JPH0681618U - 気液接触処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 気液接触処理装置に関する。 【構成】 貯槽に貯留する液体中に、送風機と配管接続
された気体供給管を貯槽底部近傍に複数本配し、該気体
供給管の下面及び／又は側面に複数の気体噴射孔を開口
すると共に、該気体供給管の上部に気体分散板を付設し
てなる気液接触処理装置。

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】

本考案は、気液接触処理装置に関し、特に湿式排煙処理装置における亜硫酸塩 の空気による酸化装置などとして用いるのに適する気液接触処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】

従来の気液接触処理装置の一態様を図６に基づき具体的に説明する。図６にお いて、送風機１０２から配管１０３を介して供給された気体は貯槽１０１の底面 上部に設置された気体供給管１０４の下面に複数取り付けられた先端が開口した 気体噴射ノズル１０５から貯槽１０１内貯留液ｂｂ中に貯槽１０１底面に向けて 噴射される。貯槽１０１底面に向けて気体噴射管１０５から噴射された気体は噴 射速度に応じた噴射動圧によって所定深さまで液中に潜り、その後液ｂｂとの密 度差によって反転浮上する。この浮上時の気泡塊は気体の上昇に伴って吸い寄せ られる液（エアーリフト作用）の影響もあって緩やかな角度（縦断面で約１５° ）で広がりながら上昇する。

【０００３】

【考案が解決しようとする課題】

以上従来例で説明したように、従来例では貯槽底部に向けて気体噴射管から噴 射された気体は噴射速度に応じた噴射動圧によって所定深さまで液中に潜り、そ の後液との密度差によって反転浮上するが、この浮上時の気泡の広がりは前記し たように緩やかな角度であり、かつ気体の千切れも悪く粗大気泡が多く、そのた め処理液全体に気泡が分散するには充分な没液深を必要とし、多大な気体供給量 を必要とした。

【０００４】 本考案は係る問題を解消すべくなされたものであり、気体噴射管の先端開口部 の没液深を浅くすると共に気体供給量の低減を可能とした気液接触処理装置を提 供するものである。

【０００５】

【課題を解決するための手段】

本考案は貯槽に貯留する液体中に、送風機と配管接続された気体供給管を貯槽 底部近傍に複数本配し、該気体供給管の下面及び／又は側面に複数の気体噴射孔 を開口すると共に、該気体供給管に気体分散板を付設したことを特徴とし、前記 気体分散板に複数の穴を開けたり、傾斜をつけたことを特徴とするものである。

【０００６】

【作用】

本考案によれば、貯槽に貯留する液中に気体供給管の下面及び／又は側面の開 口部から噴射された気体は一旦気体分散板下面に淀んで滞り、気体分散板の周縁 部や該分散板の開口部から排出され液中を浮上するが、該気体の浮上に伴い液体 も気泡上昇部に吸い寄せられるためその流動力により前記気体分散板の下面及び 開口部から排出される際気体は微細気泡に千切られる。 また、沈降性物質を含有した液の処理において、気体分散板上に沈降した沈降 性物質は、該気体分散板の傾斜及び上記液の流動力によって気体分散板上に滞る ことなく気体分散板上から連続的に排除される。

【０００７】

【実施例】

（実施例１） 本考案の実施例を図１〜図４の実施態様例及び図５の断面図を用いて具体的に 説明する。図１は本考案に係る気液接触装置の全体構成の概略を示したものであ り、送風機２に配管３で接続された気体供給管４を貯槽１の底面上部に設置し、 該気体供給管４の下面及び／側面には複数の気体噴射孔５を開口させると共に気 体分散板６を取付け、前記送風機２から送られた気体は配管３及び気体供給管４ を介して気体噴射孔５から噴射され、気体分散板６下部に滞留した後、貯槽１内 の貯留液ＢＢ中に分散される。なお、図１中、７は液供給ノズル、８は液排出ノ ズル、ＡＡは未処理液、ＣＣは処理液を示す。

【０００８】 図２は図１における気体供給管４の１例を拡大して示したものであり、気体供 給管４の上面に気体分散板６を取り付けてある。図３は図２の垂直断面を示した ものであり、噴射気体の液中への分散経路を説明するための断面図である。図３ において、気体供給管４からの気体は気体噴射孔５から噴射され、気体分散板６ 下面の気体の滞留部ＤＤを介して気体分散板６の周縁部から液中に分散される。

【０００９】 この実施例では内径約５０ｍｍの気体供給管の下面及び側面に直径５ｍｍの孔 をそれぞれの面に１５０ｍｍ間隔で開口し、気体供給管の上部に厚さ約５ｍｍで 幅３００ｍｍの板を気体分散板として気体供給管の上部に取り付けた。また長さ １５００ｍｍの気体供給管は貯槽底面から２００ｍｍ上部に１ｍの間隔で敷設し 、気体供給管１本当たり毎時１００ｍ³ の空気を噴射して亜硫酸ナトリウム水溶 液を酸化処理した。

【００１０】 （実施例２） 実施例１の図２における気体分散板６に図４に示したように複数の小孔９を開 けたものである。 この実施例では気体分散板１枚について直径６ｍｍの穴をそれぞれ６０個開口 したものを用い実施例１と同様の酸化処理を行った。

【００１１】 （実施例３） 実施例１の図２における気体分散板６に図５に示したように両縁部を両側に下 げた傾斜をつけた形状の気体分散板６′を用いた例である。 この実施例での気体供給管及び気体噴射孔は実施例１と同仕様とし、気体分散 板の幅は傾斜を付けた状態の両縁部で３００ｍｍとし、気体分散板の傾斜角は３ ０°とした。この仕様のものを用いて実施例１と同様の条件で亜硫酸カルシウム の酸化処理を行った。

【００１２】

【考案の効果】

本考案によれば、気体分散板の周縁部から液中に分散される気泡の直径が小さ いため気液接触面積が大きくなり接触効率の向上があり、気体供給量の低減や気 体噴射管の取付数の低減ができた。また、液中への気体の分散が分散板部で広範 な領域に拡大されたことから、貯槽液深を下げて運転できた。

【図面の簡単な説明】

【図１】本考案の実施態様を説明するための断面図。

【図２】実施例１に係る気体噴射管部の拡大図。

【図３】図２の断面図。

【図４】実施例２にかかる気体噴射管部の拡大図。

【図５】実施例３にかかる気体噴射管部の拡大図。

【図６】従来例の実施態様を説明するための断面図。

【符号の説明】

１：貯槽、２：送風機、３：配管、４：気体供給管、
５：気体噴射管、６：気体分散板、７：液供給ノズル、
８：液排出ノズル、ＡＡ：未処理液、ＢＢ：貯留液、Ｃ
Ｃ：処理液

Claims (3)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】 貯槽に貯留する液体中に、送風機と配管
   接続された気体供給管を貯槽底部近傍に複数本配し、該
   気体供給管の下面及び／又は側面に複数の気体噴射孔を
   開口すると共に、該気体供給管の上部に気体分散板を付
   設してなることを特徴とする気液接触処理装置。
2. 【請求項２】 気体分散板に複数の穴を開けてなること
   を特徴とする請求項１記載の気液接触装置。
3. 【請求項３】 気体分散板に傾斜をもたせてなることを
   特徴とする請求項１記載の気液接触装置。