水を通過、接触させて水の変
色をテストした。
材を試料として混合した寒天平板培地では、比較例２の
寒天平板培地よりもはるかに低い混合濃度で菌の発育を
阻止する。 （水変色試験）実施例１および実施例２の抗菌材をそれ
ぞれ充填したカラムに水道水を通過、接触させて水の変
色をテストした。
【００３２】実施例１の抗菌材カラムおよび実施例２の
抗菌材カラムともに、カラムを通過した水道水に変色は
認められなかった。なお、上記実施例１および実施例２
にては、銀錯塩源としてチオスルファト銀錯塩を用いた
が、亜硫酸塩、亜硫酸水素塩、両者の混合物などを用い
ることができる。銀イオン源としても酢酸銀の他に各種
の銀塩を用いることができる。
抗菌材カラムともに、カラムを通過した水道水に変色は
認められなかった。なお、上記実施例１および実施例２
にては、銀錯塩源としてチオスルファト銀錯塩を用いた
が、亜硫酸塩、亜硫酸水素塩、両者の混合物などを用い
ることができる。銀イオン源としても酢酸銀の他に各種
の銀塩を用いることができる。
【００３３】
【発明の効果】以上述べたように、本発明の抗菌材は抗
菌抗黴材料として銀錯塩を用いているので環境汚染の原
因となりにくい。しかも塩素イオンを含有する水に使用
しても水を変色させない。
菌抗黴材料として銀錯塩を用いているので環境汚染の原
因となりにくい。しかも塩素イオンを含有する水に使用
しても水を変色させない。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 西野 敦 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 矢口 和彦 愛知県春日井市高蔵寺町２丁目1846番地 富士デヴィソン化学株式会社内 (72)発明者 山本 耕造 愛知県春日井市高蔵寺町２丁目1846番地 富士デヴィソン化学株式会社内
Claims (3)
- 【請求項１】 銀錯塩を担持させたシリカゲルの表面に
水不溶性ポリマのコーティング層を設けたことを特徴と
する抗菌材。 - 【請求項２】 前記水不溶性ポリマが、ポリメチルメタ
アクリレートであることを特徴とする請求項１記載の抗
菌材。 - 【請求項３】 前記水不溶性ポリマが、ポリスチレンで
あることを特徴とする請求項１記載の抗菌材。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4233726A JPH07108847B2 (ja) | 1992-09-01 | 1992-09-01 | 抗菌材 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4233726A JPH07108847B2 (ja) | 1992-09-01 | 1992-09-01 | 抗菌材 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0680526A true JPH0680526A (ja) | 1994-03-22 |
| JPH07108847B2 JPH07108847B2 (ja) | 1995-11-22 |
Family
ID=16959612
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4233726A Expired - Fee Related JPH07108847B2 (ja) | 1992-09-01 | 1992-09-01 | 抗菌材 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07108847B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB201109731D0 (en) | 2011-06-10 | 2011-07-27 | System Ltd X | Method and system for analysing audio tracks |
| GB201718894D0 (en) | 2017-11-15 | 2017-12-27 | X-System Ltd | Russel space |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01283204A (ja) * | 1988-05-09 | 1989-11-14 | Shinagawa Nenryo Kk | 抗菌性アルミノケイ酸塩 |
| JPH02292201A (ja) * | 1989-05-02 | 1990-12-03 | Yoshio Ichikawa | 抗菌性シリカゲルおよび抗菌性樹脂 |
| JPH0466512A (ja) * | 1990-06-29 | 1992-03-02 | Sintokogio Ltd | 表面がポリウレタン樹脂で被覆された無機抗菌剤およびその製造方法並びに抗菌性樹脂組成物 |
-
1992
- 1992-09-01 JP JP4233726A patent/JPH07108847B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01283204A (ja) * | 1988-05-09 | 1989-11-14 | Shinagawa Nenryo Kk | 抗菌性アルミノケイ酸塩 |
| JPH02292201A (ja) * | 1989-05-02 | 1990-12-03 | Yoshio Ichikawa | 抗菌性シリカゲルおよび抗菌性樹脂 |
| JPH0466512A (ja) * | 1990-06-29 | 1992-03-02 | Sintokogio Ltd | 表面がポリウレタン樹脂で被覆された無機抗菌剤およびその製造方法並びに抗菌性樹脂組成物 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07108847B2 (ja) | 1995-11-22 |
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