JPH0685356A - レーザー発振装置 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 レーザー発振装置に係るもので、レーザー媒
質の光学軸中心にレーザー光の高い分布を持たせて、大
出力化と発振効率の向上とを達成する。 【構成】 実質的に点光源または線光源状態の励起用光
源１と、励起用光源から励起光が入射され円筒状反射面
２ａを有する反射筒２と、該反射筒の光学軸中心に配さ
れるロッド状レーザー媒質３とを具備する構成を採用す
る。点光源または線光源状態の励起用光源１からの励起
光を、円筒状反射面２ａで反射させることによって中心
に集めて仮想的点光源化し、これをロッド状レーザー媒
質に集めて結像させることによりレーザー光の励起を行
ない、レーザー媒質を通過した励起光を円筒状反射面で
反射させて再度レーザー媒質に結像させることを繰り返
す。
質の光学軸中心にレーザー光の高い分布を持たせて、大
出力化と発振効率の向上とを達成する。 【構成】 実質的に点光源または線光源状態の励起用光
源１と、励起用光源から励起光が入射され円筒状反射面
２ａを有する反射筒２と、該反射筒の光学軸中心に配さ
れるロッド状レーザー媒質３とを具備する構成を採用す
る。点光源または線光源状態の励起用光源１からの励起
光を、円筒状反射面２ａで反射させることによって中心
に集めて仮想的点光源化し、これをロッド状レーザー媒
質に集めて結像させることによりレーザー光の励起を行
ない、レーザー媒質を通過した励起光を円筒状反射面で
反射させて再度レーザー媒質に結像させることを繰り返
す。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、レーザー発振装置に係
り、特に、実質的に点光源または線光源状態の励起用光
源と円筒状の反射筒との組み合わせによって、光学軸中
心の励起強度分布を高めレーザーの大出力化を行なうも
のである。
り、特に、実質的に点光源または線光源状態の励起用光
源と円筒状の反射筒との組み合わせによって、光学軸中
心の励起強度分布を高めレーザーの大出力化を行なうも
のである。
【０００２】固体レーザー媒質を励起させることによっ
てレーザー発振状態とする技術として、特開平１−１０
７５８８号公報（固体レーザ装置）、特開平１−２０５
４８４号公報（レーザ装置）が提案されている。
てレーザー発振状態とする技術として、特開平１−１０
７５８８号公報（固体レーザ装置）、特開平１−２０５
４８４号公報（レーザ装置）が提案されている。
【０００３】特開平１−１０７５８８号公報の技術で
は、固体結晶からなるレーザ媒質の回りに半導体レーザ
素子の励起光源を円周方向に複数配し、半径中心に励起
光を出力することによって発振効率を向上させるように
しており、特開平１−２０５４８４号公報の技術では、
固体結晶からなるレーザ媒質の外周を囲む反射面の一部
に、励起光を入射させるための開孔を複数形成し、反射
面を多くして励起光を閉じ込め、発振のエネルギ効率を
向上させるようにしている。
は、固体結晶からなるレーザ媒質の回りに半導体レーザ
素子の励起光源を円周方向に複数配し、半径中心に励起
光を出力することによって発振効率を向上させるように
しており、特開平１−２０５４８４号公報の技術では、
固体結晶からなるレーザ媒質の外周を囲む反射面の一部
に、励起光を入射させるための開孔を複数形成し、反射
面を多くして励起光を閉じ込め、発振のエネルギ効率を
向上させるようにしている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし、これらの技術
は、いずれもレーザ媒質の回りに励起光源を配するもの
であるために、励起光源の占有スペース分だけレーザ媒
質の回りの反射面の面積が少なくなるとともに、励起光
を入射する部分では励起光の反射が行なわれなくなるた
めに、発振効率を向上させる上で限界があり、またレー
ザ媒質中央の励起強度分布を強める上でも限界がある。
は、いずれもレーザ媒質の回りに励起光源を配するもの
であるために、励起光源の占有スペース分だけレーザ媒
質の回りの反射面の面積が少なくなるとともに、励起光
を入射する部分では励起光の反射が行なわれなくなるた
めに、発振効率を向上させる上で限界があり、またレー
ザ媒質中央の励起強度分布を強める上でも限界がある。
【０００５】本発明は、これらの事情に鑑みてなされた
もので、レーザー媒質の光学軸中心にレーザー光の高
い分布を持たせてレーザビーム品質を向上させること、
大出力化を図ること、発振効率を向上させること等
を目的としている。
もので、レーザー媒質の光学軸中心にレーザー光の高
い分布を持たせてレーザビーム品質を向上させること、
大出力化を図ること、発振効率を向上させること等
を目的としている。
【０００６】
【課題を解決するための手段】かかる目的を達成するた
め、以下の手段を提案している。請求項１に係るレーザ
ー発振装置にあっては、実質的に点光源または線光源状
態の励起用光源と、該励起用光源から励起光が入射され
円筒状反射面を有する反射筒と、該反射筒の光学軸中心
に配されるロッド状レーザー媒質とを具備する構成を採
用している。請求項２に係るレーザー発振装置にあって
は、請求項１の発振装置の技術に、反射筒の端面の外方
位置にリング状励起用光源が配され、反射筒の端面が反
射面とされるとともに、一端の反射面の中心部に励起光
を入射させる開口が形成される構成が付加される。請求
項３に係るレーザー発振装置にあっては、請求項１の発
振装置の技術に、反射筒の端面の外方位置にリング状励
起用光源が配され、反射筒の端面が反射面とされるとと
もに、一端の反射面の周辺部に励起光を入射させる環状
開口が形成される構成が付加される。請求項４に係るレ
ーザー発振装置にあっては、請求項２または請求項３の
円筒状反射筒に代えて、円錐状をなす反射面を有する円
錐状反射筒が配され、該円錐状反射筒の大径開口の外方
位置に励起用光源が配される構成が採用される。請求項
５に係るレーザー発振装置にあっては、請求項４の発振
装置の技術に、大径開口を両外方に向けた一対の円錐状
反射筒が配され、該一対の円錐状反射筒の大径開口の外
方位置に励起用光源がそれぞれ配される構成が付加され
る。請求項６に係るレーザー発振装置にあっては、請求
項１、請求項２、請求項３、請求項４または請求項５の
発振装置の技術に、励起用光源が、平行ビーム発生手段
と、該平行ビーム発生手段の先端に配され平行ビームを
集光させる凹面鏡とを具備する構成が付加される。請求
項７に係るレーザー発振装置にあっては、請求項１、請
求項２、請求項３、請求項４または請求項５の発振装置
の技術に、励起用光源が、環状に配される平行ビーム発
生手段と、該平行ビーム発生手段の先端と対向状態に配
され平行ビームを光軸中心に向けて入射させる円錐状反
射面または凹面鏡とを具備する構成が付加される。
め、以下の手段を提案している。請求項１に係るレーザ
ー発振装置にあっては、実質的に点光源または線光源状
態の励起用光源と、該励起用光源から励起光が入射され
円筒状反射面を有する反射筒と、該反射筒の光学軸中心
に配されるロッド状レーザー媒質とを具備する構成を採
用している。請求項２に係るレーザー発振装置にあって
は、請求項１の発振装置の技術に、反射筒の端面の外方
位置にリング状励起用光源が配され、反射筒の端面が反
射面とされるとともに、一端の反射面の中心部に励起光
を入射させる開口が形成される構成が付加される。請求
項３に係るレーザー発振装置にあっては、請求項１の発
振装置の技術に、反射筒の端面の外方位置にリング状励
起用光源が配され、反射筒の端面が反射面とされるとと
もに、一端の反射面の周辺部に励起光を入射させる環状
開口が形成される構成が付加される。請求項４に係るレ
ーザー発振装置にあっては、請求項２または請求項３の
円筒状反射筒に代えて、円錐状をなす反射面を有する円
錐状反射筒が配され、該円錐状反射筒の大径開口の外方
位置に励起用光源が配される構成が採用される。請求項
５に係るレーザー発振装置にあっては、請求項４の発振
装置の技術に、大径開口を両外方に向けた一対の円錐状
反射筒が配され、該一対の円錐状反射筒の大径開口の外
方位置に励起用光源がそれぞれ配される構成が付加され
る。請求項６に係るレーザー発振装置にあっては、請求
項１、請求項２、請求項３、請求項４または請求項５の
発振装置の技術に、励起用光源が、平行ビーム発生手段
と、該平行ビーム発生手段の先端に配され平行ビームを
集光させる凹面鏡とを具備する構成が付加される。請求
項７に係るレーザー発振装置にあっては、請求項１、請
求項２、請求項３、請求項４または請求項５の発振装置
の技術に、励起用光源が、環状に配される平行ビーム発
生手段と、該平行ビーム発生手段の先端と対向状態に配
され平行ビームを光軸中心に向けて入射させる円錐状反
射面または凹面鏡とを具備する構成が付加される。
【０００７】
【作用】請求項１に係るレーザー発振装置では、点光源
または線光源状態の励起用光源からの励起光を、一旦、
反射筒の円筒状反射面で反射させることによって、反射
光を光学軸中心に集めて仮想的点光源とする。この仮想
的点光源の位置は、ロッド状レーザー媒質の光学軸中心
となり、この部分に励起光が結像することによってレー
ザー光の励起が行なわれる。レーザー媒質を通過した励
起光については、円筒状反射面で反射させて再度レーザ
ー媒質に結像させることを繰り返す。このため、レーザ
ー媒質の光学軸上に励起光が結像して高い励起強度分布
を形成し、光学軸中心に高い分布を持つレーザー光出力
が得られる。請求項２に係るレーザー発振装置では、請
求項１による作用に加えて、励起用光源からのリング状
の励起光が、一端の反射面の中心部を経由する際に狭め
られた状態となって円筒状反射面の内部に導かれ、リン
グ状の励起光が円筒状反射面で反射して、レーザー媒質
の光学軸中心に集光することが繰り返され、集光の度に
レーザー媒質を励起する。請求項３に係るレーザー発振
装置では、請求項１による作用に加えて、リング状励起
用光源からのリング状の励起光が、一端の環状開口を経
由して円筒状反射面の内部に導かれて光学軸中心に集光
し、レーザー媒質を通過した励起光が円筒状反射面で反
射してレーザー媒質の中心に集光することが繰り返さ
れ、集光の度にレーザー媒質を励起する。請求項４に係
るレーザー発振装置では、請求項２または請求項３によ
る作用に加えて、励起用光源からの励起光が、円錐状反
射筒の大径開口を経由して円錐状反射筒の内部に導か
れ、円錐状をなす反射面で反射される度に、励起光の光
学軸方向のずれ量が小さくなり、レーザー媒質への励起
光密度が高められる。請求項５に係るレーザー発振装置
では、請求項４による作用に加えて、光学軸の両方向か
ら励起光が入射されて、高い励起光密度に基づいて発振
状態に導かれる。請求項６に係るレーザー発振装置で
は、請求項１、請求項２、請求項３、請求項４または請
求項５による作用に加えて、光学軸に対して平行状態に
導いた平行ビームを凹面鏡で反射させ、光学軸上に集め
ることによって点光源または線光源状態の励起光が形成
される。そして、凹面鏡の曲率に基づいて、点光源また
は線光源の光学軸に対しての傾きが設定される。請求項
７に係るレーザー発振装置では、請求項１、請求項２、
請求項３、請求項４または請求項５による作用に加え
て、光学軸に対して平行状態に導いた環状をなす平行ビ
ームを円錐状反射面または凹面鏡で反射させ、光軸中心
に向けて入射させることによって点光源または線光源状
態の励起光が形成される。
または線光源状態の励起用光源からの励起光を、一旦、
反射筒の円筒状反射面で反射させることによって、反射
光を光学軸中心に集めて仮想的点光源とする。この仮想
的点光源の位置は、ロッド状レーザー媒質の光学軸中心
となり、この部分に励起光が結像することによってレー
ザー光の励起が行なわれる。レーザー媒質を通過した励
起光については、円筒状反射面で反射させて再度レーザ
ー媒質に結像させることを繰り返す。このため、レーザ
ー媒質の光学軸上に励起光が結像して高い励起強度分布
を形成し、光学軸中心に高い分布を持つレーザー光出力
が得られる。請求項２に係るレーザー発振装置では、請
求項１による作用に加えて、励起用光源からのリング状
の励起光が、一端の反射面の中心部を経由する際に狭め
られた状態となって円筒状反射面の内部に導かれ、リン
グ状の励起光が円筒状反射面で反射して、レーザー媒質
の光学軸中心に集光することが繰り返され、集光の度に
レーザー媒質を励起する。請求項３に係るレーザー発振
装置では、請求項１による作用に加えて、リング状励起
用光源からのリング状の励起光が、一端の環状開口を経
由して円筒状反射面の内部に導かれて光学軸中心に集光
し、レーザー媒質を通過した励起光が円筒状反射面で反
射してレーザー媒質の中心に集光することが繰り返さ
れ、集光の度にレーザー媒質を励起する。請求項４に係
るレーザー発振装置では、請求項２または請求項３によ
る作用に加えて、励起用光源からの励起光が、円錐状反
射筒の大径開口を経由して円錐状反射筒の内部に導か
れ、円錐状をなす反射面で反射される度に、励起光の光
学軸方向のずれ量が小さくなり、レーザー媒質への励起
光密度が高められる。請求項５に係るレーザー発振装置
では、請求項４による作用に加えて、光学軸の両方向か
ら励起光が入射されて、高い励起光密度に基づいて発振
状態に導かれる。請求項６に係るレーザー発振装置で
は、請求項１、請求項２、請求項３、請求項４または請
求項５による作用に加えて、光学軸に対して平行状態に
導いた平行ビームを凹面鏡で反射させ、光学軸上に集め
ることによって点光源または線光源状態の励起光が形成
される。そして、凹面鏡の曲率に基づいて、点光源また
は線光源の光学軸に対しての傾きが設定される。請求項
７に係るレーザー発振装置では、請求項１、請求項２、
請求項３、請求項４または請求項５による作用に加え
て、光学軸に対して平行状態に導いた環状をなす平行ビ
ームを円錐状反射面または凹面鏡で反射させ、光軸中心
に向けて入射させることによって点光源または線光源状
態の励起光が形成される。
【０００８】
【実施例】以下、本発明に係るレーザー発振装置の実施
例について、図１ないし図９を参照して説明する。
例について、図１ないし図９を参照して説明する。
【０００９】図１及び図２は、本発明に係るレーザー発
振装置の第１実施例を示しており、図中符号１は励起用
光源、２は反射筒、２ａは円筒状反射面、２ｂは端面反
射鏡（反射面）、２ｃは端面反射鏡（反射面）、２ｄは
開口、３はレーザー媒質（ロッド状レーザー媒質）であ
る。
振装置の第１実施例を示しており、図中符号１は励起用
光源、２は反射筒、２ａは円筒状反射面、２ｂは端面反
射鏡（反射面）、２ｃは端面反射鏡（反射面）、２ｄは
開口、３はレーザー媒質（ロッド状レーザー媒質）であ
る。
【００１０】前記励起用光源１は、多数の半導体レーザ
ーをリング状に集合させたもの、あるいは適当な集光系
によってリング状としたもの等が適用され、開口２ｄを
経由して反射筒２の内部に導き、円筒状反射面２ａで反
射させることによって、レーザー媒質３の光学軸中心に
集光させた実質的な点光源化を行なうものである。
ーをリング状に集合させたもの、あるいは適当な集光系
によってリング状としたもの等が適用され、開口２ｄを
経由して反射筒２の内部に導き、円筒状反射面２ａで反
射させることによって、レーザー媒質３の光学軸中心に
集光させた実質的な点光源化を行なうものである。
【００１１】前記反射筒２は、その内面に円筒状反射面
２ａが形成されるとともに、両端部に、光学軸方向と直
交状態の一対の端面反射鏡（反射面）２ｂ，２ｃが形成
され、一端の反射面）２ｂの中心部に、励起光を入射さ
せるための反射層を除去した丸穴状の開口２ｄが形成さ
れる。
２ａが形成されるとともに、両端部に、光学軸方向と直
交状態の一対の端面反射鏡（反射面）２ｂ，２ｃが形成
され、一端の反射面）２ｂの中心部に、励起光を入射さ
せるための反射層を除去した丸穴状の開口２ｄが形成さ
れる。
【００１２】前記レーザー媒質（ロッド状レーザー媒
質）３は、Ｎｄ・ＹＡＧ等のロッドタイプのもの等が適
用され、円筒状反射面２ａの光学軸中心線上に配され
る。
質）３は、Ｎｄ・ＹＡＧ等のロッドタイプのもの等が適
用され、円筒状反射面２ａの光学軸中心線上に配され
る。
【００１３】図１及び図２に示すようなレーザー発振装
置であると、疑似的な点光源状態の励起用光源１と円筒
状反射面２ａとを組み合わせたものとなるので、励起光
が例えば、図１にで示すような光路で伝
播し、その途中にレーザー媒質３が介在している場合
に、これを励起してレーザー発振状態に導く。
置であると、疑似的な点光源状態の励起用光源１と円筒
状反射面２ａとを組み合わせたものとなるので、励起光
が例えば、図１にで示すような光路で伝
播し、その途中にレーザー媒質３が介在している場合
に、これを励起してレーザー発振状態に導く。
【００１４】つまり、図１のの光路によって、開口
２ｄを経由して反射筒２の内部に導入した励起光を、円
筒状反射面２ａので反射させ、この反射光を中心に集
めて仮想的点光源化し、レーザー媒質３の励起を行なう
ことによってエネルギの吸収がなされるが、の１パ
スの吸収過程で吸収されなかった励起光を、円筒状反射
面２ａので反射させて同様の条件で再びレーザー媒質
３に入射させ、円筒状反射面２ａの、端面反射鏡２ｃ
の、円筒状反射面２ａので反射させながら、順次レ
ーザー媒質３に入射させることを繰り返すことで、励起
効率を高めるとともに、中心部に吸収エネルギーが集中
した励起強度分布を可能にする。
２ｄを経由して反射筒２の内部に導入した励起光を、円
筒状反射面２ａので反射させ、この反射光を中心に集
めて仮想的点光源化し、レーザー媒質３の励起を行なう
ことによってエネルギの吸収がなされるが、の１パ
スの吸収過程で吸収されなかった励起光を、円筒状反射
面２ａので反射させて同様の条件で再びレーザー媒質
３に入射させ、円筒状反射面２ａの、端面反射鏡２ｃ
の、円筒状反射面２ａので反射させながら、順次レ
ーザー媒質３に入射させることを繰り返すことで、励起
効率を高めるとともに、中心部に吸収エネルギーが集中
した励起強度分布を可能にする。
【００１５】そして、励起用光源１が半導体レーザーを
リング状に集合させたもの等である場合には、一旦、励
起光を円筒状反射面２ａで反射させることによって、反
射光を図２の各矢印で示すように、中心に集めて仮想的
点光源化する。仮想的点光源から拡散する個々の励起用
ビームは、点光源を中心とする円筒状の波面を持って拡
散する。円筒状反射面２ａで反射した励起光は、円筒状
反射面２ａの横断面（ｒθ面）内では、拡散光とまった
く同じ光路を反転して伝播する。一方、円筒状反射面２
ａの縦断面（ｒｚ面）内では、軸方向（ｚ方向）にジグ
ザグの光路を取りながら伝播する。したがって、円筒状
反射面２ａによって反射された励起用ビームは光軸上に
点光源の像を結像する。これをロッド状レーザー媒質３
に集めて結像させてレーザー光の励起を行ない、レーザ
ー媒質３を通過した励起光については、円筒状反射面２
ａで反射させて、レーザー媒質３に結像させることを何
回でも繰り返し、光軸上のｚ座標の異なった位置に点状
に結像する。
リング状に集合させたもの等である場合には、一旦、励
起光を円筒状反射面２ａで反射させることによって、反
射光を図２の各矢印で示すように、中心に集めて仮想的
点光源化する。仮想的点光源から拡散する個々の励起用
ビームは、点光源を中心とする円筒状の波面を持って拡
散する。円筒状反射面２ａで反射した励起光は、円筒状
反射面２ａの横断面（ｒθ面）内では、拡散光とまった
く同じ光路を反転して伝播する。一方、円筒状反射面２
ａの縦断面（ｒｚ面）内では、軸方向（ｚ方向）にジグ
ザグの光路を取りながら伝播する。したがって、円筒状
反射面２ａによって反射された励起用ビームは光軸上に
点光源の像を結像する。これをロッド状レーザー媒質３
に集めて結像させてレーザー光の励起を行ない、レーザ
ー媒質３を通過した励起光については、円筒状反射面２
ａで反射させて、レーザー媒質３に結像させることを何
回でも繰り返し、光軸上のｚ座標の異なった位置に点状
に結像する。
【００１６】円筒状反射面２ａと同軸上に配置されたレ
ーザー媒質３は、励起ビームの拡散、収束を繰り返す伝
播過程の間に励起ビームのエネルギーを吸収する。光伝
播の過程はすべて円筒対称性を保持しているので、ロッ
ド状レーザー媒質３への入射、出射は屈折率の不均一面
に垂直入射するものとなり、屈折の影響はなく、点結像
特性が保持される。
ーザー媒質３は、励起ビームの拡散、収束を繰り返す伝
播過程の間に励起ビームのエネルギーを吸収する。光伝
播の過程はすべて円筒対称性を保持しているので、ロッ
ド状レーザー媒質３への入射、出射は屈折率の不均一面
に垂直入射するものとなり、屈折の影響はなく、点結像
特性が保持される。
【００１７】このように円筒対称の光伝播中では、点光
源は点光源を形成し、結像時の収差を無視することがで
きる。したがって、レーザー媒質３で吸収され切らずに
透過した励起ビームは、円筒状反射面２ａで反射させ
て、再度レーザー媒質３を励起するために用いることが
できる。多数回パス（光路）による励起は、励起媒質の
吸収係数の制限を取り払うために、ロッド中心部に集中
した励起強度の増大を可能にする。
源は点光源を形成し、結像時の収差を無視することがで
きる。したがって、レーザー媒質３で吸収され切らずに
透過した励起ビームは、円筒状反射面２ａで反射させ
て、再度レーザー媒質３を励起するために用いることが
できる。多数回パス（光路）による励起は、励起媒質の
吸収係数の制限を取り払うために、ロッド中心部に集中
した励起強度の増大を可能にする。
【００１８】さらに、詳細説明をすると、同軸点光源の
光伝播、吸収過程は以下の方程式で記述できる。 （ｄＩ／ｄｒ）＝（α＋（１／ｒ））Ｉ…………（１）式 ｒ＝０のとき、光は収束光で、ｒ＝ｒ0 のとき、発散光
の状態にある。ただし、Ｉは光強度、ｒはｒ座標の大き
さ、αは吸収係数、ｒ0 はロッド半径である。右辺第１
項は吸収過程を表し、第２項は収束、発散の影響を表現
している。この方程式は解析解を持ち、収束光について
は Ｉ＝Ｉ0 （ｒ0 ／ｒ）ｅｘｐ（αｒ）…………（２）式 となる。ただし、Ｉ0 は入射光の強度である。この結果
から、もし吸収係数が十分に大きい場合には、指数関数
の項の変化が大きく、１／ｒの変化を上回るので、１次
元的な吸収過程と同等となり、光強度は入射部分から内
部に入るにしたがって、指数関数的に減少する。一方、
吸収係数が十分に小さい場合には、１／ｒによる変化が
支配するので、中心部になるほど光強度が強い分布とな
る。レーザー媒質においては、反転分布に寄与している
分布数の割合は一般に小さいので、レーザー発振の基底
で利得が飽和する現象が見られる。また、吸収に関係す
る規定状態の分布数は非常に多いので、強い光で励起し
ても、吸収係数が飽和することはない。このため、吸収
分布は光強度分布に吸収係数をかけたものになる。図３
は、吸収分布を理論的に求めたものである。吸収係数α
と半径ｒの積αｒをパラメータとして、高吸収（周辺部
励起）：図３（ａ）、中程度吸収（均一励起）：図３
（ｂ）、低吸収（中心部励起）：図３（ｃ）状態を表わ
している。
光伝播、吸収過程は以下の方程式で記述できる。 （ｄＩ／ｄｒ）＝（α＋（１／ｒ））Ｉ…………（１）式 ｒ＝０のとき、光は収束光で、ｒ＝ｒ0 のとき、発散光
の状態にある。ただし、Ｉは光強度、ｒはｒ座標の大き
さ、αは吸収係数、ｒ0 はロッド半径である。右辺第１
項は吸収過程を表し、第２項は収束、発散の影響を表現
している。この方程式は解析解を持ち、収束光について
は Ｉ＝Ｉ0 （ｒ0 ／ｒ）ｅｘｐ（αｒ）…………（２）式 となる。ただし、Ｉ0 は入射光の強度である。この結果
から、もし吸収係数が十分に大きい場合には、指数関数
の項の変化が大きく、１／ｒの変化を上回るので、１次
元的な吸収過程と同等となり、光強度は入射部分から内
部に入るにしたがって、指数関数的に減少する。一方、
吸収係数が十分に小さい場合には、１／ｒによる変化が
支配するので、中心部になるほど光強度が強い分布とな
る。レーザー媒質においては、反転分布に寄与している
分布数の割合は一般に小さいので、レーザー発振の基底
で利得が飽和する現象が見られる。また、吸収に関係す
る規定状態の分布数は非常に多いので、強い光で励起し
ても、吸収係数が飽和することはない。このため、吸収
分布は光強度分布に吸収係数をかけたものになる。図３
は、吸収分布を理論的に求めたものである。吸収係数α
と半径ｒの積αｒをパラメータとして、高吸収（周辺部
励起）：図３（ａ）、中程度吸収（均一励起）：図３
（ｂ）、低吸収（中心部励起）：図３（ｃ）状態を表わ
している。
【００１９】可能な範囲で励起を繰り返すマルチパス励
起を許容すると、低吸収のレーザー媒質でも、反射鏡の
損失以外のすべての励起パワーがレーザー媒質で吸収さ
れるので、励起の効率は極めて高くなる。しかも、励起
分布は励起光収束の影響を利用するために、中心部分の
狭い領域に集中し、高効率に高励起密度を実現できる。
中心に集中した励起分布は光共振器のモード体積の内部
に高い効率で励起を行うために、ＴＥＭ00の基本横モー
ドで高出力発振をさせることに好適である。すなわち、
利得分布で制御したアクティブな横モード制御空間フィ
ルターとして働く。このような利得制御空間フィルター
の効果は、すでに端面励起ＹＶＯ4で実証されている。
起を許容すると、低吸収のレーザー媒質でも、反射鏡の
損失以外のすべての励起パワーがレーザー媒質で吸収さ
れるので、励起の効率は極めて高くなる。しかも、励起
分布は励起光収束の影響を利用するために、中心部分の
狭い領域に集中し、高効率に高励起密度を実現できる。
中心に集中した励起分布は光共振器のモード体積の内部
に高い効率で励起を行うために、ＴＥＭ00の基本横モー
ドで高出力発振をさせることに好適である。すなわち、
利得分布で制御したアクティブな横モード制御空間フィ
ルターとして働く。このような利得制御空間フィルター
の効果は、すでに端面励起ＹＶＯ4で実証されている。
【００２０】図１及び図２例では、励起用光源１として
仮想的光源を用いているが、このために原理的な光源強
度の制限がない。仮想的光源を構成できさえすれば、励
起パワーと光源の大きさ、単位面積あたりの強度などの
制限を受けない。さらに、円筒状反射面２ａと組み合わ
せた側面励起であるために、励起パワーの入射面がきわ
めて大きい。端面励起の場合には、光共振器のモード・
ウエストと同等以下の細い領域に励起ビームの入射断面
を整合させる必要があるが、側面励起の場合では、励起
光の入射断面が側面全体となる。
仮想的光源を用いているが、このために原理的な光源強
度の制限がない。仮想的光源を構成できさえすれば、励
起パワーと光源の大きさ、単位面積あたりの強度などの
制限を受けない。さらに、円筒状反射面２ａと組み合わ
せた側面励起であるために、励起パワーの入射面がきわ
めて大きい。端面励起の場合には、光共振器のモード・
ウエストと同等以下の細い領域に励起ビームの入射断面
を整合させる必要があるが、側面励起の場合では、励起
光の入射断面が側面全体となる。
【００２１】前述した多数回パス励起は、励起光源が仮
想的光源であるために実現できるとも言える。特開平１
−１０７５８８号公報、特開平１−２０５４８４号公報
の技術では、レーザー媒質を透過した光が、レーザー媒
質の側部に配置する光源に邪魔されて以後の光伝播を妨
げられるために、反射及び励起を多数回繰り返す光伝播
が著しく制限を受けるが、図１及び図２例の技術では、
仮想的点光源が、光学軸方向にずれながら拡散、収束を
繰り返すため、反射及び励起に制限を受けることが少な
く、励起強度、レーザー出力の増大が容易になる。
想的光源であるために実現できるとも言える。特開平１
−１０７５８８号公報、特開平１−２０５４８４号公報
の技術では、レーザー媒質を透過した光が、レーザー媒
質の側部に配置する光源に邪魔されて以後の光伝播を妨
げられるために、反射及び励起を多数回繰り返す光伝播
が著しく制限を受けるが、図１及び図２例の技術では、
仮想的点光源が、光学軸方向にずれながら拡散、収束を
繰り返すため、反射及び励起に制限を受けることが少な
く、励起強度、レーザー出力の増大が容易になる。
【００２２】図４は、本発明に係るレーザー発振装置の
第２実施例を示しており、反射筒２の部分が、図１に示
した円筒状反射面２ａに代えて、円錐状をなす反射面
（円錐状反射面）４ａを有する円錐状反射筒４が適用さ
れる。該円錐状反射筒４における口径が大きい方の大径
開口４ｂの外方位置に、励起用光源１が配され、励起用
光源１からの励起光が、円錐状反射筒４の大径開口４ｂ
を経由して、内部の円錐状反射面４ａに傾斜状態で入射
すると、その反射光が収束して実質的に点光源化し、レ
ーザー媒質３を励起した後拡散して、円錐状反射面４ａ
で再度反射して収束することを繰り返すことになるが、
反射の度に励起光の光学軸方向のずれ量が小さくなるた
めに、レーザー媒質３への励起光密度が徐々に高められ
ることになる。
第２実施例を示しており、反射筒２の部分が、図１に示
した円筒状反射面２ａに代えて、円錐状をなす反射面
（円錐状反射面）４ａを有する円錐状反射筒４が適用さ
れる。該円錐状反射筒４における口径が大きい方の大径
開口４ｂの外方位置に、励起用光源１が配され、励起用
光源１からの励起光が、円錐状反射筒４の大径開口４ｂ
を経由して、内部の円錐状反射面４ａに傾斜状態で入射
すると、その反射光が収束して実質的に点光源化し、レ
ーザー媒質３を励起した後拡散して、円錐状反射面４ａ
で再度反射して収束することを繰り返すことになるが、
反射の度に励起光の光学軸方向のずれ量が小さくなるた
めに、レーザー媒質３への励起光密度が徐々に高められ
ることになる。
【００２３】図５及び図６は、本発明に係るレーザー発
振装置の第３実施例を示しており、図１例の励起用光源
１に代えて、励起用光源５が、平行ビーム発生手段６
と、該平行ビーム発生手段６の先端に配され平行ビーム
を集光させる凹面鏡７とを具備している。そして、平行
ビーム発生手段６は、外部のレーザービーム発生装置か
らのレーザービームを導く光ファイバ６ａ及びセルフォ
ックレンズ（またはコリメート用レンズ）６ｂによって
構成され、また、凹面鏡７は、例えば球面鏡とされる。
平行ビーム発生手段６によって光学軸に対して平行状態
に導いた多数の平行ビームを凹面鏡７に照射して反射さ
せると、光学軸上の焦点位置に集光するが、球面鏡であ
る場合には、焦点位置が光学軸方向に若干ずつずれるた
めに、線光源状態の励起光が形成される。この第３実施
例の場合には、凹面鏡７の曲率に基づいて、点光源また
は線光源の光学軸に対しての傾きが設定される。
振装置の第３実施例を示しており、図１例の励起用光源
１に代えて、励起用光源５が、平行ビーム発生手段６
と、該平行ビーム発生手段６の先端に配され平行ビーム
を集光させる凹面鏡７とを具備している。そして、平行
ビーム発生手段６は、外部のレーザービーム発生装置か
らのレーザービームを導く光ファイバ６ａ及びセルフォ
ックレンズ（またはコリメート用レンズ）６ｂによって
構成され、また、凹面鏡７は、例えば球面鏡とされる。
平行ビーム発生手段６によって光学軸に対して平行状態
に導いた多数の平行ビームを凹面鏡７に照射して反射さ
せると、光学軸上の焦点位置に集光するが、球面鏡であ
る場合には、焦点位置が光学軸方向に若干ずつずれるた
めに、線光源状態の励起光が形成される。この第３実施
例の場合には、凹面鏡７の曲率に基づいて、点光源また
は線光源の光学軸に対しての傾きが設定される。
【００２４】図７及び図８は、本発明に係るレーザー発
振装置の第４実施例を示しており、励起用光源８が、環
状に配される平行ビーム発生手段９と、該平行ビーム発
生手段９の先端と対向状態に配され平行ビームを反射筒
２の内部の光軸中心に向けて入射させる環状の円錐状反
射面１０とを具備するものとされる。そして、平行ビー
ム発生手段９は、第３実施例に準じて構成されるととも
に、円錐状反射面１０は、円筒状反射面２ａの開口を外
方に広げたテーパー状に形成される。環状の平行ビーム
を光学軸に対して平行状態に導き、環状開口２ｅを経由
して環状の円錐状反射面１０で反射させて、反射筒２の
光軸中心に向けて入射させることによって点光源または
線光源状態の励起光が形成される。
振装置の第４実施例を示しており、励起用光源８が、環
状に配される平行ビーム発生手段９と、該平行ビーム発
生手段９の先端と対向状態に配され平行ビームを反射筒
２の内部の光軸中心に向けて入射させる環状の円錐状反
射面１０とを具備するものとされる。そして、平行ビー
ム発生手段９は、第３実施例に準じて構成されるととも
に、円錐状反射面１０は、円筒状反射面２ａの開口を外
方に広げたテーパー状に形成される。環状の平行ビーム
を光学軸に対して平行状態に導き、環状開口２ｅを経由
して環状の円錐状反射面１０で反射させて、反射筒２の
光軸中心に向けて入射させることによって点光源または
線光源状態の励起光が形成される。
【００２５】図９は、本発明に係るレーザー発振装置の
第５実施例を示しており、励起用光源１１が、高出力ア
ルゴンレーザー発生装置１２と、カセグレンアンテナ光
学系テレスコープ１３との組み合わせ構造とされ、例え
ば例えば高出力アルゴンレーザー等のレーザー発生装置
１２で発生させた励起光（励起レーザービーム）をカセ
グレンアンテナ光学系テレスコープ１３で拡大集光し
て、その集光点を円筒状反射面２ａの光学軸中心の開口
２ｄに形成し、仮想的光源としている。この場合には、
アルゴン励起色素レーザーやチタンサファイアレーザー
を利用して、品質の良いレーザー励起を行なうことがで
きる。なお、図９にあって、符号１４は結合ミラーであ
る。
第５実施例を示しており、励起用光源１１が、高出力ア
ルゴンレーザー発生装置１２と、カセグレンアンテナ光
学系テレスコープ１３との組み合わせ構造とされ、例え
ば例えば高出力アルゴンレーザー等のレーザー発生装置
１２で発生させた励起光（励起レーザービーム）をカセ
グレンアンテナ光学系テレスコープ１３で拡大集光し
て、その集光点を円筒状反射面２ａの光学軸中心の開口
２ｄに形成し、仮想的光源としている。この場合には、
アルゴン励起色素レーザーやチタンサファイアレーザー
を利用して、品質の良いレーザー励起を行なうことがで
きる。なお、図９にあって、符号１４は結合ミラーであ
る。
【００２６】〔他の実施態様〕本発明に係るレーザー発
振装置にあっては、前述した各実施例に代えて、次の技
術を採用することができる。 ａ） 図４例の円錐状反射筒４を背中合わせ状態に光学
軸上に配してレーザー発振系を構成し、大径開口４ｂの
外方に配した一対の励起源から励起光を両大径開口４ｂ
を経由して入射すること。 ｂ） 励起光々量を増やす目的で、球面鏡、円錐反射鏡
を両端に配置すること。 ｃ） 平行ビームを光学軸中心を中心とする同心円上に
複数個配置すること。
振装置にあっては、前述した各実施例に代えて、次の技
術を採用することができる。 ａ） 図４例の円錐状反射筒４を背中合わせ状態に光学
軸上に配してレーザー発振系を構成し、大径開口４ｂの
外方に配した一対の励起源から励起光を両大径開口４ｂ
を経由して入射すること。 ｂ） 励起光々量を増やす目的で、球面鏡、円錐反射鏡
を両端に配置すること。 ｃ） 平行ビームを光学軸中心を中心とする同心円上に
複数個配置すること。
【００２７】
【発明の効果】請求項１に係るレーザー発振装置によれ
ば、実質的に点光源または線光源状態の励起用光源と、
励起用光源から励起光が入射され円筒状反射面を有する
反射筒と、該反射筒の光学軸中心に配されるロッド状レ
ーザー媒質とを具備する構成を採用しているから、以下
の効果を奏する。 （１） 励起光を円筒状反射面で反射させることによっ
て、光学軸中心に集めて仮想的点光源化し、これをレー
ザー媒質に集めて結像させることによりレーザー光の励
起を行なうものであるため、レーザー媒質の光学軸中心
にレーザー光の高い分布を持たせレーザビーム品質を向
上させることができる。 （２） レーザー媒質を通過した励起光は、円筒状反射
面で反射されて再度レーザー媒質に結像させることが繰
り返されるため、光学軸中心に高い分布を持つレーザー
光出力が得られ、レーザーの大出力化を図ることができ
る。 請求項２に係るレーザー発振装置によれば、外方位置に
リング状励起用光源が配され、反射筒の端面が反射面と
されるとともに、一端の反射面の中心部に励起光を入射
させる開口が形成されるので、請求項１の発振装置によ
る効果に加えて、リング状の励起光が、開口に集光され
た状態で円筒状反射面の内部に導かれ、円筒状反射面で
反射することによって、レーザー媒質の中心に結像させ
ることが繰り返されるので、反射面の面積を大きくして
発振効率を向上させることができる。請求項３に係るレ
ーザー発振装置によれば、外方位置にリング状励起用光
源が配され、反射筒の端面が反射面とされるとともに、
一端の反射面の周辺部に励起光を入射させる環状開口が
形成されるので、請求項１の発振装置による効果に加え
て、励起光が、環状開口を経由してリング状のまま円筒
状反射面の内部に導かれ、レーザー媒質の中心に結像さ
せることと、その拡散光が円筒状反射面で反射して再度
集光させることとが繰り返されるので、反射面の有効利
用により発振効率を向上させることができる。請求項４
に係るレーザー発振装置によれば、円筒状反射筒に代え
て、円錐状をなす反射面を有する円錐状反射筒が配さ
れ、円錐状反射筒の大径開口の外方位置に励起用光源が
配されるので、請求項２または請求項３による効果に加
えて、大径開口を経由して円錐状反射筒の内部に導かれ
た励起光が、反射面で反射される度に、励起光の光学軸
方向のずれ量が小さくなって、レーザー媒質への励起光
密度が部分的に高められ、発振効率を向上させることが
できる。請求項５に係るレーザー発振装置によれば、大
径開口を両外方に向けた一対の円錐状反射筒が配され、
一対の円錐状反射筒の大径開口の外方位置に励起用光源
がそれぞれ配されるので、請求項４による効果に加え
て、光学軸の両方向から励起光を入射されて、高い励起
光密度に基づいて発振効率を向上させ、レーザーの大出
力を達成することができる。請求項６に係るレーザー発
振装置によれば、励起用光源が、平行ビーム発生手段
と、平行ビーム発生手段の先端に配され平行ビームを集
光させる凹面鏡とを具備するので、請求項１、請求項
２、請求項３、請求項４または請求項５による効果に加
えて、平行ビームの利用によって励起光の形成を容易に
し、平行ビームを凹面鏡で反射させて光学軸上に集める
ことにより、凹面鏡の曲率による点光源または線光源状
態の励起光の形成の選択性を高めることができる。請求
項７に係るレーザー発振装置によれば、励起用光源が、
環状に配される平行ビーム発生手段と、平行ビーム発生
手段の先端と対向状態に配され平行ビームを光軸中心に
向けて入射させる円錐状反射面または凹面鏡とを具備す
るので、請求項１、請求項２、請求項３、請求項４また
は請求項５による効果に加えて、環状をなす平行ビーム
を円錐状反射面または凹面鏡で反射させて光学軸中心に
向けて入射することにより、点光源状態等の励起光の形
成とあいまって励起エネルギを大きくしてレーザー発振
を容易にすることができる。
ば、実質的に点光源または線光源状態の励起用光源と、
励起用光源から励起光が入射され円筒状反射面を有する
反射筒と、該反射筒の光学軸中心に配されるロッド状レ
ーザー媒質とを具備する構成を採用しているから、以下
の効果を奏する。 （１） 励起光を円筒状反射面で反射させることによっ
て、光学軸中心に集めて仮想的点光源化し、これをレー
ザー媒質に集めて結像させることによりレーザー光の励
起を行なうものであるため、レーザー媒質の光学軸中心
にレーザー光の高い分布を持たせレーザビーム品質を向
上させることができる。 （２） レーザー媒質を通過した励起光は、円筒状反射
面で反射されて再度レーザー媒質に結像させることが繰
り返されるため、光学軸中心に高い分布を持つレーザー
光出力が得られ、レーザーの大出力化を図ることができ
る。 請求項２に係るレーザー発振装置によれば、外方位置に
リング状励起用光源が配され、反射筒の端面が反射面と
されるとともに、一端の反射面の中心部に励起光を入射
させる開口が形成されるので、請求項１の発振装置によ
る効果に加えて、リング状の励起光が、開口に集光され
た状態で円筒状反射面の内部に導かれ、円筒状反射面で
反射することによって、レーザー媒質の中心に結像させ
ることが繰り返されるので、反射面の面積を大きくして
発振効率を向上させることができる。請求項３に係るレ
ーザー発振装置によれば、外方位置にリング状励起用光
源が配され、反射筒の端面が反射面とされるとともに、
一端の反射面の周辺部に励起光を入射させる環状開口が
形成されるので、請求項１の発振装置による効果に加え
て、励起光が、環状開口を経由してリング状のまま円筒
状反射面の内部に導かれ、レーザー媒質の中心に結像さ
せることと、その拡散光が円筒状反射面で反射して再度
集光させることとが繰り返されるので、反射面の有効利
用により発振効率を向上させることができる。請求項４
に係るレーザー発振装置によれば、円筒状反射筒に代え
て、円錐状をなす反射面を有する円錐状反射筒が配さ
れ、円錐状反射筒の大径開口の外方位置に励起用光源が
配されるので、請求項２または請求項３による効果に加
えて、大径開口を経由して円錐状反射筒の内部に導かれ
た励起光が、反射面で反射される度に、励起光の光学軸
方向のずれ量が小さくなって、レーザー媒質への励起光
密度が部分的に高められ、発振効率を向上させることが
できる。請求項５に係るレーザー発振装置によれば、大
径開口を両外方に向けた一対の円錐状反射筒が配され、
一対の円錐状反射筒の大径開口の外方位置に励起用光源
がそれぞれ配されるので、請求項４による効果に加え
て、光学軸の両方向から励起光を入射されて、高い励起
光密度に基づいて発振効率を向上させ、レーザーの大出
力を達成することができる。請求項６に係るレーザー発
振装置によれば、励起用光源が、平行ビーム発生手段
と、平行ビーム発生手段の先端に配され平行ビームを集
光させる凹面鏡とを具備するので、請求項１、請求項
２、請求項３、請求項４または請求項５による効果に加
えて、平行ビームの利用によって励起光の形成を容易に
し、平行ビームを凹面鏡で反射させて光学軸上に集める
ことにより、凹面鏡の曲率による点光源または線光源状
態の励起光の形成の選択性を高めることができる。請求
項７に係るレーザー発振装置によれば、励起用光源が、
環状に配される平行ビーム発生手段と、平行ビーム発生
手段の先端と対向状態に配され平行ビームを光軸中心に
向けて入射させる円錐状反射面または凹面鏡とを具備す
るので、請求項１、請求項２、請求項３、請求項４また
は請求項５による効果に加えて、環状をなす平行ビーム
を円錐状反射面または凹面鏡で反射させて光学軸中心に
向けて入射することにより、点光源状態等の励起光の形
成とあいまって励起エネルギを大きくしてレーザー発振
を容易にすることができる。
【図１】本発明に係るレーザー発振装置の第１実施例に
おける要部をモデル化して示す斜視図である。
おける要部をモデル化して示す斜視図である。
【図２】本発明に係るレーザー発振装置の第１実施例に
おける要部をモデル化して示す側面図である。
おける要部をモデル化して示す側面図である。
【図３】図１のレーザー発振装置におけるロッド状レー
ザー媒質の吸収分布図である。
ザー媒質の吸収分布図である。
【図４】本発明に係るレーザー発振装置の第２実施例に
おける要部をモデル化して示す正面図である。
おける要部をモデル化して示す正面図である。
【図５】本発明に係るレーザー発振装置の第３実施例を
示す正断面図である。
示す正断面図である。
【図６】本発明に係るレーザー発振装置の第３実施例を
モデル化して示す側面図である。
モデル化して示す側面図である。
【図７】本発明に係るレーザー発振装置の第４実施例を
示す正断面図である。
示す正断面図である。
【図８】本発明に係るレーザー発振装置の第４実施例を
示す一部を省略した側面図である。
示す一部を省略した側面図である。
【図９】本発明に係るレーザー発振装置の第５実施例を
示す正断面図である。
示す正断面図である。
１ 励起用光源 ２ 反射筒 ２ａ 円筒状反射面 ２ｂ 端面反射鏡（反射面） ２ｃ 端面反射鏡（反射面） ２ｄ 開口 ２ｅ 環状開口 ３ レーザー媒質（ロッド状レーザー媒質） ４ 円錐状反射筒 ４ａ 反射面（円錐状反射面） ４ｂ 大径開口 ５ 励起用光源 ６ 平行ビーム発生手段 ６ａ 光ファイバ ６ｂ セルフォックレンズ（またはコリメート用レン
ズ） ７ 凹面鏡 ８ 励起用光源 ９ 平行ビーム発生手段 １０ 円錐状反射面 １１ 励起用光源 １２ レーザー発生装置 １３ カセグレンアンテナ光学系テレスコープ １４ 結合ミラー
ズ） ７ 凹面鏡 ８ 励起用光源 ９ 平行ビーム発生手段 １０ 円錐状反射面 １１ 励起用光源 １２ レーザー発生装置 １３ カセグレンアンテナ光学系テレスコープ １４ 結合ミラー
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 和住 光一郎 東京都江東区豊洲三丁目１番15号 石川島 播磨重工業株式会社東二テクニカルセンタ ー内 (72)発明者 西見 昭浩 東京都江東区豊洲三丁目１番15号 石川島 播磨重工業株式会社東二テクニカルセンタ ー内 (72)発明者 松坂 文夫 東京都江東区豊洲三丁目１番15号 石川島 播磨重工業株式会社東二テクニカルセンタ ー内
Claims (7)
- 【請求項１】 実質的に点光源または線光源状態の励起
用光源と、該励起用光源から励起光が入射され円筒状反
射面を有する反射筒と、該反射筒の光学軸中心に配され
るロッド状レーザー媒質とを具備することを特徴とする
レーザー発振装置。 - 【請求項２】 反射筒の端面の外方位置にリング状励起
用光源が配され、反射筒の端面が反射面とされるととも
に、一端の反射面の中心部に励起光を入射させる開口が
形成されることを特徴とする請求項１記載のレーザー発
振装置。 - 【請求項３】 反射筒の端面の外方位置にリング状励起
用光源が配され、反射筒の端面が反射面とされるととも
に、一端の反射面の周辺部に励起光を入射させる環状開
口が形成されることを特徴とする請求項１記載のレーザ
ー発振装置。 - 【請求項４】 円筒状反射筒に代えて、円錐状をなす反
射面を有する円錐状反射筒が配され、該円錐状反射筒の
大径開口の外方位置に励起用光源が配されることを特徴
とする請求項２または３記載のレーザー発振装置。 - 【請求項５】 大径開口を両外方に向けた一対の円錐状
反射筒が配され、該一対の円錐状反射筒の大径開口の外
方位置に励起用光源がそれぞれ配されることを特徴とす
る請求項４記載のレーザー発振装置。 - 【請求項６】 励起用光源が、平行ビーム発生手段と、
該平行ビーム発生手段の先端に配され平行ビームを集光
させる凹面鏡とを具備することを特徴とする請求項１、
２、３、４または５記載のレーザー発振装置。 - 【請求項７】 励起用光源が、環状に配される平行ビー
ム発生手段と、該平行ビーム発生手段の先端と対向状態
に配され平行ビームを光軸中心に向けて入射させる円錐
状反射面または凹面鏡とを具備することを特徴とする請
求項１、２、３、４または５記載のレーザー発振装置。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4218023A JPH0685356A (ja) | 1992-08-17 | 1992-08-17 | レーザー発振装置 |
| US08/106,701 US5373527A (en) | 1992-08-17 | 1993-08-16 | Laser generating apparatus having an arrangement for converging and diverging excitation light |
| DE69306508T DE69306508T2 (de) | 1992-08-17 | 1993-08-17 | Laser-Generator-Vorrichtung |
| AU44702/93A AU667116B2 (en) | 1992-08-17 | 1993-08-17 | Laser generating apparatus |
| EP93402064A EP0586278B1 (en) | 1992-08-17 | 1993-08-17 | Laser generating apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4218023A JPH0685356A (ja) | 1992-08-17 | 1992-08-17 | レーザー発振装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0685356A true JPH0685356A (ja) | 1994-03-25 |
Family
ID=16713425
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4218023A Pending JPH0685356A (ja) | 1992-08-17 | 1992-08-17 | レーザー発振装置 |
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|---|---|
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| EP (1) | EP0586278B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0685356A (ja) |
| AU (1) | AU667116B2 (ja) |
| DE (1) | DE69306508T2 (ja) |
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-
1992
- 1992-08-17 JP JP4218023A patent/JPH0685356A/ja active Pending
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1993
- 1993-08-16 US US08/106,701 patent/US5373527A/en not_active Expired - Lifetime
- 1993-08-17 EP EP93402064A patent/EP0586278B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1993-08-17 DE DE69306508T patent/DE69306508T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1993-08-17 AU AU44702/93A patent/AU667116B2/en not_active Expired
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|---|---|
| US5373527A (en) | 1994-12-13 |
| EP0586278A1 (en) | 1994-03-09 |
| AU667116B2 (en) | 1996-03-07 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
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| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20001010 |