JPH0687833A - ビニルイミダゾール誘導体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】一般式 【化１０】 ［Ｒ¹ ：Ｈ，Ｃ₁ −Ｃ₆ アルキル基，Ｃ₃ −Ｃ₆ アルケ
ニル基，式 Ｒ⁷ −Ｘ−Ａ−基（Ｒ⁷ ：Ｃ₁ −Ｃ₆ アルキル基，Ｃ₃
−Ｃ₆ シクロアルキル基；Ａ：単結合，Ｃ₁ −Ｃ₄ アル
キレン基；Ｘ：−Ｏ−，−Ｓ−）；Ｒ² ，Ｒ³ ，Ｒ⁴ ：
Ｈ，Ｃ₁ −Ｃ₆ アルキル基，Ｃ₃ −Ｃ₆ シクロアルキル
基，Ｃ₆ −Ｃ₁₀アリール基，Ｃ₇ −Ｃ₁₃アラルキル基；
Ｒ³ とＲ⁴ ：Ｃ₄ −Ｃ₆ アルキレン基：Ｒ⁵ ；Ｈ，カル
ボキシ基の保護基；Ｒ⁶ ：カルボキシ基，保護されたカ
ルボキシ基，テトラゾール−５−イル基］を有するビニ
ルイミダゾール誘導体およびその薬理上許容される塩。 【効果】この化合物は、すぐれたアンジオテンシンIIに
よる血圧上昇の抑制効果を有し、血圧降下剤として有用
である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の目的】

【０００２】

【産業上の利用分野】本発明は、すぐれたアンジオテン
シンII（以下、ＡIIと略す。）拮抗作用、血圧降下作用
を有するビニルイミダゾール誘導体およびその薬理上許
容される塩に関する。

【０００３】

【従来の技術】生体の血圧の恒常性を保つ重要な機構の
一つに、レニン−アンジオテンシン系が知られており、
血圧が低下したり、体液中のナトリウムイオン濃度が薄
くなると、この系が活性化され、アンジオテンシノーゲ
ンが酵素レニンおよびアンジオテンシン変換酵素（以
下、ＡＣＥと略す）により順次分解され、アンジオテン
シンＩ（以下、ＡＩと略す）を経て、ＡIIになる。ＡII
は強力な血管収縮性とともに、体液やナリウムイオンを
貯留するホルモン、アルドステロンの分泌を促進するの
で、この系の活性化は血圧を上昇させる。それ故に、こ
の系を抑えるレニン阻害剤、ＡＣＥ阻害剤およびＡII拮
抗剤は血圧降下剤として有用であり、また循環器系の改
善をもたらすことから、心疾患治療薬としても有用であ
る。現在実用化されているのはＡＣＥ阻害剤だけである
が、レニン阻害剤、ＡII拮抗剤も盛んに研究されてい
る。その内、ＡII拮抗剤は古くからサララシン等のペプ
チド型の拮抗剤が知られているが、最近非ペプチド型の
拮抗剤が見出されている（例えば、特開昭56-71073号、
特開昭56-71074号、特開昭57-98270号、特開昭62-24068
3号、特開昭63-23868号および特開平1-287071号）。し
かし、その作用は十分なものではなく、臨床上の効果を
得るためには、さらに強力なＡII拮抗薬が望まれてい
た。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明者等は、長年に
亙り、一連のイミダゾール誘導体を合成し、これらの薬
理作用を検討してきた。その結果、ビニルイミダゾール
誘導体の中に優れたＡII拮抗作用を有する化合物がある
こと、さらにこれらが血圧降下剤および心疾患治療剤と
して有用であることを見出し、本発明を完成するに至っ
た。

【０００５】

【発明の構成】

【０００６】

【発明を解決するための手段】本発明のイミダゾール誘
導体は、一般式、

【０００７】

【化２】

【０００８】を有する。上記式中、Ｒ¹ は、Ｃ₁ −Ｃ₆
アルキル基、Ｃ₃ −Ｃ₆ アルケニル基または式 Ｒ⁷ −
Ｘ−Ａ− （式中、Ｒ⁷ は、Ｃ₁ −Ｃ₆ アルキル基また
はＣ₃ −Ｃ₆ シクロアルキル基を示し、Ａは、単結合ま
たはＣ₁ −Ｃ₄ アルキレン基を示し、Ｘは、酸素原子ま
たは硫黄原子を示す。）を示し、Ｒ² 、Ｒ³ およびＲ⁴
は、同一または異なって、水素原子、Ｃ₁ −Ｃ₆ アルキ
ル基、Ｃ₃ −Ｃ₆ シクロアルキル基、Ｃ₆ −Ｃ₁₀アリー
ル基またはＣ₇ −Ｃ₁₃アラルキル基を示すか、あるい
は、Ｒ³ とＲ⁴ が一緒になって、Ｃ₄ −Ｃ₆ アルキレン
基を示し、Ｒ⁵ は、水素原子またはカルボキシ基の保護
基を示し、Ｒ⁶ は、カルボキシ基、保護されたカルボキ
シ基またはテトラゾール−５−イル基を示す。

【０００９】Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ³ 、Ｒ⁴ およびＲ⁷ のＣ₁
−Ｃ₆ アルキル基は、例えば、メチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、ブチル、sec −ブチル、ｔ−ブチ
ル、イソブチル、ペンチル、ｔ−ペンチル、ヘキシル基
であり得、好適には、Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキル基であり、特
に好適には、Ｒ¹ は、エチル、プロピルまたはブチル基
であり、Ｒ² 、Ｒ³ 、Ｒ⁴ およびＲ⁷ は、メチルまたは
エチル基である。

【００１０】Ｒ¹ のＣ₃ −Ｃ₆ アルケニル基は、例え
ば、アリル、１−プロペニル、１−ブテニル、２−ブテ
ニル、２−メチル−１−プロペニル、１−ペンテニル、
２−ペンテニル、３−メチル−２−ブテニル、１−ヘキ
セニル基であり得、好適には、１−プロペニルまたは１
−ブテニル基である。

【００１１】Ｒ² 、Ｒ³ 、Ｒ⁴ およびＲ⁷ のＣ₃ −Ｃ₆
シクロアルキル基は、例えば、シクロプロピル、シクロ
ブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル基であり得、
好適には、Ｒ² 、Ｒ³ およびＲ⁴ は、シクロペンチルま
たはシクロヘキシル基であり、Ｒ⁷ は、シクロプロピル
基である。

【００１２】Ｒ² 、Ｒ³ およびＲ⁴ のＣ₆ −Ｃ₁₀アリー
ル基は、例えば、フエニル、ナフチル基であり得、好適
には、フエニル基である。また、環上には、置換基を有
してもよく、それらは、例えば、前述のＣ₁ −Ｃ₆ アル
キル基、Ｃ₁ −Ｃ₆ アルコキシ基（例えば、メトキシ、
エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、se
c −ブトキシ、ｔ−ブトキシ、イソブトキシ、ペントキ
シ、ｔ−ペントキシ、ヘキシルオキシ基等）、ハロゲン
原子（例えば、弗素、塩素、臭素、沃素原子等）であり
得、好適には、Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキル基、Ｃ₁ −Ｃ₄ アル
コキシ基または弗素、塩素もしくは臭素原子であり、更
に好適には、メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、弗
素原子または塩素原子である。

【００１３】Ｒ² 、Ｒ³ およびＲ⁴ のＣ₇ −Ｃ₁₃アラル
キル基は、例えば、ベンジル、フエネチル、３−フエニ
ルプロピル、４−フエニルブチル、ジフエニルメチル、
１−ナフチルメチル、２−ナフチルメチル基であり得、
好適には、Ｃ₇ −Ｃ₈ アラルキル基（特に、ベンジル
基）である。また、アリール環上には、置換基を有して
もよく、それらは、前述のアリール基の置換基と同様の
ものである。

【００１４】Ｒ³ およびＲ⁴ が一緒になって形成するＣ
₄ −Ｃ₆ アルキレン基は、例えば、テトラメチレン、ペ
ンタメチレン、ヘキサメチレン基であり得、好適には、
テトラメチレンまたはペンタメチレン基である。

【００１５】ＡのＣ₁ −Ｃ₄ アルキレン基は、例えば、
メチレン、エチレン、トリメチレン、テトラメチレン、
エチリデン、プロピリデン、ブチリデン、イソブチリデ
ン基であり得、好適には、Ｃ₁ −Ｃ₂ アルキレン基（特
に、メチレン基）である。Ｒ⁵ またはＲ⁶ に含まれるカ
ルボキシ基の保護基は、有機合成化学において一般に広
く知られている保護基またはプロドラッグとして知られ
ている薬理学的に生体内においてカルボキシ基に変換し
得るエステル残基を意味する。そのような保護基として
は、前述したＣ₁ −Ｃ₆ アルキル基、Ｃ₁ −Ｃ₆ ハロゲ
ノアルキル基（例えば、トリフルオロメチル、２，２，
２−トリフルオロエチル、２，２，２−トリクロルエチ
ル、２−フルオロエチル、２−クロルエチル、２−ヨー
ドエチル、３−クロルプロピル、４−フルオロブチル、
６−ヨードヘキシル等、好適には、２，２，２−トリク
ロルエチル、２−クロルエチル）、Ｃ₁ −Ｃ₆ ヒドロキ
シアルキル基（例えば、２−ヒドロキシエチル、２，３
−ジヒドロキシプロピル、３−ヒドロキシプロピル、
３，４−ジヒドロキシブチル、４−ヒドロキシブチル
等、好適には、２−ヒドロキシエチル）、Ｃ₁ −Ｃ₆ ア
ルコキシアルキル基もしくは（Ｃ₁ −Ｃ₆ アルコキシ）
Ｃ₁ −Ｃ₆ アルコキシアルキル基（例えば、メトキシメ
チル、２−メトキシエチル、２−エトキシエチル、２−
メトキシエトキシメチル等、好適には、メトキシメチ
ル）、フェナシル基、（Ｃ₁ −Ｃ₆ アルコキシカルボニ
ル）Ｃ₁ −Ｃ₆ アルキル基（例えば、メトキシカルボニ
ルメチル等）、Ｃ₁ −Ｃ₆ シアノアルキル基（例えば、
シアノメチル、２−シアノエチル等）、Ｃ₁ −Ｃ₆ アル
キルチオメチル基（例えば、メチルチオメチル、エチル
チオメチル等）、Ｃ₆ −Ｃ₁₀アリールチオメチル基（例
えば、フェニルチオメチル、ナフチルチオメチル等）、
ハロゲンで置換されてもよい（Ｃ₁ −Ｃ₆ アルキルスル
ホニル）Ｃ₁ −Ｃ₆ アルキル基（例えば、２−メタンス
ルホニルエチル、２−トリフルオロメタンスルホニルエ
チル基等）、（Ｃ₆ −Ｃ₁₃アリールスルホニル）Ｃ₁ −
Ｃ₆ アルキル基（例えば、２−ベンゼンスルホニルエチ
ル、２−トルエンスルホニルエチル基等）、Ｃ₇ −Ｃ₁₃
アラルキル基（例えば、ベンジル、ジフエニルメチル、
ナフチルメチル基等）、Ｃ₆ −Ｃ₁₀アリール基（例え
ば、フエニル、ナフチル基等）、（Ｃ₁ −Ｃ₆ アルカノ
イルオキシ）Ｃ₁ −Ｃ₆ アルキル基（例えば、ホルミル
オキシメチル、アセトキシメチル、プロピオニルオキシ
メチル、ブチリルオキシメチル、ピバロイルオキシメチ
ル、バレリルオキシメチル、イソバレリルオキシメチ
ル、ヘキサノイルオキシメチル、１−ホルミルオキシエ
チル、１−アセトキシエチル、１−プロピオニルオキシ
エチル、１−ブチリルオキシエチル、１−ピバロイルオ
キシエチル、１−バレリルオキシエチル、１−イソバレ
リルオキシエチル、１−ヘキサノイルオキシエチル、２
−ホルミルオキシエチル、２−アセトキシエチル、２−
プロピオニルオキシエチル、２−ブチリルオキシエチ
ル、２−ピバロイルオキシエチル、２−バレリルオキシ
エチル、２−イソバレリルオキシエチル、２−ヘキサノ
イルオキシエチル、１−ホルミルオキシプロピル、１−
アセトキシプロピル、１−プロピオニルオキシプロピ
ル、１−ブチリルオキシプロピル、１−ピバロイルオキ
シプロピル、１−バレリルオキシプロピル、１−イソバ
レリルオキシプロピル、１−ヘキサノイルオキシプロピ
ル、１−アセトキシブチル、１−プロピオニルオキシブ
チル、１−ブチリルオキシブチル、１−ピバロイルオキ
シブチル、１−アセトキシペンチル、１−プロピオニル
オキシペンチル、１−ブチリルオキシペンチル、１−ピ
バロイルオキシペンチル、１−ピバロイルオキシヘキシ
ル基等、好適には、ホルミルオキシメチル、アセトキシ
メチル、プロピオニルオキシメチル、ブチリルオキシメ
チル、ピバロイルオキシメチル、１−ホルミルオキシエ
チル、１−アセトキシエチル、１−プロピオニルオキシ
エチル、１−ブチリルオキシエチル、１−ピバロイルオ
キシエチル、さらに好適には、アセトキシメチル、プロ
ピオニルオキシメチル、ブチリルオキシメチル、ピバロ
イルオキシメチル、１−アセトキシエチル、１−プロピ
オニルオキシエチル、１−ブチリルオキシエチル、１−
ピバロイルオキシエチル基、特に好適には、ピバロイル
オキシメチル、１−ピバロイルオキシエチル基）、（Ｃ
₆ −Ｃ₇ シクロアルカノイルオキシ）Ｃ₁ −Ｃ₆ アルキ
ル基（例えば、シクロペンタノイルオキシメチル、シク
ロヘキサノイルオキシメチル、１−シクロペンタノイル
オキシエチル、１−シクロヘキサノイルオキシエチル、
１−シクロペンタノイルオキシプロピル、１−シクロヘ
キサノイルオキシプロピル、１−シクロペンタノイルオ
キシブチル、１−シクロヘキサノイルオキシブチル基、
好適には、シクロペンタノイルオキシメチル、シクロヘ
キサノイルオキシメチル、１−シクロペンタノイルオキ
シエチル、１−シクロヘキサノイルオキシエチル基）、
（Ｃ₁ −Ｃ₆ アルコキシカルボニルオキシ）Ｃ₁ −Ｃ₆
アルキル基（例えば、メトキシカルボニルオキシメチ
ル、エトキシカルボニルオキシメチル、プロポキシカル
ボニルオキシメチル、イソプロポキシカルボニルオキシ
メチル、ブトキシカルボニルオキシメチル、イソブトキ
シカルボニルオキシメチル、ペンチルオキシカルボニル
オキシメチル、ヘキシルオキシカルボニルオキシメチ
ル、１−メトキシカルボニルオキシエチル、１−エトキ
シカルボニルオキシエチル、１−プロポキシカルボニル
オキシエチル、１−イソプロポキシカルボニルオキシエ
チル、１−ブトキシカルボニルオキシエチル、１−イソ
ブトキシカルボニルオキシエチル、１−ペンチルオキシ
カルボニルオキシエチル、１−ヘキシルオキシカルボニ
ルオキシエチル、２−メトキシカルボニルオキシエチ
ル、２−エトキシカルボニルオキシエチル、２−プロポ
キシカルボニルオキシエチル、２−イソプロポキシカル
ボニルオキシエチル、２−ブトキシカルボニルオキシエ
チル、２−イソブトキシカルボニルオキシエチル、２−
ペンチルオキシカルボニルオキシエチル、２−ヘキシル
オキシカルボニルオキシエチル、１−メトキシカルボニ
ルオキシプロピル、１−エトキシカルボニルオキシプロ
ピル、１−プロポキシカルボニルオキシプロピル、１−
イソプロポキシカルボニルオキシプロピル、１−ブトキ
シカルボニルオキシプロピル、１−イソブトキシカルボ
ニルオキシプロピル、１−ペンチルオキシカルボニルオ
キシプロピル、１−ヘキシルオキシカルボニルオキシプ
ロピル、１−メトキシカルボニルオキシブチル、１−エ
トキシカルボニルオキシブチル、１−プロポキシカルボ
ニルオキシブチル、１−イソプロポキシカルボニルオキ
シブチル、１−ブトキシカルボニルオキシブチル、１−
イソブトキシカルボニルオキシブチル、１−メトキシカ
ルボニルオキシペンチル、１−エトキシカルボニルオキ
シペンチル、１−メトキシカルボニルオキシヘキシル、
１−エトキシカルボニルオキシヘキシル基等、好適に
は、メトキシカルボニルオキシメチル、エトキシカルボ
ニルオキシメチル、プロポキシカルボニルオキシメチ
ル、イソプロポキシカルボニルオキシメチル、ブトキシ
カルボニルオキシメチル、イソブトキシカルボニルオキ
シメチル、１−メトキシカルボニルオキシエチル、１−
エトキシカルボニルオキシエチル、１−プロポキシカル
ボニルオキシエチル、１−イソプロポキシカルボニルオ
キシエチル、１−ブトキシカルボニルオキシエチル、１
−イソブトキシカルボニルオキシエチル、１−メトキシ
カルボニルオキシプロピル、１−エトキシカルボニルオ
キシプロピル、１−プロポキシカルボニルオキシプロピ
ル、１−イソプロポキシカルボニルオキシプロピル、１
−ブトキシカルボニルオキシプロピル、１−イソブトキ
シカルボニルオキシプロピル、１−メトキシカルボニル
オキシブチル、１−エトキシカルボニルオキシブチル、
１−プロポキシカルボニルオキシブチル、１−イソプロ
ポキシカルボニルオキシブチル、１−ブトキシカルボニ
ルオキシブチル、１−イソブトキシカルボニルオキシブ
チル基、さらに好適には、メトキシカルボニルオキシメ
チル、エトキシカルボニルオキシメチル、プロポキシカ
ルボニルオキシメチル、イソプロポキシカルボニルオキ
シメチル、ブトキシカルボニルオキシメチル、イソブト
キシカルボニルオキシメチル、１−メトキシカルボニル
オキシエチル、１−エトキシカルボニルオキシエチル、
１−プロポキシカルボニルオキシエチル、１−イソプロ
ポキシカルボニルオキシエチル、１−ブトキシカルボニ
ルオキシエチル、１−イソブトキシカルボニルオキシエ
チル基、特に好適には、メトキシカルボニルオキシメチ
ル、エトキシカルボニルオキシメチル、イソプロポキシ
カルボニルオキシメチル、１−メトキシカルボニルオキ
シエチル、１−エトキシカルボニルオキシエチル、１−
イソプロポキシカルボニルオキシエチル基）、（Ｃ₅ −
Ｃ₆ シクロアルコキシカルボニルオキシ）Ｃ₁ −Ｃ₆ ア
ルキル基（例えば、シクロペンチルオキシカルボニルオ
キシメチル、シクロヘキシルオキシカルボニルオキシメ
チル、１−シクロペンチルオキシカルボニルオキシエチ
ル、１−シクロヘキシルオキシカルボニルオキシエチ
ル、１−シクロペンチルオキシカルボニルオキシプロピ
ル、１−シクロヘキシルオキシカルボニルオキシプロピ
ル、１−シクロペンチルオキシカルボニルオキシブチ
ル、１−シクロヘキシルオキシカルボニルオキシブチル
基、好適には、シクロペンチルオキシカルボニルオキシ
メチル、シクロヘキシルオキシカルボニルオキシメチ
ル、１−シクロペンチルオキシカルボニルオキシエチ
ル、１−シクロヘキシルオキシカルボニルオキシエチル
基）、［５−（Ｃ₆ −Ｃ₁₀アリール−もしくは５−（Ｃ
₁ −Ｃ₆ アルキル）−２−オキソ−１，３−ジオキソレ
ン−４−イル］メチル基［例えば、（５−フェニル−２
−オキソ−１，３−ジオキソレン−４−イル）メチル、
［５−（４−メチルフェニル）−２−オキソ−１，３−
ジオキソレン−４−イル］メチル、［５−（４−メトキ
シフェニル）−２−オキソ−１，３−ジオキソレン−４
−イル］メチル、［５−（４−フルオロフェニル）−２
−オキソ−１，３−ジオキソレン−４−イル］メチル、
［５−（４−クロロフェニル）−２−オキソ−１，３−
ジオキソレン−４−イル］メチル、（５−メチル−２−
オキソ−１，３−ジオキソレン−４−イル）メチル、
（５−エチル−２−オキソ−１，３−ジオキソレン−４
−イル）メチル、（５−プロピル−２−オキソ−１，３
−ジオキソレン−４−イル）メチル、（５−イソプロピ
ル−２−オキソ−１，３−ジオキソレン−４−イル）メ
チル、（５−ブチル−２−オキソ−１，３−ジオキソレ
ン−４−イル）メチル基等、好適には、５−フェニル−
２−オキソ−１，３−ジオキソレン−４−イル）メチ
ル、（５−メチル−２−オキソ−１，３−ジオキソレン
−４−イル）メチル、（５−エチル−２−オキソ−１，
３−ジオキソレン−４−イル）メチル基、特に好適に
は、（５−メチル−２−オキソ−１，３−ジオキソレン
−４−イル）メチル基］またはフタリジル基があげられ
る。また、上記保護基に含まれるアリール環上には、置
換基を有してもよく、それらは、前述したアリール基の
ものと同様な基である。

【００１６】好適な保護基としては、Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキ
ル基、フェニル基、メチル、エチル、メトキシ、エトキ
シ、フルオロもしくはクロルで置換されたフェニル基、
ナフチル基、ベンジル基、メチル、エチル、メトキシ、
エトキシ、フルオロもしくはクロロで置換されたベンジ
ル基、ジフェニルメチル基、ナフチルメチル基、（Ｃ₁
−Ｃ₅ アルカノイルオキシ）Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキル基、
（Ｃ₆ −Ｃ₇ シクロアルカノイルオキシ）Ｃ₁ −Ｃ₄ ア
ルキル基、（Ｃ₁ −Ｃ₄ アルコキシカルボニルオキシ）
Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキル基、（Ｃ₅ −Ｃ₆ シクロアルコキシ
カルボニルオキシ）Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキル基、［５−フェ
ニル−もしくは５−（Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキル）−２−オキ
ソ−１，３−ジオキソレン−４−イル］メチル基または
フタリジル基であり、さらに好適には、Ｃ₁ −Ｃ₄ アル
キル基、ベンジル基、（Ｃ₁ −Ｃ₅ アルカノイルオキ
シ）Ｃ₁ −Ｃ₂ アルキル基、（Ｃ₆ −Ｃ₇ シクロアルカ
ノイルオキシ）Ｃ₁ −Ｃ₂ アルキル基、（Ｃ₁ −Ｃ₄ ア
ルコキシカルボニルオキシ）Ｃ₁ −Ｃ₂ アルキル基、
（Ｃ₅ −Ｃ₆ シクロアルコキシカルボニルオキシ）Ｃ₁
−Ｃ₂ アルキル基、［５−フェニル−もしくは５−（Ｃ
₁ −Ｃ₂ アルキル）−２−オキソ−１，３−ジオキソレ
ン−４−イル］メチル基またはフタリジル基であり、特
に好適には、ピバロイルオキシメチル基、エトキシカル
ボニルオキシメチル基、１−（エトキシカルボニルオキ
シ）エチル基、イソプロポキシカルボニルオキシメチル
基、１−（イソプロポキシカルボニルオキシ）エチル
基、（５−メチル−２−オキソ−１，３−ジオキソレン
−４−イル）メチル基またはフタリジル基である。

【００１７】本発明の化合物（Ｉ）は、所望により、常
法に従って酸または塩基で処理することにより、それぞ
れ相当する薬理上許容し得る塩に変えることができる。
このような酸付加塩の例としては、塩酸，臭化水素酸，
硫酸，リン酸等の無機酸，マレイン酸、フマル酸、酒石
酸、クエン酸等の有機酸等による付加塩があげられ、塩
基による塩としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム等のアルカリ金属水酸化物、水酸化カルシウム，水酸
化マグネシウム等のアルカリ土類金属水酸化物、グアニ
ジン、トリエチルアミン、ジシクロヘキシルアミン等の
有機塩基による塩があげられる。更に、化合物（Ｉ）の
分子内に不斉炭素が存在する場合は、ラセミ体および光
学活性体を包含する。

【００１８】一般式（Ｉ）を有する化合物において、好
適には、（１）Ｒ¹ がＣ₂ −Ｃ₅ アルキル基、Ｃ₃ −Ｃ
₅ アルケニル基、（Ｃ₁ −Ｃ₃ アルコキシ）−Ｃ₁ −Ｃ
₂ アルキル基、（Ｃ₁ −Ｃ₃ アルキルチオ）−Ｃ₁ −Ｃ
₂アルキル基、Ｃ₁ −Ｃ₃ アルキルチオ基、（Ｃ₃ −Ｃ₅
シクロアルコキシ）−Ｃ₁ −Ｃ₂ アルキル基、（Ｃ₃
−Ｃ₅ シクロアルキルチオ）−Ｃ₁ −Ｃ₂ アルキル基ま
たはＣ₃ −Ｃ₅ シクロアルキルチオ基である化合物、
（２）Ｒ² 、Ｒ³ およびＲ⁴ が、同一または異なって、
水素原子、メチル基またはエチル基である化合物、
（３）Ｒ⁵ が、水素原子、Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキル基、フェ
ニル基、メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、弗素も
しくは塩素で置換されたフェニル基、ナフチル基、ベン
ジル基、メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、弗素も
しくは塩素で置換されたベンジル基、ジフェニルメチル
基、ナフチルメチル基、（Ｃ₁ −Ｃ₅ アルカノイルオキ
シ）−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキル基、（Ｃ₆ −Ｃ₇ シクロアル
カノイルオキシ）−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキル基、（Ｃ₁ −Ｃ
₄ アルコキシカルボニルオキシ）−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキル
基、（Ｃ₅ −Ｃ₆ シクロアルコキシカルボニルオキシ）
−Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキル基、［５−フェニル−もしくは５
−（Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキル）−２−オキソ−１，３−ジオ
キソレン−４−イル］メチル基またはフタリジル基であ
る化合物、（４）Ｒ⁶ がカルボキシ基またはテトラゾー
ル−５−イル基である化合物をあげることができる。

【００１９】さらに好適には、（５）Ｒ¹ がエチル、プ
ロピル、ブチル、１−プロペニル、１−ブテニル、２−
ブテニル、メトキシメチル、エトキシメチル、１−メト
キシエチル、２−メトキシエチル、２−エトキシエチ
ル、メチルチオメチル、エチルチオメチル、１−メチル
チオエチル、２−メチルチオエチル、２−エチルチオエ
チル、メチルチオまたはエチルチオ基である化合物、
（６）Ｒ⁵ が水素原子、Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキル基、ベンジ
ル基、（Ｃ₁ −Ｃ₅ アルカノイルオキシ）−Ｃ₁ −Ｃ₂
アルキル基、（Ｃ₆ −Ｃ₇ シクロアルカノイルオキシ）
−Ｃ₁ −Ｃ₂ アルキル基、（Ｃ₁ −Ｃ₄ アルコキシカル
ボニルオキシ）−Ｃ₁ −Ｃ₂ アルキル基、（Ｃ₅ −Ｃ₆
シクロアルコキシカルボニルオキシ）−Ｃ₁ −Ｃ₂ アル
キル基、（５−フェニル−、５−メチル−もしくは５−
エチル−２−オキソ−１，３−ジオキソレン−４−イ
ル）メチル基またはフタリジル基である化合物をあげる
ことができる。

【００２０】特に好適には、（７）Ｒ¹ がエチル、プロ
ピル、ブチル、メトキシメチル、エトキシメチル、メチ
ルチオメチル、メチルチオまたはエチルチオ基である化
合物、（８）Ｒ² 、Ｒ³ およびＲ⁴ が同一または異なっ
て、水素原子またはメチル基である化合物、（９）Ｒ⁵
が、水素原子、ピバロイルオキシメチル基、エトキシカ
ルボニルオキシメチル基、１−（エトキシカルボニルオ
キシ）エチル基、イソプロポキシカルボニルオキシメチ
ル基、１−（イソプロポキシカルボニルオキシ）エチル
基、（５−メチル−２−オキソ−１，３−ジオキソレン
−４−イル）メチル基またはフタリジル基である化合物
をあげることができる。一般式（Ｉ）における好適な化
合物として、次の表１に示す化合物を具体的に例示する
ことができる。

【００２１】

【化３】

【００２２】

【表１】 ────────────────────────────────── 化合物 Ｒ¹ Ｒ² Ｒ³ Ｒ⁴ Ｒ⁵ Ｒ⁶ 番号(No.) ────────────────────────────────── 1 Pr Me H H H CO₂H 2 Pr Me H H H Tz 3 Bu Me H H H CO₂H 4 Bu Me H H H Tz 5 Et Me H H H CO₂H 6 Et Me H H H Tz 7 Pen Me H H H CO₂H 8 Pen Me H H H Tz 9 MeOCH₂- Me H H H CO₂H 10 MeOCH₂- Me H H H Tz 11 EtOCH₂- Me H H H CO₂H 12 EtOCH₂- Me H H H Tz 13 PrOCH₂- Me H H H CO₂H 14 PrOCH₂- Me H H H Tz 15 BuOCH₂- Me H H H CO₂H 16 BuOCH₂- Me H H H Tz 17 PrⁱOCH₂- Me H H H CO₂H 18 PrⁱOCH₂- Me H H H Tz 19 MeSCH₂- Me H H H CO₂H 20 MeSCH₂- Me H H H Tz 21 EtSCH₂- Me H H H CO₂H 22 EtSCH₂- Me H H H Tz 23 MeS- Me H H H CO₂H 24 MeS- Me H H H Tz 25 EtS- Me H H H CO₂H 26 EtS- Me H H H Tz 27 PrS- Me H H H CO₂H 28 PrS- Me H H H Tz 29 Pr Me Me Me H CO₂H 30 Pr Me Me Me H Tz 31 Bu Me Me Me H CO₂H 32 Bu Me Me Me H Tz 33 Et Me Me Me H CO₂H 34 Et Me Me Me H Tz 35 Pen Me Me Me H CO₂H 36 Pen Me Me Me H Tz 37 MeOCH₂- Me Me Me H CO₂H 38 MeOCH₂- Me Me Me H Tz 39 EtOCH₂- Me Me Me H CO₂H 40 EtOCH₂- Me Me Me H Tz 41 PrOCH₂- Me Me Me H CO₂H 42 PrOCH₂- Me Me Me H Tz 43 BuOCH₂- Me Me Me H CO₂H 44 BuOCH₂- Me Me Me H Tz 45 PrⁱOCH₂- Me Me Me H CO₂H 46 PrⁱOCH₂- Me Me Me H Tz 47 MeSCH₂- Me Me Me H CO₂H 48 MeSCH₂- Me Me Me H Tz 49 EtSCH₂- Me Me Me H CO₂H 50 EtSCH₂- Me Me Me H Tz 51 MeS- Me Me Me H CO₂H 52 MeS- Me Me Me H Tz 53 EtS- Me Me Me H CO₂H 54 EtS- Me Me Me H Tz 55 PrS- Me Me Me H CO₂H 56 PrS- Me Me Me H Tz 57 Pr Me Me H H CO₂H 58 Pr Me Me H H Tz 59 Bu Me Me H H CO₂H 60 Bu Me Me H H Tz 61 Et Me Me H H CO₂H 62 Et Me Me H H Tz 63 Pen Me Me H H CO₂H 64 Pen Me Me H H Tz 65 MeOCH₂- Me Me H H CO₂H 66 MeOCH₂- Me Me H H Tz 67 EtOCH₂- Me Me H H CO₂H 68 EtOCH₂- Me Me H H Tz 69 PrOCH₂- Me Me H H CO₂H 70 PrOCH₂- Me Me H H Tz 71 BuOCH₂- Me Me H H CO₂H 72 BuOCH₂- Me Me H H Tz 73 PrⁱOCH₂- Me Me H H CO₂H 74 PrⁱOCH₂- Me Me H H Tz 75 MeSCH₂- Me Me H H CO₂H 76 MeSCH₂- Me Me H H Tz 77 EtSCH₂- Me Me H H CO₂H 78 EtSCH₂- Me Me H H Tz 79 MeS- Me Me H H CO₂H 80 MeS- Me Me H H Tz 81 EtS- Me Me H H CO₂H 82 EtS- Me Me H H Tz 83 PrS- Me Me H H CO₂H 84 PrS- Me Me H H Tz 85 Pr Me H Me H CO₂H 86 Pr Me H Me H Tz 87 Bu Me H Me H CO₂H 88 Bu Me H Me H Tz 89 Et Me H Me H CO₂H 90 Et Me H Me H Tz 91 Pen Me H Me H CO₂H 92 Pen Me H Me H Tz 93 MeOCH₂- Me H Me H CO₂H 94 MeOCH₂- Me H Me H Tz 95 EtOCH₂- Me H Me H CO₂H 96 EtOCH₂- Me H Me H Tz 97 PrOCH₂- Me H Me H CO₂H 98 PrOCH₂- Me H Me H Tz 99 BuOCH₂- Me H Me H CO₂H 100 BuOCH₂- Me H Me H Tz 101 PrⁱOCH₂- Me H Me H CO₂H 102 PrⁱOCH₂- Me H Me H Tz 103 MeSCH₂- Me H Me H CO₂H 104 MeSCH₂- Me H Me H Tz 105 EtSCH₂- Me H Me H CO₂H 106 EtSCH₂- Me H Me H Tz 107 MeS- Me H Me H CO₂H 108 MeS- Me H Me H Tz 109 EtS- Me H Me H CO₂H 110 EtS- Me H Me H Tz 111 PrS- Me H Me H CO₂H 112 PrS- Me H Me H Tz 113 Pr Me H H Pom CO₂H 114 Pr Me H H Pom Tz 115 Bu Me H H Pom CO₂H 116 Bu Me H H Pom Tz 117 Et Me H H Pom CO₂H 118 Et Me H H Pom Tz 119 Pen Me H H Pom CO₂H 120 Pen Me H H Pom Tz 121 MeOCH₂- Me H H Pom CO₂H 122 MeOCH₂- Me H H Pom Tz 123 EtOCH₂- Me H H Pom CO₂H 124 EtOCH₂- Me H H Pom Tz 125 PrOCH₂- Me H H Pom CO₂H 126 PrOCH₂- Me H H Pom Tz 127 BuOCH₂- Me H H Pom CO₂H 128 BuOCH₂- Me H H Pom Tz 129 PrⁱOCH₂- Me H H Pom CO₂H 130 PrⁱOCH₂- Me H H Pom Tz 131 MeSCH₂- Me H H Pom CO₂H 132 MeSCH₂- Me H H Pom Tz 133 EtSCH₂- Me H H Pom CO₂H 134 EtSCH₂- Me H H Pom Tz 135 MeS- Me H H Pom CO₂H 136 MeS- Me H H Ppm Tz 137 EtS- Me H H Pom CO₂H 138 EtS- Me H H Pom Tz 139 PrS- Me H H Pom CO₂H 140 PrS- Me H H Pom Tz 141 Pr Me H H Mod CO₂H 142 Pr Me H H Mod Tz 143 Bu Me H H Mod CO₂H 144 Bu Me H H Mod Tz 145 Et Me H H Mod CO₂H 146 Et Me H H Mod Tz 147 Pen Me H H Mod CO₂H 148 Pen Me H H Mod Tz 149 MeOCH₂- Me H H Mod CO₂H 150 MeOCH₂- Me H H Mod Tz 151 EtOCH₂- Me H H Mod CO₂H 152 EtOCH₂- Me H H Mod Tz 153 PrOCH₂- Me H H Mod CO₂H 154 PrOCH₂- Me H H Mod Tz 155 BuOCH₂- Me H H Mod CO₂H 156 BuOCH₂- Me H H Mod Tz 157 PrⁱOCH₂- Me H H Mod CO₂H 158 PrⁱOCH₂- Me H H Mod Tz 159 MeSCH₂- Me H H Mod CO₂H 160 MeSCH₂- Me H H Mod Tz 161 EtSCH₂- Me H H Mod CO₂H 162 EtSCH₂- Me H H Mod Tz 163 MeS- Me H H Mod CO₂H 164 MeS- Me H H Mpd Tz 165 EtS- Me H H Mod CO₂H 166 EtS- Me H H Mod Tz 167 PrS- Me H H Mod CO₂H 168 PrS- Me H H Mod Tz 169 Pr Me H H CH₂OCO₂Et CO₂H 170 Pr Me H H CH₂OCO₂Et Tz 171 Bu Me H H CH₂OCO₂Et CO₂H 172 Bu Me H H CH₂OCO₂Et Tz 173 Et Me H H CH₂OCO₂Et CO₂H 174 Et Me H H CH₂OCO₂Et Tz 175 Pen Me H H CH₂OCO₂Et CO₂H 176 Pen Me H H CH₂OCO₂Et Tz 177 MeOCH₂- Me H H CH₂OCO₂Et CO₂H 178 MeOCH₂- Me H H CH₂OCO₂Et Tz 179 EtOCH₂- Me H H CH₂OCO₂Et CO₂H 180 EtOCH₂- Me H H CH₂OCO₂Et Tz 181 PrOCH₂- Me H H CH₂OCO₂Et CO₂H 182 PrOCH₂- Me H H CH₂OCO₂Et Tz 183 BuOCH₂- Me H H CH₂OCO₂Et CO₂H 184 BuOCH₂- Me H H CH₂OCO₂Et Tz 185 PrⁱOCH₂- Me H H CH₂OCO₂Et CO₂H 186 PrⁱOCH₂- Me H H CH₂OCO₂Et Tz 187 MeSCH₂- Me H H CH₂OCO₂Et CO₂H 188 MeSCH₂- Me H H CH₂OCO₂Et Tz 189 EtSCH₂- Me H H CH₂OCO₂Et CO₂H 190 EtSCH₂- Me H H CH₂OCO₂Et Tz 191 MeS- Me H H CH₂OCO₂Et CO₂H 192 MeS- Me H H CH₂OCO₂Et Tz 193 EtS- Me H H CH₂OCO₂Et CO₂H 194 EtS- Me H H CH₂OCO₂Et Tz 195 PrS- Me H H CH₂OCO₂Et CO₂H 196 PrS- Me H H CH₂OCO₂Et Tz 197 Pr Me H H CH₂OCO₂Prⁱ CO₂H 198 Pr Me H H CH₂OCO₂Prⁱ Tz 199 Bu Me H H CH₂OCO₂Prⁱ CO₂H 200 Bu Me H H CH₂OCO₂Prⁱ Tz 201 Et Me H H CH₂OCO₂Prⁱ CO₂H 202 Et Me H H CH₂OCO₂Prⁱ Tz 203 Pen Me H H CH₂OCO₂Prⁱ CO₂H 204 Pen Me H H CH₂OCO₂Prⁱ Tz 205 MeOCH₂- Me H H CH₂OCO₂Prⁱ CO₂H 206 MeOCH₂- Me H H CH₂OCO₂Prⁱ Tz 207 EtOCH₂- Me H H CH₂OCO₂Prⁱ CO₂H 208 EtOCH₂- Me H H CH₂OCO₂Prⁱ Tz 209 PrOCH₂- Me H H CH₂OCO₂Prⁱ CO₂H 210 PrOCH₂- Me H H CH₂OCO₂Prⁱ Tz 211 BuOCH₂- Me H H CH₂OCO₂Prⁱ CO₂H 212 BuOCH₂- Me H H CH₂OCO₂Prⁱ Tz 213 PrⁱOCH₂- Me H H CH₂OCO₂Prⁱ CO₂H 214 PrⁱOCH₂- Me H H CH₂OCO₂Prⁱ Tz 215 MeSCH₂- Me H H CH₂OCO₂Prⁱ CO₂H 216 MeSCH₂- Me H H CH₂OCO₂Prⁱ Tz 217 EtSCH₂- Me H H CH₂OCO₂Prⁱ CO₂H 218 EtSCH₂- Me H H CH₂OCO₂Prⁱ Tz 219 MeS- Me H H CH₂OCO₂Prⁱ CO₂H 220 MeS- Me H H CH₂OCO₂Prⁱ Tz 221 EtS- Me H H CH₂OCO₂Prⁱ CO₂H 222 EtS- Me H H CH₂OCO₂Prⁱ Tz 223 PrS- Me H H CH₂OCO₂Prⁱ CO₂H 224 PrS- Me H H CH₂OCO₂Prⁱ Tz 225 Pr Me H H CH(Me)OCO₂Et CO₂H 226 Pr Me H H CH(Me)OCO₂Et Tz 227 Bu Me H H CH(Me)OCO₂Et CO₂H 228 Bu Me H H CH(Me)OCO₂Et Tz 229 Et Me H H CH(Me)OCO₂Et CO₂H 230 Et Me H H CH(Me)OCO₂Et Tz 231 Pen Me H H CH(Me)OCO₂Et CO₂H 232 Pen Me H H CH(Me)OCO₂Et Tz 233 MeOCH₂- Me H H CH(Me)OCO₂Et CO₂H 234 MeOCH₂- Me H H CH(Me)OCO₂Et Tz 235 EtOCH₂- Me H H CH(Me)OCO₂Et CO₂H 236 EtOCH₂- Me H H CH(Me)OCO₂Et Tz 237 PrOCH₂- Me H H CH(Me)OCO₂Et CO₂H 238 PrOCH₂- Me H H CH(Me)OCO₂Et Tz 239 BuOCH₂- Me H H CH(Me)OCO₂Et CO₂H 240 BuOCH₂- Me H H CH(Me)OCO₂Et Tz 241 PrⁱOCH₂- Me H H CH(Me)OCO₂Et CO₂H 242 PrⁱOCH₂- Me H H CH(Me)OCO₂Et Tz 243 MeSCH₂- Me H H CH(Me)OCO₂Et CO₂H 244 MeSCH₂- Me H H CH(Me)OCO₂Et Tz 245 EtSCH₂- Me H H CH(Me)OCO₂Et CO₂H 246 EtSCH₂- Me H H CH(Me)OCO₂Et Tz 247 MeS- Me H H CH(Me)OCO₂Et CO₂H 248 MeS- Me H H CH(Me)OCO₂Et Tz 249 EtS- Me H H CH(Me)OCO₂Et CO₂H 250 EtS- Me H H CH(Me)OCO₂Et Tz 251 PrS- Me H H CH(Me)OCO₂Et CO₂H 252 PrS- Me H H CH(Me)OCO₂Et Tz 253 Pr Me H H CH(Me)OCO₂Prⁱ CO₂H 254 Pr Me H H CH(Me)OCO₂Prⁱ Tz 255 Bu Me H H CH(Me)OCO₂Prⁱ CO₂H 256 Bu Me H H CH(Me)OCO₂Prⁱ Tz 257 Et Me H H CH(Me)OCO₂Prⁱ CO₂H 258 Et Me H H CH(Me)OCO₂Prⁱ Tz 259 Pen Me H H CH(Me)OCO₂Prⁱ CO₂H 260 Pen Me H H CH(Me)OCO₂Prⁱ Tz 261 MeOCH₂- Me H H CH(Me)OCO₂Prⁱ CO₂H 262 MeOCH₂- Me H H CH(Me)OCO₂Prⁱ Tz 263 EtOCH₂- Me H H CH(Me)OCO₂Prⁱ CO₂H 264 EtOCH₂- Me H H CH(Me)OCO₂Prⁱ Tz 265 PrOCH₂- Me H H CH(Me)OCO₂Prⁱ CO₂H 266 PrOCH₂- Me H H CH(Me)OCO₂Prⁱ Tz 267 BuOCH₂- Me H H CH(Me)OCO₂Prⁱ CO₂H 268 BuOCH₂- Me H H CH(Me)OCO₂Prⁱ Tz 269 PrⁱOCH₂- Me H H CH(Me)OCO₂Prⁱ CO₂H 270 PrⁱOCH₂- Me H H CH(Me)OCO₂Prⁱ Tz 271 MeSCH₂- Me H H CH(Me)OCO₂Prⁱ CO₂H 272 MeSCH₂- Me H H CH(Me)OCO₂Prⁱ Tz 273 EtSCH₂- Me H H CH(Me)OCO₂Prⁱ CO₂H 274 EtSCH₂- Me H H CH(Me)OCO₂Prⁱ Tz 275 MeS- Me H H CH(Me)OCO₂Prⁱ CO₂H 276 MeS- Me H H CH(Me)OCO₂Prⁱ Tz 277 EtS- Me H H CH(Me)OCO₂Prⁱ CO₂H 278 EtS- Me H H CH(Me)OCO₂Prⁱ Tz 279 PrS- Me H H CH(Me)OCO₂Prⁱ CO₂H 280 PrS- Me H H CH(Me)OCO₂Prⁱ Tz 281 Pr Me H H Phth CO₂H 282 Pr Me H H Phth Tz 283 Bu Me H H Phth CO₂H 284 Bu Me H H Phth Tz 285 Et Me H H Phth CO₂H 286 Et Me H H Phth Tz 287 Pen Me H H Phth CO₂H 288 Pen Me H H Phth Tz 289 MeOCH₂- Me H H Phth CO₂H 290 MeOCH₂- Me H H Phth Tz 291 EtOCH₂- Me H H Phth CO₂H 292 EtOCH₂- Me H H Phth Tz 293 PrOCH₂- Me H H Phth CO₂H 294 PrOCH₂- Me H H Phth Tz 295 BuOCH₂- Me H H Phth CO₂H 296 BuOCH₂- Me H H Phth Tz 297 PrⁱOCH₂- Me H H Phth CO₂H 298 PrⁱOCH₂- Me H H Phth Tz 299 MeSCH₂- Me H H Phth CO₂H 300 MeSCH₂- Me H H Phth Tz 301 EtSCH₂- Me H H Phth CO₂H 302 EtSCH₂- Me H H Phth Tz 303 MeS- Me H H Phth CO₂H 304 MeS- Me H H Phth Tz 305 EtS- Me H H Phth CO₂H 306 EtS- Me H H Phth Tz 307 PrS- Me H H Phth CO₂H 308 PrS- Me H H Phth Tz 309 Pr Et H H H CO₂H 310 Pr Et H H H Tz 311 Bu Et H H H CO₂H 312 Bu Et H H H Tz 313 Et Et H H H CO₂H 314 Et Et H H H Tz 315 Pen Et H H H CO₂H 316 Pen Et H H H Tz 317 MeOCH₂- Et H H H CO₂H 318 MeOCH₂- Et H H H Tz 319 EtOCH₂- Et H H H CO₂H 320 EtOCH₂- Et H H H Tz 321 PrOCH₂- Et H H H CO₂H 322 PrOCH₂- Et H H H Tz 323 BuOCH₂- Et H H H CO₂H 324 BuOCH₂- Et H H H Tz 325 PrⁱOCH₂- Et H H H CO₂H 326 PrⁱOCH₂- Et H H H Tz 327 MeSCH₂- Et H H H CO₂H 328 MeSCH₂- Et H H H Tz 329 EtSCH₂- Et H H H CO₂H 330 EtSCH₂- Et H H H Tz 331 MeS- Et H H H CO₂H 332 MeS- Et H H H Tz 333 EtS- Et H H H CO₂H 334 EtS- Et H H H Tz 335 PrS- Et H H H CO₂H 336 PrS- Et H H H Tz 337 All Me H H H CO₂H 338 All Me H H H Tz 339 2-Buten Me H H H CO₂H 340 2-Buten Me H H H Tz 341 1-Buten Me H H H CO₂H 342 1-Buten Me H H H Tz 343 Pr Et Me H H CO₂H 344 Pr Et Me H H Tz 345 Bu Et Me H H CO₂H 346 Bu Et Me H H Tz 347 Et Et Me H H CO₂H 348 Et Et Me H H Tz 349 Pen Et Me H H CO₂H 350 Pen Et Me H H Tz 351 MeOCH₂- Et Me H H CO₂H 352 MeOCH₂- Et Me H H Tz 353 EtOCH₂- Et Me H H CO₂H 354 EtOCH₂- Et Me H H Tz 355 PrOCH₂- Et Me H H CO₂H 356 PrOCH₂- Et Me H H Tz 357 BuOCH₂- Et Me H H CO₂H 358 BuOCH₂- Et Me H H Tz 359 PrⁱOCH₂- Et Me H H CO₂H 360 PrⁱOCH₂- Et Me H H Tz 361 MeSCH₂- Et Me H H CO₂H 362 MeSCH₂- Et Me H H Tz 363 EtSCH₂- Et Me H H CO₂H 364 EtSCH₂- Et Me H H Tz 365 MeS- Et Me H H CO₂H 366 MeS- Et Me H H Tz 367 EtS- Et Me H H CO₂H 368 EtS- Et Me H H Tz 369 PrS- Et Me H H CO₂H 370 PrS- Et Me H H Tz 371 Pr Et H Me H CO₂H 372 Pr Et H Me H Tz 373 Bu Et H Me H CO₂H 374 Bu Et H Me H Tz 375 Et Et H Me H CO₂H 376 Et Et H Me H Tz 377 Pen Et H Me H CO₂H 378 Pen Et H Me H Tz 379 MeOCH₂- Et H Me H CO₂H 380 MeOCH₂- Et H Me H Tz 381 EtOCH₂- Et H Me H CO₂H 382 EtOCH₂- Et H Me H Tz 383 PrOCH₂- Et H Me H CO₂H 384 PrOCH₂- Et H Me H Tz 385 BuOCH₂- Et H Me H CO₂H 386 BuOCH₂- Et H Me H Tz 387 PrⁱOCH₂- Et H Me H CO₂H 388 PrⁱOCH₂- Et H Me H Tz 389 MeSCH₂- Et H Me H CO₂H 390 MeSCH₂- Et H Me H Tz 391 EtSCH₂- Et H Me H CO₂H 392 EtSCH₂- Et H Me H Tz 393 MeS- Et H Me H CO₂H 394 MeS- Et H Me H Tz 395 EtS- Et H Me H CO₂H 396 EtS- Et H Me H Tz 397 PrS- Et H Me H CO₂H 398 PrS- Et H Me H Tz 399 Pr Me H H Et Tz 400 Bu Me H H Et Tz 401 Et Me H H Et Tz 402 EtOCH₂- Me H H Et Tz 403 EtOCH₂- Me H H Et CO₂Bu^t 404 EtOCH₂- Me H H Et CO₂H ──────────────────────────────────── 上記表において、略号は以下の基を示す。

【００２３】All ：アリル基 Bu ：ブチル基 Bu^t ：t-ブチル基 1-Buten ：1-ブテニル基 2-Buten ：2-ブテニル基 Et ：エチル基 Me ：メチル基 Mod ：(5- メチル-2- オキソ-1,3- ジオキソレン-4- イ
ル）メチル基 Pen ：ペンチル基 Phth：フタリジル基 Pom ：ピバロイルオキシメチル基 Pr ：プロピル基 Prⁱ ：イソプロピル基 Tz：テトラゾール−５−イル基。

【００２４】また、上記表において、好適には、例示化
合物番号Ｎｏ．１、２、３、４、５、６、９、１０、１
１、１２、１９、２０、２１、２２、２３、２４、２
５、２６、２９、３０、３１、３２、３３、３４、３
７、３８、３９、４０、４７、４８、４９、５０、５
１、５２、５３、５４、５７、５８、５９、６０、６
１、６２、６５、６６、６７、６８、７５、７６、７
７、７８、７９、８０、８１、８２、８５、８６、８
７、８８、８９、９０、９３、９４、９５、９６、１０
３、１０４、１０５、１０６、１０７、１０８、１０
９、１１０、１１３、１１４、１１５、１１６、１１
７、１１８、１２１、１２２、１２３、１２４、１３
１、１３２、１３３、１３４、１３５、１３６、１３
７、１３８、１４１、１４２、１４３、１４４、１４
５、１４６、１４９、１５０、１５１、１５２、１５
９、１６０、１６１、１６２、１６３、１６４、１６
５、１６６、１６９、１７０、１７１、１７２、１７
３、１７４、１７７、１７８、１７９、１８０、１８
７、１８８、１８９、１９０、１９１、１９２、１９
３、１９４、１９７、１９８、１９９、２００、２０
１、２０２、２０５、２０６、２０７、２０８、２１
５、２１６、２１７、２１８、２１９、２２０、２２
１、２２２、２２５、２２６、２２７、２２８、２２
９、２３０、２３３、２３４、２３５、２３６、２４
３、２４４、２４５、２４６、２４７、２４８、２４
９、２５０、２５３、２５４、２５５、２５６、２５
７、２５８、２６１、２６２、２６３、２６４、２７
１、２７２、２７３、２７４、２７５、２７６、２７
７、２７８、２８１、２８２、２８３、２８４、２８
５、２８６、２８９、２９０、２９１、２９２、２９
９、３００、３０１、３０２、３０３、３０４、３０５
および３０６の化合物である。

【００２５】さらに好適には、例示化合物番号Ｎｏ．
１、２、３、４、５、６、９、１０、１１、１２、１
９、２０、２１、２２、２３、２４、２５、２６、２
９、３０、３１、３２、３３、３４、３７、３８、３
９、４０、４７、４８、４９、５０、５１、５２、５
３、５４、１１３、１１４、１１５、１１６、１１７、
１１８、１２１、１２２、１２３、１２４、１３１、１
３２、１３３、１３４、１３５、１３６、１３７、１３
８、１４１、１４２、１４３、１４４、１４５、１４
６、１４９、１５０、１５１、１５２、１５９、１６
０、１６１、１６２、１６３、１６４、１６５、１６
６、１６９、１７０、１７１、１７２、１７３、１７
４、１７７、１７８、１７９、１８０、１８７、１８
８、１８９、１９０、１９１、１９２、１９３、１９
４、１９７、１９８、１９９、２００、２０１、２０
２、２０５、２０６、２０７、２０８、２１５、２１
６、２１７、２１８、２１９、２２０、２２１および２
２２の化合物である。

【００２６】特に好適には、例示化合物番号Ｎｏ．２、
４、６、１０、１２、２６、１１４、１１６、１１８、
１２２、１２４、１３８、１４２、１４４、１４６、１
５０、１５２、１６６、１７０、１７２、１７４、１７
８、１８０、１９４、１９８、２００、２０２、２０
６、２０８および２２２の化合物である。本発明の一般
式（Ｉ）を有する化合物は、以下のＡ法およびＢ法に従
って容易に製造される。

【００２７】

【化４】

【００２８】

【化５】

【００２９】上記式中、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ³ 、Ｒ⁴ 、Ｒ⁵
およびＲ⁶ は、前述したものと同意義を示し、Ｒ⁵aは、
カルボキシ基の保護基を示し、Ｒ⁶aは、保護されたカル
ボキシ基、保護されたテトラゾリル基、シアノ基、カル
バモイル基またはＣ₁ −Ｃ₆ アルキルカルバモイル基
（好適には、ｔ−ブチルカルバモイル基またはｔ−ペン
チルカルバモイル基）を示し、Ｙは、ハロゲン原子（好
適には、塩素原子，臭素原子または沃素原子）を示す。

【００３０】Ｒ⁵aまたはＲ⁶aのカルボキシ基の保護基
は、前述したＲ⁵ におけるカルボキシ基の保護基と同様
のものである。Ｒ⁶aのテトラゾリル基の保護基は、例え
ば、Ｃ₇ −Ｃ₁₉アラルキル基（例えば、ベンジル、ジフ
ェニルメチル、トリチル基、好適には、トリチル基）で
ある。

【００３１】Ａ法は、化合物(I) を製造する方法であ
る。第Ａ１工程は、一般式(IV)を有する化合物を製造す
る工程で、不活性溶剤中、一般式(II)を有する化合物と
一般式(III) を有する化合物を塩基の存在下、反応させ
ることにより達成される。

【００３２】使用される不活性溶剤は、反応に関与しな
ければ、特に制限されず、例えば、ベンゼン，トルエン
のような炭化水素類、テトラヒドロフラン，ジオキサン
のようなエーテル類、メタノール，エタノール，ｔ−ブ
タノールのようなアルコール類、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセ
トアミド，Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド，Ｎ−メチル
−２−ピロリジノンのようなアミド類、アセトン，２−
ブタノンのようなケトン類、アセトニトリルのようなニ
トリル類、ジメチルスルホキシドのようなスルホキシド
類であり得、好適には、アミド類、ケトン類、ニトリル
類またはスルホキシド類である。使用される塩基は、好
適には、炭酸ナトリウム，炭酸カリウムのようなアルカ
リ金属炭酸塩、水素化ナトリウム、水素化カリウム、水
素化リチウムのようなアルカリ金属水素化物、ナトリウ
ムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔ−ブ
トキシド、リチウムメトキシドのようなアルコキシアル
カリ金属、重炭酸ナトリウム、重炭酸カリウムのような
アルカリ金属重炭酸塩であり、さらに好適には、アルカ
リ金属炭酸塩、アルカリ金属水素化物またはアルコキシ
アルカリ金属である。

【００３３】反応温度は、原料化合物(II)および(III)
、溶剤並びに塩基の種類等により異なるが、通常−１
０℃乃至１００℃（好適には、０℃乃至８０℃）であ
り、反応時間は、反応温度等により異なるが、３０分間
乃至２４時間（好適には、１乃至１６時間）である。反
応終了後、本反応の目的化合物(IV)は、常法に従って、
反応混合物から採取される。例えば、溶剤を減圧留去
後、残留物に水を加え、酢酸エチルのような水不混和性
有機溶媒で抽出し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、
溶媒を留去することにより得ることができ、必要なら
ば、常法、例えば、再結晶、カラムクロマトグラフィー
等でさらに精製することができる。

【００３４】第Ａ２工程は、所望により行う工程であ
り、 反応（ａ）：Ｒ⁵aおよびＲ⁶aに含まれるカルボキシ基の
保護基を、選択的にまたは非選択的に除去する反応、 反応（ｂ）：Ｒ⁶aに含まれるテトラゾリル基の保護基を
除去する反応、 反応（ｃ）：Ｒ⁶aのシアノ基、カルバモイル基またはＣ
₁ −Ｃ₆ アルキルカルバモイル基をテトラゾリル基に変
換する反応、 反応（ｄ）：Ｒ⁵ が水素原子である化合物またはＲ⁶ が
カルボキシ基である化合物のカルボキシ基を保護する反
応 を含み、上記反応は、適宜順序を変えて行われる。

【００３５】反応（ａ）：反応（ａ）におけるカルボキ
シ保護基を除去する反応は、保護基の種類により異な
り、有機合成化学でよく知られている方法で行われる。

【００３６】カルボキシ基の保護基がベンジルのような
アラルキルの場合には、不活性溶媒（好適には、メタノ
ール、エタノールのようなアルコール類または酢酸のよ
うなカルボン酸類）中、接触還元触媒（好適には、パラ
ジウム−炭素または酸化白金）の存在下、水素圧が常圧
乃至５気圧のもとで接触還元することにより、相当する
保護基が除去される。

【００３７】カルボキシ基の保護基がｔ−ブチルまたは
ジフェニルメチル基である場合には、不活性溶剤（好適
には、メタノール、エタノールのようなアルコール類、
テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類、
水または水と上記有機溶剤との混合溶剤）中、酸（好適
には、塩化水素，硫酸のような鉱酸またはトリフルオロ
酢酸、メタンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸のよ
うな有機酸）と反応させることにより、相当する保護基
が除去される。

【００３８】カルボキシ基の保護基がエステル残基であ
る場合には、不活性溶剤（好適には、メタノール、エタ
ノールのようなアルコール類、テトラヒドロフラン、ジ
オキサンのようなエーテル類、水または水と上記有機溶
剤との混合溶剤）中、塩基（好適には、水酸化リチウ
ム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなアルカ
リ金属水酸化物または炭酸ナトリウム、炭酸カリウムの
ようなアルカリ金属炭酸塩）と、反応させ、加水分解に
よって、相当する保護基が除去される。

【００３９】反応温度は、除去する方法、溶媒等により
異なるが、通常０℃乃至１００℃（好適には、室温乃至
６０℃）であり、反応時間は、反応温度等により異なる
が、３０分間乃至２４時間（好適には、１時間乃至１６
時間）である。反応終了後、接触還元による保護基の除
去の場合は、触媒を濾別し、溶媒を留去することによ
り、生成物を得ることができ、酸による保護基の除去の
場合には、反応系中に析出する結晶を濾取することまた
は反応混合物を濃縮することにより生成物を得ることが
でき、アルカリ加水分解による保護基の除去の場合に
は、有機溶媒を留去し、酸で中和することにより、水溶
媒中に析出する結晶を濾取することまたは酸で中和し、
生成物を酢酸エチルのような水不混和性有機溶剤で抽出
し、溶剤を留去することによって生成物を得ることがで
きる。必要ならば、再結晶、カラムクロマトグラフィー
等で精製される。また、反応条件を選択することによっ
て、Ｒ⁵aとＲ⁶aに含まれる保護基を選択して除去するこ
とができる。

【００４０】反応（ｂ）：反応（ｂ）におけるＲ⁶aに含
まれるテトラゾリル基の保護基を除去する反応は、保護
基の種類によって異なるが、有機合成化学において一般
に広く知られている方法によって行われる。

【００４１】保護基がトリチル基の場合には、不活性溶
剤（好適には、水；ギ酸，酢酸のような有機酸類；テト
ラヒドロフラン，ジオキサン等のエーテル類；メタノー
ル，エタノール等のアルコール類及びこれらの混合溶
剤）中、酸で処理することにより達成される。

【００４２】使用される酸は、ギ酸，酢酸，蓚酸，メタ
ンスルホン酸，ｐ−トルエンスルホン酸，トリフルオロ
酢酸のような有機酸及び塩酸，臭化水素酸，硫酸，リン
酸のような無機酸であり得、好適には、酢酸、トリフル
オロ酢酸、塩酸である。

【００４３】反応温度は、通常０乃至１２０℃（好適に
は、１０乃至１００℃）であり、反応時間は、反応温度
等により異なるが、３０分間乃至２４時間（好適には１
乃至１６時間）である。テトラゾリル基の保護基が、ベ
ンジルまたはジフェニルメチル基の場合には、前述のＡ
法の第Ａ２工程の反応（ａ）において、カルボキシ保護
基がアラルキル基である場合の除去方法で説明したパラ
ジウム、酸化白金等を触媒とする接触還元による方法に
より除去できる。

【００４４】反応終了後、本反応の目的化合物は、常法
に従って、反応混合物から採取することができ、例え
ば、前述したＡ法の第Ａ２工程の反応（ａ）と同様の操
作により行われる。

【００４５】反応（ｃ）：反応（ｃ）におけるＲ⁶aのシ
アノ基をテトラゾリル基に変換する反応は、以下の３つ
の方法によって行われる。

【００４６】（ｃ−１−１）アルカリ金属アジドとの反
応 本反応は、不活性溶剤（好適には、ジオキサン、１，２
−ジメトキシエタンのようなエーテル類、メタノール，
エタノールのようなアルコール類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド，Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドのようなア
ミド類又はジメチルスルホキシドのようなスルホキシド
類）中、０．５乃至２当量（好適には、１乃至１．２当
量）のアンモニウムハライド（例えば、フッ化アンモニ
ウム、塩化アンモニウム、臭化アンモニウム、好適に
は、塩化アンモニウム）の存在下、相当するシアノ化合
物を１乃至５当量（好適には、１乃至３当量）のアルカ
リ金属アジド（例えば、リチウムアジド、ナトリウムア
ジド、カトリウムアジド、好適には、ナトリウムアジ
ド）と反応させることにより行われる。反応温度は、通
常７０℃乃至１５０℃（好適には、９０℃乃至１２０
℃）であり、反応時間は、反応温度等により異なるが、
１０時間乃至７日間（好適には、１日乃至５日間）であ
る。反応終了後、反応混合物に水と酢酸エチルのような
水不混和性有機溶剤を加え、有機溶剤層を分離し、溶剤
を留去することによって生成物を得ることができる。必
要ならば、再結晶、カラムクロマトグラフィー等で精製
される。

【００４７】（ｃ−１−２）トリアルキルまたはトリア
リール錫アジドとの反応 本反応は、不活性溶剤（好適には、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン、ヘプタンのような炭化水素類、ジクロル
メタン、クロルホルムのようなハロゲン化炭化水素類、
ジオキサン、１，２−ジメトキシエタンのようなエーテ
ル類、酢酸エチル、酢酸ブチルのようなエステル類、
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセ
トアミドのようなアミド類又はジメチルスルホキシドの
ようなスルホキシド類）中、相当するシアノ化合物を１
乃至３当量（好適には、１乃至２当量）のトリ（Ｃ₁ −
Ｃ₆ アルキル）錫アジド（好適には、トリメチル錫アジ
ド、トリブチル錫アジド等）またはトリアリール錫アジ
ド（好適には、トリフェニル錫アジド、トリトリル錫ア
ジド等）と反応させ、得られた錫付加体を上記溶剤、メ
タノール、エタノールのようなアルコール類、水または
含水アルコール類中、酸（好適には、塩酸、硫酸等）、
塩基（好適には、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムの
ようなアルカリ金属水酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸カ
リウムのようなアルカリ金属炭酸塩、炭酸水素ナトリウ
ム、炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属重炭酸塩
等）またはアルカリ金属フッ化物（好適には、フッ化ナ
トリウム、フッ化化カリウム等）と処理することにより
行われる。前段の反応では、反応温度は、通常６０℃乃
至１５０℃（好適には、８０℃乃至１２０℃）であり、
反応時間は、反応温度等により異なるが、８時間乃至７
日間（好適には、１日乃至５日間）であり、後段の処理
では、反応温度は、通常室温付近であり、反応時間は、
反応温度等により異なるが、３０分間乃至２４時間（好
適には、１時間乃至６時間）である。反応終了後、反応
混合物に水と酢酸エチルのような水不混和性有機溶剤を
加え、水層を塩酸のような鉱酸で酸性にした後、有機溶
剤層を分離し、溶剤を留去することによって生成物を得
ることができる。必要ならば、再結晶、カラムクロマト
グラフィー等で精製される。

【００４８】（ｃ−１−３）トリアルキルまたはトリア
リール錫ハライドとアルカリ金属アジドとの反応 本反応は、トリアルキルまたはトリアリール錫アジドの
代わりに、１乃至３当量（好適には、１乃至２当量）の
トリアルキルまたはトリアリール錫ハライド（好適に
は、トリメチル錫クロライド、トリエチル錫クロライ
ド、トリブチル錫クロライド、トリフェニル錫クロライ
ド等）および１乃至３当量（好適には、１乃至２当量）
のアルカリ金属アジド（好適には、ナトリウムアジド、
リチウムアジド等）を用いる他、上記反応（ｃ−１−
２）と同様に行われる。また、Ｒ⁶aに含まれるアルキル
カルバモイル基またはカルバモイル基をテトラゾリル基
に変換する反応は、まず、アルキルカルバモイル基また
はカルバモイル基をシアノ基に変換し、ついで、上記反
応により、シアノ基をテトラゾリル基に変換する反応で
ある。このシアノ基に変換する反応は、以下の２つの方
法によって行われる。

【００４９】（ｃ−２−１）ハロゲン化剤との反応（ア
ルキルカルバモイル基をシアノ基に変換する反応） 本反応は、不活性溶剤（好適には、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン、ヘプタンのような炭化水素類、ジクロル
メタン、クロロホルムのようなハロゲン化炭化水素類、
エチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのよ
うなエーテル類、酢酸エチル、酢酸ブチルのようなエス
テル類）中、相当するアルキルカルバモイル化合物を１
乃至３当量（好適には、１乃至２当量）のハロゲン化剤
（好適には、オキザリルクロライド、オキシ塩化リン、
塩化チオニル等）と反応することにより行われる。反応
温度は、通常−１０℃乃至１００℃（好適には、０℃乃
至５０℃）であり、反応時間は、反応温度等により異な
るが、１０分間乃至１６時間（好適には、３０分間乃至
６時間）である。反応終了後、反応混合物に重曹水のよ
うな弱塩基性水溶液と酢酸エチルのような水不混和性有
機溶剤を加え、有機溶剤層を分離し、溶剤を留去するこ
とによって生成物を得ることができる。必要ならば、再
結晶、カラムクロマトグラフィー等で精製される。

【００５０】（ｃ−２−２）脱水剤との反応（カルバモ
イル基をシアノ基に変換する反応） 本反応は、不活性溶剤（好適には、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン、ヘプタンのような炭化水素類、ジクロル
メタン、クロロホルムのようなハロゲン化炭化水素類、
エチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのよ
うなエーテル類、酢酸エチル、酢酸ブチルのようなエス
テル類）中、有機アミン（好適には、トリエチルアミ
ン、ピリジン、Ｎ−メチルモルホリン等）の存在下、相
当するカルバモイル化合物を脱水剤（好適には、無水酢
酸、無水トリフルオロ酢酸、無水メタンスルホン酸、無
水トリフルオロメタンスルホン酸、塩化チオニル等）と
反応することにより行われる。反応温度および反応時間
は、通常−１０℃乃至１００℃（好適には、０℃乃至５
０℃）および１０分間乃至１６時間（好適には、３０分
間乃至６時間）である。反応終了後、反応混合物に重曹
水のような弱塩基性水溶液と酢酸エチルのような水不混
和性有機溶剤を加え、有機溶剤層を分離し、溶剤を留去
することによって生成物を得ることができる。必要なら
ば、再結晶、カラムクロマトグラフィー等で精製され
る。

【００５１】反応（ｄ）：反応（ｄ）におけるカルボキ
シ基の保護化反応も、有機合成化学でよく知られている
方法で行われる。例えば、不活性溶剤中、塩基の存在
下、相当するカルボン酸を、式 Ｒ⁵a−Ｚ (VII) ［式中、Ｒ⁵aは、前述したものと同意義を示し、Ｚは塩
素原子，臭素原子，沃素原子のようなハロゲン原子また
は式−ＯＳＯ₃ Ｒ⁵a（式中、Ｒ⁵aは、前述したものと同
意義を示す。）を有する基を示す。］を有する化合物と
反応させることによって行われる。

【００５２】使用される不活性溶剤は、例えば、Ｎ，Ｎ
−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミ
ドのようなアミド類、ジクロルメタン、１，２−ジクロ
ルエタンのようなハロゲン化炭化水素類、アセトン、メ
チルエチルケトンのようなケトン類、アセトニトリルの
ようなニトリル類であり得、好適には、アミド類または
ケトン類である。

【００５３】使用される塩基は、例えば、炭酸ナトリウ
ム，炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩、重炭酸
ナトリウム、重炭酸カリウムのようなアルカリ金属重炭
酸塩、水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリ
ウムのようなアルカリ金属水素化物、トリエチルアミ
ン、Ｎ−メチルモルホリン、ジイソプロピルエチルアミ
ンのような第三級アミンであり得、好適には、アルカリ
金属炭酸塩または第三級アミンである。反応温度、反応
時間等の反応条件および反応生成物の採取方法は、前記
Ａ法第Ａ１工程のそれらと同様である。また、カルボキ
シ基の保護基がＣ₁ −Ｃ₆ アルキル基の場合には、カル
ボン酸をメタノール、エタノール、プロパノール、ヘキ
サノールのようなＣ₁ −Ｃ₆ アルコール中、塩化水素、
硫酸のような酸触媒の存在下、０℃乃至１００℃で１時
間乃至２４時間反応させること、または相当するカルボ
ン酸を、不活性溶剤（好適には、ジクロルメタン、クロ
ロホルムのようなハロゲン化炭化水素類、テトラヒドロ
フラン、ジオキサンのようなエーテル類、ベンゼン、ト
ルエンのような芳香族炭化水素類等）中、ハロゲン化剤
（例えば、五塩化リン、塩化チオニル、塩化オキザリル
等）と室温付近で３０分間乃至５時間処理し、相当する
酸ハライドに導いた後、塩基（例えば、トリエチルアミ
ンのような有機アミン等）の存在下、相当するアルコー
ル体（ｔ−ブチルエステルを製造する際は、ｔ−ブトキ
シカリウムが望ましい。）と室温付近で３０分間乃至１
０時間反応することによって行われる。目的化合物は常
法、例えば、Ａ法の第Ａ１工程と同様の方法で採取され
る。

【００５４】Ｂ法は、Ａ法における中間化合物(IV)を別
途に製造する方法である。第Ｂ１工程は、一般式(VI)を
有する化合物を製造する工程で、化合物(III) と一般式
(V) を有する化合物を反応させることにより達成され、
本工程は、前記Ａ法第Ａ１工程と同様に行われる。

【００５５】第Ｂ２工程は、化合物(IV)を製造する工程
で、化合物(VI)を脱水反応させることにより達成され
る。本反応は、不活性溶剤中、塩基の存在下、１乃至３
当量（好適には、１乃至２当量）のハロゲン化剤または
アシル化剤を用いて行われる。

【００５６】使用されるハロゲン化剤またはアシル化剤
は、例えば、オキザリルクロライド、チオニルクロライ
ド、ホスホリルクロライドのようなハライド化合物、メ
タンスルホニルクロライド、ｐ−トルエンスルホニルク
ロライド、アセチルクロライド、プロピオニルクロライ
ドのような酸ハライド、無水酢酸、無水トリフルオロ酢
酸、トリフルオロメタンスルホン酸無水物のような酸無
水物であり得、好適には、ハライド化合物であり、特に
好適には、オキザリルクロライドまたはホスホリルクロ
ライドである。使用される塩基は、好適には、ピリジ
ン、ルチジン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチ
ルアミン、４−ジメチルアミノピリジン、１，５−ジア
ザビシクロ［４．３．０］−５−ノネン、１，８−ジア
ザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン、１，４−
ジアザビシクロ［２．２．２］オクタンのような有機ア
ミン類であり、特に好適には、ピリジンである。また、
塩基の量は、１乃至３当量（好適には、１乃至２当量）
である。さらに、ピリジン、ルチジンのようなを液体ア
ミンを使用する時は、溶剤を兼ねて、これらを用いるこ
ともできる。

【００５７】使用される不活性溶剤は、反応に関与しな
ければ特に限定されず、例えば、ベンゼン、トルエン、
ヘキサンのような炭化水素類、ジクロルメタン、クロロ
ホルムのようなハロゲン化炭化水素類、エチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル
類、酢酸エチルのようなエステル類であり得、好適に
は、炭化水素類またはハロゲン化炭化水素類である。

【００５８】反応温度は、原料化合物等により異なる
が、通常０℃乃至１６０℃（好適には、５０℃乃至１３
０℃）であり、反応時間は、反応温度等により異なる
が、３０分間乃至２４時間（好適には、１乃至６時間）
である。反応終了後、反応生成物(IV)は、常法に従って
反応混合物から採取される。例えば、反応混合物に酢酸
エチルのような水不混和性有機溶剤と水を加え、有機溶
剤層を分離し、無水硫酸マグネシウムのような乾燥剤で
乾燥し、溶剤を留去することにより得ることができ、必
要ならば、常法、例えば、再結晶、カラムクロマトグラ
フィー等でさらに精製することができる。Ａ法およびＢ
法の原料化合物（II) および（V)は、以下のＣ−Ｆ法に
より製造される。

【００５９】

【化６】

【００６０】

【化７】

【００６１】

【化８】

【００６２】

【化９】

【００６３】上記式中、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ³ 、 Ｒ⁴ 、Ｒ
⁵a、Ｒ⁷ 、ＸおよびＹは、前述したものと同意義を示
し、Ｒ⁸ は、Ｃ₁ −Ｃ₆ アルキル基（好適には、メチル
またはエチル基）を示し、Ｒ⁹ およびＲ¹⁰は、同一また
は異なって、水素原子またはＣ₁−Ｃ₃ アルキル基（た
だし、Ｒ⁹ およびＲ¹⁰の合計炭素数は３以下である。）
を示し、Ｒ¹¹は、イミダゾリル基の保護基を示し、Ｍ
は、アルカリ金属（例えば、リチウム、ナトリウム、カ
リウム等、好適には、リチウムまたはナトリウム）を示
す。

【００６４】Ｒ¹¹のイミダゾリル基の保護基は、例え
ば、ベンジル、ｐ−ニトロベンジル、ｐ−メトキシベン
ジル、ジフェニルメチル、トリチル基のようなニトロ、
Ｃ₁ −Ｃ₄ アルコキシで置換されてもよいアラルキル
基、メトキシメチル、エトキシメチル、プロポキシメチ
ル、ブトキシメチル基のようなＣ₁ −Ｃ₄ アルコキシメ
チル基であり得、好適には、ベンジル、ｐ−ニトロベン
ジル、ｐ−メトキシベンジル、トリチル、メトキシメチ
ル、エトキシメチル基であり、さらに好適には、ベンジ
ルまたはトリチル基である。

【００６５】Ｃ法は、化合物(II)および(V) を製造する
方法である。第Ｃ１工程は、オルトエステル体(VIII)と
ジアミノマレオニトリル(IX)を反応させて、イミダゾー
ル−４，５−ジカルボニトリル(X) を製造する工程で、
公知の方法（例えば、ベグランド等、ジャーナル・オブ
・オルガニック・ケミストリー、第39巻、第2341頁(197
4 年) ：R. W. Begland et al., J. Org. Chem., 39,
2341(1974)］に準じて行われる。すなわち、不活性溶剤
（好適には、ベンゼン，トルエン，キシレンのような芳
香族炭化水素類、１，２−ジクロルエタン，四塩化炭素
のようなハロゲン化炭化水素類、テトラヒドロフラン，
ジオキサンのようなエーテル類、アセトニトリルのよう
なニトリル類等）中、オルトエステル体(VIII)とジアミ
ノマレオニトリル(IX)を反応させることにより行われ
る。反応温度は、通常５０℃乃至１８０℃（好適には、
８０℃乃至１５０℃）であり、反応時間は、反応温度等
により異なるが、１乃至２４時間（好適には、２乃至１
０時間）である。反応生成物(X) は、反応系中に析出す
る結晶を濾取することまたは溶媒を留去することにより
得ることができる。さらに必要なら再結晶、カラムクロ
マトグラフィー等で精製される。

【００６６】第Ｃ２工程は、一般式(XI)を有する化合物
を製造する工程で、化合物(X) を塩酸，含水硫酸，含水
硝酸のような含水鉱酸と１乃至１０時間（好適には、３
乃至７時間）、加熱還流することにより行われる。反応
生成物(XI)は、冷却して析出する結晶を濾取することま
たは溶剤を留去することにより得られる。

【００６７】第Ｃ３工程は、化合物(XI)のカルボキシ基
を保護して、一般式(XII) を有する化合物を製造する工
程であり、前記Ａ法のＡ２工程の反応（d ）と同様に行
われる。

【００６８】第Ｃ４工程は、化合物(V) を製造する工程
で、化合物(XII) を還元剤または／および式 Ｒ²a−Ｍｇ−Ｙ (XXII) もしくは／および Ｒ³ （Ｒ⁴ ）ＣＨ−Ｍｇ−Ｙ (XXIII) （式中、Ｒ³ 、Ｒ⁴ およびＹは、前述したものと同意義
を示し、Ｒ²aは、前述したＲ² におけるＣ₁ −Ｃ₆ アル
キル基、Ｃ₃ −Ｃ₆ シクロアルキル基、Ｃ₆ −Ｃ₁₀アリ
ール基またはＣ₇ −Ｃ₁₃アラルキル基を示す。）を有す
るグリニアル試薬と反応させることによって達成され
る。化合物(XII) を約２当量のグリニアル試薬(XXII)と
反応させ、次いでグリニアル試薬(XXIII) と反応させる
ことにより、化合物(V) が製造される。また、化合物(X
II) を約３当量以上（好適には、３乃至４当量）のグリ
ニアル試薬(XXIII)と反応させることにより、化合物(V)
において、Ｒ² が、式Ｒ³ （Ｒ⁴ ）ＣＨ−を有する基
と同一である化合物が製造される。さらに、化合物(XI
I) を約２当量の還元剤と反応させ、次いでグリニアル
試薬(XXIII) と反応させることにより、化合物(V) にお
いて、Ｒ² が、水素原子である化合物が製造される。

【００６９】化合物(XII) と還元剤の反応は、不活性溶
剤中で、好適に行われる。使用される還元剤は、例え
ば、水素化ジイソブチルアルミニウムのような水素化ア
ルキルアルミニウム、水素化硼素ナトリウム、シアノ水
素化硼素ナトリウムのような水素化硼素塩であり得、好
適には、水素化ジイソブチルアルミニウムである。

【００７０】使用される不活性溶剤は、反応に関与しな
ければ特に限定されず、例えば、トルエン、ヘキサンの
ような炭化水素類、テトラヒドロフラン、ジオキサンの
ようなエーテル類、メタノール、エタノールのようなア
ルコール類、水または水と上記有機溶剤の混合物であり
得、還元剤の種類により、好適な溶剤は異なる。例え
ば、還元剤が水素化アルキルアルミニウムの場合には、
炭化水素類、エーテル類が好適であり、還元剤が水素化
硼素塩の場合には、アルコール類、水または含水アルコ
ール類が好適である。反応温度は、通常−６０℃乃至５
０℃であり、還元剤が水素化アルキルアルミニウムの場
合には、好適には、−４０℃乃至２０℃であり、還元剤
が水素化硼素塩の場合には、好適には、０℃乃至５０℃
である。反応時間は、還元剤、反応温度等により異なる
が、１乃至２４時間（好適には、５乃至１６時間）であ
る。

【００７１】化合物 (XII)とグリニアル試薬の反応は、
本反応に関与しない不活性溶剤（例えば、ヘキサン、ト
ルエンのような炭化水素類、テトラヒドロフラン、エチ
ルエーテルのようなエーテル類、ジクロルメタンのよう
なハロゲン化炭化水素類等、好適には、エーテル類また
はハロゲン化炭化水素類）中で行われる。反応温度は、
通常、−５０℃乃至１００℃（好適には、−１０℃乃至
５０℃）であり、反応時間は、反応温度等により異なる
が、３０分間乃至２４時間（好適には、１乃至１６時
間）である。

【００７２】反応終了後、各反応の目的物は、常法に従
って反応混合物から採取される。例えば、反応液中に、
水または塩化アンモニウム水溶液を加え、室温で撹拌
後、不溶物が存在する場合は、それを濾別して、酢酸エ
チルのような水不混和性有機溶剤で抽出し、水洗し、無
水硫酸マグネシウムのような乾燥剤で乾燥し、溶剤を留
去することにより得ることができ、必要ならば、常法、
例えば再結晶、カラムクロマトグラフィー等でさらに精
製することができる。

【００７３】第Ｃ５工程は、化合物(II)を製造する工程
で、化合物(V) を脱水することにより達成され、本反応
は、前記Ｂ法の第Ｂ２工程と同様に行われる。

【００７４】Ｄ法は、Ｃ法の中間体化合物(X) から化合
物(II)を別途に製造する方法である。第Ｄ１工程は、化
合物(X) を還元剤と反応させて、一般式(XIII)を有する
化合物において、Ｒ² が水素原子である化合物を製造す
るか、または、グリニアル試薬(XXII)と反応させて、化
合物(XIII)において、Ｒ² がＲ²aである化合物を製造す
る工程であり、前記Ｃ法の第Ｃ４工程と同様に行われ
る。

【００７５】第Ｄ２工程は、化合物(XIII)のカルボニル
基をグリニアル試薬(XXIII) と反応させて、一般式(XI
V) を有する化合物を製造する工程であり、前記Ｃ法の
第Ｃ４工程と同様に行われる。

【００７６】第Ｄ３工程は、化合物(XIV) を脱水させ
て、一般式(XV)を有する化合物を製造する工程で、前記
Ｂ法の第Ｂ２工程と同様に行われる。

【００７７】第Ｄ４工程は、化合物(XV)のシアノ基をア
ルカリまたは酸で加水分解して、一般式(XVI) を有する
化合物を製造する工程である。アルカリを用いる加水分
解は、不活性溶媒（好適には、メタノール、エタノール
のようなアルコール類、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ンのようなエーテル類、水または水と上記有機溶剤との
混合溶剤）中、化合物(XV)を２乃至８当量（好適には、
３乃至６当量）の塩基（好適には、水酸化リチウム、水
酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなアルカリ金属
水酸化物）と反応させることによって行われる。

【００７８】反応温度は、通常２０℃乃至１１０℃（好
適には、５０℃乃至１００℃）であり、反応時間は、反
応温度等により異なるが、２乃至２４時間（好適には、
６乃至１８時間）である。反応終了後、反応混合物を塩
酸、含水硫酸のような含水鉱酸で中和し、反応系中に析
出する結晶を濾取すること；または反応混合物を中和し
た後、酢酸エチルのような水不混和性有機溶剤で抽出
し、水洗し、乾燥して、溶剤を留去することによって生
成物を得ることができる。必要ならば、再結晶、カラム
クロマトグラフィー等で精製される。また、酸を用いる
加水分解は、前記Ｃ法第Ｃ２工程と同様に行われる。

【００７９】第Ｄ５工程は、化合物(XVI) のカルボキシ
基を保護して、化合物(II)を製造する工程であり、前記
Ａ法の第Ａ２工程の反応（ｄ）と同様に行われる。

【００８０】Ｅ法は、Ｄ法の中間体化合物(XIV) から化
合物(V) を別途に製造する方法である。第Ｅ１工程は、
化合物(XIV) のシアノ基をアルカリまたは酸で加水分解
して、一般式(XVII)を有する化合物を製造する工程で、
前記Ｄ法第Ｄ４工程と同様に行われる。

【００８１】第Ｅ２工程は、化合物(XVII)のカルボキシ
基を保護して、化合物(V) を製造する工程であり、前記
Ａ法の第Ａ２工程の反応（ｄ）と同様に行われる。

【００８２】Ｆ法は、Ｃ法の中間体化合物(XII) におい
て、Ｒ¹ が式Ｒ⁷ −Ｘ−Ｃ（Ｒ⁹ ）（Ｒ¹⁰）−を有する
基（式中、Ｒ⁷ 、Ｒ⁹ 、Ｒ¹⁰およびＸは、前述したもの
と同意義を示す。）である化合物(XIIB)を別途に製造す
る方法である。第Ｆ１工程は、一般式(XIIA)を有する化
合物のイミダゾリル基を保護して、一般式(XVIII) を有
する化合物を製造する工程である。

【００８３】本反応は、不活性溶剤（好適には、ジクロ
ルメタン、クロロホルムのようなハロゲン化炭化水素
類、テトラヒドロフラン，ジオキサンのようなエーテル
類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル
アセトアミドのようなアミド類、アセトン、２−ブタノ
ンのようなケトン類等）中、化合物(XIIA)を式 Ｒ¹¹−Ｙ （XXIV) （式中、Ｒ¹¹およびＹは、前述したものと同意義を示
す。）を有する化合物と反応させることにより行われ
る。

【００８４】反応温度は、通常０℃乃至１２０℃（好適
には、２０℃乃至８０℃）であり、反応時間は、反応温
度等により異なるが、１乃至２４時間（好適には、３乃
至８時間）である。反応生成物(XVIII) は、反応混合物
に水を加え、水不混和性有機溶剤で抽出し、抽出液を水
洗し、乾燥して、溶剤を留去することによって得ること
ができる。必要ならば、再結晶、カラムクロマトグラフ
ィー等で精製される。

【００８５】第Ｆ２工程は、化合物(XVIII) をハロゲン
化して、一般式(XIX) を有する化合物を製造する工程で
ある。本反応は、不活性溶剤（好適には、ジクロルメタ
ン、１，２−ジクロルエタン、四塩化炭素のようなハロ
ゲン化炭化水素類等）中、触媒（好適には、過酸化ベン
ゾイル、アゾビスイソブチロニトリル等）の存在下、化
合物(XVIII) をハロゲン化剤（好適には、Ｎ−クロルス
クシンイミド、Ｎ−ブロモスクシンイミド、Ｎ−ヨード
スクシンイミド、１，３−ジブロモ−５，５−ジメチル
ヒダントイン等）と反応させることにより行われる。

【００８６】反応温度は、通常０℃乃至１００℃（好適
には、２０℃乃至８０℃）であり、反応時間は、反応温
度等により異なるが、１０分間乃至２４時間（好適に
は、３０分間乃至１６時間）である。また、本反応は、
タングステンランプ等の照射下で著しく加速されること
がある。反応生成物(XIX) は、反応混合物を水洗し、無
水硫酸マグネシウム等で乾燥して、溶剤を留去すること
によって得ることができる。必要ならば、再結晶、カラ
ムクロマトグラフィー等で精製される。

【００８７】第Ｆ３工程は、化合物(XIX) と一般式(XX)
を有する化合物を反応させ、一般式(XXI) を有する化合
物を製造する工程である。本反応は、不活性溶剤中、化
合物(XIX) を１乃至３当量（好適には、１乃至２当量）
の化合物(XX)と反応させることによって達成される。

【００８８】使用される不活性溶剤は、反応に関与しな
ければ特に限定されず、例えば、ベンゼン、トルエン、
ヘキサンのような炭化水素類、ジクロルメタン、クロロ
ホルムのようなハロゲン化炭化水素類、エチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル
類、メタノール、エタノール、ｔ−ブタノールのような
アルコール類（化合物(XX)がアルカリ金属アルコキシド
の場合は、好適には、使用するアルコキシドに由来する
アルコール類）、アセトン、メチルエチルケトンのよう
なケトン類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−
ジメチルアセトアミドのようなアミド類またはジメチル
スルホキシドのようなスルホキシド類であり得、好適に
は、エーテル類、アルコール類、ケトン類またはアミド
類である。反応温度は、原料化合物等により異なるが、
通常−１０℃乃至１２０℃（好適には、０℃乃至１００
℃）であり、反応時間は、反応温度等により異なるが、
３０分間乃至２４時間（好適には、１乃至１６時間）で
ある。反応終了後、反応生成物(XXI) は、常法、例え
ば、Ａ法第Ａ１工程と同様の方法に従って反応混合物か
ら採取される。

【００８９】第Ｆ４工程は、化合物(XIIB)を製造する工
程で、化合物(XXI) のイミダゾリル基の保護基を除去す
ることにより行われ、本反応は、保護基の種類により異
なり、有機合成化学でよく知られている方法で行われ
る。イミダゾリル基の保護基がトリチル基またはアルコ
キシメチル基である場合には、不活性溶剤（好適には、
メタノール，エタノールのようなアルコール類、テトラ
ヒドロフラン，ジオキサンのようなエーテル類、酢酸の
ような脂肪酸類、水または水と上記有機溶剤との混合溶
剤）中、酸（好適には、塩化水素，硫酸のような鉱酸ま
たは蟻酸、酢酸、トリフルオロ酢酸，メタンスルホン
酸，ｐ−トルエンスルホン酸のような有機酸）と反応さ
せることにより、相当する保護基が除去される。

【００９０】反応温度は、通常０℃乃至１２０℃（好適
には、１０℃乃至１００℃）であり、反応時間は、反応
温度等により異なるが、３０分間乃至２４時間（好適に
は、１時間乃至１６時間）である。反応終了後、溶媒を
留去し、再結晶等で精製することまたは炭酸水素ナトリ
ウム水のような弱塩基水溶液で中和し、水不混和性有機
溶剤で抽出し、溶剤を留去することによって生成物を得
ることができる。必要ならば、再結晶、カラムクロマト
グラフィー等で精製される。

【００９１】イミダゾリル基の保護基がベンジル、ｐ−
ニトロベンジル、ジフェニルメチルのようなアラルキル
の場合には、前記Ａ法のＡ２工程の反応（ａ）の接触還
元反応と同様に反応することにより相当する保護基が除
去される。本反応において、反応系中に、１乃至３当量
の塩酸、ｐ−トルエンスルホン酸のような酸を加える
と、反応が促進されることがある。

【００９２】

【発明の効果】本発明の前記一般式（Ｉ）を有する化合
物は、以下に示すようにアンジオテンシンIIによる血圧
上昇を強く抑制し、血圧降下剤、心疾患治療剤等の循環
器系疾患の予防、治療薬としてきわめて有用である。

【００９３】アンジオテンシンIIによる昇圧の抑制試験 各化合物の生理活性の評価は、ラットにアンジオテンシ
ンIIを静脈内投与した時に生ずる昇圧反応を５０％抑制
するのに必要な化合物の投与量（ＩＤ₅₀）を測定するこ
とにより行った。すなわち、まず、チオブタバルビター
ルナトリウム（イナクチン：登録商標、１００mg／kg腹
腔内投与）で麻酔した雄のウィスター今道ラット（体
重：３００〜４００ｇ）の大腿動脈及び大腿静脈にそれ
ぞれ血圧測定用、薬物注入用のカニューレを挿入、設置
した。次に、血圧をモニターしながら、アンジオテンシ
ンIIを５０ng／kg、約１０分毎に静脈内投与し昇圧反応
（約５０mmHgの血圧増加）を観察した。反応高が一定に
なった後、被検薬をアンジオテンシンII投与の２分前に
静脈内投与し、被検薬の抑制効果を検討した。被検薬の
投与量を漸増し、アンジオテンシンII昇圧の抑制率
（％）より、ＩＤ₅₀を決定した。尚、アンジオテンシン
IIは0.5 ％牛血清アルブミン（ＢＳＡ）に、被検薬は１
００％ジメチルスルホキシド(DMSO)に溶解して使用し
た。このようにして求められたＩＤ₅₀を表２に示す。

【００９４】

【表２】 ────────────────────── 試験化合物 ＩＤ₅₀(mg/kg, i.v.) ────────────────────── 実施例２の化合物 0.012 実施例４の化合物 0.019 実施例６の化合物 0.016 実施例８の化合物 0.013 ────────────────────── 。

【００９５】化合物（Ｉ）およびその薬理上許容される
塩類を循環器系疾患の治療剤として用いる場合、それ自
体あるいは適宜の薬理学的に許容される担体、賦形剤、
希釈剤等と混合し、散剤、顆粒剤、錠剤、カプセル剤、
注射剤等の医薬組成物として経口的または非経口的に投
与することができる。投与量は対象疾患の状態、投与方
法により異なるが、経口投与では通常１回量１乃至1000
mg、とりわけ約５乃至３００mgが、静脈内投与では１回
量薬0.1 乃至１００mg、とりわけ約0.5 乃至３０mgが好
ましく、これらの薬用量を症状に応じて１日１乃至３回
投与するのが望ましい。以下に実施例及び参考例を示し
て本発明をさらに詳細に説明するが、本発明の範囲はこ
れらに限定されるものではない。

【００９６】

【実施例】

実施例１４−イソプロペニル−２−プロピル−１−｛４−〔２−
（テトラゾール−５−イル）フェニル〕フェニル｝メチ
ルイミダゾール−５−カルボン酸エチル （例示化合物番
号３９９） （ａ）４−イソプロペニル−２−プロピル−１−｛４−
〔２−（トリチルテトラゾール−５−イル）フェニル〕
フェニル｝メチルイミダゾール−５−カルボン酸エチル 参考例４で得られた４−イソプロペニル−２−プロピル
イミダゾール−５−カルボン酸エチル２２２mgのＮ，Ｎ
−ジメチルアセトアミド３ml溶液に、氷冷下、ｔ−ブト
キシカリウム１２３mgを加え、20分間撹拌したのち、４
−〔２−（トリチルテトラゾール−５−イル）フェニ
ル）フェニル〕ベンジルブロマイド８３６mgのＮ，Ｎ−
ジメチルアセトアミド５ml溶液を滴下し、室温にて１時
間撹拌した。反応終了後、反応液に酢酸エチルと水を加
え、振りまぜ、酢酸エチル層を分離し、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した。残留物をヘキサ
ン−酢酸エチル（２：１）を溶媒系とするシリカゲルカ
ラムクロマトに付して、無定形粉末状の目的化合物４７
１mgを得た。 NMR スペクトル (CDCl₃)δppm ：0.88(3H, t, J=7.5H
z), 1.19(3H, t, J=7Hz), 1.63-1.75(2H, m), 2.14(3H,
s), 2.51(2H, t, J=7.5Hz), 4.15(2H, q, J=7Hz), 5.2
6(1H, s), 5.28(1H, s), 5.39(2H, s), 6.78(2H, d, J=
8Hz), 6.94(6H, d, J=7Hz), 7.08(2H, d, J=8Hz), 7.23
-7.51(12H, m), 7.89(1H, d, J=7Hz) 。 （ｂ）４−イソプロペニル−２−プロピル−１−｛４−
〔２−（テトラゾール−５−イル）フェニル〕フェニ
ル｝メチルイミダゾール−５−カルボン酸エチル 実施例１（ａ）で得られた化合物４７１mgの２５％水性
酢酸１０ml溶液を６０℃で１時間撹拌した。反応終了
後、水１０mlを加え、氷冷し、析出しているトリチルア
ルコールを濾去した。濾液を減圧濃縮し、残留物中の酢
酸および水をベンゼンとの共沸留去により除去し、無定
形粉末状の目的化合物３０７mgを得た。 NMR スペクトル (CDCl₃)δppm ：0.89(3H, t, J=7Hz),
1.14(3H, t, J=7Hz),1.53-1.67(2H, m), 1.71(3H, s),
2.15(2H, t, J=8Hz), 4.10(2H, q, J=7Hz),4.70(1H,
s), 4.82(1H,s), 5.41(2H, s), 6.76(2H, d, J=8Hz),
7.07(2H, d, J=8Hz), 7.40(1H, d, J=6Hz), 7.51-7.79
(2H, m), 7.81(1H, d, J=7Hz)。

【００９７】実施例２４−イソプロペニル−２−プロピル−１−｛４−〔２−
（テトラゾール−５−イル）フェニル〕フェニル｝メチ
ルイミダゾール−５−カルボン酸 （例示化合物番号２） 実施例１（ｂ）で得られた化合物３０７mgを含む１規定
カ性ソーダ水溶液５mlを、室温で２０時間撹拌した。反
応終了後、不溶物を濾去し、濾液に１規定塩酸５mlを加
え、析出する無定形粉末を濾取して、目的化合物１７４
mgを得た。 融点：１６８℃（軟化）。 NMR スペクトル (DMSO-d₆)δppm ：0.86(3H, t, J=7.5H
z), 1.55(2H, sextet,J=7.5Hz), 2.05(3H, s), 2.55(2
H, t, J=7.5Hz), 5.18(1H, s), 5.27(1H, s),5.52(2H,
s), 6.96(2H, d, J=8Hz), 7.07(2H, d, J=8Hz), 7.52-
7.68(4H,m)。

【００９８】実施例３２−ブチル−４−イソプロペニル−１−｛４−〔２−
（テトラゾール−５−イル）フェニル〕フェニル｝メチ
ルイミダゾール−５−カルボン酸エチル （例示化合物番
号４００） （ａ）２−ブチル−４−（１−ヒドロキシ−１−メチル
エチル）−１−｛４−〔２−（トリチルテトラゾール−
５−イル）フェニル〕フェニル｝メチルイミダゾール−
５−カルボン酸エチル 参考例１（ｄ）で得られた２−ブチル−４−（１−ヒド
ロキシ−１−メチルエチル）イミダゾール−５−カルボ
ン酸エチル0.26ｇのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５ml
溶液に、５５％油性水素化ナトリウム45.5mgを加えた。
室温にて３０分間撹拌した後、４−〔２−（トリチルテ
トラゾール−５−イル）フェニル〕ベンジルブロマイド
0.63ｇのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５ml溶液を滴下
した。反応液を室温にて２時間撹拌した後、さらに６０
℃にて４時間撹拌した。反応液を酢酸エチルに溶かし、
水にて３回洗浄し、無水硫酸ナトリウムにて乾燥したの
ち、溶媒を留去した。残査をヘキサン−酢酸エチル
（１：１）を溶媒系とするシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーに付し、油状の目的化合物0.28ｇを得た。 NMR スペクトル (CDCl₃)δppm ：0.85(3H, t, J=7Hz),
1.09(3H, t, J=7Hz),1.64(6H, s), 1.3-1.8(4H, m), 2.
56(2H, t, J=8Hz), 4.14(2H, q, J=7Hz),5.38(2H, s),
5.78(1H, s), 6.6-7.6(22H, m), 7.7-8.1(1H, m) 。 （ｂ）２−ブチル−４−イソプロペニル−１−｛４−
〔２−トリチルテトラゾール−５−イル）フェニル〕フ
ェニル｝メチルイミダゾール−５−カルボン酸エチル 実施例３（ａ）で得られた化合物1.29ｇのピリジン１３
ml溶液に、氷水冷下、オキシ塩化リン0.197 mlを加え、
混合物を１１０℃で２時間撹拌した。反応終了後、反応
液に酢酸エチルと飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加
え、振りまぜ、酢酸エチル層を分離し、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。残留物をヘキサ
ン−酢酸エチル（３：１）を溶媒系とするシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーに付して、無定形粉末状の目的
化合物８２３mgを得た。 NMR スペクトル (CDCl₃)δppm ：0.85(3H, t, J=7Hz),
1.19(3H, t, J=7Hz),1.24-1.35(2H, m), 1.58-1.69(2H,
m), 2.14(3H, s), 2.53(2H, t, J=8Hz),4.15(2H, q, J
=7Hz), 5.28(1H, brs), 5.29(1H, brs), 5.39(2H, s),
6.78(2H,d, J=8Hz), 6.94(6H, d, J=8Hz), 7.08(2H, d,
J=8Hz), 7.22-7.51(12H, m),7.89(1H, d, J=7Hz)。 （ｃ）２−ブチル−４−イソプロペニル−１−｛４−
〔２−（テトラゾール−５−イル）フェニル〕フェニ
ル｝メチルイミダゾール−５−カルボン酸エチル 実施例３（ｂ）で得られた化合物８２０mgを、実施例１
（ｂ）と同様の方法により、２５％水性酢酸で脱トリチ
ル化して、無定形粉末状の目的化合物５４０mgを得た。 NMR スペクトル (CDCl₃)δppm ：0.88(3H, t, J=7Hz),
1.13(3H, t, J=7Hz),1.21-1.35(2H, m), 1.52-1.63(2H,
m), 1.69(3H, s), 2.13(2H, t, J=8Hz),4.09(2H, q, J
=7Hz), 4.67(1H, s), 4.79(1H, s), 5.41(2H, s), 6.75
(2H, d,J=8.5Hz), 7.06(2H, d, J=8.5Hz), 7.38-7.61(3
H, m), 7.81(1H, d, J=7Hz)。

【００９９】実施例４２−ブチル−４−イソプロペニル−１−｛４−〔２−
（テトラゾール−５−イル）フェニル〕フェニル｝メチ
ルイミダゾール−５−カルボン酸 （例示化合物番号４） 実施例３（ｃ）で得られた化合物５４０mgを含む１規定
カ性ソーダ水溶液６mlを、室温で１８時間撹拌した。反
応終了後、不溶物を濾去し、濾液に１規定塩酸６mlを加
えた。析出する無定形粉末を濾取して、目的化合物４３
６mgを得た。 融点：１５５−１６０℃（軟化）。 NMR スペクトル (DMSO-d₆)δppm ：0.81(3H, t, J=7H
z), 1.20-1.34(2H, m),1.45-1.56(2H, m), 2.04(3H,
s), 2.55(2H, t, J=7Hz), 5.16(1H, s), 5.26(1H,s),
5.51(2H, s), 6.96(2H, d, J=8Hz), 7.07(2H, d, J=8H
z), 7.51-7.70(4H,m)。

【０１００】実施例５２−エチル−４−イソプロペニル−１−｛４−〔２−
（テトラゾール−５−イル）フェニル〕フェニル｝メチ
ルイミダゾール−５−カルボン酸エチル （例示化合物番
号４０１） （ａ）２−エチル−４−（１−ヒドロキシ−１−メチル
エチル）−１−｛４−〔２−（トリチルテトラゾール−
５−イル）フェニル〕フェニル｝メチルイミダゾール−
５−カルボン酸エチル 参考例３（ｄ）で得られた２−エチル−４−（１−ヒド
ロキシ−１−メチルエチル）イミダゾール−５−カルボ
ン酸エチル1.00ｇのＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド２６
ml溶液にｔ−ブトキシカリウム0.52ｇを加え、室温で１
０分撹拌後、４−〔２−（トリチルテトラゾール−５−
イル）フェニル〕ベンジルブロマイド2.71ｇのＮ，Ｎ−
ジメチルアセトアミド３５ml溶液を滴下し、混合物を５
０℃で４時間撹拌した。反応終了後、反応液を酢酸エチ
ルに溶かし、水にて３回洗浄し、無水硫酸ナトリウムに
て乾燥し、溶媒を減圧留去した。残査をヘキサン−酢酸
エチル（１：１）を溶媒系とするシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーに付し、結晶性の目的化合物2.01ｇを得
た。 融点：１５０−１５２℃。 NMR スペクトル (CDCl₃)δppm ：1.10(3H, t, J=7.5H
z), 1.18(3H, t, J=7.5Hz), 1.65(6H, s), 2.52(2H, q,
J=7.5Hz), 4.14(2H, q, J=7.5Hz), 5.35(2H,s), 5.80
(1H, s), 6.73(2H, d, J=8.5Hz), 6.93-7.52(20H, m),
7.87(1H, d, J=7.5Hz)。 （ｂ）２−エチル−４−イソプロペニル−１−｛４−
〔２−（テトラゾール−５−イル）フェニル〕フェニ
ル｝メチルイミダゾール−５−カルボン酸エチル 実施例５（ａ）で得られた化合物1.40ｇを含むピリジン
１４ml溶液にオキシ塩化リン0.223 mlを加え、実施例３
（ｂ）と同様の方法で処理し、残留物をヘキサン−酢酸
エチル（２：１）を溶媒系とするシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーに付して、無定形粉末状の目的化合物1.
29ｇを得た。 NMR スペクトル (CDCl₃)δppm ：1.19(3H, t, J=7.5H
z), 1.20(3H, t, J=7Hz), 2.15(3H, s), 2.50(2H, q, J
=7.5Hz), 4.16(2H, q, J=7Hz), 5.27(1H, brs),5.29(1
H, brs), 5.39(2H, s), 6.78(2H, d, J=8Hz), 6.93(6H,
d, J=7Hz),7.08(2H, d, J=8Hz), 7.22-7.51(12H, m),
7.89(1H, d, J=7Hz) 。 （ｃ）２−エチル−４−イソプロペニル−１−｛４−
〔２−（テトラゾール−５−イル）フェニル〕フェニ
ル｝メチルイミダゾール−５−カルボン酸エチル 実施例５（ｂ）で得られた化合物1.29ｇを実施例１
（ｂ）と同様の方法により、２５％水性酢酸で脱トリチ
ル化して、無定形粉末状の目的化合物８３２mgを得た。 NMR スペクトル (CDCl₃)δppm ：1.08(3H, t, J=7.5H
z), 1.16(3H, t, J=7Hz), 1.71(3H, s), 2.32(2H, q, J
=7.5Hz), 4.12(2H, q, J=7Hz), 4.73(1H, s),4.81(1H,
s), 5.42(2H, s), 6.77(2H, d, J=8Hz), 7.07(2H, d, J
=8Hz), 7.39(1H, d, J=8Hz), 7.52-7.61(2H, m), 7.82
(1H, d, J=7Hz)。

【０１０１】実施例６２−エチル−４−イソプロペニル−１−｛４−〔２−
（テトラゾール−５−イル）フェニル〕フェニル｝メチ
ルイミダゾール−５−カルボン酸 （例示化合物番号６） 実施例５（ｃ）で得られた化合物８３２mgを含む１規定
カ性ソーダ水溶液１０mlを、室温で１５時間撹拌した。
反応終了後、不溶物を濾去し、濾液に１規定塩酸１０ml
を加え、析出する無定形粉末を濾取して、目的化合物４
９０mgを得た。 融点：１７１−１７４℃（軟化）。 NMR スペクトル (DMSO-d₆)δppm ：1.11(3H, t, J=7.5H
z), 2.05(3H, s),2.57(2H, q, J=7.5Hz), 5.17(1H, s),
5.26(1H, s), 5.51(2H, s), 6.96(2H, d,J=8Hz), 7.07
(2H, d, J=8Hz), 7.52-7.70(4H, m)。

【０１０２】実施例７２−エトキシメチル−４−イソプロペニル−１−｛４−
〔２−（テトラゾール−５−イル）フェニル〕フェニ
ル｝メチルイミダゾール−５−カルボン酸エチル （例示
化合物番号４０２） （ａ）２−エトキシメチル−４−（１−ヒドロキシ−１
−メチルエチル）−１−｛４−〔２−（トリチルテトラ
ゾール−５−イル）フェニル〕フェニル｝メチルイミダ
ゾール−５−カルボン酸エチル 参考例５（ｅ）で得られた２−エトキシメチル−４−
（１−ヒドロキシ−１−メチルエチル）イミダゾール−
５−カルボン酸エチル４５０mg、ｔ−ブトキシカリウム
２１７mgおよび４−〔２−（トリチルテトラゾール−５
−イル）フェニル〕ベンジルブロマイド1.47ｇを、実施
例１（ａ）と同様の方法にて処理し、残留物をヘキサン
−酢酸エチル（１：１）を溶媒系とするシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーに付して、無定形粉末状の目的化
合物1.20ｇを得た。 NMR スペクトル (CDCl₃)δppm ：1.08(3H, t, J=7Hz),
1.13(3H, t, J=7Hz),1.64(6H, s), 3.44(2H, q, J=7H
z), 4.14(2H, q, J=7Hz), 4.39(2H, s), 5.54(2H, s),
5.67(1H, s), 6.75(2H, d, J=8Hz), 6.96(6H, d, J=7H
z), 7.09(2H,d, J=8Hz), 7.23-7.52(12H, m), 7.88(1H,
d, J=7Hz)。 （ｂ）２−エトキシメチル−４−イソプロペニル−１−
｛４−〔２−（トリチルテトラゾール−５−イル）フェ
ニル〕フェニル｝メチルイミダゾール−５−カルボン酸
エチル 実施例７（ａ）で得られた化合物1.10ｇを含むピリジン
１１ml溶液にオキシ塩化リン0.168 mlを加え、実施例３
（ｂ）と同様の方法で処理し、残留物をヘキサン−酢酸
エチル（３：２）を溶媒系とするシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーに付して、無定形粉末状の目的化合物７
９８mgを得た。 NMR スペクトル (CDCl₃)δppm ：1.14(3H, t, J=7Hz),
1.19(3H, t, J=7Hz),2.14(3H, s), 3.45(2H, q, J=7H
z), 4.16(2H, q, J=7Hz), 4.39(2H, s), 5.27(1H, s),
5.29(1H, s), 5.56(2H, s), 6.84(2H, d, J=8.5Hz), 6.
94(6H, d, J=8.5Hz), 7.08(2H, d, J=8.5Hz), 7.22-7.5
1(12H, m), 7.89(1H, d, J=7Hz) 。 （ｃ）２−エトキシメチル−４−イソプロペニル−１−
｛４−〔２−（テトラゾール−５−イル）フェニル〕フ
ェニル｝メチルイミダゾール−５−カルボン酸エチル 実施例７（ｂ）で得られた化合物７９５mgを、実施例１
（ｂ）と同様の方法により、２５％水性酢酸で脱トリチ
ル化して、無定形粉末状の目的化合物５２４mgを得た。 NMR スペクトル (CDCl₃)δppm ：1.14(3H, t, J=7Hz),
1.19(3H, t, J=7Hz),1.88(3H, s), 3.47(2H, q, J=7H
z), 4.15(2H, q, J=7Hz), 4.22(2H, s), 4.93(1H, s),
5.01(1H, s), 5.60(2H, s), 6.90(2H, d, J=8.5Hz), 7.
11(2H, d, J=8.5Hz), 7.41(1H, d, J=6Hz), 7.52-7.63
(2H, m), 7.93(1H, d, J=9Hz)。

【０１０３】実施例８２−エトキシメチル−４−イソプロペニル−１−｛４−
〔２−（テトラゾール−５−イル）フェニル〕フェニ
ル｝メチルイミダゾール−５−カルボン酸 （例示化合物
番号１２） 実施例７（ｃ）で得られた化合物５２４mgを含む１規定
カ性ソーダ水溶液１０mlを、室温で１８時間撹拌した。
反応終了後、不溶物を濾去し、濾液に１規定塩酸１０ml
を加え、析出する無定形粉末を濾取して、目的化合物３
６０mgを得た。 融点：１４０℃（軟化）。 NMR スペクトル (DMSO-d₆)δppm ：0.97(3H, t, J=7H
z), 2.05(3H, s), 3.39(2H, q, J=7Hz), 4.44(2H, s),
5.18(1H, s), 5.30(1H, s), 5.53(2H, s), 6.98(2H, d,
J=8Hz), 7.06(2H, d, J=8Hz), 7.51-7.70(4H, m)。

【０１０４】実施例９１−｛４−〔２−（ｔ−ブトキシカルボニル）フェニ
ル〕フェニル｝メチル−２−エトキシメチル−４−イソ
プロペニルイミダゾール−５−カルボン酸エチル （例示
化合物番号４０３） （ａ）１−｛４−〔２−（ｔ−ブトキシカルボニル）フ
ェニル〕フェニル｝メチル−２−エトキシメチル−４−
（１−ヒドロキシ−１−メチルエチル）イミダゾール−
５−カルボン酸エチル 参考例５（ｅ）で得られた２−エトキシメチル−４−
（１−ヒドロキシ−１−メチルエチル）イミダゾール−
５−カルボン酸エチル３１５mg、ｔ−ブトキシカリウム
１４５mgおよび４−〔２−（ｔ−ブトキシカルボニル）
フェニル〕ベンジルブロマイド５１０mgを、実施例１
（ａ）と同様の方法で処理し、残留物をヘキサン−酢酸
エチル（１：１）を溶媒系とするシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーに付して、シロップ状の目的化合物６０
０mgを得た。 NMR スペクトル (CDCl₃)δppm ：1.18(3H, t, J=7Hz),
1.26(9H, s), 1.26(3H, t, J=7Hz), 1.64(6H, s), 3.54
(2H, q, J=7Hz), 4.27(2H, q, J=7Hz), 4.57(2H, s),
5.65(1H, s), 5.67(2H, s), 6.99(2H, d, J=8Hz), 7.25
-7.29(3H, m),7.38-7.47(2H, m), 7.76(1H, d, J=7.5H
z)。 （ｂ）１−｛４−〔２−（ｔ−ブトキシカルボニル）フ
ェニル〕フェニル｝メチル−２−エトキシメチル−４−
イソプロペニルイミダゾール−５−カルボン酸エチル 実施例９（ａ）で得られた化合物1.50ｇを含むピリジン
１５ml溶液にオキシ塩化リン0.321 mlを加え、実施例３
（ｂ）と同様の方法で処理し、残留物をヘキサン−酢酸
エチル（２：１）を溶媒系とするシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーに付して、シロップ状の目的化合物1.44
ｇを得た。 NMR スペクトル (CDCl₃)δppm ：1.19(3H, t, J=7Hz),
1.22(9H, s), 1.27(3H, t, J=7Hz), 2.14(3H, s), 3.55
(2H, q, J=7Hz), 4.23(2H, q, J=7Hz), 4.57(2H, s),
5.28(2H, brs), 5.70(2H, s), 7.09(2H, d, J=8Hz), 7.
26(2H, d, J=8Hz), 7.26-7.50(3H, s), 7.76(1H, d, J=
8Hz)。

【０１０５】実施例１０１−〔４−（２−カルボキシフェニル）フェニル〕メチ
ル−２−エトキシメチル−４−イソプロペニルイミダゾ
ール−５−カルボン酸エチル （例示化合物番号４０４） 実施例９（ｂ）で得られた化合物1.44ｇを、４規定塩化
水素−ジオキサン１５mlに溶解し、室温で１４時間放置
した。反応液を減圧で濃縮乾固し、泡沫状固体の目的化
合物の塩酸塩1.15ｇを得た。 NMR スペクトル (CDCl₃)δppm ：1.21(3H, t, J=7Hz),
1.22(3H, t, J=7Hz),2.20(3H, s), 3.65(2H, q, J=7H
z), 4.26(2H, q, J=7Hz), 4.91(2H, s), 5.57(1H, s),
5.66(1H, s), 5.73(2H, s), 7.00(2H, d, J=8Hz), 7.30
(2H, d, J=8Hz), 7.24-7.55(3H, m), 7.94(1H, d, J=7H
z) 。

【０１０６】実施例１１１−〔４−（２−カルボキシフェニル）フェニル〕メチ
ル−２−エトキシメチル−４−イソプロペニルイミダゾ
ール−５−カルボン酸 （例示化合物番号１１） 実施例１０で得られた化合物1.15ｇを含む１規定カ性ソ
ーダ水溶液１５mlを、室温で２１時間撹拌した。反応終
了後、不溶物を濾去し、濾液に１規定塩酸１５mlを加
え、析出する無定形粉末を濾取して、目的化合物８７６
mgを得た。 融点：１１６−１１８℃（軟化）。 NMR スペクトル (DMSO-d₆)δppm ：1.02(3H, t, J=7H
z), 2.06(3H, s), 3.44(2H, q, J=7Hz), 4.50(2H, s),
5.21(1H, s), 5.32(1H, s), 5.59(2H, s), 7.09(2H, d,
J=8Hz), 7.30(2H, d, J=8Hz), 7.35(1H, d, J=8Hz),
7.42-7.59(2H, m), 7.71(1H, d, J=7Hz)。

【０１０７】実施例１２４−イソプロペニル−２−プロピル−１−｛４−〔２−
（テトラゾール−５−イル）フェニル〕フェニル｝メチ
ルイミダゾール−５−カルボン酸（５−メチル−２−オ
キソ−１，３−ジオキソレン−４−イル）メチル （例示
化合物番号１４２） （ａ）４−（１−ヒドロキシ−１−メチルエチル）−２
−プロピル−１−｛４−〔２−（トリチルテトラゾール
−５−イル）フェニル〕フェニル｝メチルイミダゾール
−５−カルボン酸エチル 参考例２（ｄ）で得られた４−（１−ヒドロキシ−１−
メチルエチル）−２−プロピルイミダゾール−５−カル
ボン酸エチル0.26ｇ、５５％油性水素化ナトリウム４８
mgおよび４−〔２−（トリチルテトラゾール−５−イ
ル）フェニル〕ベンジルブロマイド0.72ｇを、実施例３
（ａ）と同様の方法で処理し、残留物をヘキサン−酢酸
エチル（１：１）を溶媒系とするシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーに付して、泡沫状固体0.62ｇを得た。こ
の化合物は、エーテル中で結晶化した。 融点：１６７−１６８℃（分解）。 NMR スペクトル (CDCl₃)δppm ：0.88(3H, t, J=7Hz),
1.08(3H, t, J=7Hz),1.5-1.8(2H, m), 1.64(6H, s), 2.
52(2H, t, J=8Hz), 4.12(2H, q, J=7Hz),5.38(2H, s),
5.78(1H, s), 6.7-7.6(22H, m), 7.8-8.1(1H, m) 。 （ｂ）４−（１−ヒドロキシ−１−メチルエチル）−２
−プロピル−１−｛４−〔２−（トリチルテトラゾール
−５−イル）フェニル〕フェニル｝メチルイミダゾール
−５−カルボン酸（５−メチル−２−オキソ−１，３−
ジオキソレン−４−イル）メチル 実施例１２（ａ）で得られた化合物３０ｇのジオキサン
３４４ml溶液に、氷冷下、水酸化リチウム・１水和物2.
65ｇの水１５８ml溶液を加え、混合物を５−１０℃で２
０時間撹拌した。反応溶液にドライアイスの小片を加え
たのち、反応液を約１００mlまで減圧濃縮し、濃縮液に
酢酸エチルと塩化ナトリウムを加え、撹拌した。酢酸エ
チル層を分離し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を
留去し、ガラス状の４−（１−ヒドロキシ−１−メチル
エチル）−２−プロピル−１−｛４−〔２−（トリチル
テトラゾール−５−イル）フェニル〕フェニル｝メチル
イミダゾール−５−カルボン酸リチウム塩を得た。これ
をＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド１６０mlに溶かし、氷
冷下、炭酸カリウム6.08ｇ、ついで４−クロロメチル−
５−メチル−２−オキソ−１，３−ジオキソレン（純度
７４％）11.2ｇのＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド２６ml
溶液を滴下し、混合物を５０℃で３時間撹拌した。反応
終了後、酢酸エチルおよび水で希釈し、酢酸エチル層を
分離し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶液を濃縮し
た。残留物にイソプロピルエーテルを加え、結晶化さ
せ、目的化合物29.3ｇを得た。 融点：９８−１００℃（分解）。 NMR スペクトル (CDCl₃)δppm ：0.89(3H, t, J=7.5H
z), 1.62(6H, s), 1.6-1.75(2H, m), 1.92(3H, s), 2.5
4(2H, t, J=8Hz), 4.70(2H, s), 5.30(2H, s),5.61(1H,
s), 6.68(2H, d, J=7.5Hz), 6.90-7.52(20H, m), 7.87
(1H, d, J=7.5Hz) 。 （ｃ）４−イソプロペニル−２−プロピル−１−｛４−
〔２−（トリチルテトラゾール−５−イル）フェニル〕
フェニル｝メチルイミダゾール−５−カルボン酸（５−
メチル−２−オキソ−１，３−ジオキソレン−４−イ
ル）メチル 実施例１２（ｂ）で得られた化合物1.50ｇを含むピリジ
ン１５ml溶液にオキシ塩化リン0.209 mlを加え、実施例
３（ｂ）と同様の方法で処理し、残留物をヘキサン−酢
酸エチル（３：２）を溶媒系とするシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーに付して、無定形粉末状の目的化合物
７１９mgを得た。 NMR スペクトル (CDCl₃)δppm ：0.89(3H, t, J=7Hz),
1.61-1.77(2H, m),2.03(3H, s), 2.12(3H, s), 2.54(2
H, t, J=8Hz), 4.76(2H, s), 5.26(1H, s),5.29(1H,
s), 5.37(2H, s), 6.75(2H, d, J=8Hz), 6.96(6H, d, J
=8Hz), 7.09(2H, d, J=8Hz), 7.23-7.53(12H, m), 7.87
(1H, d, J=7.5Hz) 。 （ｄ）４−イソプロペニル−２−プロピル−１−｛４−
〔２−（テトラゾール−５−イル）フェニル〕フェニ
ル｝メチルイミダゾール−５−カルボン酸（５−メチル
−２−オキソ−１，３−ジオキソレン−４−イル）メチ
ル 実施例１２（ｃ）で得られた化合物1.19ｇを、実施例１
（ｂ）と同様の方法により、２５％水性酢酸で脱トリチ
ル化し、得られた残査ジクロルメタン−メタノール（１
０：１）を溶媒系とするシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーに付して、泡沫状固体の目的化合物を得た。この
化合物を、４規定塩化水素−ジオキサン１０mlに溶解
し、この溶液を減圧下で濃縮乾固し、無定形粉末状の目
的化合物の塩酸塩0.651 ｇを得た。 融点：１０５−１１０℃（軟化）。 NMR スペクトル (DMSO-d₆)δppm ：0.87(3H, t, J=7H
z), 1.44-1.59(2H, m),2.07(3H, s), 2.12(3H, s), 2.8
4(2H, t, J=7.5Hz), 5.10(2H, s), 5.42(1H,brs), 5.44
(1H, brs), 5.59(2H, s), 7.04(2H, d, J=8.5Hz), 7.09
(2H, d, J=8.5Hz), 7.52-7.72(4H, m) 。

【０１０８】実施例１３４−イソプロペニル−２−プロピル−１−｛４−〔２−
（テトラゾール−５−イル）フェニル〕フェニル｝メチ
ルイミダゾール−５−カルボン酸ピバロイルオキシメチ
ル （例示化合物番号１１４） （ａ）４−（１−ヒドロキシ−１−メチルエチル）−２
−プロピル−１−｛４−〔２−（トリチルテトラゾール
−５−イル）フェニル〕フェニル｝メチルイミダゾール
−５−カルボン酸ピバロイルオキシメチル 実施例１２（ａ）で得られた化合物2.0 ｇのジオキサン
２０ml溶液に、水酸化リチウム・１水和物１７６mgの水
8.5 ml溶液を加え、混合物を室温にて２０時間撹拌し
た。反応液にドライアイスの小片を加えたのち、反応液
を約５mlまで減圧濃縮し、濃縮液に酢酸エチルと塩化ナ
トリウムを加え、撹拌した。酢酸エチル層を分離し、無
水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去し、ガラス状の
４−（１−ヒドロキシ−１−メチルエチル）−２−プロ
ピル−１−｛４−〔２−（トリチルテトラゾール−５−
イル）フェニル〕フェニル｝メチルイミダゾール−５−
カルボン酸リチウム塩を得た。これをＮ，Ｎ−ジメチル
アセトアミド２０mlに溶かし、炭酸カリウム３８６mg、
ついでピバロイルオキシメチルクロライド0.603 mlの
Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド３ml溶液を滴下し、混合
物を５０℃で２時間撹拌した。反応終了後、酢酸エチル
および水で希釈し、酢酸エチル層を分離し、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥後、溶液を濃縮した。残留物をヘキサ
ン−酢酸エチル（２：１）を溶媒系とするシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーに付して、泡沫状の目的化合物
2.19ｇを得た。 NMR スペクトル (CDCl₃)δppm ：0.86(3H, t, J=7Hz),
1.12(9H, s), 1.62(6H, s), 1.4-1.9(2H, m), 2.51(2H,
t, J=7Hz), 5.37(1H, brs), 5.40(2H, s),5.72(2H,
s), 6.6-8.1(23H, m)。 （ｂ）４−イソプロペニル−２−プロピル−１−｛４−
〔２−（トリチルテトラゾール−５−イル）フェニル〕
フェニル｝メチルイミダゾール−５−カルボン酸ピバロ
イルオキシメチル 実施例１３（ａ）で得られた化合物2.19ｇを含むピリジ
ン２０ml溶液にオキシ塩化リン0.305 mlを加え、実施例
３（ｂ）と同様の方法で処理し、残留物をヘキサン−酢
酸エチル（２：１）を溶媒系とするシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーに付して、泡沫状の目的化合物1.66ｇ
を得た。 NMR スペクトル (CDCl₃)δppm ：0.88(3H, t, J=7Hz),
1.16(9H, s), 1.62-1.76(2H, m), 2.12(3H, s), 2.51(2
H, t, J=7.5Hz), 5.22(1H, s), 5.27(1H, s), 5.41(2H,
s), 5.76(2H, s), 6.77(2H, d, J=8.5Hz), 6.93(6H,
d, J=7Hz),7.08(2H, d, J=8.5Hz), 7.23-7.52(12H, m),
7.90(1H, d, J=7Hz) 。 （ｃ）４−イソプロペニル−２−プロピル−１−｛４−
〔２−（テトラゾール−５−イル）フェニル〕フェニ
ル｝メチルイミダゾール−５−カルボン酸ピバロイルオ
キシメチル 実施例１３（ｂ）で得られた化合物1.66ｇを、実施例１
（ｂ）と同様の方法により、２５％水性酢酸で脱トリチ
ル化し、得られた残査をジクロルメタン−メタノール
（１０：１）を溶媒系とするシリカゲルカラムクロマト
グラフィーに付して、無定形粉末状の目的化合物８４０
mgを得た。 NMR スペクトル (CDCl₃)δppm ：0.92(3H, t, J=7Hz),
1.10(9H, s), 1.59-1.73(2H, m), 1.82(3H, s), 2.31(2
H, t, J=7.5Hz), 4.87(1H, brs), 4.97(1H,brs), 5.44
(2H, s), 5.74(2H, s), 6.82(2H, d, J=8Hz), 7.10(2H,
d, J=8Hz),7.42-7.62(3H, m), 7.91(1H, d, J=7Hz)。

【０１０９】実施例１４２−エトキシメチル−２−イソプロペニル−１−｛４−
〔２−（テトラゾール−５−イル）フェニル〕フェニ
ル｝メチルイミダゾール−５−カルボン酸（５−メチル
−２−オキソ−１，３−ジオキソレン−４−イル）メチ
ル （例示化合物番号１５２） （ａ）２−エトキシメチル−４−（１−ヒドロキシ−１
−メチルエチル）−１−｛４−〔２−（トリチルテトラ
ゾール−５−イル）フェニル〕フェニル｝メチルイミダ
ゾール−５−カルボン酸（５−メチル−２−オキソ−
１，３−ジオソレン−４−イル）メチル 実施例５（ａ）で得られた化合物６００mgと水酸化リチ
ウム・１水和物51.5mgを、実施例１２（ｂ）と同様の方
法で処理し、ガラス状の２−エトキシメチル−４−（１
−ヒドロキシ−１−メチルエチル）−１−｛４−〔２−
（トリチルテトラゾール−５−イル）フェニル〕フェニ
ル｝メチルイミダゾール−５−カルボン酸リチウム塩を
得た。これを炭酸カリウム１１３mgと４−クロロメチル
−５−メチル−２−オキソ−１，３−ジオキソレン（純
度７４％）２４０mgにより、実施例１２（ｂ）と同様の
方法にて処理し、残留物をジクロルメタン−酢酸エチル
（３：１）を溶媒系とするシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーに付して、結晶性の目的化合物５４８mgを得
た。 融点：１２９−130.5 ℃。 NMR スペクトル (CDCl₃)δppm ：1.14(3H, t, J=7Hz),
1.64(6H, s), 1.99(3H, s), 3.46(2H, q, J=7Hz), 4.43
(2H, s), 4.73(2H, s), 5.44(1H, s), 5.51(2H, s), 6.
72(2H, d, J=8Hz), 6.98(6H, d, J=7Hz), 7.10(2H, d,
J=8Hz),7.25-7.55(12H, m), 7.88(1H, d, J=8Hz) 。 （ｂ）２−エトキシメチル−４−イソプロペニル−１−
｛４−〔２−（トリチルテトラゾール−５−イル）フェ
ニル〕フェニル｝メチルイミダゾール−５−カルボン酸
（５−メチル−２−オキソ−１，３−ジオキソレン−４
−イル）メチル 実施例１４（ａ）で得られた化合物1.35ｇを含むピリジ
ン１４ml溶液にオキシ塩化リン0.185 mlを加え、実施例
３（ｂ）と同様の方法で処理し、残留物をヘキサン−酢
酸エチル（１：１）を溶媒系とするシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーに付して、泡沫状の目的化合物５２３
mgを得た。 NMR スペクトル (CDCl₃)δppm ：1.14(3H, t, J=7Hz),
2.03(3H, s), 2.12(3H, s), 3.47(2H, q, J=7Hz), 4.43
(2H, s), 4.77(2H, s), 5.27(1H, brs),5.29(1H, brs),
5.54(2H, s), 6.80(2H, d, J=8.5Hz), 6.96(6H, d, J=
8.5Hz),7.08(2H, d, J=8.5Hz), 7.23-7.53(12H, m), 7.
87(1H, d, J=8.5Hz) 。 （ｃ）２−エトキシメチル−４−イソプロペニル−１−
｛４−〔２−（テトラゾール−５−イル）フェニル〕フ
ェニル｝メチルイミダゾール−５−カルボン酸（５−メ
チル−２−オキソ−１，３−ジオキソレン−４−イル）
メチル 実施例１４（ｂ）で得られた化合物５２０mgを、実施例
１（ｂ）と同様の方法により、２５％水性酢酸で脱トリ
チル化し、得られた残査をジクロルメタン−メタノール
（１０：１）を溶媒系とするシリカゲルカラムクロマト
グラフィーに付して、無定形粉末状の目的化合物２６３
mgを得た。 NMR スペクトル (CDCl₃)δppm ：1.10(3H, t, J=7Hz),
1.98(3H, s), 2.14(3H, s), 3.47(2H, q, J=7Hz), 4.35
(2H, s), 4.91(2H, s), 5.10(1H, brs),5.15(1H, brs),
5.60(2H, s), 6.89(2H, d, J=8Hz), 7.11(2H, d, J=8H
z), 7.43(1H, d, J=7Hz), 7.51-7.64(2H, m), 7.91(1H,
d, J=8.5Hz)。

【０１１０】参考例１２−ブチル−４−（１−ヒドロキシ−１−メチルエチ
ル）イミダゾール−５−カルボン酸エチル （ａ）２−ブチルイミダゾール−４，５−ジカルボニト
リル ジアミノマレオニトリル51.4ｇとオルトバレリアン酸ト
リメチル85.6ｇのアセトニトリル３００mlけん濁液を８
５℃の油浴上６時間撹拌した後、反応液を濃縮し、残留
物を酢酸エチル−ヘキサン（１：１）を溶媒系とする短
いシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付して、油状
の１−アミノ−２−Ｎ−（１−メトキシペンチリデン）
アミノスクシノニトリル９９ｇを得た。これをキシレン
３００ml中、１５０℃の油浴上、８時間撹拌したのち、
反応溶液を半量になるまで減圧濃縮し、室温に放置し
た。析出する結晶を濾取し、少量のキシレンで洗浄し
て、目的化合物55.2ｇを得た。 融点：１０９−１１１℃。 （ｂ）２−ブチルイミダゾール−４，５−ジカルボン酸 参考例１（ａ）で得られた２−ブチルイミダゾール−
４，５−ジカルボニトリル１００ｇを６規定塩酸１リッ
トル中、７時間還流したのち、一夜室温に放置し、析出
した結晶を濾取し、水および少量のアセトンで洗浄し、
目的化合物８４ｇを得た。 融点：２６１−２６３℃。 （ｃ）２−ブチルイミダゾール−４，５−ジカルボン酸
ジエチル 参考例１（ｂ）で得られた２−ブチルイミダゾール−
４，５−ジカルボン酸４０ｇのエタノール６００mlけん
濁液に、室温で撹拌しながら乾燥塩化水素ガスを２時間
通し、ジカルボン酸を溶解させた。１８時間室温で放置
後、反応液を濃縮し、酢酸エチルと重曹水を加え、さら
に重曹の粉末を加え、中和した。酢酸エチル層を分離
し、無水硫酸マグネシウム乾燥後、溶媒を留去した。結
晶性の残留物をイソプロピルエーテル−ヘキサンを用い
て濾取し、目的化合物４３ｇを得た。 融点：８２−８４℃。 （ｄ）２−ブチル−４−（１−ヒドロキシ−１−メチル
エチル）イミダゾール−５−カルボン酸エチル 参考例１（ｃ）で得られた２−ブチルイミダゾール−
４，５−ジカルボン酸ジエチル5.36ｇのテトラヒドロフ
ラン１００ml溶液を、窒素ガス中、−３０℃に冷却し、
これに2.5 Ｍメチルマグネシウムブロマイド−テトラヒ
ドロフラン溶液３２mlを−２０〜−３０℃で滴下した。
滴下後、混合物を０℃で1.5 時間撹拌したのち、反応液
に酢酸エチルと塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エ
チル層を分離した。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶
媒を留去し、残留物をメタノール−ジクロルメタン
（１：２０）を溶媒系とするシリカゲルカラムクロマト
グラフィーで精製して、油状の目的化合物5.01ｇを得
た。 NMR スペクトル (CDCl₃)δppm ：0.90(3H, t, J=7Hz),
1.32(3H, t, J=7Hz),1.2-2.0(4H, m), 1.64(6H, s), 2.
70(2H, t, J=7Hz), 4.33(2H, q, J=7Hz),5.97(1H, br
s), 10.2(1H,brs) 。

【０１１１】参考例２４−（１−ヒドロキシ−１−メチルエチル）−２−プロ
ピルイミダゾール−５−カルボン酸エチル （ａ）２−プロピルイミダゾール−４，５−ジカルボニ
トリル 参考例１（ａ）と同様の方法により、ジアミノマレオニ
トリル16.0ｇとオルト酪酸トリメチル２４ｇから結晶性
の目的化合物18.7ｇを得た。 融点：１４１−１４４℃。 （ｂ）２−プロピルイミダゾール−４，５−ジカルボン
酸 参考例２（ａ）で得られた２−プロピルイミダゾール−
４，５−ジカルボニトリル18.2ｇを、参考例１（ｂ）と
同様の方法により加水分解して、結晶性の目的化合物9.
95ｇを得た。 融点：２６１−２６３℃。 （ｃ）２−プロピルイミダゾール−４，５−ジカルボン
酸ジエチル 参考例２（ｂ）で得られた２−プロピルイミダゾール−
４，５−ジカルボン酸10.0ｇを、参考例１（ｃ）と同様
の方法によりエステル化して、結晶性の目的化合物9.55
ｇを得た。 融点：８１−８３℃。 （ｄ）４−（１−ヒドロキシ−１−メチルエチル）−２
−プロピルイミダゾール−５−カルボン酸エチル 参考例２（ｃ）で得られた２−プロピルイミダゾール−
４，５−ジカルボン酸ジエチル3.01ｇを、参考例１
（ｄ）と同様の方法により、2.5 Ｍメチルマグネシウム
ブロマイド−テトラヒドロフラン溶液１６mlと反応させ
て、得られた油状を室温で放置し、結晶化させ、ジイソ
プロピルエーテルで再結晶して、結晶性の目的化合物2.
34ｇを得た。 融点：１０１−１０２℃。 NMR スペクトル (CDCl₃)δppm ：0.96(3H, t, J=7Hz),
1.35(3H, t, J=7Hz),1.64(6H, s), 1.81(2H, sextet, J
=7Hz), 2.68(2H, t, J=7Hz), 4.35(2H, q, J=7Hz), 5.8
1(1H, s), 9.9(1H, brs) 。

【０１１２】参考例３２−エチル−４−（１−ヒドロキシ−１−メチルエチ
ル）イミダゾール−５−カルボン酸エチル （ａ）２−エチルイミダゾール−４，５−ジカルボニト
リル 参考例１（ａ）と同様の方法により、ジアミノマレオニ
トリル53.3ｇとオルトプロピオン酸トリエチル91.3ｇか
ら結晶性の目的化合物59.5ｇを得た。 融点：１７９−１８１℃。 （ｂ）２−エチルイミダゾール−４，５−ジカルボン酸 参考例３（ａ）で得られた化合物45.0ｇを、参考例１
（ｂ）と同様の方法により加水分解して、結晶性の目的
化合物31.2ｇを得た。 融点：２６５−２６８℃。 （ｃ）２−エチルイミダゾール−４，５−ジカルボン酸
ジエチル 参考例３（ｂ）で得られた化合物35.0ｇを、参考例１
（ｃ）と同様の方法によりエステル化して、結晶性の目
的化合物38.7ｇを得た。 融点：８３−８４℃。 （ｄ）２−エチル−４−（１−ヒドロキシ−１−メチル
エチル）イミダゾール−５−カルボン酸エチル 参考例３（ｃ）で得られた２−エチルイミダゾール−
４，５−ジカルボン酸ジエチル3.60ｇを、参考例１
（ｄ）と同様の方法により、１Ｍ臭化メチルマグネシウ
ム−テトラヒドロフラン溶液６０mlと反応させて、結晶
性の目的化合物2.05ｇを得た。 融点：１８１−１８４℃。 NMR スペクトル (DMSO-d₆)δppm ：1.22(3H, t, J=7H
z), 1.33(3H, t, J=7.5Hz), 1.50(6H, s), 2.65(2H, q,
J=7.5Hz), 3.30(2H, brs), 4.31(2H, q, J=7.5Hz) 。

【０１１３】参考例４４−イソプロペニル−２−プロピルイミダゾール−５−
カルボン酸エチル 参考例２（ｄ）で得られた４−（１−ヒドロキシ−１−
メチルエチル）−２−プロピルイミダゾール−５−カル
ボン酸エチル５００mgおよびホスホリルクロライド0.42
6 mlのベンゼン１０ml溶液を撹拌しながら、１時間還流
したのち、ピリジン0.5 mlを加え、さらに１時間還流し
た。反応液を濃縮し、残留物を酢酸エチルと重曹水に溶
かし、有機溶剤層を抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾
燥後、溶媒を減圧留去した。残留物をメタノール−ジク
ロルメタン（１：２０）を溶媒系とするシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーに付して、結晶性の目的化合物３
８９mgを得た。 融点：132.5 −１３４℃。 NMR スペクトル (CDCl₃)δppm ：0.98(3H, t, J=7Hz),
1.35(3H, t, J=7Hz),1.69-1.83(2H, m), 2.18(3H, s),
2.70(2H, t, J=7.5Hz), 4.33(2H, q, J=7Hz),5.32(2H,
brs), 5.53(1H, brs)。

【０１１４】参考例５２−エトキシメチル−４−（１−ヒドロキシ−１−メチ
ルエチル）イミダゾール−５−カルボン酸エチル （ａ）１−ベンジル−２−メチルイミダゾール−４，５
−ジカルボン酸ジエチル ２−メチルイミダゾール−４，５−カルボン酸ジエチル
10.0ｇのＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド１００ml溶液
に、窒素雰囲気中、氷冷下、ｔ−ブトキシカリウム5.21
ｇを加え、３０分間撹拌して、均一な溶液を得た。これ
に氷冷下、ベンジルブロマイド5.78mlを滴下し、混合物
を室温で１時間撹拌した。反応液に酢酸エチルと水を加
えて振り混ぜ、酢酸エチル層を分離し、抽出液を食塩水
で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧
留去した。残留物を、ヘキサン−酢酸エチル（３：１）
を溶媒系とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーに
付して、シロップ状の目的化合物12.38 ｇを得た。 NMR スペクトル (CDCl₃)δppm ：1.26(3H, t, J=7.5H
z), 1.39(3H, t, J=7.5Hz), 2.39(3H, s), 4.28(2H, q,
J=7.5Hz), 4.39(3H, q, J=7.5Hz), 5.39(2H,s), 7.01
(2H, d, J=6Hz), 7.24-7.34(3H, m)。 （ｂ）１−ベンジル−２−ブロモメチルイミダゾール−
４，５−ジカルボン酸ジエチル 参考例５（ａ）で得られた１−ベンジル−２−メチルイ
ミダゾール−４，５−ジカルボン酸ジエチル4.07ｇの四
塩化炭素８０ml溶液に、Ｎ−ブロモスクシンイミド2.52
ｇと過酸化ベンゾイル0.42ｇを加え、撹拌しながら３７
５Ｗタングステンランプを５０分間照射した。反応液を
５％チオ硫酸ソーダ水溶液および重曹水で洗浄した後、
減圧濃縮し、残留物をヘキサン−酢酸エチル（３：２）
を溶媒系とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーに
付して、シロップ状の目的化合物3.81ｇを得た。 NMR スペクトル (CDCl₃)δppm ：1.25(3H, t, J=7.5H
z), 1.39(3H, t, J=7.5Hz), 4.28(2H, q, J=7.5Hz), 4.
39(2H, s), 4.40(2H, q, J=7.5Hz), 5.52(2H,s), 7.10
(2H, d, J=5.5Hz), 7.27-7.39(3H, m)。 （ｃ）１−ベンジル−２−エトキシメチルイミダゾール
−４，５−ジカルボン酸ジエチル 参考例５（ｂ）で得られた１−ベンジル−２−ブロモメ
チルイミダゾール−４，５−ジカルボン酸ジエチル1.80
ｇのエタノール５０ml溶液を、ナトリウム0.18ｇおよび
エタノール５０mlから調製したナトリウムエトキシド−
エタノール溶液中に滴下後、室温で１３時間放置した。
反応液を減圧濃縮し、濃縮液に酢酸エチルと水を加え、
酢酸エチル層を分離し、重曹水及び食塩水で洗浄した
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留去し
た。残留物をヘキサン−酢酸エチル（１：１）を溶媒系
とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、シ
ロップ状の目的化合物1.14ｇを得た。 NMR スペクトル (CDCl₃)δppm ：1.13(3H, t, J=7Hz),
1.22(3H, t, J=7Hz),1.38(3H, t, J=7Hz), 3.50(2H, q,
J=7Hz), 4.25(2H, q, J=7Hz), 4.38(2H, q,J=7Hz), 4.
56(2H, s), 5.53(2H, s), 7.06(2H, d, J=6Hz), 7.26-
7.39(3H, m)。 （ｄ）２−エトキシメチルイミダゾール−４，５−ジカ
ルボン酸ジエチル 参考例５（ｃ）で得られた１−ベンジル−２−エトキシ
メチルイミダゾール−４，５−ジカルボン酸ジエチル4.
37ｇのメタノール４５ml溶液に、１０％パラジウム−炭
素４３５mgおよび４規定塩化水素−ジオキサン溶液4.1
mlを加え、水素雰囲気中、室温で1.5 時間撹拌した。反
応後、触媒を濾去し、濾液を濃縮して得られた結晶性化
合物を酢酸エチルで洗浄して、目的化合物の塩酸塩3.49
ｇを得た。 融点：６０−６１℃。 NMR スペクトル (CDCl₃)δppm ：1.16(3H, t, J=7Hz),
1.38(6H, t, J=7Hz),3.65(2H, q, J=7Hz), 4.40(4H, q,
J=7Hz), 4.96(2H, s) 。 得られた２−エトキシメチルイミダゾール−４，５−ジ
カルボン酸ジエチル塩酸塩を、酢酸エチル中、飽和炭酸
水素ナトリウム水溶液で中和したのち、酢酸エチルで抽
出し、目的化合物を結晶として得た。 融点：７１−７４℃。 NMR スペクトル (CDCl₃)δppm ：1.26(3H, t, J=7Hz),
1.39(4H, t, J=7Hz),3.63(2H, q, J=7Hz), 4.41(4H, q,
J=7Hz), 4.64(2H, s) 。 （ｅ）２−エトキシメチル−４−（１−ヒドロキシ−１
−メチルエチル）イミダゾール−５−カルボン酸エチル マグネシウム２８５mgとヨウ化メチル0.731 mlから調製
したヨウ化メチルマグネシウムのエーテル8.6 ml溶液
に、参考例５（ｄ）で得られた２−エトキシメチルイミ
ダゾール−４，５−ジカルボン酸ジエチル塩酸塩８００
mgのジクロルメタン２０ml溶液を、窒素雰囲気下、４〜
８℃で滴下した。混合物を室温で1.5 時間撹拌した後、
反応液を減圧濃縮し、残留物を氷冷下、酢酸エチルと塩
化アンモニウム水溶液に溶かし、３０分間撹拌後、酢酸
エチル層を分離した。抽出液を無水硫酸マグネシウムで
乾燥し、減圧濃縮したのち、残留物をジクロルメタン−
メタノール（２０：１）を溶媒系とするシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーに付して、結晶性の目的化合物４
９５mgを得た。 融点：１１２−１１３℃。 NMR スペクトル (DMSO-d₆)δppm ：1.12(3H, t, J=7H
z), 1.29(3H, t, J=7Hz), 1.52(6H, s), 3.48(2H, q, J
=7Hz), 4.25(2H, q, J=7Hz), 5.79(1H,brs) 。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 下地 康雄 東京都品川区広町１丁目２番58号 三共株 式会社内 (72)発明者 小池 博之 東京都品川区広町１丁目２番58号 三共株 式会社内 (72)発明者 佐田 登志夫 東京都品川区広町１丁目２番58号 三共株 式会社内

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】一般式 【化１】 ［式中、Ｒ¹ は、Ｃ₁ −Ｃ₆ アルキル基、Ｃ₃ −Ｃ₆ ア
   ルケニル基または式Ｒ⁷ −Ｘ−Ａ− （式中、Ｒ⁷ は、
   Ｃ₁ −Ｃ₆ アルキル基またはＣ₃ −Ｃ₆ シクロアルキル
   基を示し、Ａは、単結合またはＣ₁ −Ｃ₄ アルキレン基
   を示し、Ｘは、酸素原子または硫黄原子を示す。）を示
   し、 Ｒ² 、Ｒ³ およびＲ⁴ は、同一または異なって、水素原
   子、Ｃ₁ −Ｃ₆ アルキル基、Ｃ₃ −Ｃ₆ シクロアルキル
   基、Ｃ₆ −Ｃ₁₀アリール基またはＣ₇ −Ｃ₁₃アラルキル
   基を示すか、あるいは、Ｒ³ とＲ⁴ が一緒になって、Ｃ
   ₄ −Ｃ₆ アルキレン基を示し、 Ｒ⁵ は、水素原子またはカルボキシ基の保護基を示し、 Ｒ⁶ は、カルボキシ基、保護されたカルボキシ基または
   テトラゾール−５−イル基を示す。］を有するビニルイ
   ミダゾール誘導体およびその薬理上許容される塩。