JPH0688748A - 焦電センサ、二次元温度分布測定装置、焦電センサ用赤外線集光レンズおよび焦電センサ用赤外線集光レンズの製造方法 - Google Patents
焦電センサ、二次元温度分布測定装置、焦電センサ用赤外線集光レンズおよび焦電センサ用赤外線集光レンズの製造方法Info
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- JPH0688748A JPH0688748A JP4239098A JP23909892A JPH0688748A JP H0688748 A JPH0688748 A JP H0688748A JP 4239098 A JP4239098 A JP 4239098A JP 23909892 A JP23909892 A JP 23909892A JP H0688748 A JPH0688748 A JP H0688748A
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- pyroelectric sensor
- infrared
- lens
- pyroelectric
- condenser lens
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- Photometry And Measurement Of Optical Pulse Characteristics (AREA)
- Radiation Pyrometers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 低コストで生産性が高く、かつＳ／Ｎ比が高
い焦電センサ用赤外線集光レンズを提供する。 【構成】 可視光用レンズの製造工程に用いられるピッ
チ研磨工程を省略し、赤外線集光レンズを粒度＃８００
〜＃２０００の研磨材で研磨することにより、その焦電
センサ用赤外線集光レンズの表面粗さを１００〜５００
０Åの範囲に設定する。
い焦電センサ用赤外線集光レンズを提供する。 【構成】 可視光用レンズの製造工程に用いられるピッ
チ研磨工程を省略し、赤外線集光レンズを粒度＃８００
〜＃２０００の研磨材で研磨することにより、その焦電
センサ用赤外線集光レンズの表面粗さを１００〜５００
０Åの範囲に設定する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、赤外線特に熱線を検知
する焦電センサ用赤外線集光レンズと、その焦電センサ
用赤外線集光レンズを用いた焦電センサと、その焦電セ
ンサを用いた二次元温度分布測定装置に関する。
する焦電センサ用赤外線集光レンズと、その焦電センサ
用赤外線集光レンズを用いた焦電センサと、その焦電セ
ンサを用いた二次元温度分布測定装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、赤外線特に熱線（以下、単に赤外
線という）を検知する焦電センサは焦電効果を有する材
料を焦電体素子とし、赤外線照射によって焦電体素子表
面の温度が変化し、それに伴う表面電荷の変化をセンサ
出力として測定していた。このセンサは一般的な構造と
して、赤外線を断続的に入射させることを目的として、
焦電体素子の前面にフレネルレンズを設置する方式やチ
ョッピング機構を設置する方式が用いられていた。この
ように焦電センサが焦電体素子表面の温度変化に伴う電
位出力を測定するため、焦電出力信号と様々な外乱によ
るノイズ信号との比、すなわちＳ／Ｎ比の向上がこれら
のセンサでは必要不可欠である。このＳ／Ｎ比は実用上
５以上は必要で、この数値を上げるために、焦電体素子
に入射する経路に赤外線の集光効率を向上させる目的
で、焦電センサ用赤外線集光レンズ（以下、赤外線集光
レンズという）を設置する場合が多く、この場合赤外線
集光レンズとしては光学研磨されたレンズを用いるのが
一般的であった。特に空間の２次元温度分布を測定する
ためには赤外線集光レンズは不可欠であり、この赤外線
集光レンズの材料としてはシリコンやカルコゲン系ガラ
スなどの無機系材料等の他にポリエチレンなどの樹脂系
材料が用いられていた。また、これらをレンズとして成
形する工程には可視光用レンズと同様の研磨工程が含ま
れており、最近ではブレスによって成形する方法が発表
されているが、後工程として研磨工程が必要であった。
線という）を検知する焦電センサは焦電効果を有する材
料を焦電体素子とし、赤外線照射によって焦電体素子表
面の温度が変化し、それに伴う表面電荷の変化をセンサ
出力として測定していた。このセンサは一般的な構造と
して、赤外線を断続的に入射させることを目的として、
焦電体素子の前面にフレネルレンズを設置する方式やチ
ョッピング機構を設置する方式が用いられていた。この
ように焦電センサが焦電体素子表面の温度変化に伴う電
位出力を測定するため、焦電出力信号と様々な外乱によ
るノイズ信号との比、すなわちＳ／Ｎ比の向上がこれら
のセンサでは必要不可欠である。このＳ／Ｎ比は実用上
５以上は必要で、この数値を上げるために、焦電体素子
に入射する経路に赤外線の集光効率を向上させる目的
で、焦電センサ用赤外線集光レンズ（以下、赤外線集光
レンズという）を設置する場合が多く、この場合赤外線
集光レンズとしては光学研磨されたレンズを用いるのが
一般的であった。特に空間の２次元温度分布を測定する
ためには赤外線集光レンズは不可欠であり、この赤外線
集光レンズの材料としてはシリコンやカルコゲン系ガラ
スなどの無機系材料等の他にポリエチレンなどの樹脂系
材料が用いられていた。また、これらをレンズとして成
形する工程には可視光用レンズと同様の研磨工程が含ま
れており、最近ではブレスによって成形する方法が発表
されているが、後工程として研磨工程が必要であった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記のような赤外線集
光レンズの製造工程には、可視光用レンズの研磨工程と
同様にピッチ研磨工程が必要であり、またピッチ研磨工
程の前に粒度＃４０００までの研磨材を用いた研磨が行
われていた。このピッチ研磨工程は生産性が非常に悪
く、赤外線集光レンズ１枚当りの生産コストが極めて高
いという問題があった。本発明はこの問題を解決しよう
とするもので、Ｓ／Ｎ比等の性能を低下させることなく
赤外線集光レンズの生産性を向上させ、その赤外線集光
レンズを使用した低コストの二次元温度分布測定装置を
提供することを目的とする。
光レンズの製造工程には、可視光用レンズの研磨工程と
同様にピッチ研磨工程が必要であり、またピッチ研磨工
程の前に粒度＃４０００までの研磨材を用いた研磨が行
われていた。このピッチ研磨工程は生産性が非常に悪
く、赤外線集光レンズ１枚当りの生産コストが極めて高
いという問題があった。本発明はこの問題を解決しよう
とするもので、Ｓ／Ｎ比等の性能を低下させることなく
赤外線集光レンズの生産性を向上させ、その赤外線集光
レンズを使用した低コストの二次元温度分布測定装置を
提供することを目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明の赤外線集光レンズは、その赤外線集光レンズ
の研磨工程において、一般にピッチ研磨といわれる工程
を省略し、粒度＃８００〜＃２０００の研磨材で研磨を
行い表面粗さが１００〜５０００Åと比較的大きなレン
ズを製作し、このレンズを赤外線集光レンズとして焦電
センサに用いるようにしたものである。
に本発明の赤外線集光レンズは、その赤外線集光レンズ
の研磨工程において、一般にピッチ研磨といわれる工程
を省略し、粒度＃８００〜＃２０００の研磨材で研磨を
行い表面粗さが１００〜５０００Åと比較的大きなレン
ズを製作し、このレンズを赤外線集光レンズとして焦電
センサに用いるようにしたものである。
【０００５】
【作用】上記した手段によれば、コストの増大の主原因
となっているピッチ研磨工程が省略され、研磨材の粒度
を＃８００〜＃２０００にすることにより表面粗さを１
００〜５０００Å範囲にすることが可能で、表面粗さが
１００〜５０００Åの範囲の赤外線集光レンズを二次元
温度分布測定装置に用いることにより、Ｓ／Ｎ比を犠牲
にすることなく二次元温度分布を測定することが可能で
あり、特性的に実用上問題のない良好な焦電センサ用赤
外線集光レンズの生産性向上とコストダウンを行うこと
ができる。
となっているピッチ研磨工程が省略され、研磨材の粒度
を＃８００〜＃２０００にすることにより表面粗さを１
００〜５０００Å範囲にすることが可能で、表面粗さが
１００〜５０００Åの範囲の赤外線集光レンズを二次元
温度分布測定装置に用いることにより、Ｓ／Ｎ比を犠牲
にすることなく二次元温度分布を測定することが可能で
あり、特性的に実用上問題のない良好な焦電センサ用赤
外線集光レンズの生産性向上とコストダウンを行うこと
ができる。
【０００６】
【実施例】図１は本発明の焦電センサの要部の基本構成
の一実施例を示す断面図である。図１において１は入射
する赤外線、２は入射する赤外線１を断続的に遮断する
チョッパー、３は赤外線１を集光する赤外線集光レン
ズ、４は特定の波長の赤外線を選択的に透過する赤外線
選択透過基板、５は入射した赤外線１の強度に応じて電
圧を出力する上下に複数個配列された焦電体素子であ
る。
の一実施例を示す断面図である。図１において１は入射
する赤外線、２は入射する赤外線１を断続的に遮断する
チョッパー、３は赤外線１を集光する赤外線集光レン
ズ、４は特定の波長の赤外線を選択的に透過する赤外線
選択透過基板、５は入射した赤外線１の強度に応じて電
圧を出力する上下に複数個配列された焦電体素子であ
る。
【０００７】上記構成の焦電センサにおいて被検出物か
ら放射された赤外線１は、チョッパー２によって断続的
に遮断され、シリコンからなる赤外線集光レンズ３によ
って集光され、さらに赤外線選択透過基板４を透過して
焦電体素子５に入射し、その入射した赤外線の強度に応
じた電圧が焦電体素子５から出力される。焦電体素子５
からの電圧出力は高インピーダンスの増幅回路を用い測
定される。
ら放射された赤外線１は、チョッパー２によって断続的
に遮断され、シリコンからなる赤外線集光レンズ３によ
って集光され、さらに赤外線選択透過基板４を透過して
焦電体素子５に入射し、その入射した赤外線の強度に応
じた電圧が焦電体素子５から出力される。焦電体素子５
からの電圧出力は高インピーダンスの増幅回路を用い測
定される。
【０００８】図１に示す焦電センサにおいてチョッパー
２を動作させ室温と等しい一様な面にその焦電センサを
向け、測定した時のセンサ出力をＮｂとする。また５０
ｍｍ×５０ｍｍの大きさを持ち、表面が一様に温度５０
℃の発熱体を焦電センサから３０ｃｍの距離に置いて測
定したときのセンサ出力をＳｈとするとき、Ｓ／Ｎ比を
Ｎｂ／Ｓｈの値として表すとする。
２を動作させ室温と等しい一様な面にその焦電センサを
向け、測定した時のセンサ出力をＮｂとする。また５０
ｍｍ×５０ｍｍの大きさを持ち、表面が一様に温度５０
℃の発熱体を焦電センサから３０ｃｍの距離に置いて測
定したときのセンサ出力をＳｈとするとき、Ｓ／Ｎ比を
Ｎｂ／Ｓｈの値として表すとする。
【０００９】
【表１】
【００１０】（表１）は本発明の実施例におけるレンズ
サンプルの表面粗さと上述の測定によって得られたＳ／
Ｎ比とを、従来の光学研磨レンズのデータと比較したも
のを示す。（表１）によれば表面粗さが５０００Å程度
でもＳ／Ｎ比としては光学研磨レンズと遜色ない性能を
有していることがわかる。またこれらの表面粗さとＳ／
Ｎ比の相関関係をさらに精密に測定した結果を図２に示
す。この図２に示す測定結果からＳ／Ｎ比が５０００Å
をこえると急激に減少する傾向にあるので表面粗さが５
０００Å以下のレンズが実用上採用可能と判定される。
また（表１）および図２から、レンズの表面粗さを１０
０以下としても、Ｓ／Ｎ比は従来の光学研磨レンズと同
等であり、レンズの表面粗さを１００以下とする効果が
認められない。したがって、レンズの表面粗さの下限は
１００とするのが妥当であると判定される。
サンプルの表面粗さと上述の測定によって得られたＳ／
Ｎ比とを、従来の光学研磨レンズのデータと比較したも
のを示す。（表１）によれば表面粗さが５０００Å程度
でもＳ／Ｎ比としては光学研磨レンズと遜色ない性能を
有していることがわかる。またこれらの表面粗さとＳ／
Ｎ比の相関関係をさらに精密に測定した結果を図２に示
す。この図２に示す測定結果からＳ／Ｎ比が５０００Å
をこえると急激に減少する傾向にあるので表面粗さが５
０００Å以下のレンズが実用上採用可能と判定される。
また（表１）および図２から、レンズの表面粗さを１０
０以下としても、Ｓ／Ｎ比は従来の光学研磨レンズと同
等であり、レンズの表面粗さを１００以下とする効果が
認められない。したがって、レンズの表面粗さの下限は
１００とするのが妥当であると判定される。
【００１１】次に上記本発明の集光レンズを使用した二
次元温度分布測定装置について説明する。図３は本発明
の二次元温度分布測定装置の一実施例を説明するために
概略構成を示す部分破断斜視図で、回転部８には複数個
の焦電体素子５を縦方向に配列した赤外線アレイセンサ
６と、赤外線アレイセンサ（以下、単にアレイセンサと
いう）６の前面に赤外線をそのアレイセンサ６に集光さ
せるための表面粗さ５０００Å以下の赤外線集光レンズ
３を設け、さらに、赤外線集光レンズ３の入射側には赤
外線集光レンズ３に入射する赤外線を断続的に遮断する
チョッパー２を設けている。回転部８はステッピングモ
ータ７に機械的に接続され、ステッピングモーター７に
よって回転軸９を中心に矢印Ａに示すように所定角度を
往復回動する。
次元温度分布測定装置について説明する。図３は本発明
の二次元温度分布測定装置の一実施例を説明するために
概略構成を示す部分破断斜視図で、回転部８には複数個
の焦電体素子５を縦方向に配列した赤外線アレイセンサ
６と、赤外線アレイセンサ（以下、単にアレイセンサと
いう）６の前面に赤外線をそのアレイセンサ６に集光さ
せるための表面粗さ５０００Å以下の赤外線集光レンズ
３を設け、さらに、赤外線集光レンズ３の入射側には赤
外線集光レンズ３に入射する赤外線を断続的に遮断する
チョッパー２を設けている。回転部８はステッピングモ
ータ７に機械的に接続され、ステッピングモーター７に
よって回転軸９を中心に矢印Ａに示すように所定角度を
往復回動する。
【００１２】このように構成されている二次元温度分布
測定装置において、アレイセンサ６を構成する焦電体素
子５を縦方向に設置し、チョッパー２を１０Ｈｚで駆動
すると１／１０秒ごとにアレイセンサ６および赤外線集
光レンズ３が面している方向の縦方向の輻射熱量の分
布、すなわち、縦方向温度分布が測定できる。測定でき
る縦方向の空間範囲は赤外線集光レンズ３の画角とアレ
イセンサ６の寸法によって決まるものであり、また縦方
向の空間分解能はアレイセンサ６中に設けた赤外線受光
部である焦電体素子の数に依存するものである。例え
ば、赤外線集光レンズ３の画角を８０度とし、アレイセ
ンサ６に１０個の焦電体素子５を設けた場合には、縦方
向の分解能は１０でそれぞれの焦電体素子５は８度の範
囲の温度を測定することになる。
測定装置において、アレイセンサ６を構成する焦電体素
子５を縦方向に設置し、チョッパー２を１０Ｈｚで駆動
すると１／１０秒ごとにアレイセンサ６および赤外線集
光レンズ３が面している方向の縦方向の輻射熱量の分
布、すなわち、縦方向温度分布が測定できる。測定でき
る縦方向の空間範囲は赤外線集光レンズ３の画角とアレ
イセンサ６の寸法によって決まるものであり、また縦方
向の空間分解能はアレイセンサ６中に設けた赤外線受光
部である焦電体素子の数に依存するものである。例え
ば、赤外線集光レンズ３の画角を８０度とし、アレイセ
ンサ６に１０個の焦電体素子５を設けた場合には、縦方
向の分解能は１０でそれぞれの焦電体素子５は８度の範
囲の温度を測定することになる。
【００１３】次に、ステッピングモータ７を回転させ、
回転部８を断続的に矢印Ａで示すように往復回動させる
ことにより、アレイセンサ６が面している方向を左右に
走査しながら、前述と同様にチョッパー２を動作させて
温度分布を測定する。測定後は電気信号処理により回転
軸９を中心とする各方向の縦の温度分布をつなぎ合わせ
ると、空間の２次元の温度分布が得られる。横（左右）
方向の空間分解能はステッピングモータ７の回動角に依
存するものであり、例えば、３．６度回転するごとに信
号処理し、回転角１８０度回動させた場合には、横方向
の空間分解能は５０となり、センサ位置からみて縦８０
度、横１８０度の空間を１０×５０の分解能で温度分布
を測定することができる。これらのシステムに前記の赤
外線集光レンズ３を搭載すると前述のような空間分解能
で２次元温度分布が測定可能となる。
回転部８を断続的に矢印Ａで示すように往復回動させる
ことにより、アレイセンサ６が面している方向を左右に
走査しながら、前述と同様にチョッパー２を動作させて
温度分布を測定する。測定後は電気信号処理により回転
軸９を中心とする各方向の縦の温度分布をつなぎ合わせ
ると、空間の２次元の温度分布が得られる。横（左右）
方向の空間分解能はステッピングモータ７の回動角に依
存するものであり、例えば、３．６度回転するごとに信
号処理し、回転角１８０度回動させた場合には、横方向
の空間分解能は５０となり、センサ位置からみて縦８０
度、横１８０度の空間を１０×５０の分解能で温度分布
を測定することができる。これらのシステムに前記の赤
外線集光レンズ３を搭載すると前述のような空間分解能
で２次元温度分布が測定可能となる。
【００１４】次に本発明の赤外線集光レンズ３の製作工
程の一実施例を説明する。第１ステップとして高純度の
ポリシリコンロッドや単結晶シリコンプレート等を材料
として切断や幅決め等の素材取りの後、第２ステップと
して研削とあらずりを施し、第３ステップとしてスムー
ジングと砂かけを行なうが、スムージングは行なわない
でも後述のＳ／Ｎ比に大きな影響はない。第４ステップ
のみがきの工程は粒度の粗い研磨粉から順番に用いられ
る。従来の光学研磨レンズは粒度＃４０００までの研磨
の後、ピッチ研磨を施す４回の研磨によって仕上げられ
ていた。
程の一実施例を説明する。第１ステップとして高純度の
ポリシリコンロッドや単結晶シリコンプレート等を材料
として切断や幅決め等の素材取りの後、第２ステップと
して研削とあらずりを施し、第３ステップとしてスムー
ジングと砂かけを行なうが、スムージングは行なわない
でも後述のＳ／Ｎ比に大きな影響はない。第４ステップ
のみがきの工程は粒度の粗い研磨粉から順番に用いられ
る。従来の光学研磨レンズは粒度＃４０００までの研磨
の後、ピッチ研磨を施す４回の研磨によって仕上げられ
ていた。
【００１５】
【表２】
【００１６】（表２）に従来の光学研磨レンズと本実施
例のレンズにおける、表面粗さと前述のＳ／Ｎ比を測定
した結果およびみがき工程における研磨材の最終粒度の
関係を示す。本実施例のサンプル１は酸化セレン等の酸
化物をレジンに溶かした研磨材を用いて粒度＃２０００
で研磨したものである。サンプル２もサンプル１と同様
の研磨材を用いて粒度＃１５００で研磨したものであ
る。サンプル３はチタン等の硬度の大きい金属を研磨材
に用いて粒度＃１２００の研磨の１回でみがきの工程を
完了し、サンプル４もサンプル３と同様の研磨材を用い
て粒度＃８００の研磨の１回でみがきの工程を完了した
ものである。これ以降の工程は従来例の光学研磨レンズ
も本実施例のレンズも同様で、第５ステップとして芯だ
し等の仕上げと、第６ステップとして硫化亜鉛等を反射
防止膜として蒸着する。
例のレンズにおける、表面粗さと前述のＳ／Ｎ比を測定
した結果およびみがき工程における研磨材の最終粒度の
関係を示す。本実施例のサンプル１は酸化セレン等の酸
化物をレジンに溶かした研磨材を用いて粒度＃２０００
で研磨したものである。サンプル２もサンプル１と同様
の研磨材を用いて粒度＃１５００で研磨したものであ
る。サンプル３はチタン等の硬度の大きい金属を研磨材
に用いて粒度＃１２００の研磨の１回でみがきの工程を
完了し、サンプル４もサンプル３と同様の研磨材を用い
て粒度＃８００の研磨の１回でみがきの工程を完了した
ものである。これ以降の工程は従来例の光学研磨レンズ
も本実施例のレンズも同様で、第５ステップとして芯だ
し等の仕上げと、第６ステップとして硫化亜鉛等を反射
防止膜として蒸着する。
【００１７】したがってレンズ製作時間に大きく影響す
る部分は磨きの工程であり、本実施例の総工程時間は従
来の光学研磨レンズではピッチ研磨の前にも洗浄工程が
余分に必要であったのに対し、本実施例では洗浄工程を
必要としないので、ピッチ研磨工程が不要であることと
挨まって１０〜２０分の工程短縮が可能となる。
る部分は磨きの工程であり、本実施例の総工程時間は従
来の光学研磨レンズではピッチ研磨の前にも洗浄工程が
余分に必要であったのに対し、本実施例では洗浄工程を
必要としないので、ピッチ研磨工程が不要であることと
挨まって１０〜２０分の工程短縮が可能となる。
【００１８】次に図４にこれらのみがき工程における研
磨材の最終粒度と表面粗さの関係をさらに精密に測定し
た結果を示す。図４から明らかなように、用いる研磨剤
の粒度を＃８００〜＃２０００とすれば、レンズとして
１００〜５０００Åの実用上問題のない表面粗さのもの
が得られる。以上の説明から明らかなように本発明によ
り焦電センサ用赤外線集光レンズとしての性能を犠牲に
せずに大幅な生産性向上とコストダウンが実現できる。
本実施例の赤外線集光レンズに用いたポリシリコンはこ
の材料に限定されることはなく、Ｇｅ、ＰｂＳ、ＰｂＳ
ｅ、ＧｅＳｅ、ポリエチレンを赤外線集光レンズの材料
とした場合についても同様の効果が認められる。
磨材の最終粒度と表面粗さの関係をさらに精密に測定し
た結果を示す。図４から明らかなように、用いる研磨剤
の粒度を＃８００〜＃２０００とすれば、レンズとして
１００〜５０００Åの実用上問題のない表面粗さのもの
が得られる。以上の説明から明らかなように本発明によ
り焦電センサ用赤外線集光レンズとしての性能を犠牲に
せずに大幅な生産性向上とコストダウンが実現できる。
本実施例の赤外線集光レンズに用いたポリシリコンはこ
の材料に限定されることはなく、Ｇｅ、ＰｂＳ、ＰｂＳ
ｅ、ＧｅＳｅ、ポリエチレンを赤外線集光レンズの材料
とした場合についても同様の効果が認められる。
【００１９】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
のレンズの製造方法によれば、研磨材として粒度が＃８
００〜＃２０００のものを使用すれば、表面粗さ１００
〜２０００Åのレンズを得ることが可能で、その本発明
の製造方法によるレンズを焦電センサに用いた場合、従
来の光学研磨を施したレンズを用いた焦電センサに比べ
Ｓ／Ｎ比は実用上遜色なく、レンズの製作時間に最も影
響を与えるピッチ研磨工程を省略できるため、レンズ研
磨時間の大幅短縮が実現され、レンズおよびそのレンズ
を用いた二次元温度分布測定装置の生産性向上と大幅な
コストダウンが達成される。
のレンズの製造方法によれば、研磨材として粒度が＃８
００〜＃２０００のものを使用すれば、表面粗さ１００
〜２０００Åのレンズを得ることが可能で、その本発明
の製造方法によるレンズを焦電センサに用いた場合、従
来の光学研磨を施したレンズを用いた焦電センサに比べ
Ｓ／Ｎ比は実用上遜色なく、レンズの製作時間に最も影
響を与えるピッチ研磨工程を省略できるため、レンズ研
磨時間の大幅短縮が実現され、レンズおよびそのレンズ
を用いた二次元温度分布測定装置の生産性向上と大幅な
コストダウンが達成される。
【図１】本発明の焦電センサの基本構成を示す断面図
【図２】本発明の焦電センサに用いられた赤外線集光レ
ンズの表面粗さとＳ／Ｎ比の関係を示す特性図
ンズの表面粗さとＳ／Ｎ比の関係を示す特性図
【図３】本発明の二次元温度分布測定装置における一実
施例を示す部分破断斜視図
施例を示す部分破断斜視図
【図４】本発明の焦電センサに用いられた赤外線集光レ
ンズの研磨材の粒度と表面粗さＳ／Ｎ比の関係を示す特
性図
ンズの研磨材の粒度と表面粗さＳ／Ｎ比の関係を示す特
性図
１ 赤外線 ２ チョッパー（チョッパー手段） ３ 赤外線集光レンズ（焦電センサ用赤外線集光レン
ズ） ５ 焦電体素子 ８ 回転部
ズ） ５ 焦電体素子 ８ 回転部
フロントページの続き (72)発明者 吉池 信幸 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内
Claims (4)
- 【請求項１】 焦電体素子の前面に焦電センサ用赤外線
集光レンズを設置し、赤外線を検知するようにした焦電
センサにおいて、前記焦電センサ用赤外線集光レンズの
表面粗さを１００〜５０００Åの範囲に設定した焦電セ
ンサ。 - 【請求項２】 請求項１に記載の焦電センサ用赤外線集
光レンズと、その焦電センサ用赤外線集光レンズの前面
に設けられたその焦電センサ用赤外線集光レンズに入射
する赤外線を断続的に遮断するチョッパー手段と、前記
焦電センサおよびチョッパー手段を回転させる回転部と
を備えた二次元温度分布測定装置。 - 【請求項３】 表面粗さが１００〜５０００Åの範囲に
ある焦電センサ用赤外線集光レンズ。 - 【請求項４】 焦電センサ用赤外線集光レンズの表面の
研磨工程において研磨材の粒度を＃８００〜＃２０００
とする請求項３記載の焦電センサ用赤外線集光レンズの
製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4239098A JPH0688748A (ja) | 1992-09-08 | 1992-09-08 | 焦電センサ、二次元温度分布測定装置、焦電センサ用赤外線集光レンズおよび焦電センサ用赤外線集光レンズの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4239098A JPH0688748A (ja) | 1992-09-08 | 1992-09-08 | 焦電センサ、二次元温度分布測定装置、焦電センサ用赤外線集光レンズおよび焦電センサ用赤外線集光レンズの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0688748A true JPH0688748A (ja) | 1994-03-29 |
Family
ID=17039784
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4239098A Pending JPH0688748A (ja) | 1992-09-08 | 1992-09-08 | 焦電センサ、二次元温度分布測定装置、焦電センサ用赤外線集光レンズおよび焦電センサ用赤外線集光レンズの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0688748A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5726449A (en) * | 1994-05-09 | 1998-03-10 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd | Detecting apparatus and measuring method of warm object |
| JP2010170081A (ja) * | 2008-12-25 | 2010-08-05 | Tokuyama Corp | 遠赤外線用光学素子 |
| JP2012046397A (ja) * | 2010-08-30 | 2012-03-08 | Asahi Glass Co Ltd | 抗菌性耐熱ガラス容器の製造方法および抗菌性耐熱ガラス容器 |
| US12411046B2 (en) | 2017-01-13 | 2025-09-09 | The Research Foundation For The State University Of New York | Chopped passive infrared sensor apparatus and method for stationary and moving occupant detection |
-
1992
- 1992-09-08 JP JP4239098A patent/JPH0688748A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5726449A (en) * | 1994-05-09 | 1998-03-10 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd | Detecting apparatus and measuring method of warm object |
| JP2010170081A (ja) * | 2008-12-25 | 2010-08-05 | Tokuyama Corp | 遠赤外線用光学素子 |
| JP2012046397A (ja) * | 2010-08-30 | 2012-03-08 | Asahi Glass Co Ltd | 抗菌性耐熱ガラス容器の製造方法および抗菌性耐熱ガラス容器 |
| US12411046B2 (en) | 2017-01-13 | 2025-09-09 | The Research Foundation For The State University Of New York | Chopped passive infrared sensor apparatus and method for stationary and moving occupant detection |
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