JPH0682801U - チップ抵抗器 - Google Patents
チップ抵抗器Info
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- JPH0682801U JPH0682801U JP2231493U JP2231493U JPH0682801U JP H0682801 U JPH0682801 U JP H0682801U JP 2231493 U JP2231493 U JP 2231493U JP 2231493 U JP2231493 U JP 2231493U JP H0682801 U JPH0682801 U JP H0682801U
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 製造工程のトリミング終了時の抵抗値をその
まま最終製品の抵抗値として、裏面電極から導出するこ
とができ、抵抗値の変動が少ないチップ抵抗器を提供す
る。 【構成】 本考案は、絶縁基板1の互いに対向する端部
に表面電極2a、3a、端面電極2b、3b、裏面電極
2c、3cから成る端子電極2、3を形成し、前記両端
部の表面電極2a、3a間に抵抗体膜4を配したチップ
抵抗器において、前記端面電極2b、3bの厚みを15
μm以上にしたチップ抵抗器である。
まま最終製品の抵抗値として、裏面電極から導出するこ
とができ、抵抗値の変動が少ないチップ抵抗器を提供す
る。 【構成】 本考案は、絶縁基板1の互いに対向する端部
に表面電極2a、3a、端面電極2b、3b、裏面電極
2c、3cから成る端子電極2、3を形成し、前記両端
部の表面電極2a、3a間に抵抗体膜4を配したチップ
抵抗器において、前記端面電極2b、3bの厚みを15
μm以上にしたチップ抵抗器である。
Description
【0001】
本考案は絶縁基板上に1対又は複数対の抵抗体膜、端子電極を形成したチップ 抵抗器に関するものである。
【0002】
従来の絶縁基板上に1対の抵抗体膜、端子電極を形成したチップ抵抗器(通常 のチップ抵抗器、尚、複数対の抵抗体膜、端子電極を形成したものを通常多連抵 抗器という)は、例えば1.6mm×3.2mmのアルミナセラミックなどの絶 縁基板の長手方向の両端部に端子電極を形成し、絶縁基板の表面に、該両電極に 接続する抵抗体膜を形成していた。尚、端子電極は、絶縁基板の表面、端面及び 裏面の3面に夫々導通する導体膜によって構成され、その表面に必要に応じてメ ッキ処理されている。また、抵抗体膜は、所定抵抗値に調整するために、その一 部が除去されたトリミング溝が形成されており、さらにこの抵抗体膜上には、保 護ガラス膜が被覆形成されていた。
【0003】 このようなチップ抵抗器の製造方法は、絶縁基板の大きさが極めて小さいこと から、大型の絶縁基板で形成され、2回のブレーク工程を経て、個々のチップ抵 抗器に製造される。以下にその製造工程を説明する。
【0004】 まず、各チップ抵抗器の大きさに区画するように縦横に形成されたブレークラ インを有する大型絶縁基板を用意する。
【0005】 次に、大型絶縁基板の各区画された領域において、大型絶縁基板の表面側及び 裏面にチップ抵抗器の端子電極、特に表面電極、裏面電極となる導体膜を形成す る。
【0006】 次に、チップ抵抗器の対向する端子電極、特に表面電極に接続するように、抵 抗体膜を形成する。
【0007】 次に、抵抗体膜上に、1次ガラス被覆膜を形成する。
【0008】 次に、抵抗体膜が規格どおりの抵抗値を導出するか測定を行い、所定抵抗値に 追い込むためのトリミング工程を行う。具体的には、抵抗体膜の両端に接続する 表面電極となる導体膜に測定用のプローブを接触させて、抵抗体膜の抵抗値を測 定しながら、1次ガラス被覆上からレーザーなどの抵抗体膜除去手段により抵抗 体膜にトリミング溝を形成する。
【0009】 次に、抵抗体膜上の1次ガラス被覆膜上に、さらに2次ガラス被覆膜を形成す る。
【0010】 次に、大型基板を1次分割を行い、チップ抵抗器の長手方向の端面が、分割さ れた端面として露出するように分割する。これにより、大型基板は短冊状の基板 となる。
【0011】 次に、この短冊状の基板の分割端面が現れるように整列させ、両端面部分に端 面電極となる導体膜を形成する。
【0012】 次に、短冊状の基板上のブレークラインに沿って分割して、個々のチップ抵抗 器の形状となる。
【0013】 最後に、端子電極、即ち表面電極、端面電極、裏面電極上にメッキ層を被覆し てチップ抵抗器となる。
【0014】 ここで、絶縁基板の端部の端子電極を構成する表面電極は、抵抗体膜と導通す るとともに、製造工程の抵抗値測定用のプローブが接触する電極として作用し、 また、裏面電極は、プリント配線基板上に実装する際の電気的に接続する電極と して作用し、また端面電極も実装する際の半田フレットを形成するためと、さら には、表面電極と裏面電極とを導通させるための電極として作用する。
【0015】
従来、端子電極を構成する表面電極、端面電極及び裏面電極の厚みについては 特に問題とならず、一般的に6〜14μm程度で使用されていた。しかしながら 、最近、100mΩ以下の低抵抗値のチップ抵抗器が求められているが、このよ うな低抵抗値のチップ抵抗器では、測定器のプローブを表面電極に接触しながら 調整した抵抗値と最終製品としての抵抗値に大きく変異が生じてしまうという問 題点があった。
【0016】 これは、測定器のプローブは表面電極に接触しながら測定した抵抗値であり、 実際の使用においては主に裏面電極から導出される抵抗値を用いており、この間 、特に端面電極部分での抵抗成分が加わってしまうためと考えられる。
【0017】 本考案は上述の問題点に鑑みて案出されたものであり、その目的は、製造工程 のトリミング終了時の抵抗値をそのまま最終製品の抵抗値として、裏面電極から 導出することができ、抵抗値の変動が少ないチップ抵抗器を提供することにある 。
【0018】
本考案は、絶縁基板の相対向する端部の表面、端面、裏面に一対の電極を形成す るとともに、該一対の電極間に抵抗体膜を配したチップ抵抗器であって、 前記 一対の電極は、絶縁基板の端面における厚みが15μm以上であることを特徴す るチップ抵抗器である。
【0019】
以上のように、本考案では、端子電極を構成する表面電極、端面電極及び裏面 電極のち、端面電極を15μm以上と、表面電極や裏面電極(通常6〜14μm 程度)よりも厚くして、端面電極での抵抗成分を無視できるようにしたものであ る。
【0020】 これにより、製造工程中で表面電極を用いて測定した抵抗値が、主に裏面電極 から導出される実際の抵抗値との差が極めて少なくなり、製造工程における抵抗 値の測定が予め端面電極分での抵抗値変化分を見込んだ測定を行う必要がなく、 製造工程が簡略化し、製造工程と実際の抵抗値の変動が少ないチップ抵抗器が達 成できる。
【0021】
以下、本考案のチップ抵抗器を図面に基づいて説明する。
【0022】 図1は本考案のチップ抵抗器の平面図であり、図2はその断面図である。
【0023】 尚、本考案でいうチップ抵抗器とは、一般にいうのチップ抵抗器及び多連抵抗器 を含むものであり、本実施例は、構造的にもっとも基本的な一般にいうのチップ 抵抗器で説明する。
【0024】 図において、1は絶縁基板であり、2、3は端子電極であり、4は抵抗体膜、 5はトリミング溝、6は1次ガラス被膜、7は2次ガラス被膜である。さらに、 端子電極2、3は、夫々絶縁基板1の表面に形成した表面電極2a、3a、端面 電極2b、3b、裏面電極2c、3cから構成されている。尚、端子電極2、3 の表面に形成されるメッキ層は省略する。
【0025】 絶縁基板1は、アルミナセラミックなどからなり、その形状は、0.5mm× 1.0mm、1.6mm×3.2mmなどの矩形状となっている。
【0026】 絶縁基板1の長手方向の両端部には端子電極2、3が形成されている。この端 子電極2、3は上述したように、基板端部表面の表面電極2a、3a、基板端面 の端面電極2b、3b、基板端部裏面の裏面電極2c、3cとが互いに導通して 構成されている。この端子電極は、Ag系(Ag単体、Ag−PdなどのAg合 金)導体膜により構成されている。
【0027】 抵抗体膜4は、端子電極2、3、特に表面電極2a、3a間に跨がるように形 成されており、抵抗体膜4の幅方向には所定抵抗値に調整したトリミング溝5が 形成されている。この抵抗体膜4は、酸化ルテニウムなどを主体する抵抗体材料 により構成されている。また、超低抵抗の場合には、Agなどを主体とする材料 で構成されている。
【0028】 また、トリミング溝5は、YAGレーザーやサンドブラストなどの抵抗体膜4 の除去手段により、抵抗体膜4の一部分が除去されることにより形成される。
【0029】 1次ガラス被膜6、2次ガラス被膜7は、夫々抵抗体膜4上に被着形成される ものであり、製造工程中において、例えば抵抗体膜4がメッキ液の接触により調 整された抵抗値が変動しないように、また、プリント配線基板上に実装された後 においても、機械的応力また、湿気などから抵抗体膜4を保護するものである。
【0030】 尚、1次ガラス被膜6は、製造工程においてトリミング溝5の形成前に形成され るものであり、2次ガラス被膜7は、トリミング溝5が形成された後に被覆形成 されるものであり、1次ガラス被膜6は、抵抗体膜4の除去手段による抵抗体膜 4への過度の応力を緩和するために形成されているものである。
【0031】 このような構成のチップ抵抗器は以下の製造工程を経て製造される。
【0032】 まず、各チップ抵抗器の大きさに区画するように縦横に形成されたブレークラ インを有する大型絶縁基板(図示せず)を用意する。
【0033】 次に、大型絶縁基板の各区画された領域において、大型絶縁基板の表面側にチ ップ抵抗器の端子電極2、3の表面電極2a、3aとなる導体膜を形成する。具 体的には、Ag系(Ag単体又はAg−PdなどのAg合金)を含む導電性ペー ストでスクリーン印刷を行い、乾燥工程後、600℃で焼きつけを行う。
【0034】 次に、同様に、大型基板の裏面側にチップ抵抗器の端子電極2、3の裏面電極 2c、3cとなる導体膜を形成する。
【0035】 次に、大型絶縁基板の各区画された領域において、大型絶縁基板の表面側に表 面電極2a、3aに跨がるように抵抗体膜4を形成する。具体的には、酸化ルテ ニウムを含む抵抗ペーストでスクリーン印刷を行い、乾燥工程後、600℃で焼 きつけを行う。
【0036】 次に、抵抗体膜4上に、1次ガラス被覆膜6を形成する。具体的には、SiO2 などを含むガラスペーストでスクリーン印刷を行い、乾燥工程後、850℃で 焼きつけを行う。
【0037】 次に、抵抗体膜4の抵抗値が規格どおりの抵抗値を導出するように、トリミン グ工程によって抵抗体膜4にトリミング溝5を形成する。具体的には、抵抗体膜 4の両端に接続する表面電極2a、3aとなる導体膜に測定器のプローブを接触 させて、抵抗体膜4の抵抗値を測定しながら、1次ガラス被覆6上から例えばレ ーザーなどの抵抗体膜除去手段により抵抗体膜4にトリミング溝5を形成してい き、所定抵抗値になるように調整する。
【0038】 次に、抵抗体膜4上の1次ガラス被覆膜6上に、さらに2次ガラス被覆膜7を 形成し、1次ガラス被膜6から露出するトリミング溝5を完全に被覆する。
【0039】 次に、大型基板を1次分割を行う。具体的には、チップ抵抗器となる領域の長 手方向の端面が、分割された端面として露出する一方方向のブレークラインに沿 って分割する。これにより、大型基板は短冊状の基板(図示せず)となる。
【0040】 次に、この短冊状の基板の分割端面が上下面となるように整列させ、端面部分 に表面電極2aとなる導体膜と裏面電極2cとなる導体膜とが導通するように端 面電極2bとなる導体膜を導電性ペーストでスクリーン印刷を行い、乾燥工程後 、600℃で焼きつけを行う。同様にして、この端面と対向する端面にも同様に 端面電極3bとなる導体膜を形成する。
【0041】 次に、短冊状の基板をさらに他方方向のブレークラインに沿って分割して、個 々のチップ抵抗器の形状となる。
【0042】 最後に、端子電極2、3、即ち表面電極2a、3a、端面電極2b、3b、裏 面電極2c、3c上にメッキ層を被覆してチップ抵抗器となる。
【0043】 上述のチップ抵抗器において、表面電極2a、3a及び裏面電極2c、3cの 厚みが6〜14μm程度であるのに対して、端面電極2b、3bの厚みを15μ m以上、好ましくは15〜18μmとした。この端面電極2b、3bの厚みを表 面電極2a、3aや裏面電極2c、3cよりも厚くする方法としては、例えば2 00メッシュのスクリーン製版を使用し、2回印刷を施すことにより簡単に膜厚 を15μm以上、例えば15〜18μmにすることができる。
【0044】 このように、端面電極2b、3bを厚くすることにより、端子電極2b、3b における電気抵抗を低下させることができる。これは、製造工程、特にトリミン グ工程において、測定しながら抵抗値を調整するが、この測定器のプローブが表 面電極2a、3aを用いて測定し、また実際のプリント配線基板上の実装が主に 裏面電極2c、3cを用いて行われるが、その表面電極2a、3aと裏面電極2 c、3cとを導通する端面電極2b、3bでの電気抵抗が極めて小さくなるので 、その変化分が裏面電極2c、3cから導出される抵抗値に影響を及ぼすことを 抑制できる。
【0045】 本考案者らは、従来のチップ抵抗器(端子電極を構成する表面電極、端面電極 、裏面電極の厚みが6〜14μmで一様なもの)と本考案のチップ抵抗器(端子 電極2、3を構成する表面電極2a、3a、裏面電極2c、3cの厚みが6〜1 4μmで一様であり、端面電極2b、3bの厚みが15〜18μmのもの)にお ける両表面電極2a、3a間での抵抗値Raと裏面電極2c、3c間の抵抗値R cの差ΔRを測定した。
【0046】 その結果、抵抗値差ΔRは、従来品においては、1.2〜2.8mmΩ程度あ ったものが、本考案品では、0.8〜1.1mmΩ程度と非常に減少する。
【0047】 尚、通常、この抵抗値差ΔRの目安として、2mΩ以下とすることが望まれてい る。
【0048】 この抵抗値差ΔRは、ますます低抵抗値化され、例えば100mΩ程度のチッ プ抵抗器に対しては、変動率が0.8〜1.1%と極めて安定するものとなり、 実用上極めて有益なものとなる。
【0049】 尚、上述の実施例で、1つ基板に1対の抵抗体膜、端子電極、即ち1つの抵抗 体膜4とそれに接続する2つの端子電極2、3で構成されたチップ抵抗器で説明 したが、1つ基板に複数対の抵抗体膜、端子電極を形成した一般的にいう多連抵 抗器にも広く適用できるものである。
【0050】 また、実施例において、端子電極2、3を抵抗体4よりも先に形成したが、そ の逆であってもよく、また、1次ガラス被膜を省略しても構わない。また、抵抗 体としてAg系などの導体材料を用いても構わない。
【0051】
以上のように、本考案によれば、端子電極を構成する表面電極、端面電極及び 裏面電極のち、端面電極を15μm以上と、表面電極や裏面電極(通常6〜14 μm程度)よりも厚くして、端面電極での抵抗成分を無視できるようにしため、 製造工程のトリミング終了時の抵抗値をそのまま最終製品の抵抗値として、裏面 電極から導出することができ、歩留のよい、抵抗値の変動が少ないチップ抵抗器 となる。
【図1】本考案のチップ抵抗器の平面図である。
【図2】本考案のチップ抵抗器の断面図である。
【符号の説明】 1 ・・・・・ 絶縁基板 2、3・・・・ 端子電極 2a、3a・・ 表面電極 2b、3b・・ 端面電極 2c、3c・・ 裏面電極 4 ・・・・・ 抵抗体膜 5 ・・・・・ トリミング溝 6 ・・・・・ 1次ガラス被覆 7 ・・・・・ 2次ガラス被覆
Claims (1)
- 【請求項1】 絶縁基板の相対向する端部の表面、端
面、裏面に一対の電極を形成するとともに、該一対の電
極間に抵抗体膜を配したチップ抵抗器であって、 前記一対の電極は、絶縁基板の端面における厚みが15
μm以上であることを特徴するチップ抵抗器。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2231493U JPH0682801U (ja) | 1993-04-27 | 1993-04-27 | チップ抵抗器 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2231493U JPH0682801U (ja) | 1993-04-27 | 1993-04-27 | チップ抵抗器 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0682801U true JPH0682801U (ja) | 1994-11-25 |
Family
ID=12079275
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2231493U Pending JPH0682801U (ja) | 1993-04-27 | 1993-04-27 | チップ抵抗器 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0682801U (ja) |
-
1993
- 1993-04-27 JP JP2231493U patent/JPH0682801U/ja active Pending
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