JPH0683263U - Polishing disc - Google Patents
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- Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 上面と下面との両面を使用することができ、
被研磨物の上下の面を研磨する場合にも、グラインダを
逆さに向けることなく能率的に研磨することができ、さ
らに、研磨布の径が小さくなるまで使用できる研磨ディ
スクの提供を図る。
【構成】 回転体１と、上部研磨布群２…２と、下部研
磨布群３…３とからなる。各研磨布２，３は、基礎シー
ト２１，３１と、この基礎シートの一方の面に設けられ
た砥材２２，３２とを備える。上部研磨布群２…２は砥
材２２の有る面を上方に配位し、下部研磨布群３…３は
砥材３２の有る面を下方に配位したものであるため、デ
ィスクの上下、何れの面でも研磨作業を行うことができ
る。
(57) [Summary] [Purpose] Both upper and lower surfaces can be used,
Even when polishing the upper and lower surfaces of an object to be polished, it is possible to efficiently perform polishing without turning the grinder upside down, and further to provide a polishing disk that can be used until the diameter of the polishing cloth becomes small. [Structure] A rotary body 1, an upper polishing cloth group 2 ... 2, and a lower polishing cloth group 3 ... 3. Each of the polishing cloths 2 and 3 includes base sheets 21 and 31 and abrasive materials 22 and 32 provided on one surface of the base sheets. Since the upper polishing cloth group 2 ... 2 is arranged with the surface of the abrasive material 22 upward, and the lower polishing cloth group 3 ... 3 is arranged with the surface of the abrasive material 32 downward, Polishing work can be performed on either side.
Description
【０００１】[0001]
本願考案は、研磨ディスクに関するものである。 The present invention relates to a polishing disc.
【０００２】[0002]
従来、図７に示すように、グラインダ１０１等の回転工具に取り付けて使用す る研磨ディスクにあっては、円形の回転体１０２の下面に円形の研磨布１０３を 貼り付けたものが知られている。この研磨布１０３は、下面に多数の砥材が配位 されており、この研磨布の下面を被研磨物に押し付けつつ回転させて研磨してい た。ところが、この種の研磨ディスクの場合では、下面のみが研磨し得るに止ま るため、例えば、図７に示すような、溝部１０４を研磨する場合、溝部１０４の 下面１０５を研磨する場合には、グラインダ１０１は下方に向けて使用すれば足 りるが、上面１０６を研磨する場合には、グラインダ１０１を上下逆さに向けて 使用しなければならない。さらに、溝部１０４の１０７底面の研磨は、極めて困 難であり、溝底部用の研磨具に交換して研磨する必要がある。 Conventionally, as shown in FIG. 7, as a polishing disk to be used by being attached to a rotary tool such as a grinder 101, one in which a circular polishing cloth 103 is attached to a lower surface of a circular rotating body 102 is known. There is. A large number of abrasive materials are arranged on the lower surface of the polishing cloth 103, and the lower surface of the polishing cloth is pressed against an object to be polished and rotated for polishing. However, in the case of this type of polishing disk, only the lower surface can be polished, and therefore, for example, when polishing the groove 104 as shown in FIG. 7 or when polishing the lower surface 105 of the groove 104, It is sufficient to use the grinder 101 facing downward, but when polishing the upper surface 106, the grinder 101 must be used facing upside down. Further, it is extremely difficult to polish the bottom surface of the groove 104, and it is necessary to replace it with a polishing tool for the groove bottom.
【０００３】 また、回転体１０２に研磨布１０３が貼り付けられているため、その研磨布の 研磨能力が低下すると、回転体ごと廃棄しなければならなかった。Further, since the polishing cloth 103 is attached to the rotating body 102, if the polishing ability of the polishing cloth deteriorates, the rotating body must be discarded together with the rotating cloth.
【０００４】[0004]
そこで、本願考案は、上面と下面との両面を使用することができ、被研磨物の 上下の面を研磨する場合にも、グラインダを逆さに向けることなく能率的に研磨 することのできる研磨ディスクを提供せんとするものである。 Therefore, the present invention makes it possible to use both the upper surface and the lower surface, and even when polishing the upper and lower surfaces of an object to be polished, it is possible to efficiently perform polishing without turning the grinder upside down. Is intended to be provided.
【０００５】 さらに、本願の第２の考案は、上記の目的に加えて、１枚の研磨布が使用済に なっても研磨ディスクを交換する必要がなく、また、回転体をすぐに使い捨てに しなくとも済み、省資源にも寄与することのできる研磨ディスクを提供せんとす るものである。Further, according to the second invention of the present application, in addition to the above-mentioned object, it is not necessary to replace the polishing disk even when one polishing cloth is used, and the rotating body is immediately disposable. The purpose of the present invention is to provide a polishing disk that can contribute to resource saving without having to do so.
【０００６】 またさらに、本願の第３及び第４の考案は、上記の目的に加えて、使用頻度の 高い研磨ディスクの下面側の研磨能力を高めた研磨ディスクを提供せんとするも のである。Further, in addition to the above-mentioned objects, the third and fourth inventions of the present application provide a polishing disc having an improved polishing ability on the lower surface side of a frequently used polishing disc.
【０００７】[0007]
本願考案は、次の構成を特徴とする研磨ディスクを提供することにより、上記 の課題を解決する。この研磨ディスクは、上下方向に配設された複数枚の研磨布 ２，３と、これらの研磨布の中央に配位されラインダ等の回転工具に取り付けら れて回転する回転体１とを備える。これらの研磨布は、上部研磨布群２…２と、 この上部研磨布群の下方に配位された下部研磨布群３…３とからなる。各研磨布 ２，３は、基礎シート２１，３１と、この基礎シートの一方の面に設けられた砥 材２２，３２とを備えたものである。この上部研磨布群２…２は、少なくとも１ 枚の研磨布２を、砥材の有る面を上方に配位したものである。また、下部研磨布 群３…３は、少なくとも１枚の研磨布３を、砥材の有る面を下方に配位したもの である。 The present invention solves the above problems by providing a polishing disk having the following configuration. This polishing disk comprises a plurality of polishing cloths 2 and 3 arranged in the vertical direction, and a rotating body 1 which is arranged in the center of these polishing cloths and which is attached to a rotary tool such as a liner and rotates. . These polishing cloths are composed of an upper polishing cloth group 2 ... 2 and a lower polishing cloth group 3 ... 3 arranged below the upper polishing cloth group. Each of the polishing cloths 2 and 3 includes base sheets 21 and 31 and abrasive materials 22 and 32 provided on one surface of the base sheets. The upper polishing cloth group 2 ... 2 is formed by arranging at least one polishing cloth 2 so that the surface having the abrasive material is arranged upward. The lower polishing cloth group 3 ... 3 is formed by arranging at least one polishing cloth 3 with the surface having the abrasive material arranged downward.
【０００８】 本願の第２の考案に係る研磨ディスクは、上記の研磨ディスクにおいて、上部 研磨布群２…２が、複数の研磨布２を、砥材の有る面を上方に配位して重ね合わ せたものであり、下部研磨布群３…３が、複数の研磨布３を、砥材の有る面を下 方に配位して重ね合わせたものである。そして、上部研磨布群２…２と下部研磨 布群３…３との少なくとも何れか一方の研磨布群が、一方の研磨布の基礎シート ２１，３１に、隣合う他方の研磨布の砥材２２，３２が食い込まされた状態で、 研磨布が接合されることにより、その研磨布群が構成されているものである。A polishing disk according to a second invention of the present application is the above polishing disk, wherein the upper polishing cloth group 2 ... 2 superposes a plurality of polishing cloths 2 with the surface having the abrasive material arranged upward. The lower polishing cloth group 3 ... 3 is formed by stacking a plurality of polishing cloths 3 with the surface having the abrasive material oriented downward. Then, at least one of the upper polishing cloth group 2 ... and the lower polishing cloth group 3 ... 3 has a base sheet 21, 31 of one polishing cloth and an abrasive material of the other polishing cloth adjacent to it. The polishing cloth group is formed by joining the polishing cloths in a state where 22 and 32 have been bitten.
【０００９】 本願の第３の考案に係る研磨ディスクは、上記の研磨ディスクにおいて、下部 研磨布群３…３の最下方の研磨布の下面に、多数の研磨布片４…４を略放射状に 植設することを特徴とする。A polishing disc according to a third invention of the present application is the above-mentioned polishing disc, wherein a large number of polishing cloth pieces 4 ... 4 are formed substantially radially on the lower surface of the lowermost polishing cloth of the lower polishing cloth group 3. It is characterized by being planted.
【００１０】 本願の第４の考案は、少なくとも１枚の研磨布２，３と、この研磨布の中央に 配位されラインダ等の回転工具に取り付けられて回転する回転体１と、この研磨 布の下面に略放射状に植設された多数の研磨布片４…４とを備えたことを特徴と する研磨ディスクを提供する。A fourth invention of the present application is to provide at least one polishing cloth 2, 3, a rotating body 1 which is arranged in the center of the polishing cloth and which is attached to a rotary tool such as a liner and rotates, and the polishing cloth. And a plurality of polishing cloth pieces 4 ... 4 which are substantially radially planted on the lower surface of the polishing disk.
【００１１】[0011]
本願考案の研磨ディスクは、上部研磨布群２…２が、少なくとも１枚の研磨布 ２を、砥材の有る面を上方に配位したものであり、また、下部研磨布群３…３が 、少なくとも１枚の研磨布３を、砥材の有る面を下方に配位して重ね合わせたも のであるため、ディスクの上下、何れの面でも研磨作業を行うことができるもの である。 In the polishing disk of the present invention, the upper polishing cloth group 2 ... 2 is such that at least one polishing cloth 2 is arranged above the surface having the abrasive material, and the lower polishing cloth group 3 ... 3 is arranged. Since at least one piece of the polishing cloth 3 is superposed by arranging the surface having the abrasive material downward and laminating it, the polishing work can be carried out on either the upper or lower surface of the disk.
【００１２】 さらに、本願の第２の考案に係る研磨ディスクは、下方の研磨布２ｅが使用不 能となると、その研磨布２ｅを剥がすだけで、次の未使用の研磨布２ｄが現れる ものであり、以降最上方の研磨布２ａまで、順次使用済の研磨布を剥がすだけで 、連続使用が可能となる。特に、上方の研磨布２ｄの砥材２２が、その下方の研 磨布２ｅの基礎シート２１に食い込んでいるだけであるため、下の研磨布２ｅに 対して下方に力を加えると、容易にその食い込みが外れて、上方の研磨布２ｄか ら外れる。他方、研磨中においては、回転方向（横方向）の力が主として加わる ため、多くの砥材２２が基礎シート２１に上下方向に食い込んでいる状態が維持 され、使用中の研磨布のみが外れることはない。Further, in the polishing disk according to the second invention of the present application, when the lower polishing cloth 2e becomes unusable, the next unused polishing cloth 2d appears only by peeling off the polishing cloth 2e. Therefore, the uppermost polishing cloth 2a can be continuously used by simply peeling the used polishing cloth up to the uppermost polishing cloth 2a. In particular, since the abrasive material 22 of the upper polishing cloth 2d only bites into the base sheet 21 of the lower polishing cloth 2e, it is easy to apply a downward force to the lower polishing cloth 2e. The bite is released, and the abrasive cloth 2d above is removed. On the other hand, during polishing, a force in the rotational direction (lateral direction) is mainly applied, so a state in which many abrasives 22 bite into the base sheet 21 in the vertical direction is maintained, and only the polishing cloth in use is removed. There is no.
【００１３】 またさらに、本願の第３及び第４の考案に係る研磨ディスクにあっては、使用 頻度の高い研磨ディスクの下面側に、多数の研磨布片４…４が略放射状に植設さ れているため、多数の研磨布片４…４による良好なクッション性により良好な研 磨作業をなすことができるものである。Further, in the polishing discs according to the third and fourth inventions of the present application, a large number of polishing cloth pieces 4 ... 4 are planted substantially radially on the lower surface side of the polishing disc which is frequently used. Therefore, it is possible to perform a good polishing work due to the good cushioning property of the large number of polishing cloth pieces 4.
【００１４】[0014]
以下、図面に基づき本願考案の一実施例を説明する。 図１の（Ａ）は本願考案の第１の実施例に係る研磨ディスクの上方からの斜視 図であり、（Ｂ）は同研磨ディスクの下方からの斜視図である。図２は同研磨デ ィスクの要部拡大縦断面図であり、図３は同研磨ディスクの使用状態の斜視図で ある。 An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1A is a perspective view from above of a polishing disc according to a first embodiment of the present invention, and FIG. 1B is a perspective view from below of the polishing disc. FIG. 2 is an enlarged vertical sectional view of a main part of the polishing disk, and FIG. 3 is a perspective view of the polishing disk in use.
【００１５】 この研磨ディスクは、グラインダ等の回転工具に取り付けられて回転する平面 視円形の回転体１と、この回転体１の外周に上下方向へ重ねて配設された複数枚 （図示実施例では９枚）の研磨布２，３とを備える。This polishing disk is attached to a rotary tool such as a grinder and rotates in a circular shape in a plan view, and a plurality of polishing disks arranged vertically on the outer periphery of the rotating body 1 (illustrated embodiment). 9) polishing cloths 2 and 3 are provided.
【００１６】 回転体１は、合成樹脂やファイバーや金属等、この種の研磨ディスクにおいて 使用されている通常の材質からなる。この回転体の中央には、グラインダ等の回 転工具（図示せず）への取り付け穴１１が上下方向に貫通して形成されている。 また、回転体の外周には、外周壁１２が形成されており、この外周壁１２に、研 磨布２が接着される。The rotating body 1 is made of an ordinary material such as a synthetic resin, a fiber or a metal used in a polishing disk of this type. A mounting hole 11 for a rotating tool (not shown) such as a grinder is formed at the center of the rotating body so as to vertically penetrate therethrough. Further, an outer peripheral wall 12 is formed on the outer periphery of the rotating body, and the polishing cloth 2 is bonded to the outer peripheral wall 12.
【００１７】 次に、研磨布について説明する。 まず、研磨布２は、布或いは紙等の基礎シート２１と、その上面に設けられた 多数の砥材２２とからなる。研磨布３は、布或いは紙等の基礎シート３１と、そ の下面に設けられた多数の砥材３２とからなる。研磨布２は、この実施例では３ 枚が積層され、上部研磨布群２…２を構成する。また研磨布３は、この実施例で は６枚が積層され、下部研磨布群３…３を構成する。これらの研磨布２，３の形 状は同一であり、この実施例では中央に円形の孔を有する円盤形状をしている。 尚、この実施例では、上下の研磨布２，３の外径は同一とされているが、上下の 研磨布の外径を異なるものとしてもよい。また、下方から上方に向かうに従い、 その外径を小さくしていき、全体として円錐台形を構成するようにしたり、ある いはその逆として逆円錐台形とする等、適宜変更することができる。Next, the polishing cloth will be described. First, the polishing cloth 2 is composed of a base sheet 21 such as cloth or paper, and a large number of abrasives 22 provided on the upper surface thereof. The polishing cloth 3 is composed of a base sheet 31 such as cloth or paper and a large number of abrasives 32 provided on the lower surface thereof. In this embodiment, three polishing cloths 2 are laminated to form an upper polishing cloth group 2 ... Further, six polishing cloths 3 are laminated in this embodiment to form a lower polishing cloth group 3 ... The polishing cloths 2 and 3 have the same shape, and in this embodiment, they have a disk shape having a circular hole in the center. In this embodiment, the upper and lower polishing cloths 2 and 3 have the same outer diameter, but the upper and lower polishing cloths may have different outer diameters. Further, the diameter may be reduced as it goes from the lower side to the upper side to form a truncated cone shape as a whole, or vice versa, such as an inverted truncated cone shape.
【００１８】 上部研磨布群２…２は、３枚の研磨布２を砥材２２を上方にして重ね合わされ て、プレスされている。このプレスにより、下方の研磨布（例えば最下方の研磨 布２）の砥材２２が、その上方の研磨布（研磨布２）の基礎シート２１に食い込 むことにより上下の研磨布が接合されている。尚、その際、全ての砥材２２が基 礎シート２１に食い込んでいなくとも、上下の研磨布同士は接合され得る。この ように接合には接着剤は不要であるが、接着剤を点在させてもよく、さらに強力 な接合を得る場合には全面に接着剤を施してもよい。The upper polishing cloth group 2 ... 2 is formed by stacking three polishing cloths 2 with the abrasive material 22 facing upward and pressing them. By this press, the abrasive material 22 of the lower polishing cloth (for example, the lowermost polishing cloth 2) bites into the base sheet 21 of the upper polishing cloth (polishing cloth 2) to bond the upper and lower polishing cloths. ing. At this time, the upper and lower polishing cloths can be bonded to each other even if not all the abrasives 22 have cut into the base sheet 21. As described above, an adhesive is not necessary for joining, but the adhesive may be scattered, and the adhesive may be applied to the entire surface to obtain stronger joining.
【００１９】 下部研磨布群３…３の構成も、上部研磨布群２…２と上下が逆になるだけで、 実質上同様である。即ち、６枚の研磨布３を砥材２２を下方にして重ね合わされ て、プレスされ、必要に応じて接着剤が一部或いは全部に用いられる。The configuration of the lower polishing cloth group 3 ... 3 is substantially the same as that of the upper polishing cloth group 2 ... That is, the six polishing cloths 3 are stacked with the abrasive material 22 facing downward and pressed, and an adhesive is partially or entirely used as needed.
【００２０】 そして、上部研磨布群２…２の最下方の研磨布２と、下部研磨布群３…３の最 上方の研磨布３とが接着されている。より詳しくは、上部研磨布群２…２の最下 方の研磨布２の基礎シート２１と、下部研磨布群３…３の最上方の研磨布３の基 礎シート２１との間に接着剤を塗布して、両者を圧着することによって接着され ているものである。The lowermost polishing cloth 2 of the upper polishing cloth group 2 ... 2 and the uppermost polishing cloth 3 of the lower polishing cloth group 3 ... 3 are adhered to each other. More specifically, an adhesive is applied between the base sheet 21 of the lowermost polishing cloth 2 of the upper polishing cloth group 2 ... 2 and the base sheet 21 of the uppermost polishing cloth 3 of the lower polishing cloth group 3 ... 3. Are applied and then pressure-bonded to each other to bond them.
【００２１】 回転体１と、上部研磨布群２…２及び下部研磨布群３…３とは、接着剤により 固定されている。詳しくは、上部研磨布群２…２及び下部研磨布群３…３の中央 に円形の孔に、回転体１の外周壁１２が挿入され、接着剤により接着されている 。尚、図２の実施例では、外周壁１２の高さは、上部研磨布群２…２と下部研磨 布群３…３の最上方の研磨布３とに対応する程度のものとされている。この場合 、接着剤は、この対応する部分にのみ塗布してもよいが、下部研磨布群３…３の 外周壁１２に対応していない部分に及ぶようにしてもよい。そして、この塗布量 を、多めにすると、接着剤が、研磨布間に含浸して、各研磨布間の一体性を高め ることができる。尚、図２に２点鎖線で示すように、外周壁１２の高さは、上部 研磨布群２…２と下部研磨布群３…３の全体に及ぶようにするなど、適宜変更す ることが可能である。The rotary body 1, the upper polishing cloth group 2 ... 2 and the lower polishing cloth group 3 ... 3 are fixed by an adhesive. Specifically, the outer peripheral wall 12 of the rotating body 1 is inserted into a circular hole at the center of the upper polishing cloth group 2 ... 2 and the lower polishing cloth group 3 ... 3 and is bonded with an adhesive. In the embodiment of FIG. 2, the height of the outer peripheral wall 12 is set to correspond to the upper polishing cloth group 2 ... 2 and the uppermost polishing cloth 3 of the lower polishing cloth group 3 ... . In this case, the adhesive may be applied only to the corresponding portion, but may be applied to the portion not corresponding to the outer peripheral wall 12 of the lower polishing cloth group 3 ... 3. When the coating amount is increased, the adhesive can be impregnated between the polishing cloths to enhance the integrity of the polishing cloths. As shown by the chain double-dashed line in FIG. 2, the height of the outer peripheral wall 12 may be changed as appropriate such that it extends over the entire upper polishing cloth group 2 ... 2 and lower polishing cloth group 3 ... 3. Is possible.
【００２２】 次に、使用に際しては、通常の研磨ディスクと同様、グラインダー１０１等の 回転工具の回転軸に、回転体１の取り付け穴１１を取り付けて使用する。そして 、図３に示すように、溝部１０４を研磨する場合、溝部１０４の下面１０５を研 磨するには、グラインダ１０１を下方に向けて使用するのと同様、上面１０６を 研磨するにも、グラインダ１０１をそのまま持ち上げれば、上部研磨布群２…２ の最上の研磨布の上面の砥材により研磨が行われることになる。さらに、溝部１ ０４の１０７底面の研磨も、上部研磨布群２…２及び下部研磨布群３…３の全体 の外周面４を、押し付けることによって、各研磨布の外周付近の砥材にて研磨す ることができる。Next, at the time of use, the mounting hole 11 of the rotating body 1 is attached to the rotary shaft of the rotary tool such as the grinder 101, as in the case of a normal polishing disk. Then, as shown in FIG. 3, when the groove 104 is polished, in order to polish the lower surface 105 of the groove 104, as in the case where the grinder 101 is used downward, the upper surface 106 is also polished. If 101 is lifted as it is, polishing is performed by the abrasive material on the upper surface of the uppermost polishing cloth of the upper polishing cloth group 2 ... Further, the polishing of the bottom surface 107 of the groove portion 104 is performed by pressing the entire outer peripheral surface 4 of the upper polishing cloth group 2 ... 2 and the lower polishing cloth group 3 ... 3 with an abrasive material near the outer periphery of each polishing cloth. Can be polished.
【００２３】 そして、使用によって、上部研磨布群２…２の最上方の研磨布２、或いは、下 部研磨布群３…３の最下方の研磨布３の砥材が剥離して使用不能となると、その 研磨布２，３を剥がすだけで、次の未使用の研磨布２，３が現れるものであり、 以降順次使用済の研磨布を剥がすだけで、連続使用が可能となる。When used, the uppermost polishing cloth 2 of the upper polishing cloth group 2 ... 2 or the abrasive material of the lowermost polishing cloth 3 of the lower polishing cloth group 3 ... 3 peels off and becomes unusable. In that case, the next unused polishing cloths 2 and 3 will appear only by peeling off the polishing cloths 2 and 3, and thereafter, continuous use is possible by simply peeling off the used polishing cloths.
【００２４】 尚、使用済の研磨布を剥がす作業は、使用済の研磨布と次の未使用の研磨布と の間に爪を差し込み、捲ってやるだけで、容易に使用済の研磨布が外れるもので ある。即ち、研磨布２，３の砥材２２，３２が、その上方又は下方の研磨布２， ３の基礎シート２１，３１に上下食い込んでいるだけであるため、研磨布間に爪 を差し込み、上下に力を加えると、容易にその食い込みが外れて、研磨布間の接 合が外れるものである。尚、上記のように、点在させたり、内周部分に用いたり する等、一部にのみ補助的に接着剤を用いた場合にも、同様の剥離の方法を採る ことができるものである。他方、研磨中においては、回転方向（図では横方向） の力が主として加わるため、多くの砥材が基礎シートに上下方向に食い込んでい る状態が維持され、使用中の研磨布のみが外れることはない。To remove the used polishing cloth, simply insert the nail between the used polishing cloth and the next unused polishing cloth and roll it up to remove the used polishing cloth. It comes off. That is, since the abrasives 22 and 32 of the polishing cloths 2 and 3 only bite vertically into the base sheets 21 and 31 of the polishing cloths 2 and 3 above or below the polishing cloths 2 and 3, insert a claw between the polishing cloths, When a force is applied to, the bite easily comes off, and the bond between the polishing cloths comes off. Incidentally, as described above, the same peeling method can be adopted even when the adhesive is supplementarily used only partially, such as by being scattered or used in the inner peripheral portion. . On the other hand, during polishing, a force mainly in the rotational direction (lateral direction in the figure) is mainly applied, so many abrasives keep biting vertically into the base sheet and only the polishing cloth in use comes off. There is no such thing.
【００２５】 製造に際しては、各研磨布を裁断した後、適宜枚数を重ねてプレスしてもよく 、或いは適宜枚数の研磨布を重ねて、裁断と同時にプレスしてもよい。プレスに 際しては、１枚ずつ順にプレスしてもよく、適宜枚数を一度にプレスしてもよい 。また、回転体に１枚ずつ接着しながら、順に他の研磨布をプレスして接合して もよく、先に適宜枚数を接合した後、回転体に接着するようにしてもよい。In the production, after cutting each polishing cloth, an appropriate number of polishing cloths may be stacked and pressed, or an appropriate number of polishing cloths may be stacked and pressed simultaneously with cutting. When pressing, one sheet may be pressed in order, or an appropriate number of sheets may be pressed at one time. Alternatively, other polishing cloths may be sequentially pressed and bonded while being bonded one by one to the rotating body, or may be bonded to the rotating body after a suitable number of sheets are bonded first.
【００２６】 尚、最上方の研磨布２ａを回転体１に貼り付ける際に、接着剤３がはみ出して 、他の研磨布の間に入ることがあっても、微量であれば、接合の強度が上がるだ けで、研磨作業や使用済研磨布を剥がす作業には、悪影響はない。従って、意図 的に、微量の接着剤を接合の補強用として用いることも可能である。さらにまた 、研磨布を剥がす必要がないならば、研磨布の全面を接着剤で接着するようにし てもよい。尚、通常はこの研磨ディスクを少し傾斜させた状態で被研磨物に押し 付ける結果、研磨布は外周から徐々に消耗されていき徐々にその径が小なる。そ して、この実施例では、回転体１の外周に上部研磨布群２…２及び下部研磨布群 ３…３が配位されているため、回転体１に邪魔されることなく、小さな径になる まで使い切ることができるものである。When the uppermost polishing cloth 2a is attached to the rotating body 1, the adhesive 3 may squeeze out and enter between other polishing cloths. However, there is no adverse effect on the polishing work and the work of peeling the used polishing cloth. Therefore, it is possible to intentionally use a small amount of adhesive for reinforcing the joint. Furthermore, if it is not necessary to remove the polishing cloth, the entire surface of the polishing cloth may be bonded with an adhesive. Normally, as a result of pressing this polishing disk to the object to be polished in a slightly inclined state, the polishing cloth is gradually consumed from the outer periphery and its diameter gradually decreases. Further, in this embodiment, since the upper polishing cloth group 2 ... 2 and the lower polishing cloth group 3 ... 3 are arranged on the outer periphery of the rotating body 1, the rotating body 1 is not disturbed and has a small diameter. It can be used up until.
【００２７】 図４は他の実施例を示すものであるが、上部研磨布群２…２と下部研磨布群３ …３とにおける砥材の図示は省略した。この実施例においても、上部研磨布群２ …２は上面側に、下部研磨布群３…３は下面側に、、第１の実施例と同様に砥材 を有するものである。この実施例では、回転体１の上面の外径を大きくして張出 部１３を設けたものである。この張出部１３は、上部研磨布群２…２にまで及ぶ が、この張出が僅かであれば、上部研磨布群２…２の研磨布２の剥離には悪影響 はない。尚、上部研磨布群２…２の研磨布２の剥離を予定しないならば、張出部 １３の外径をさらに大きくすることも可能である。FIG. 4 shows another embodiment, but the illustration of the abrasives in the upper polishing cloth group 2 ... 2 and the lower polishing cloth group 3 ... 3 is omitted. Also in this embodiment, the upper polishing cloth group 2 ... 2 has an abrasive material on the upper surface side, and the lower polishing cloth group 3 ... 3 on the lower surface side, like the first embodiment. In this embodiment, the outer diameter of the upper surface of the rotating body 1 is increased and the overhanging portion 13 is provided. The overhanging portion 13 extends to the upper polishing cloth group 2 ... 2, but if the overhanging is slight, the peeling of the polishing cloth 2 of the upper polishing cloth group 2 ... 2 is not adversely affected. It should be noted that the outer diameter of the overhanging portion 13 can be further increased if separation of the polishing cloth 2 of the upper polishing cloth group 2 ... 2 is not planned.
【００２８】 図５はさらに他の実施例を示すもので、この実施例では、回転体１の上下略中 央に円盤部１４を設けたものである。そして、この円盤部１４の上下面に、上部 研磨布群２…２と下部研磨布群３…３とを接着したものである。尚、この図５に おいても、砥材の図示は省略した。この円盤部１４は、他の回転体１と一体に成 形することができるが、別体に成形してもよい。例えば、弾性を有するクッショ ン材を、円盤部１４として用いることができる。さらに、上記の各実施例におい て、上部研磨布群２…２と下部研磨布群３…３との間に同様のクッション材等の 他の素材を介在させてもよい。またさらに、研磨布を一枚ずつ外し得るようにし ないのであれば、上部研磨布群２…２及び下部研磨布群３…３の各研磨布間に、 クッション材等の他の素材を介在させてもよい。さらに円盤部として、砥材や、 或いは多数の砥材や針状のものを突設した板状部材を用いて、これらを他の研磨 布の基礎シートに食い込ませるようにしてもよい。研磨布の枚数は、適宜変更す ることができるものであり、最小限、上部研磨布群として１枚、下部研磨布群と して１枚の２枚の研磨布を用いれば足りる。FIG. 5 shows still another embodiment. In this embodiment, a disk portion 14 is provided in the upper and lower approximately center of the rotating body 1. The upper polishing cloth group 2 ... 2 and the lower polishing cloth group 3 ... 3 are adhered to the upper and lower surfaces of the disk portion 14. Incidentally, in FIG. 5, the illustration of the abrasive is omitted. The disk portion 14 can be formed integrally with the other rotating body 1, but may be formed separately. For example, a cushioning material having elasticity can be used as the disc portion 14. Further, in each of the above-mentioned embodiments, another material such as a cushion material may be interposed between the upper polishing cloth group 2 ... and the lower polishing cloth group 3 ... Further, if it is not possible to remove the polishing cloths one by one, another material such as a cushion material is interposed between the polishing cloths of the upper polishing cloth group 2 ... 2 and the lower polishing cloth group 3 ... 3. May be. Further, as the disc portion, an abrasive material, or a plate-shaped member having a large number of abrasive materials or needle-like objects protruding therefrom may be used, and these may be made to bite into the base sheet of another polishing cloth. The number of polishing cloths can be changed as appropriate, and it is sufficient to use at least two polishing cloths, one as the upper polishing cloth group and one as the lower polishing cloth group.
【００２９】 次に、図６に、本願の第３及び第４の考案に係る実施例を示す。この図６は、 当該実施例の研磨ディスクを裏返しの状態、即ち下面を上方にした状態で描いた 斜視図であり、以下の説明と図とは上下が逆となる。この研磨ディスクは、回転 体１の周囲に３枚の上部研磨布２からなる上部研磨布群２…２を配位し、その下 面（図では上面）に多数の研磨布片４…４を略放射状に植設したものである。上 部研磨布群２…２と回転体１とは、先の各実施例と同様の方法で構成されている 。各研磨布片４は、上部研磨布と同様の研磨布を小さな長方形に切り、これを上 部研磨布２に接着したものである。この実施例では、各研磨布片４は、傾斜して 植えられているが、直立させた状態で植える等、その角度は適宜変更し得る。こ の実施例では、研磨ディスクの上面側は上部研磨布群２…２による研磨がなされ 、下面側は研磨布片４…４により研磨がなされるものである。尚、上部研磨布群 ２…２の枚数は１枚以上適宜変更して実施できるものであり、また、上部研磨布 群２…２に代えて下部研磨布群３…３を用いてもよい。さらに、先の実施例のよ うに上部研磨布群２…２と下部研磨布群３…３とを併用して、下部研磨布群３… ３の下面に研磨布片４…４を植えるようにしてもよい。Next, FIG. 6 shows an embodiment according to the third and fourth inventions of the present application. FIG. 6 is a perspective view of the polishing disk of the embodiment in a state of being turned upside down, that is, a state in which the lower surface is facing upward, and the following description is the opposite of the drawing. In this polishing disk, an upper polishing cloth group 2 ... 2 consisting of three upper polishing cloths 2 is arranged around a rotating body 1, and a large number of polishing cloth pieces 4 ... It is planted in a substantially radial pattern. 2 and the rotary body 1 are constructed in the same manner as in the previous embodiments. Each polishing cloth piece 4 is obtained by cutting a polishing cloth similar to the upper polishing cloth into small rectangular pieces and adhering the same to the upper polishing cloth 2. In this embodiment, each polishing cloth piece 4 is planted with an inclination, but the angle can be appropriately changed by planting in an upright state. In this embodiment, the upper surface side of the polishing disk is polished by the upper polishing cloth group 2 ... 2, and the lower surface side is polished by the polishing cloth pieces 4 ... 4. It should be noted that the number of upper polishing cloth groups 2 ... 2 can be changed appropriately by one or more, and the lower polishing cloth groups 3 ... 3 may be used in place of the upper polishing cloth groups 2 ... Further, as in the previous embodiment, the upper polishing cloth group 2 ... 2 and the lower polishing cloth group 3 ... 3 are used together, and the polishing cloth pieces 4 ... 4 are planted on the lower surface of the lower polishing cloth group 3 ... 3. May be.
【００３０】[0030]
以上、本願考案は、上面と下面との両面を使用することができ、被研磨物の上 下の面を研磨する場合にも、グラインダを逆さに向けることなく能率的に研磨す ることのできる研磨ディスクを提供することができたものある。 As described above, according to the present invention, both the upper surface and the lower surface can be used, and even when polishing the upper and lower surfaces of the object to be polished, the grinding can be efficiently performed without turning the grinder upside down. Some were able to provide abrasive discs.
【００３１】 さらに、本願の第２の考案は、上記の効果に加えて、１枚の研磨布が使用済に なっても研磨ディスクを交換する必要がなく、また、回転体をすぐに使い捨てに しなくとも済み、省資源にも寄与することのできる研磨ディスクを提供すること ができたものである。Further, in addition to the above effects, the second invention of the present application does not require replacement of the polishing disc even when one polishing cloth is used, and the rotating body can be immediately disposed of. It is possible to provide a polishing disk that can contribute to resource saving without having to do so.
【００３２】 またさらに、本願の第３及び第４の考案は、使用頻度の高い研磨ディスクの下 面側の研磨能力を高めた研磨ディスクを提供することができたものである。Further, the third and fourth inventions of the present application have been able to provide a polishing disk having an increased polishing ability on the lower surface side of the polishing disk which is frequently used.
【００３３】 さらに実施例のように、回転体１の外周に上部研磨布群２…２及び下部研磨布 群３…３を配位すれば、回転体１に邪魔されることなく、小さな径になるまで使 い切ることができ、さらに経済的なものとなる。Further, by arranging the upper polishing cloth group 2 ... 2 and the lower polishing cloth group 3 ... 3 on the outer periphery of the rotating body 1 as in the embodiment, the rotating body 1 can be made small in diameter without being disturbed. It can be used up until the end, and it becomes more economical.
【図１】（Ａ）は本願考案の第１の実施例に係る研磨デ
ィスクの上方からの斜視図であり、（Ｂ）は同研磨ディ
スクの下方からの斜視図である。FIG. 1A is a perspective view from above of a polishing disc according to a first embodiment of the present invention, and FIG. 1B is a perspective view from below of the polishing disc.
【図２】同研磨ディスクの要部拡大縦断面図である。FIG. 2 is an enlarged vertical cross-sectional view of a main part of the polishing disc.
【図３】同研磨ディスクの使用状態の説明図である。FIG. 3 is an explanatory view of a usage state of the polishing disk.
【図４】他の実施例の研磨ディスクの要部拡大縦断面図
である。FIG. 4 is an enlarged vertical sectional view of an essential part of a polishing disk according to another embodiment.
【図５】さらに他の実施例の研磨ディスクの要部拡大縦
断面図である。FIG. 5 is an enlarged vertical sectional view of a main part of a polishing disk according to still another embodiment.
【図６】さらに他の実施例の研磨ディスクの斜視図であ
る。FIG. 6 is a perspective view of a polishing disk according to still another embodiment.
【図７】従来の研磨ディスクの使用状態の説明図であ
る。FIG. 7 is an explanatory view of a usage state of a conventional polishing disk.
１ 回転体 ２ 上部の研磨布 ３ 下部の研磨布 ４ 研磨布片 ２１ 基礎シート ２２ 砥材 ３１ 基礎シート ３２ 砥材 1 Rotating Body 2 Upper Polishing Cloth 3 Lower Polishing Cloth 4 Polishing Cloth Piece 21 Basic Sheet 22 Abrasive Material 31 Basic Sheet 32 Abrasive Material
Claims (4)
(2) (3) と、これらの研磨布の中央に配位されラインダ
等の回転工具に取り付けられて回転する回転体(1) とを
備え、 これらの研磨布が、上部研磨布群(2) …(2) と、この上
部研磨布群の下方に配位された下部研磨布群(3) …(3)
とからなり、 各研磨布(2) (3) が、基礎シート(21)(31)と、この基礎
シートの一方の面に設けられた砥材(22)(32)とを備えた
ものであり、 上部研磨布群(2) …(2) が、少なくとも１枚の研磨布
(2) を、砥材の有る面を上方に配位したものであり、 下部研磨布群(3) …(3) が、少なくとも１枚の研磨布
(3) を、砥材の有る面を下方に配位したものであること
を特徴とする研磨ディスク。1. A plurality of polishing cloths arranged vertically
(2) (3) and a rotating body (1) that is arranged in the center of these polishing cloths and is attached to a rotary tool such as a liner and rotates. ) (2) and lower polishing cloth group (3) (3) arranged below the upper polishing cloth group
Each of the polishing cloths (2) (3) comprises a base sheet (21) (31) and abrasives (22) (32) provided on one surface of the base sheet. Yes, the upper polishing cloth group (2) (2) has at least one polishing cloth
(2) is arranged such that the surface having the abrasive is arranged upward, and the lower polishing cloth group (3) (3) is at least one polishing cloth.
(3) A polishing disk characterized in that the surface having the abrasive is arranged downward.
布(2) を、砥材の有る面を上方に配位して重ね合わせた
ものであり、 下部研磨布群(3) …(3) が、複数の研磨布(3) を、砥材
の有る面を下方に配位して重ね合わせたものであり、 上部研磨布群(2) …(2) と下部研磨布群(3) …(3) との
少なくとも何れか一方の研磨布群が、一方の研磨布の基
礎シート(21)(31)に、隣合う他方の研磨布の砥材(22)(3
2)が食い込まされた状態で、研磨布が接合されることに
より、その研磨布群が構成されていることを特徴とする
請求項１記載の研磨ディスク。2. The upper polishing cloth group (2) (2) is formed by stacking a plurality of polishing cloths (2) so that the surface having the abrasive material is oriented upward, and the lower polishing cloth group is arranged. (3)… (3) is a combination of a plurality of polishing cloths (3), with the surface with the abrasive material oriented downwards, and the upper polishing cloth group (2)… (2) and the lower part. At least one of the polishing cloth group (3) (3) and the polishing cloth group (3) are attached to the base sheet (21) (31) of one polishing cloth and the abrasive material (22) (of the other adjacent polishing cloth). 3
2. The polishing disk according to claim 1, wherein the polishing cloth group is constituted by joining the polishing cloths in a state where 2) is bitten.
の研磨布の下面に、多数の研磨布片(4) …(4) が略放射
状に植設されたことを特徴とする請求項１又は２記載の
研磨ディスク。3. A large number of polishing cloth pieces (4) (4) are substantially radially planted on the lower surface of the lowermost polishing cloth of the lower polishing cloth group (3) (3). The abrasive disc according to claim 1 or 2, which is characterized in that.
の研磨布の中央に配位されラインダ等の回転工具に取り
付けられて回転する回転体(1) と、この研磨布の下面に
略放射状に植設された多数の研磨布片(4) …(4) とを備
えたことを特徴とする研磨ディスク。4. At least one polishing cloth (2) (3), a rotating body (1) arranged in the center of the polishing cloth and attached to a rotary tool such as a liner to rotate, and the polishing cloth (1). A polishing disk having a large number of polishing cloth pieces (4) ... (4) planted in a substantially radial pattern on the lower surface.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3055893U JPH0683263U (en) | 1993-05-14 | 1993-05-14 | Polishing disc |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3055893U JPH0683263U (en) | 1993-05-14 | 1993-05-14 | Polishing disc |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0683263U true JPH0683263U (en) | 1994-11-29 |
Family
ID=12307143
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3055893U Pending JPH0683263U (en) | 1993-05-14 | 1993-05-14 | Polishing disc |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0683263U (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TWI613042B (en) * | 2017-03-10 | 2018-02-01 | Hong Xing Abrasive Technology Co Ltd | Glued flat abrasive cloth wheel and manufacturing method thereof |
| JP2018521871A (en) * | 2015-07-09 | 2018-08-09 | ルーカス−エアツェット フェアアイニヒテ シュライフ− ウント フレースヴェアクツォイクファブリーケン ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング ウント コンパニー コマンディートゲゼルシャフトＬＵＫＡＳ−ＥＲＺＥＴＴ Ｖｅｒｅｉｎｉｇｔｅ Ｓｃｈｌｅｉｆ− ｕｎｄ Ｆｒａｅｓｗｅｒｋｚｅｕｇｆａｂｒｉｋｅｎ ＧｍｂＨ ＆ Ｃｏ． ＫＧ | Grinding wheel disc |
-
1993
- 1993-05-14 JP JP3055893U patent/JPH0683263U/en active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2018521871A (en) * | 2015-07-09 | 2018-08-09 | ルーカス−エアツェット フェアアイニヒテ シュライフ− ウント フレースヴェアクツォイクファブリーケン ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング ウント コンパニー コマンディートゲゼルシャフトＬＵＫＡＳ−ＥＲＺＥＴＴ Ｖｅｒｅｉｎｉｇｔｅ Ｓｃｈｌｅｉｆ− ｕｎｄ Ｆｒａｅｓｗｅｒｋｚｅｕｇｆａｂｒｉｋｅｎ ＧｍｂＨ ＆ Ｃｏ． ＫＧ | Grinding wheel disc |
| TWI613042B (en) * | 2017-03-10 | 2018-02-01 | Hong Xing Abrasive Technology Co Ltd | Glued flat abrasive cloth wheel and manufacturing method thereof |
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