JPH0684873A - ウエーハ処理装置 - Google Patents
ウエーハ処理装置Info
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- JPH0684873A JPH0684873A JP23504492A JP23504492A JPH0684873A JP H0684873 A JPH0684873 A JP H0684873A JP 23504492 A JP23504492 A JP 23504492A JP 23504492 A JP23504492 A JP 23504492A JP H0684873 A JPH0684873 A JP H0684873A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 ウエーハ処理装置に関し、酸性ガスとアルカ
リ性ガスの混触を防止するウエーハ処理装置を提供し、
ウエーハ処理に際しての安全性の確保及び環境汚染の防
止を図ることを目的とする。 【構成】 蓋部に試料挿入口を有する密閉型処理槽２、
処理槽２内に開口する排気ダクト３、排気ダクト３に接
続された密閉型薬品保管タンク５、排気ダクト３に接続
された密閉型共洗い液保管タンク６、処理薬品及び共洗
い液を薬品保管タンク５或いは共洗い液保管タンク６か
ら処理槽２内へ供給し、且つ該処理槽２内を循環させ、
更に該処理槽２内から薬品保管タンク５或いは共洗い液
保管タンク６内へ回収する機能を有する薬液供給回路1
0、処理槽２に純水を流通させる給排水手段７、８、薬
品保管タンクへの新薬品供給手段７′、排気ダクト３の
基部に配設された排ガス洗浄装置９を具備し、ウエーハ
の薬品処理から水洗までが同一処理槽内でなされる。
リ性ガスの混触を防止するウエーハ処理装置を提供し、
ウエーハ処理に際しての安全性の確保及び環境汚染の防
止を図ることを目的とする。 【構成】 蓋部に試料挿入口を有する密閉型処理槽２、
処理槽２内に開口する排気ダクト３、排気ダクト３に接
続された密閉型薬品保管タンク５、排気ダクト３に接続
された密閉型共洗い液保管タンク６、処理薬品及び共洗
い液を薬品保管タンク５或いは共洗い液保管タンク６か
ら処理槽２内へ供給し、且つ該処理槽２内を循環させ、
更に該処理槽２内から薬品保管タンク５或いは共洗い液
保管タンク６内へ回収する機能を有する薬液供給回路1
0、処理槽２に純水を流通させる給排水手段７、８、薬
品保管タンクへの新薬品供給手段７′、排気ダクト３の
基部に配設された排ガス洗浄装置９を具備し、ウエーハ
の薬品処理から水洗までが同一処理槽内でなされる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はウエーハ処理装置、特に
半導体ウエーハの薬品処理において薬品から発生するガ
スによる危険性及び環境汚染を防止したウエーハ処理装
置に関する。
半導体ウエーハの薬品処理において薬品から発生するガ
スによる危険性及び環境汚染を防止したウエーハ処理装
置に関する。
【０００２】半導体装置の製造に際しての種々な工程間
で行われるウエーハ処理には、常温或いは加温された酸
やアルカリの溶液が用いられる。そのため、薬品から発
生するガス状の酸とアルカリの間で混触反応が起こり新
たな反応生成物が形成され易く、この反応生成物が析出
堆積することで生ずる排気口の閉塞による危険性や、除
去しきれない上記反応生成物の大気中放出による環境汚
染が問題になっており、酸性のガスとアルカリ性のガス
との混触を避けるウエーハ処理装置の開発が望まれてい
る。
で行われるウエーハ処理には、常温或いは加温された酸
やアルカリの溶液が用いられる。そのため、薬品から発
生するガス状の酸とアルカリの間で混触反応が起こり新
たな反応生成物が形成され易く、この反応生成物が析出
堆積することで生ずる排気口の閉塞による危険性や、除
去しきれない上記反応生成物の大気中放出による環境汚
染が問題になっており、酸性のガスとアルカリ性のガス
との混触を避けるウエーハ処理装置の開発が望まれてい
る。
【０００３】
【従来の技術】従来、半導体装置の製造に際して発生す
る酸性あるいはアルカリ性のガスによる環境汚染を防止
する手段としては、多種多様な製造プロセスにおいて用
いられる多くのウエーハ処理装置を酸とアルカリの系統
に分け、系統別にそれぞれのウエーハ処理装置の排ガス
をまとめ、系統別に水洗浄等の排ガス処理を行うことに
よって、排ガス中の酸分やアルカリ分等の有害成分を除
去した後大気中に放出する方法が用いられていた。
る酸性あるいはアルカリ性のガスによる環境汚染を防止
する手段としては、多種多様な製造プロセスにおいて用
いられる多くのウエーハ処理装置を酸とアルカリの系統
に分け、系統別にそれぞれのウエーハ処理装置の排ガス
をまとめ、系統別に水洗浄等の排ガス処理を行うことに
よって、排ガス中の酸分やアルカリ分等の有害成分を除
去した後大気中に放出する方法が用いられていた。
【０００４】一方、従来ウエーハ処理装置は図４の模式
構成図に示すように、ウエーハ処理室51内に、隣接し
て、例えば硫酸(H2SO4) 等が導入される酸処理槽52と純
水が流通する水洗槽53と例えばアンモニア水(NH4OH) が
導入されるアルカリ処理槽54が順次並んで配置され、処
理室51内における酸処理槽52とアルカリ処理槽54の上部
に、それぞれ末端部に酸ガス用排ガス洗浄装置59若しく
はアルカリガス用排ガス洗浄装置60を備えた酸ガス用排
気ダクト57とアルカリガス用排気ダクト58とが開口して
いる装置構成を有していた。なお図中、61及び62はガス
放出口を示す。
構成図に示すように、ウエーハ処理室51内に、隣接し
て、例えば硫酸(H2SO4) 等が導入される酸処理槽52と純
水が流通する水洗槽53と例えばアンモニア水(NH4OH) が
導入されるアルカリ処理槽54が順次並んで配置され、処
理室51内における酸処理槽52とアルカリ処理槽54の上部
に、それぞれ末端部に酸ガス用排ガス洗浄装置59若しく
はアルカリガス用排ガス洗浄装置60を備えた酸ガス用排
気ダクト57とアルカリガス用排気ダクト58とが開口して
いる装置構成を有していた。なお図中、61及び62はガス
放出口を示す。
【０００５】そしてウエーハの処理は、複数枚の半導体
ウエーハ56をウエーハキャリア55内に並立搭載し、この
ウエーハキャリア55を、ウエーハキャリア55の動線ｍに
示すように、先ず酸処理槽52内に所定の時間浸漬し、次
いで引上げ移動して水洗槽53内に所定の時間浸漬し、次
いで更に引上げ移動してアルカリ処理槽54内に所定の時
間浸漬する方法で行われる。なお、上記アルカリ処理の
終わった半導体ウエーハ56はキャリア55搭載のまま、図
示しないウエーハ洗浄工程に搬送される。
ウエーハ56をウエーハキャリア55内に並立搭載し、この
ウエーハキャリア55を、ウエーハキャリア55の動線ｍに
示すように、先ず酸処理槽52内に所定の時間浸漬し、次
いで引上げ移動して水洗槽53内に所定の時間浸漬し、次
いで更に引上げ移動してアルカリ処理槽54内に所定の時
間浸漬する方法で行われる。なお、上記アルカリ処理の
終わった半導体ウエーハ56はキャリア55搭載のまま、図
示しないウエーハ洗浄工程に搬送される。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかし上記のように、
同一のウエーハ処理室51内に、上部が開放された酸処理
槽槽52とアルカリ処理槽54が配置される従来のウエーハ
処理装置においては、酸処理槽槽52とアルカリ処理槽54
の上部にそれぞれ専用の酸ガス用排気ダクト57及びアル
カリガス用排気ダクト58が設けられていても、実際には
それぞれのダクトに図示しない多種多様なウエット処理
のダクトが接続されるために排気ダクト57、58間の排気
量のバランスがくずれ、そのために酸ガス用排気ダクト
57にアルカリガスが流入したり、またアルカリガス用排
気ダクト58に酸ガスが流入する場合が生ずる。また、ウ
エーハ56を搭載したウエーハキャリア55を移動する際に
は、表面積の大きいウエーハ56の表面及びウエーハキャ
リア55に付着した酸或いはアルカリ液が蒸発して多量の
蒸発ガスがウエーハ処理室51内に拡がるために、酸ガス
及びアルカリガスがそれぞれ専用以外の排気ダクト内へ
多量に流入するという事態を生ずる。
同一のウエーハ処理室51内に、上部が開放された酸処理
槽槽52とアルカリ処理槽54が配置される従来のウエーハ
処理装置においては、酸処理槽槽52とアルカリ処理槽54
の上部にそれぞれ専用の酸ガス用排気ダクト57及びアル
カリガス用排気ダクト58が設けられていても、実際には
それぞれのダクトに図示しない多種多様なウエット処理
のダクトが接続されるために排気ダクト57、58間の排気
量のバランスがくずれ、そのために酸ガス用排気ダクト
57にアルカリガスが流入したり、またアルカリガス用排
気ダクト58に酸ガスが流入する場合が生ずる。また、ウ
エーハ56を搭載したウエーハキャリア55を移動する際に
は、表面積の大きいウエーハ56の表面及びウエーハキャ
リア55に付着した酸或いはアルカリ液が蒸発して多量の
蒸発ガスがウエーハ処理室51内に拡がるために、酸ガス
及びアルカリガスがそれぞれ専用以外の排気ダクト内へ
多量に流入するという事態を生ずる。
【０００７】そのため、上記従来のウエーハ処理装置に
おいては、それぞれの排気ダクト57、58内で酸性ガスと
アルカリ性ガスとの混触反応を生じ、反応生成物が排気
ダクト57、58内に析出堆積して安全性を損なうダクト詰
まりを生じたり、また反応生成物の排ガス洗浄装置59及
び60による除去不良により環境汚染を発生させるという
問題があった。
おいては、それぞれの排気ダクト57、58内で酸性ガスと
アルカリ性ガスとの混触反応を生じ、反応生成物が排気
ダクト57、58内に析出堆積して安全性を損なうダクト詰
まりを生じたり、また反応生成物の排ガス洗浄装置59及
び60による除去不良により環境汚染を発生させるという
問題があった。
【０００８】そこで本発明は、酸性ガスとアルカリ性ガ
スの混触を防止するウエーハ処理装置を提供し、ウエー
ハ処理に際しての安全性の確保及び環境汚染の防止を図
ることを目的とする。
スの混触を防止するウエーハ処理装置を提供し、ウエー
ハ処理に際しての安全性の確保及び環境汚染の防止を図
ることを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記課題の解決は、開閉
自在な試料挿入口を有する蓋部に上部が覆われ、該蓋部
から所定寸法の空間部を隔てた高さまでオーバフロー方
式により処理液が満たされる密閉型のウエーハ処理槽
と、該空間部内に末端部が開口する排気ダクトと、該処
理槽内に供給する処理薬品を収容し且つ該排気ダクトに
接続された密閉型の薬品保管タンクと、該処理槽内に供
給する共洗い液を収容し且つ該排気ダクトに接続された
密閉型の共洗い液保管タンクと、該処理薬品及び共洗い
液を該薬品保管タンク或いは共洗い液保管タンクから処
理槽内へ供給し、且つ該処理槽内を循環させ、更に該処
理槽内から該薬品保管タンク或いは共洗い液タンク内へ
回収する機能を有する薬液供給回路と、該薬液供給回路
内に挿入されたフィルターと、該処理槽に純水を流通せ
しめる給水手段と、該処理槽からの排水手段と、該薬品
保管タンクへの新薬品の供給手段と、該排気ダクトの基
部に配設された排ガス洗浄装置とを具備し、ウエーハの
薬品処理から水洗までが同一処理槽内でなされる本発明
によるウエーハ処理装置、若しくは上記構造を有する酸
処理用の第１のウエーハ処理装置とアルカリ処理用の第
２のウエーハ処理装置とを同一処理室内に有してなる本
発明によるウエーハ処理装置によって達成される。
自在な試料挿入口を有する蓋部に上部が覆われ、該蓋部
から所定寸法の空間部を隔てた高さまでオーバフロー方
式により処理液が満たされる密閉型のウエーハ処理槽
と、該空間部内に末端部が開口する排気ダクトと、該処
理槽内に供給する処理薬品を収容し且つ該排気ダクトに
接続された密閉型の薬品保管タンクと、該処理槽内に供
給する共洗い液を収容し且つ該排気ダクトに接続された
密閉型の共洗い液保管タンクと、該処理薬品及び共洗い
液を該薬品保管タンク或いは共洗い液保管タンクから処
理槽内へ供給し、且つ該処理槽内を循環させ、更に該処
理槽内から該薬品保管タンク或いは共洗い液タンク内へ
回収する機能を有する薬液供給回路と、該薬液供給回路
内に挿入されたフィルターと、該処理槽に純水を流通せ
しめる給水手段と、該処理槽からの排水手段と、該薬品
保管タンクへの新薬品の供給手段と、該排気ダクトの基
部に配設された排ガス洗浄装置とを具備し、ウエーハの
薬品処理から水洗までが同一処理槽内でなされる本発明
によるウエーハ処理装置、若しくは上記構造を有する酸
処理用の第１のウエーハ処理装置とアルカリ処理用の第
２のウエーハ処理装置とを同一処理室内に有してなる本
発明によるウエーハ処理装置によって達成される。
【００１０】
【作用】図１は本発明の原理説明用のウエーハ処理装置
要部構成図である。図中の、２は密閉型ウエーハ処理槽
で、蓋部2Aに排気ダクト３の第１の端部3Aが接続されお
り、且つ前記蓋部2Aには開閉自在のウエーハ出し入れ口
４が設けられる。また、５は密閉型薬品保管タンクで、
処理薬品が収容され、上部には前記排気ダクト３の第３
の端部3Cが接続される。また、６は密閉型共洗い液保管
タンクで前記処理薬品と同一の薬品からなる共洗い液が
収容され、上部には前記排気ダクト３の第２の端部3Bが
接続される。また、７は洗浄水を供給する給水管で、
７′は薬品保管タンクへ新薬品供給管、８は排水管、９
は排ガス洗浄装置である。 そして、本発明のウエーハ
処理装置においては、前記ウエーハ処理槽２と前記薬品
保管タンク５及び前記共洗い液保管タンク６とが、供給
・循環・回収が可能なフィルター11を内蔵した薬液供給
回路10を介して接続された要部の構成を有し、ウエーハ
の薬品処理から水洗までが一括して同一の密閉型処理槽
２内で行われる。
要部構成図である。図中の、２は密閉型ウエーハ処理槽
で、蓋部2Aに排気ダクト３の第１の端部3Aが接続されお
り、且つ前記蓋部2Aには開閉自在のウエーハ出し入れ口
４が設けられる。また、５は密閉型薬品保管タンクで、
処理薬品が収容され、上部には前記排気ダクト３の第３
の端部3Cが接続される。また、６は密閉型共洗い液保管
タンクで前記処理薬品と同一の薬品からなる共洗い液が
収容され、上部には前記排気ダクト３の第２の端部3Bが
接続される。また、７は洗浄水を供給する給水管で、
７′は薬品保管タンクへ新薬品供給管、８は排水管、９
は排ガス洗浄装置である。 そして、本発明のウエーハ
処理装置においては、前記ウエーハ処理槽２と前記薬品
保管タンク５及び前記共洗い液保管タンク６とが、供給
・循環・回収が可能なフィルター11を内蔵した薬液供給
回路10を介して接続された要部の構成を有し、ウエーハ
の薬品処理から水洗までが一括して同一の密閉型処理槽
２内で行われる。
【００１１】このように、本発明のウエーハ処理装置に
おいては、ウエーハの薬品処理が排気ダクト３(3A)の接
続された密閉型ウエーハ処理槽２内で行われ、且つ処理
薬品及び共洗い液の保管タンク５及び６も密閉型でそれ
ぞれ前記排気ダクト３(3B 或いは3C）に接続されている
ので、ウエーハの薬品処理中及び処理容器の共洗い中に
装置から外部に漏洩する薬品のガスは殆どなくなる。ま
た、薬品処理を終わったウエーハの水洗も同一のウエー
ハ処理槽２内で引き続いて行われ、ウエーハ処理容器２
外に取り出されるウエーハ及びそれを搭載するキャリア
は水洗が終わった状態になるので、ウエーハの移動に伴
う装置外での薬品ガスの発生も殆ど皆無になる。
おいては、ウエーハの薬品処理が排気ダクト３(3A)の接
続された密閉型ウエーハ処理槽２内で行われ、且つ処理
薬品及び共洗い液の保管タンク５及び６も密閉型でそれ
ぞれ前記排気ダクト３(3B 或いは3C）に接続されている
ので、ウエーハの薬品処理中及び処理容器の共洗い中に
装置から外部に漏洩する薬品のガスは殆どなくなる。ま
た、薬品処理を終わったウエーハの水洗も同一のウエー
ハ処理槽２内で引き続いて行われ、ウエーハ処理容器２
外に取り出されるウエーハ及びそれを搭載するキャリア
は水洗が終わった状態になるので、ウエーハの移動に伴
う装置外での薬品ガスの発生も殆ど皆無になる。
【００１２】以上により、本発明の構成を有するウエー
ハ処理装置は、酸処理用とアルカリ処理用とを隣接して
配置して酸処理及びアルカリ処理が連続して行われるウ
エーハ処理装置を構成した際にも、それぞれの装置に接
続される酸性ガス或いはアルカリ性ガスの専用の排気ダ
クトに互いのガスが混入することはなく、酸性ガスとア
ルカリ性ガスの混触による反応生成物の発生は殆ど皆無
になる。
ハ処理装置は、酸処理用とアルカリ処理用とを隣接して
配置して酸処理及びアルカリ処理が連続して行われるウ
エーハ処理装置を構成した際にも、それぞれの装置に接
続される酸性ガス或いはアルカリ性ガスの専用の排気ダ
クトに互いのガスが混入することはなく、酸性ガスとア
ルカリ性ガスの混触による反応生成物の発生は殆ど皆無
になる。
【００１３】従って、上記酸性ガスとアルカリ性ガスの
混触による反応生成物の析出堆積による排気ダクトの詰
まりや、排ガス洗浄装置の処理不良による前記反応生成
物ミストの大気中放出が回避されるので、ウエーハ処理
工程の安全性が確保されると同時に、ウエーハ処理に伴
う環境汚染が防止される。
混触による反応生成物の析出堆積による排気ダクトの詰
まりや、排ガス洗浄装置の処理不良による前記反応生成
物ミストの大気中放出が回避されるので、ウエーハ処理
工程の安全性が確保されると同時に、ウエーハ処理に伴
う環境汚染が防止される。
【００１４】
【実施例】以下本発明を図示実施例により具体的に説明
する。図２は本発明のウエーハ処理装置の一実施例の模
式構成図、図３は同じく他の実施例の模式構成図であ
る。全図を通じ同一対象物は同一符合で示す。
する。図２は本発明のウエーハ処理装置の一実施例の模
式構成図、図３は同じく他の実施例の模式構成図であ
る。全図を通じ同一対象物は同一符合で示す。
【００１５】本発明の一実施例を示す図２において、12
はオーバフロー方式の密閉型ウエーハ処理槽、13は排気
ダクト、13A 、13B 、13C はそれぞれ排気ダクト13の第
１、第２、第３の端部、14はウエーハ出し入れ口、15は
密閉型薬品保管タンク、16は密閉型共洗い液保管タン
ク、17は給水管、18は排水管、19は排ガス洗浄装置、20
は薬品供給回路、21はウエーハ、22はウエーハキャリ
ア、23は処理薬品、24は共洗い液、25は圧送ポンプ、26
はフィルター、27は新薬品供給管、SV-1〜SV-9はバルブ
を示す。
はオーバフロー方式の密閉型ウエーハ処理槽、13は排気
ダクト、13A 、13B 、13C はそれぞれ排気ダクト13の第
１、第２、第３の端部、14はウエーハ出し入れ口、15は
密閉型薬品保管タンク、16は密閉型共洗い液保管タン
ク、17は給水管、18は排水管、19は排ガス洗浄装置、20
は薬品供給回路、21はウエーハ、22はウエーハキャリ
ア、23は処理薬品、24は共洗い液、25は圧送ポンプ、26
はフィルター、27は新薬品供給管、SV-1〜SV-9はバルブ
を示す。
【００１６】本発明のウエーハ処理装置例えばウエーハ
の酸処理装置は、例えば図２に示すような構成を有して
おり、密閉型薬品保管タンク15内には処理薬品23として
例えばHNO3が収容される。また、水洗後の処理槽12内の
隅々に溜まっている水を置換して導入される処理薬品の
濃度変化を防止するために行う水洗後の処理槽の洗浄即
ち共洗いに用いる溶液を収容する密閉型共洗い液保管タ
ンク16には共洗い液として前記処理薬品と同様のHNO3が
収容される。そして、ウエーハ処理槽12と前記薬品保管
タンク15及び共洗い液保管タンク16は、上部で、それぞ
れ排気ダクト端部13A 、13C 、13B を介し同一系統即ち
基部に専用の排ガス洗浄装置19を備えた酸系統の排気ダ
クト13に接続されている。
の酸処理装置は、例えば図２に示すような構成を有して
おり、密閉型薬品保管タンク15内には処理薬品23として
例えばHNO3が収容される。また、水洗後の処理槽12内の
隅々に溜まっている水を置換して導入される処理薬品の
濃度変化を防止するために行う水洗後の処理槽の洗浄即
ち共洗いに用いる溶液を収容する密閉型共洗い液保管タ
ンク16には共洗い液として前記処理薬品と同様のHNO3が
収容される。そして、ウエーハ処理槽12と前記薬品保管
タンク15及び共洗い液保管タンク16は、上部で、それぞ
れ排気ダクト端部13A 、13C 、13B を介し同一系統即ち
基部に専用の排ガス洗浄装置19を備えた酸系統の排気ダ
クト13に接続されている。
【００１７】ウエーハ21の処理に際しては、先ずバルブ
SV-4とSV-2のみを開いて処理薬品23のHNO3をウエーハ処
理槽12内に満たした後、ウエーハ出し入れ口14を開いて
ウエーハキャリア22に搭載されたウエーハ21を処理薬品
23内に浸漬保持し、前記ウエーハ出し入れ口14を閉じ
る。
SV-4とSV-2のみを開いて処理薬品23のHNO3をウエーハ処
理槽12内に満たした後、ウエーハ出し入れ口14を開いて
ウエーハキャリア22に搭載されたウエーハ21を処理薬品
23内に浸漬保持し、前記ウエーハ出し入れ口14を閉じ
る。
【００１８】次いで、バルブのSV-1、SV-3、SV-4、SV-
5、SV-6、SV-7、SV-8を閉じ、SV-2のみを開き、圧送ポ
ンプ25を駆動する。この状態で、処理薬品23は、圧送ポ
ンプ25及びフィルター26を介してウエーハ処理槽12内を
循環する。この処理薬品23の循環を所定の時間継続し
て、所定の酸処理を行う。
5、SV-6、SV-7、SV-8を閉じ、SV-2のみを開き、圧送ポ
ンプ25を駆動する。この状態で、処理薬品23は、圧送ポ
ンプ25及びフィルター26を介してウエーハ処理槽12内を
循環する。この処理薬品23の循環を所定の時間継続し
て、所定の酸処理を行う。
【００１９】次いで、処理が完了したならば、バルブSV
-2、SV-3、SV-4、SV-5、SV-7、SV-8を閉じSV-1、SV-6を
開いて圧送ポンプ25を駆動し、処理槽12内の処理薬品23
を薬品保管タンク15内に回収する。
-2、SV-3、SV-4、SV-5、SV-7、SV-8を閉じSV-1、SV-6を
開いて圧送ポンプ25を駆動し、処理槽12内の処理薬品23
を薬品保管タンク15内に回収する。
【００２０】次いで、バルブSV-7を開いて給水管17から
純水を供給し、且つバルブSV-1、SV-3、SV-4、SV-5、SV
-6、SV-8を閉じ、バルブSV-2を開き、圧送ポンプ25を駆
動して、純水を圧送ポンプ25及びフィルター26を介して
ウエーハ処理槽12内を循環させ、所定の時間ウエーハ21
の純水洗浄を行う。
純水を供給し、且つバルブSV-1、SV-3、SV-4、SV-5、SV
-6、SV-8を閉じ、バルブSV-2を開き、圧送ポンプ25を駆
動して、純水を圧送ポンプ25及びフィルター26を介して
ウエーハ処理槽12内を循環させ、所定の時間ウエーハ21
の純水洗浄を行う。
【００２１】次いで、純水洗浄が完了した後、バルブSV
-8を開き、SV-1、SV-3、SV-4、SV-5、SV-6を閉じた状態
で一定時間SV-2を開き、圧送ポンプ25を駆動させ、処理
槽12及び配管内の純水を排水管18から排出する。
-8を開き、SV-1、SV-3、SV-4、SV-5、SV-6を閉じた状態
で一定時間SV-2を開き、圧送ポンプ25を駆動させ、処理
槽12及び配管内の純水を排水管18から排出する。
【００２２】そして、ウエーハ出し入れ口14を開き、純
水洗浄の終わったウエーハ21及びそれを搭載するキャリ
ア22を処理槽12から取り出し、他の処理装置へ移送す
る。次いで、ウエーハ出し入れ口14を閉じ、バルブSV-2
とSV-3を開き、バルブSV-1、SV-4、SV-5、SV-6、SV-7、
SV-8を閉じた状態で共洗い液を圧送して処理槽12内に満
たして共洗い洗浄を行った後、バルブSV-1、SV-5を開
き、バルブSV-2、SV-3、SV-4、SV-6、SV-7、SV-8を閉じ
た状態で、圧送ポンプ25を駆動し共洗い液24を共洗い液
保管容器16内へ回収する。
水洗浄の終わったウエーハ21及びそれを搭載するキャリ
ア22を処理槽12から取り出し、他の処理装置へ移送す
る。次いで、ウエーハ出し入れ口14を閉じ、バルブSV-2
とSV-3を開き、バルブSV-1、SV-4、SV-5、SV-6、SV-7、
SV-8を閉じた状態で共洗い液を圧送して処理槽12内に満
たして共洗い洗浄を行った後、バルブSV-1、SV-5を開
き、バルブSV-2、SV-3、SV-4、SV-6、SV-7、SV-8を閉じ
た状態で、圧送ポンプ25を駆動し共洗い液24を共洗い液
保管容器16内へ回収する。
【００２３】この状態において、処理槽12及び配管内に
残留していた純水は共洗い液24で置換され、次に処理槽
12内に処理薬品23を導入した際、その濃度が変化するの
が抑制される。
残留していた純水は共洗い液24で置換され、次に処理槽
12内に処理薬品23を導入した際、その濃度が変化するの
が抑制される。
【００２４】このように、ウエーハ21の処理がなされる
本発明に係る上記ウエーハ処理装置においては、処理薬
品及び共洗い液となるHNO3は総て、専用の酸排気ダクト
13に接続された密閉容器内で扱われるので、装置外部へ
漏洩するHNO3を含むガスの量は極微量に抑えることがで
きる。また処理されるウエーハ21及びそれを搭載するキ
ャリア22の装置からの出し入れは、純水洗浄が終わって
からなされるので、半導体ウエーハ及びキャリアについ
て装置からひきだされ、装置の外部に拡散するHNO3を含
むガスも殆ど発生しない。なお、十数回繰り返された
後、共洗い用のHNO3は、排水管18より排出され、処理用
のHNO3が共洗い用になり、SV-9が開き新薬品供給管27よ
り新しいHNO3が供給される。
本発明に係る上記ウエーハ処理装置においては、処理薬
品及び共洗い液となるHNO3は総て、専用の酸排気ダクト
13に接続された密閉容器内で扱われるので、装置外部へ
漏洩するHNO3を含むガスの量は極微量に抑えることがで
きる。また処理されるウエーハ21及びそれを搭載するキ
ャリア22の装置からの出し入れは、純水洗浄が終わって
からなされるので、半導体ウエーハ及びキャリアについ
て装置からひきだされ、装置の外部に拡散するHNO3を含
むガスも殆ど発生しない。なお、十数回繰り返された
後、共洗い用のHNO3は、排水管18より排出され、処理用
のHNO3が共洗い用になり、SV-9が開き新薬品供給管27よ
り新しいHNO3が供給される。
【００２５】図３は酸処理槽とアルカリ処理槽が同一処
理室内に隣接して配置される本発明の他の実施例の模式
構成図である。図において、112 は密閉型酸処理槽、11
3 は酸ガス用排気ダクト、113A 、113B、113Cはその第
１、第２、第３の端部、114 はウエーハ出し入れ口、11
5 は密閉型酸保管タンク、116 は密閉型酸用共洗い液保
管タンク、117 は給水管、118は排水管、119 は酸ガス
用排ガス洗浄装置、120 は前記実施例と同様の回路構成
を有する酸処理用薬品供給回路、121 は酸性薬品供給
管、212 は密閉型アルカリ処理槽、213 はアルカリガス
用排気ダクト、213A 、213B、213Cはその第１、第２、
第３の端部、214 はウエーハ出し入れ口、215 は密閉型
アルカリ保管タンク、216 は密閉型アルカリ用共洗い液
保管タンク、217 は給水管、218 は排水管、219 はアル
カリガス用排ガス洗浄装置、220 は前記実施例と同様の
回路構成を有するアルカリ処理用薬品供給回路、221 は
アルカリ性薬品供給管、123 は酸処理液、223 はアルカ
リ処理液、21はウエーハ、22はウエーハキャリア、１は
処理室を示す。
理室内に隣接して配置される本発明の他の実施例の模式
構成図である。図において、112 は密閉型酸処理槽、11
3 は酸ガス用排気ダクト、113A 、113B、113Cはその第
１、第２、第３の端部、114 はウエーハ出し入れ口、11
5 は密閉型酸保管タンク、116 は密閉型酸用共洗い液保
管タンク、117 は給水管、118は排水管、119 は酸ガス
用排ガス洗浄装置、120 は前記実施例と同様の回路構成
を有する酸処理用薬品供給回路、121 は酸性薬品供給
管、212 は密閉型アルカリ処理槽、213 はアルカリガス
用排気ダクト、213A 、213B、213Cはその第１、第２、
第３の端部、214 はウエーハ出し入れ口、215 は密閉型
アルカリ保管タンク、216 は密閉型アルカリ用共洗い液
保管タンク、217 は給水管、218 は排水管、219 はアル
カリガス用排ガス洗浄装置、220 は前記実施例と同様の
回路構成を有するアルカリ処理用薬品供給回路、221 は
アルカリ性薬品供給管、123 は酸処理液、223 はアルカ
リ処理液、21はウエーハ、22はウエーハキャリア、１は
処理室を示す。
【００２６】この実施例においては、図示のように、前
記実施例のウエーハ処理装置と同様な構成を有するウエ
ーハ21の酸処理装置とアルカリ処理装置とが組み合わさ
れて、ウエーハの酸処理とアルカリ処理が連続してなさ
れる一体のウエーハ処理装置が構成されている。そし
て、各々の処理槽における処理の方法は、前記実施例と
同様に行われる。
記実施例のウエーハ処理装置と同様な構成を有するウエ
ーハ21の酸処理装置とアルカリ処理装置とが組み合わさ
れて、ウエーハの酸処理とアルカリ処理が連続してなさ
れる一体のウエーハ処理装置が構成されている。そし
て、各々の処理槽における処理の方法は、前記実施例と
同様に行われる。
【００２７】この装置において、例えば、先ず、酸処理
槽112 に酸処理液123 を満たした後、処理槽112 のウエ
ーハ出し入れ口114 を開き、ウエーハキャリア22に搭載
されたウエーハ21を矢印を付した鎖線ｍに示すように酸
処理液123 内に浸漬し保持し、ウエーハ出し入れ口114
を閉じ、処理液123 を循環しながら所定の時間酸処理す
る。
槽112 に酸処理液123 を満たした後、処理槽112 のウエ
ーハ出し入れ口114 を開き、ウエーハキャリア22に搭載
されたウエーハ21を矢印を付した鎖線ｍに示すように酸
処理液123 内に浸漬し保持し、ウエーハ出し入れ口114
を閉じ、処理液123 を循環しながら所定の時間酸処理す
る。
【００２８】次いで、酸処理槽112 内の酸処理液123 を
密閉型酸保管タンク115 内に回収した後、酸処理槽112
内に純水を流通循環させ水洗を行う。次いで、処理槽11
2 のウエーハ出し入れ口114 を開いて水洗の終わったウ
エーハ21及びキャリア22を引出し、前記矢印を付した鎖
線ｍに示すように移動し、アルカリ処理槽212 のウエー
ハ出し入れ口214 を開いて槽212 内に満たされたアルカ
リ処理液223 中に浸漬保持する。
密閉型酸保管タンク115 内に回収した後、酸処理槽112
内に純水を流通循環させ水洗を行う。次いで、処理槽11
2 のウエーハ出し入れ口114 を開いて水洗の終わったウ
エーハ21及びキャリア22を引出し、前記矢印を付した鎖
線ｍに示すように移動し、アルカリ処理槽212 のウエー
ハ出し入れ口214 を開いて槽212 内に満たされたアルカ
リ処理液223 中に浸漬保持する。
【００２９】次いで、アルカリ処理槽212 のウエーハ出
し入れ口214 を閉じ、処理液223 を循環しながら所定の
時間アルカリ処理を行う。次いで、アルカリ処理槽212
内のアルカリ処理液223 を密閉型アルカリ保管容器215
内に回収した後、処理槽212 内に純水を流通させて、ウ
エーハ21及びキャリア22の水洗を行う。
し入れ口214 を閉じ、処理液223 を循環しながら所定の
時間アルカリ処理を行う。次いで、アルカリ処理槽212
内のアルカリ処理液223 を密閉型アルカリ保管容器215
内に回収した後、処理槽212 内に純水を流通させて、ウ
エーハ21及びキャリア22の水洗を行う。
【００３０】次いで、ウエーハ出し入れ口214 を開いて
水洗を終わったウエーハ21及びウエーハキャリア22を引
出し次の工程へ移動して、ウエーハ処理が完了する。
この装置においては、上記工程説明で述べたように、キ
ャリア22に搭載したウエーハ21を密閉型の酸処理槽112
及びアルカリ処理槽212 内に挿入する際、それぞれのウ
エーハ出し入れ口114 或いは214 が開かれて処理液面が
処理室１内に表出するが、それぞれ専用の排気ダクト11
3 或いは213 の端部113A或いは213Aが処理槽112 或いは
212 内に開口しているので、それぞれのウエーハ出し入
れ口114 或いは214 が開かれた時に処理室１内の空気は
処理槽112 或いは212 の内部に向かって流れ込むので、
処理室１内への酸或いはアルカリのガスの流出は殆ど生
じない。また、それぞれの処理を終わったウエーハ21及
びキャリア22は水洗を終わった後に処理装置から引き出
されて移動するので、ウエーハ21及びキャリア22の表面
から酸或いはアルカリのガスが処理室１内に放出される
こともない。また保管される酸処理液、アルカリ処理液
及びそれぞれの共洗い液も、それぞれ酸或いはアルカリ
専用の排気ダクトに接続された密閉型の保管容器内に収
容されるので、これら保管容器115 、116 、215 、216
等から処理室１内に漏洩する酸、アルカリのガスも発生
しない。従って、処理室１内を介して酸とアルカリのガ
スが高濃度で混合して酸用或いはアルカリ用の排気ダク
ト113 或いは213 に引き込まれることはなくなる。よっ
て、酸性ガスとアルカリ性ガスの混触により形成される
反応生成物によるダクトの詰まりや環境汚染は防止され
る。
水洗を終わったウエーハ21及びウエーハキャリア22を引
出し次の工程へ移動して、ウエーハ処理が完了する。
この装置においては、上記工程説明で述べたように、キ
ャリア22に搭載したウエーハ21を密閉型の酸処理槽112
及びアルカリ処理槽212 内に挿入する際、それぞれのウ
エーハ出し入れ口114 或いは214 が開かれて処理液面が
処理室１内に表出するが、それぞれ専用の排気ダクト11
3 或いは213 の端部113A或いは213Aが処理槽112 或いは
212 内に開口しているので、それぞれのウエーハ出し入
れ口114 或いは214 が開かれた時に処理室１内の空気は
処理槽112 或いは212 の内部に向かって流れ込むので、
処理室１内への酸或いはアルカリのガスの流出は殆ど生
じない。また、それぞれの処理を終わったウエーハ21及
びキャリア22は水洗を終わった後に処理装置から引き出
されて移動するので、ウエーハ21及びキャリア22の表面
から酸或いはアルカリのガスが処理室１内に放出される
こともない。また保管される酸処理液、アルカリ処理液
及びそれぞれの共洗い液も、それぞれ酸或いはアルカリ
専用の排気ダクトに接続された密閉型の保管容器内に収
容されるので、これら保管容器115 、116 、215 、216
等から処理室１内に漏洩する酸、アルカリのガスも発生
しない。従って、処理室１内を介して酸とアルカリのガ
スが高濃度で混合して酸用或いはアルカリ用の排気ダク
ト113 或いは213 に引き込まれることはなくなる。よっ
て、酸性ガスとアルカリ性ガスの混触により形成される
反応生成物によるダクトの詰まりや環境汚染は防止され
る。
【００３１】
【発明の効果】以上説明のように、本発明のウエーハ処
理装置によれば、ウエーハの酸処理とアルカリ処理を近
接した領域で行っても、酸性ガスとアルカリ性ガスの混
触による反応生成物の形成は殆どなくなる。
理装置によれば、ウエーハの酸処理とアルカリ処理を近
接した領域で行っても、酸性ガスとアルカリ性ガスの混
触による反応生成物の形成は殆どなくなる。
【００３２】よって、半導体装置を製造する際のウエー
ハ処理において、上記反応生成物が排気ダクト内に析出
堆積してダクトの排気効率が低下することがなく、また
酸性ガス及びアルカリ性ガスがそれぞれ専用の排ガス洗
浄装置により十分に除害される。従って本発明は、ウエ
ーハ処理における安全性の向上及び環境汚染の防止に寄
与するところが大きい。
ハ処理において、上記反応生成物が排気ダクト内に析出
堆積してダクトの排気効率が低下することがなく、また
酸性ガス及びアルカリ性ガスがそれぞれ専用の排ガス洗
浄装置により十分に除害される。従って本発明は、ウエ
ーハ処理における安全性の向上及び環境汚染の防止に寄
与するところが大きい。
【図１】 本発明の原理説明用のウエーハ処理装置要部
構成図
構成図
【図２】 本発明のウエーハ処理装置の一実施例の模式
構成図
構成図
【図３】 本発明のウエーハ処理装置の他の実施例の模
式構成図
式構成図
【図４】 従来のウエーハ処理装置の模式構成図
２ 密閉型ウエーハ処理槽 2A 蓋部 ３ 排気ダクト 3A 排気ダクトの第１の端部 3B 排気ダクトの第２の端部 3C 排気ダクトの第３の端部 ４ ウエーハ出し入れ口 ５ 密閉型薬品保管タンク ６ 密閉型共洗い液保管タンク ７ 給水管 ７′新薬品供給管 ８ 排水管 ９ 排ガス洗浄装置 10 薬液供給回路 11 フィルター
Claims (2)
- 【請求項１】 開閉自在な試料挿入口を有する蓋部に上
部が覆われ、該蓋部から所定寸法の空間部を隔てた高さ
までオーバフロー方式により処理液が満たされる密閉型
のウエーハ処理槽と、該空間部内に末端部が開口する排
気ダクトと、該処理槽内に供給する処理薬品を収容し且
つ該排気ダクトに接続された密閉型の薬品保管タンク
と、該処理槽内に供給する共洗い液を収容し且つ該排気
ダクトに接続された密閉型の共洗い液保管タンクと、該
処理薬品及び共洗い液を該薬品保管タンク或いは共洗い
液保管タンクから処理槽内へ供給し、且つ該処理槽内を
循環させ、更に該処理槽内から該薬品保管タンク或いは
共洗い液タンク内へ回収する機能を有する薬液供給回路
と、該薬液供給回路内に挿入されたフィルターと、該処
理槽に純水を流通せしめる給水手段と、該処理層からの
排水手段と、該薬品保管タンクへの新薬品の供給手段
と、該排気ダクトの基部に配設された排ガス洗浄装置と
を具備し、ウエーハの薬品処理から水洗までが同一処理
槽内でなされることを特徴とするウエーハ処理装置。 - 【請求項２】 請求項１記載の構成を有する酸処理用の
第１のウエーハ処理装置とアルカリ処理用の第２のウエ
ーハ処理装置とを同一処理室内に有してなることを特徴
とするウエーハ処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04235044A JP3089846B2 (ja) | 1992-09-03 | 1992-09-03 | ウエーハ処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04235044A JP3089846B2 (ja) | 1992-09-03 | 1992-09-03 | ウエーハ処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0684873A true JPH0684873A (ja) | 1994-03-25 |
| JP3089846B2 JP3089846B2 (ja) | 2000-09-18 |
Family
ID=16980255
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP04235044A Expired - Lifetime JP3089846B2 (ja) | 1992-09-03 | 1992-09-03 | ウエーハ処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3089846B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6877518B2 (en) | 2001-12-04 | 2005-04-12 | Nec Electronics Corporation | Chemical solution treatment apparatus for semiconductor substrate |
| JP2009076878A (ja) * | 2007-08-29 | 2009-04-09 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理装置、基板処理方法、および記憶媒体 |
| CN105013754A (zh) * | 2015-06-24 | 2015-11-04 | 山东华光光电子有限公司 | 一种mocvd设备尾气处理系统在线化学清洗方法 |
| CN110125128A (zh) * | 2019-06-19 | 2019-08-16 | 德淮半导体有限公司 | 废气收集装置及湿法清洗装置 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN107527832B (zh) * | 2016-06-21 | 2020-07-31 | 无锡华瑛微电子技术有限公司 | 模块化半导体处理设备 |
-
1992
- 1992-09-03 JP JP04235044A patent/JP3089846B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6877518B2 (en) | 2001-12-04 | 2005-04-12 | Nec Electronics Corporation | Chemical solution treatment apparatus for semiconductor substrate |
| KR100495400B1 (ko) * | 2001-12-04 | 2005-06-14 | 간또 가가꾸 가부시끼가이샤 | 반도체기판의 약액처리장치 |
| JP2009076878A (ja) * | 2007-08-29 | 2009-04-09 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理装置、基板処理方法、および記憶媒体 |
| CN105013754A (zh) * | 2015-06-24 | 2015-11-04 | 山东华光光电子有限公司 | 一种mocvd设备尾气处理系统在线化学清洗方法 |
| CN110125128A (zh) * | 2019-06-19 | 2019-08-16 | 德淮半导体有限公司 | 废气收集装置及湿法清洗装置 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3089846B2 (ja) | 2000-09-18 |
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