JPH068935B2 - Light-to-light conversion element - Google Patents
Light-to-light conversion elementInfo
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- Transforming Light Signals Into Electric Signals (AREA)
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Description
【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は撮像装置や光書込み投影装置などに好適な光一
光変換素子に関する。The present invention relates to a light-to-light conversion element suitable for an imaging device, an optical writing projection device, and the like.
(従来の技術) 光学像を入力し、出力としても光学像が出力できるよう
に構成されている光一光変換素子としては、例えば液晶
型光変調器、光伝導電性ポッケルス効果素子、マイクロ
チャンネル型光変調器などのような空間変調素子、ある
いはフォトクロミック材を用いて構成された素子という
ように各種の構成形態のものが、例えば、光書込み投影
装置、光コンピュータの光並列処理のための素子、画像
の記録用の素子などとして従来から注目されて来てお
り、また、本出願人会社では光一光変換素子を用いた高
解像度の撮像装置についての提案も行っている。(Prior Art) As a light-to-light conversion element configured to input an optical image and output the optical image also as an output, for example, a liquid crystal type optical modulator, a photoconductive Pockels effect element, a microchannel type Spatial modulation elements such as optical modulators, or those of various configuration forms such as elements configured using photochromic material, for example, optical writing projection device, an element for optical parallel processing of an optical computer, It has been attracting attention as an element for recording an image, and the applicant company has also proposed a high-resolution image pickup device using a light-to-light conversion element.
第8図は従来の光一光変換素子の構成例を示す側断面図
であり、この第8図に示されている光一光変換素子にお
いて1,2はガラス板、3,4は透明電極、5,6,1
1は端子、7は光導電層、12は遮光層、8は誘電体ミ
ラー、9は印加された電界の強度分布に応じて光の状態
を変化させる光学部材(例えばネマチック液晶層)、W
Lは書込み光、RLは読出し光、ELは消去光である。FIG. 8 is a side sectional view showing a configuration example of a conventional light-to-light conversion element. In the light-to-light conversion element shown in FIG. 8, 1 and 2 are glass plates, 3 and 4 are transparent electrodes, and 5 are transparent electrodes. , 6, 1
1 is a terminal, 7 is a photoconductive layer, 12 is a light shielding layer, 8 is a dielectric mirror, 9 is an optical member (for example, a nematic liquid crystal layer) that changes the state of light according to the intensity distribution of the applied electric field, W
L is writing light, RL is reading light, and EL is erasing light.
第8図に示す光一光変換素子において、それの端子5,
6間に電源10と切換スイッチSWとからなる回路を接
続し、切換スイッチSWにおける切換制御信号の入力端
子11に供給された切換制御信号により、切換スイッチ
SWの可動接点を固定接点WR側に切換えた状態にし、
前記した透明電極3,4間に電源10の電圧を与えて、
印加された電界の強度分布に応じて光の状態を変化させ
る光学部材(例えばネマチック液晶層)9の両端間に電
界が加わるようにしておき、また、光一光変換素子にお
けるガラス板1側から書込光WLを入射させて、その入
射した書込み光WLをガラス板1と透明電極3とに透過
させて光導電層7に到達させると、光導電層7の電気抵
抗値はそれに到達した入射光による光学像と対応して変
化するために、光導電層7と遮光層12との境界面には
光導電層7に到達した入射光による光学像と対応した電
荷像が生じる。In the light-to-light conversion element shown in FIG.
A circuit composed of a power source 10 and a changeover switch SW is connected between 6 and the movable contact of the changeover switch SW is switched to the fixed contact WR side by the changeover control signal supplied to the input terminal 11 of the changeover control signal in the changeover switch SW. And put
By applying the voltage of the power source 10 between the transparent electrodes 3 and 4 described above,
An electric field is applied between both ends of an optical member (for example, a nematic liquid crystal layer) 9 that changes the state of light according to the intensity distribution of the applied electric field, and writing from the glass plate 1 side of the light-to-light conversion element is performed. When the incident light WL is incident and the incident writing light WL is transmitted through the glass plate 1 and the transparent electrode 3 to reach the photoconductive layer 7, the electric resistance value of the photoconductive layer 7 is the incident light that has reached it. Therefore, a charge image corresponding to the optical image due to the incident light reaching the photoconductive layer 7 is generated at the boundary surface between the photoconductive layer 7 and the light shielding layer 12.
前記のように切換スイッチSWの可動接点が固定接点W
R側に切換えられている状態において、電源10の電圧
が端子5,6を介して印加されている透明電極1,2間
に、前記した光導電層7に対して遮光層12と誘電体ミ
ラー8などとともに直列的な関係に設けられているネマ
チック液晶層9には、入射光による光学像と対応した強
度分布の電界が加わり、ネマチック液晶層9中の液晶
は、それの分子の光学軸が極板と平行でなくなってガラ
ス板2側に読出し光RLが投射された場合には、ネマチ
ック液晶の電気光学効果により液晶層9に加わる電界強
度に応じた画像情報を含んでいる状態の反射光が生じ
て、ガラス板2側には被写体の光学像に対応した光学像
が現われることになる。As described above, the movable contact of the changeover switch SW is the fixed contact W.
In the state of being switched to the R side, between the transparent electrodes 1 and 2 to which the voltage of the power source 10 is applied via the terminals 5 and 6, the light shielding layer 12 and the dielectric mirror are provided with respect to the photoconductive layer 7 described above. 8 and the like, an electric field having an intensity distribution corresponding to the optical image by the incident light is applied to the nematic liquid crystal layer 9 provided in a serial relationship, and the liquid crystal in the nematic liquid crystal layer 9 has an optical axis of its molecule. When the readout light RL is projected to the glass plate 2 side without being parallel to the polar plate, the reflected light in a state including image information according to the electric field intensity applied to the liquid crystal layer 9 due to the electro-optical effect of the nematic liquid crystal. Then, an optical image corresponding to the optical image of the subject appears on the glass plate 2 side.
すなわちガラス板2側に投射された読出し光RLは、透
明電極4→ネマチック液晶層9→誘電体ミラー8→遮光
層12のように進行し、その光の大部分は誘電体ミラー
8によりガラス板2側に反射光として戻って行くが、そ
の反射光はネマチック液晶の電気光学効果により液晶層
9に加わる電界強度に応じた画像情報を含んでいる状態
のものになっているので、ガラス板2側には被写体の光
学像に対応した光学像が現われることになる。That is, the readout light RL projected on the glass plate 2 side proceeds in the order of the transparent electrode 4 → nematic liquid crystal layer 9 → dielectric mirror 8 → light-shielding layer 12, and most of the light is transmitted by the dielectric mirror 8 to the glass plate. Although it returns to the 2 side as reflected light, the reflected light is in a state of containing image information according to the electric field intensity applied to the liquid crystal layer 9 due to the electro-optical effect of the nematic liquid crystal, so that the glass plate 2 An optical image corresponding to the optical image of the subject appears on the side.
そして、前記のようにガラス板2側に投射され、透明電
極4→ネマチック液晶層9→誘電体ミラー8→遮光層1
2のように進行して行く読出し光RLの内で誘電体ミラ
ー8で反射されなかった光は遮光層12により光導電層
7側には進行しないように遮光されるために、読出し光
RLがガラス板2側に投射されても、それにより光導電
層7の電気抵抗値が変化するようなことはないから、読
出し光RLの投射によっても光導電層7と遮光層12と
の境界面に入射光による光学像と対応して生じている電
荷像を変化させることがない。Then, it is projected on the glass plate 2 side as described above, and the transparent electrode 4 → nematic liquid crystal layer 9 → dielectric mirror 8 → light-shielding layer 1
The light not reflected by the dielectric mirror 8 in the read light RL that travels as shown in 2 is shielded by the light shielding layer 12 so as not to travel to the photoconductive layer 7 side. Even if the light is projected onto the glass plate 2 side, the electric resistance value of the photoconductive layer 7 does not change. Therefore, even when the read light RL is projected onto the boundary surface between the photoconductive layer 7 and the light shielding layer 12. The charge image generated corresponding to the optical image by the incident light is not changed.
(発明が解決しようとする問題点) ところで、前記のように書込み光WLにより光一光交換
素子に書込まれた情報を消去するのには、前記した切換
スイッチSWにおける切換制御信号の入力端子11に切
換制御信号を供給して切換スイッチSWの可動接点を固
定接点E側に切換え、光一光変換素子における端子5,
6の電位を同じにして透明電極3,4間に電界が生じな
いようにしてから、書込み光WLの入射側とされている
前記したガラス板1側から一様な強度分布の消去光EL
を入射させることにより、前記した消去光ELをガラス
板1と透明電極3とを介して光導電層7に与え、光導電
層7の電気抵抗値を低下させた状態にして光導電層7と
遮光層12との境界面に生じていた電荷像を消去させる
ようにしていた。(Problems to be Solved by the Invention) By the way, in order to erase the information written in the optical-optical switching element by the writing light WL as described above, the input terminal 11 of the changeover control signal in the changeover switch SW described above is used. To the fixed contact E side to switch the movable contact of the changeover switch SW to the terminal 5 in the optical-to-optical conversion element.
After making the electric potential of 6 the same so that no electric field is generated between the transparent electrodes 3 and 4, the erasing light EL having a uniform intensity distribution from the side of the glass plate 1 which is the incident side of the writing light WL.
Is applied to the photoconductive layer 7 through the glass plate 1 and the transparent electrode 3 to reduce the electric resistance value of the photoconductive layer 7 to the photoconductive layer 7. The charge image generated on the boundary surface with the light shielding layer 12 is erased.
このように、従来の光一光変換素子においては以前に書
込んだ光情報の消去を行う際に用いられる消去光の入射
側が書込み光WLの入射側と同じにされているのは、読
出し光RLの入射側と光導電層7との間には遮光層12
があるために、読出し光RLが入射される側から消去光
を入射させたところで、その消去光は前記した遮光層1
2で阻止されてしまって光導電層7には到達し得ず、し
たがって、読出し光RLが入射される側から消去光を入
射させたところで、光導電層7と遮光層12との境界面
に生じている電荷像を消去できないからである。As described above, in the conventional light-to-light conversion element, the erasing light incident side used when erasing the previously written optical information is the same as the writing light WL incident side is that the reading light RL. The light-shielding layer 12 is provided between the light-incident side and the photoconductive layer 7.
Therefore, when the erasing light is made incident from the side on which the reading light RL is made incident, the erasing light is generated by the light shielding layer 1 described above.
It is blocked by 2 and cannot reach the photoconductive layer 7. Therefore, when the erasing light is incident from the side on which the reading light RL is incident, the photoconducting layer 7 and the light shielding layer 12 are exposed to the boundary surface. This is because the generated charge image cannot be erased.
前記の点は、例えば、書込み光WLが入射される側に撮
像光学系を設けることが必要とされているような構成の
撮像装置、その他、書込み光WLが入射される側に消去
光の入射装置を設けることが困難な事情のある構成態様
の装置に、光一光変換素子が用いられる際に大きな問題
になる。The above-mentioned point is, for example, an imaging device having a configuration in which an imaging optical system is required to be provided on the side where the writing light WL is incident, and other cases where the erasing light is incident on the side where the writing light WL is incident. This is a major problem when the light-to-light conversion element is used in a device having a configuration in which it is difficult to provide the device.
また、印加された電界の強度分布に応じて光の状態を変
化させる光学部材を含んで構成されている光一光変換素
子において、前記の印加された電界の強度分布に応じて
光の状態を変化させる光学部材として、例えばニオブ酸
リチウム単結晶にような異方性結晶が用いられることが
ある。In a light-to-light conversion element including an optical member that changes the state of light according to the intensity distribution of the applied electric field, the state of light is changed according to the intensity distribution of the applied electric field. An anisotropic crystal such as a lithium niobate single crystal may be used as the optical member.
すなわち、ニオブ酸リチウム単結晶のような異方性結晶
は、その中を通過する常光線と異常光線との位相差が、
異方性結晶に印加した電界強度に応じて変化するという
性質を有しているから、光一光変換素子の構成部材とし
ても使用されうるのである。That is, an anisotropic crystal such as a lithium niobate single crystal has a phase difference between an ordinary ray and an extraordinary ray passing therethrough,
Since it has the property of changing according to the electric field strength applied to the anisotropic crystal, it can be used as a constituent member of a light-to-light conversion element.
ところが、異方性結晶中を通過する常光線と異常光線と
の位相差は、前記のように異方性結晶に印加された電界
強度に応じて変化するだけではなく、周知のように異方
性結晶の厚さによっても変化するものであるから、前記
のように印加された電界の強度分布に応じて光の状態を
変化させる光学部材として光一光変換素子において使用
される異方性結晶は、それの厚さが高い精度で一定なも
のとして作られていないと、光一光交換素子から読出さ
れた再生像にシェーディングを生じさせることが問題に
なるが、光一光変換素子から読出された再生像に前記の
原因によるシェーディングを生じさせないような均一な
厚さの異方性結晶を作り出すことは困難であるために、
それの解決策も求められた。However, the phase difference between the ordinary ray and the extraordinary ray passing through the anisotropic crystal is not only changed according to the electric field strength applied to the anisotropic crystal as described above, but also is anisotropic as is well known. The anisotropic crystal used in the light-to-light conversion element as an optical member that changes the state of light according to the intensity distribution of the applied electric field as described above, since it also changes depending on the thickness of the crystalline substance. , If the thickness of the light-optical conversion element is not made to be constant with high accuracy, shading will occur in the reproduced image read from the optical-optical conversion element. Since it is difficult to create an anisotropic crystal of uniform thickness that does not cause shading in the image due to the above causes,
A solution for it was also sought.
(問題点を解決するための手段) 本発明は透明電極と、光導電層と、読出光の波長域の光
を反射させるとともに、消去光の波長域の光を透過させ
うるような波長選択性を有する光学部材と、印加された
電界の強度分布に応じて光の状態を変化させる光学部材
と、透明電極とを積層してなる光一光変換素子、及び2
つの透明電極の間に少なくとも光導電層部材と、読出光
の波長域の光を反射させるとともに、消去光の波長域の
光を透過させうるような波長選択性を有する誘電体ミラ
ーと、印加された電界の強度分布に応じて光の状態を変
化させる光変調材層部材とを積層してなる光一光変換素
子における光導電層部材側に被写体からの光を入射させ
て光一光変換素子に被写体の光学像と対応する電荷像を
生成させる手段と、光一光変換素子の光変調材層部材側
から光一光変換素子に入射させた読出し光によって、前
記した被写体の光学像と対応する電荷像を光学像として
読出す手段と、前記した被写体の光学像と対応する電荷
像の消去手段とを備えてなる撮像装置、ならびに2つの
透明電極の間に少なくとも光導電層部材と、読出光の波
長域の光を反射させるとともに、消去光の波長域の光を
透過させうるような波長選択性を有する誘電体ミラー
と、印加された電界の強度分布に応じて光の状態を変化
させる光変調材層部材とを積層してなる光一光変換素子
における光導電層部材側に被写体からの光を入射させて
光一光変換素子に被写体の光学像と対応する電荷像を生
成させる手段と、光一光変換素子の光変調材層部材側か
ら光一光変換素子に入射させた読出し光によって、前記
した被写体の光学像と対応する電荷像を光学像として読
出す手段と、前記した被写体の光学像と対応する電荷像
の消去手段とを備えてなる撮像装置において、前記した
被写体の光学像が与えられるべき光一光変換素子に対す
る読出し光の入射光路中に、印加電界の強度分布に応じ
て光の状態が変化する光変調材層部材を含んで構成され
ているシェーディング補正用光学部材を設けるととも
に、前記した光一光変換素子における光変調材層部材の
不所望な複屈折状態と対応して再生光学像に生じる光の
シェーディングを補正できるようなシェーディング補正
用電界を前記したシェーディング補正用光学部材に与え
る補正信号発生部とを備えてなる撮像装置を提供するも
のである。(Means for Solving the Problems) The present invention provides a transparent electrode, a photoconductive layer, and wavelength selectivity that allows light in the wavelength range of read light to be reflected while transmitting light in the wavelength range of erase light. A light-to-light conversion element, which is formed by laminating an optical member having the following: an optical member that changes the state of light according to the intensity distribution of an applied electric field; and a transparent electrode.
Between the two transparent electrodes, at least a photoconductive layer member and a dielectric mirror having wavelength selectivity capable of reflecting light in the wavelength range of read light and transmitting light in the wavelength range of erase light are applied. The light from the object is incident on the photoconductive layer member side of the light-to-light conversion element in which the light modulation material layer member that changes the light state according to the intensity distribution of the electric field is laminated to the light-to-light conversion element. The means for generating a charge image corresponding to the optical image and the read light incident on the light-to-light conversion element from the light-modulation material layer member side of the light-to-light conversion element are used to generate a charge image corresponding to the optical image of the subject. An image pickup device including a unit for reading out as an optical image and a unit for erasing a charge image corresponding to the optical image of the subject, as well as at least a photoconductive layer member between two transparent electrodes, and a wavelength range of read light. Reflected light In addition, a dielectric mirror having wavelength selectivity that allows transmission of light in the wavelength range of erasing light and a light modulation material layer member that changes the light state according to the intensity distribution of the applied electric field are laminated. Means for making light from a subject incident on the photoconductive layer member side of the light-to-light conversion element, and generating a charge image corresponding to the optical image of the subject in the light-to-light conversion element, and a light modulator for the light-to-light conversion element. Means for reading, as an optical image, a charge image corresponding to the optical image of the subject by reading light incident on the light-to-light conversion element from the layer member side, and means for erasing the charge image corresponding to the optical image of the subject. And a light modulation material layer in which the state of light changes in accordance with the intensity distribution of the applied electric field in the incident light path of the read light with respect to the light-to-light conversion element to which the optical image of the subject is provided. Element In addition to providing an optical member for shading correction that is configured to include, it is possible to correct shading of light generated in a reproduced optical image in correspondence with the undesired birefringence state of the light modulation material layer member in the light-to-light conversion element described above. The present invention provides an image pickup apparatus comprising: a correction signal generator that applies a shading correction electric field to the shading correction optical member.
(実施例) 以下、添付図面を参照して本発明の光一光変換素子の具
体的な内容を詳細に説明する。第1図は本発明の光一光
変換素子の一実施例の側面図、第2図は読出光の波長域
の光を反射させるとともに、消去光の波長域の光を透過
させうるような波長選択性を有する光学部材の波長選択
特性例を示す特性曲線例図、第3図は第1図に示す本発
明の一実施例の光一光変換素子の動作説明用のブロック
図、第4図及び第5図は本発明の一実施例の光一光変換
素子を用いて構成したそれぞれ異なる撮像装置の概略構
成を示す斜視図、第6図は第5図に示されている撮像装
置の動作原理を説明するための波形図、第7図は均一で
ない厚さの異方性結晶を説明するための図である。(Examples) Hereinafter, specific contents of the light-to-light conversion element of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a side view of an embodiment of a light-to-light conversion element of the present invention, and FIG. 2 is a wavelength selection that allows light in the wavelength range of read light to be reflected while transmitting light in the wavelength range of erase light. Of characteristic curves showing an example of wavelength selection characteristics of an optical member having optical properties, FIG. 3 is a block diagram for explaining the operation of the light-to-light conversion element of one embodiment of the present invention shown in FIG. 1, FIG. 4 and FIG. FIG. 5 is a perspective view showing a schematic configuration of different image pickup devices configured by using the light-to-light conversion element of one embodiment of the present invention, and FIG. 6 explains the operation principle of the image pickup device shown in FIG. FIG. 7 is a diagram for explaining anisotropic crystals having a non-uniform thickness.
第1図において1,2はガラス板、3,4は透明電極、
5,6は端子、7は光導電層であり、また、8Rは読出
光の波長域の光を反射させるとともに、消去光の波長域
の光を透過させうるような波長選択性を有する光学部材
であって、この光学部材8Rとしては例えばSiO2の薄膜
とTiO2の薄膜との多層膜によるダイクロイック・フィル
タによって構成させたものが使用できる。In FIG. 1, 1 and 2 are glass plates, 3 and 4 are transparent electrodes,
Reference numerals 5 and 6 are terminals, 7 is a photoconductive layer, and 8R is an optical member having a wavelength selectivity capable of reflecting light in the wavelength range of the reading light and transmitting light in the wavelength range of the erasing light. As the optical member 8R, it is possible to use, for example, a dichroic filter composed of a multilayer film of a thin film of SiO2 and a thin film of TiO2.
また、9は印加された電界の強度分布に応じて光の状態
を変化させる光学部材(例えば、ニオブ酸リチウム単結
晶のような電気光学効果結晶、あるいはネマチック液晶
層によって構成させた光学部材)であり、図中でWLは
書込み光、RLは読出し光、ELは消去光をそれぞれ示
している。Reference numeral 9 denotes an optical member that changes the state of light according to the intensity distribution of the applied electric field (for example, an electro-optical effect crystal such as a lithium niobate single crystal, or an optical member composed of a nematic liquid crystal layer). In the figure, WL represents writing light, RL represents reading light, and EL represents erasing light.
第2図は、前記した読出光の波長域の光を反射させると
ともに、消去光の波長域の光を透過させうるような波長
選択性を有する光学部材8Rの波長選択性を例示した曲
線図であり、第2図において第2図の(a)に示されてい
る特性を有する光学部材8Rは光学的低域通過濾波器と
して構成されていることを表わしており、また、第2図
の(b)に示されている特性を有する光学部材8Rは光学
的高域通過濾波器として構成されていることを表わして
おり、さらに、第2図の(c)に示されている特性を有す
る光学部材8Rは光学的帯域通過濾波器として構成され
ていることを表わしており、さらにまた第2図の(d)に
示されている特性を有する光学部材8Rは光学的帯域消
去濾波器として構成されていることを表わしている。FIG. 2 is a curve diagram exemplifying the wavelength selectivity of the optical member 8R having wavelength selectivity capable of reflecting the light in the wavelength range of the reading light and transmitting the light in the wavelength range of the erasing light. 2 shows that the optical member 8R having the characteristics shown in FIG. 2 (a) is configured as an optical low-pass filter, and FIG. The optical member 8R having the characteristics shown in b) represents that it is configured as an optical high pass filter, and further, the optical member having the characteristics shown in (c) of FIG. The member 8R is shown to be constructed as an optical bandpass filter, and the optical member 8R having the characteristics shown in FIG. 2 (d) is constructed as an optical bandstop filter. It means that
すなわち、第1図に示されている本発明の光一光変換素
子において、それの構成部分の一部として使用されてい
る光学部材8R、すなわち、読出光の波長域の光を反射
させるとともに、消去光の波長域の光を透過させうるよ
うな波長選択性を有する光学部材8Rは、第2図の(a)
〜(d)に波長選択特性が例示されているような波長選択
性を有する光学部材8Rが使用できるのである。That is, in the light-to-light conversion element of the present invention shown in FIG. 1, the optical member 8R used as a part of the component thereof, that is, the light in the wavelength range of the read light is reflected and erased. The optical member 8R having a wavelength selectivity capable of transmitting light in the wavelength range of light is shown in FIG.
It is possible to use the optical member 8R having wavelength selectivity whose wavelength selection characteristics are exemplified in (d) to (d).
第2図の(a)〜(d)に例示されているような波長選択特性
を有する光学部材8Rを備えている本発明の光一光変換
素子においては、それに入射させるべき読出し光として
光学部材8Rにおける光の透過率の低い波長領域の光を
用い、また、それに入射させるべき消去光としては光学
部材8Rにおける光の透過率の高い波長領域の光を用い
るのであり、それにより、本発明の光一光変換素子にお
いては読出し光の入射側から消去光を入射させるように
することを可能にしたのである。In the light-to-light conversion element of the present invention provided with the optical member 8R having the wavelength selection characteristic as illustrated in FIGS. 2A to 2D, the optical member 8R is used as the reading light to be incident thereon. In the wavelength region having a low light transmittance, and as the erasing light to be incident thereon, light in a wavelength region having a high light transmittance in the optical member 8R is used. In the light conversion element, the erasing light can be made to enter from the incident side of the reading light.
さて、第1図に示されている構成を有する光一光変換素
子に光学的な情報の書込みを行う場合には、光一光変換
素子の端子5,6に第3図示のように電源10と切換ス
イッチSWとからなる回路を接続し、切換スイッチSW
における切換制御信号の入力端子11に供給された切換
制御信号により、切換スイッチSWの可動接点を固定接
点WR側に切換えた状態にし、前記した透明電極3,4
間に電源10の電圧を与えて、光導電層7の両端間に電
界が加わるようにしておいて、光一光変換素子における
ガラス板1側から書込光WLを入射させることにより光
一光変換素子に対する光学的情報の書込みが行われるの
である。When optical information is written in the light-to-light conversion element having the structure shown in FIG. 1, the power source 10 is switched to the terminals 5 and 6 of the light-to-light conversion element as shown in FIG. Connect the circuit consisting of switch SW and changeover switch SW
In accordance with the switching control signal supplied to the input terminal 11 of the switching control signal in, the movable contact of the changeover switch SW is switched to the fixed contact WR side, and the transparent electrodes 3 and 4 described above are set.
A voltage of a power supply 10 is applied between them so that an electric field is applied between both ends of the photoconductive layer 7, and the writing light WL is made incident from the glass plate 1 side of the light-to-light conversion element. The optical information is written to.
すなわち、前記のように光一光変換素子に入射した書込
み光WLがガラス板1と透明電極3とを透過して光導電
層7に到達すると、光導電層7の電気抵抗値がそれに到
達した入射光による光学像と対応して変化するために、
光導電層7と光学部材8R(読出光の波長域の光を反射
させるとともに、消去光の波長域の光を透過させうるよ
うな波長選択性を有する光学部材8R)との境界面には
光導電層7に到達した入射光による光学像と対応した電
荷像が生じる。That is, when the writing light WL that has entered the light-to-light conversion element as described above passes through the glass plate 1 and the transparent electrode 3 and reaches the photoconductive layer 7, the incident light whose electric resistance value of the photoconductive layer 7 has reached it. In order to change corresponding to the optical image by light,
A boundary surface between the photoconductive layer 7 and the optical member 8R (optical member 8R having a wavelength selectivity capable of reflecting light in the wavelength range of the reading light and transmitting light in the wavelength range of the erasing light) has a light A charge image corresponding to the optical image due to the incident light reaching the conductive layer 7 is generated.
前記のようにして入射光による光学像と対応する電荷像
の形で書込みが行われた光学的情報を光一光変換素子か
ら再生するのには、切換スイッチSWの可動接点を固定
接点WR側に切換えた状態として、電源10の電圧が端
子5,6を介して透明電極1,2間に印加されている状
態にしておいて、ガラス板2側より図示されていない光
源からの一定の光強度の読出し光RLを投射することに
よって行うことができる。In order to reproduce the optical information written in the form of the charge image corresponding to the optical image by the incident light as described above from the light-to-light conversion element, the movable contact of the changeover switch SW is set to the fixed contact WR side. In the switched state, the voltage of the power source 10 is applied between the transparent electrodes 1 and 2 via the terminals 5 and 6, and a constant light intensity from a light source (not shown) is applied from the glass plate 2 side. Can be performed by projecting the reading light RL.
すなわち、既述のように入射光による光情報の書込みが
行われた光一光変換素子における光導電層7と光学部材
8R(読出光の波長域の光を反射させるとともに、消去
光の波長域の光を透過させうるような波長選択性を有す
る光学部材8R)との境界面には光導電層7に到達した
入射光による光学像と対応した電荷像が生じているか
ら、前記した光導電層7に対して光学部材8Rとともに
直列的な関係に設けられている光学部材9(例えばニオ
ブ酸リチウム単結晶9)には、入射光による光学像と対
応した強度分布の電界が加わっている状態になされてい
る。That is, as described above, the photoconductive layer 7 and the optical member 8R in the light-to-light conversion element in which the optical information is written by the incident light (the light in the wavelength range of the read light is reflected and the wavelength range of the erase light is changed). Since a charge image corresponding to the optical image due to the incident light reaching the photoconductive layer 7 is formed at the interface with the optical member 8R) having wavelength selectivity capable of transmitting light, the photoconductive layer described above is formed. The optical member 9 (for example, the lithium niobate single crystal 9) provided in a serial relationship with the optical member 8R with respect to 7 is in a state in which an electric field having an intensity distribution corresponding to the optical image by the incident light is applied. Has been done.
そして、前記したニオブ酸リチウム単結晶9の屈折率は
電気光学効果により電界に応じて変化するから、入射光
による光学像と対応した強度分布の電界が加わっている
状態に前記した光導電層7に対して光学部材8Rととも
に直列的な関係に設けられているニオブ酸リチウム単結
晶9の屈折率は、既述した入射光による光情報の書込み
により光一光変換素子における光導電層7と光学部材8
R(読出光の波長域の光を反射させるとともに、消去光
の波長域の光を透過させうるような波長選択性を有する
光学部材8R)との境界面に光導電層7に到達した入射
光による光学像と対応して生じた電荷像に応じて変化し
ているものになる。Since the refractive index of the lithium niobate single crystal 9 changes according to the electric field due to the electro-optical effect, the photoconductive layer 7 described above is in a state in which the electric field having the intensity distribution corresponding to the optical image by the incident light is applied. On the other hand, the refractive index of the lithium niobate single crystal 9 provided in series with the optical member 8R is the same as that of the photoconductive layer 7 and the optical member in the light-to-light conversion element due to the writing of optical information by the incident light described above. 8
Incident light reaching the photoconductive layer 7 at the interface with R (optical member 8R having a wavelength selectivity capable of reflecting light in the wavelength range of read light and transmitting light in the wavelength range of erase light) The image changes according to the electric charge image generated corresponding to the optical image.
それで、ガラス板2側に読出し光RLが投射された場合
には、前記のようにガラス板2側に投射された読出し光
RLが、透明電極4→ニオブ酸リチウム単結晶9→光学
部材8R(読出光の波長域の光を反射させるとともに、
消去光の波長域の光を透過させうるような波長選択性を
有する光学部材8R)→のように進行して行く。Therefore, when the reading light RL is projected on the glass plate 2 side, the reading light RL projected on the glass plate 2 side as described above is transparent electrode 4 → lithium niobate single crystal 9 → optical member 8R ( While reflecting the light in the wavelength range of the read light,
The optical member 8R has a wavelength selectivity that allows light in the wavelength range of the erasing light to pass therethrough.
前記した読出し光RLは読出光の波長域の光を反射させ
るとともに、消去光の波長域の光を透過させうるような
波長選択性を有する光学部材8Rによって反射してガラ
ス板2側に反射光として戻って行くが、ニオブ酸リチウ
ム単結晶9の屈折率は電気光学効果によって電界に応じ
て変化するから、読出し光RLの反射光はニオブ酸リチ
ウム単結晶9の電気光学効果によりニオブ酸リチウム単
結晶9に加わる電界の強度分布に応じた画像情報を含む
ものとなって、ガラス板2側に入射光による光学像に対
応した再生光学像を生じさせる。The read light RL is reflected by the optical member 8R having a wavelength selectivity that allows the light in the wavelength range of the read light to be reflected and the light in the wavelength range of the erase light to be transmitted, and is reflected to the glass plate 2 side. However, since the refractive index of the lithium niobate single crystal 9 changes according to the electric field due to the electro-optic effect, the reflected light of the read light RL is the lithium niobate single crystal 9 due to the electro-optic effect of the lithium niobate single crystal 9. Image information corresponding to the intensity distribution of the electric field applied to the crystal 9 is included, and a reproduced optical image corresponding to the optical image by the incident light is generated on the glass plate 2 side.
前記した再生動作においてガラス板2側から投射された
読出し光RLは、既述のように、透明電極4→ニオブ酸
リチウム単結晶9→光学部材8R(読出光の波長域の光
を反射させるとともに、消去光の波長域の光を透過させ
うるような波長選択性を有する光学部材8R)→のよう
に光導電層7の方に進行して行くが、前記の読出し光R
Lはそれが光導電層7に到達する以前に前記の光学部材
8R(読出光の波長域の光を反射させるとともに、消去
光の波長域の光を透過させうるような波長選択性を有す
る光学部材8R)によって反射されることにより、ニオ
ブ酸リチウム単結晶9→透明電極4→ガラス板2のよう
な光路を辿るから、前記した読出し光RLが光導電層7
に到達して書込まれた入射光による電荷像に悪影響を与
えるようなことはない。The reading light RL projected from the glass plate 2 side in the above-described reproducing operation is, as described above, the transparent electrode 4 → the lithium niobate single crystal 9 → the optical member 8R (while reflecting the light in the wavelength range of the reading light. , The optical member 8R having a wavelength selectivity capable of transmitting light in the wavelength range of the erasing light) → progresses toward the photoconductive layer 7 as described above.
L is an optical member having a wavelength selectivity such that it can reflect the light in the wavelength range of the reading light and transmit the light in the wavelength range of the erasing light before it reaches the photoconductive layer 7. By being reflected by the member 8R), the optical path such as the lithium niobate single crystal 9 → the transparent electrode 4 → the glass plate 2 is traced.
There is no adverse effect on the charge image due to the incident light that has been written to and reached.
このように、本発明の光一光変換素子では、ガラス板1
側から書込み光WLを入射させることにより書込み動作
が行われ、また、ガラス板2側に読出し光RLを入射さ
せることにより光学像の再生が行われる。Thus, in the light-to-light conversion element of the present invention, the glass plate 1
The writing operation is performed by making the writing light WL incident from the side, and the optical image is reproduced by making the reading light RL incident on the glass plate 2 side.
次に、第1図示の本発明の光一光変換素子に書込まれた
情報の消去法について説明する。第1図示の本発明の光
一光変換素子に書込まれた情報を消去する場合には、第
3図に示されている光一光変換素子の端子5,6間に接
続されている切換スイッチSWにおける切換制御信号の
入力端子11に供給された切換制御信号により、切換ス
イッチSWの可動接点を固定接点E側に切換えた状態に
し、前記した透明電極3,4間を電気的に短絡して透明
電極3,4を同電位にし、光導電層7の両端間に電界が
加わらないようにしてから、光一光変換素子におけるガ
ラス板2側から消去光ELを入射させるのである。Next, a method of erasing information written in the light-to-light conversion element of the present invention shown in the first figure will be described. When erasing the information written in the light-to-light conversion element of the present invention shown in FIG. 1, the changeover switch SW connected between the terminals 5 and 6 of the light-to-light conversion element shown in FIG. In accordance with the switching control signal supplied to the input terminal 11 of the switching control signal in, the movable contact of the changeover switch SW is switched to the fixed contact E side, and the transparent electrodes 3 and 4 are electrically short-circuited to be transparent. The electrodes 3 and 4 are set to the same potential so that an electric field is not applied between both ends of the photoconductive layer 7, and then the erasing light EL is incident from the glass plate 2 side of the light-to-light conversion element.
前記のように光一光変換素子のガラス板2側に入射した
消去光ELは、ガラス板2→透明電極4→ニオブ酸リチ
ウム単結晶9→光学部材8R(読出光の波長域の光を反
射させるとともに、消去光の波長域の光を透過させうる
ような波長選択性を有する光学部材8R)→光導電層7
のような経路で光導電層7に到達して、その消去光EL
により光導電層7の電気抵抗値を低下させ、光導電層7
と光学部材8R(読出光の波長域の光を反射させるとと
もに、消去光の波長域の光を透過させうるような波長選
択性を有する光学部材8R)との境界面に形成されてい
た電荷像を消去させる。As described above, the erasing light EL that is incident on the glass plate 2 side of the light-to-light conversion element is glass plate 2 → transparent electrode 4 → lithium niobate single crystal 9 → optical member 8R (reflects light in the wavelength range of read light). At the same time, an optical member 8R having a wavelength selectivity capable of transmitting light in the wavelength range of the erasing light) → photoconductive layer 7
Reach the photoconductive layer 7 by a path like
Reduces the electric resistance of the photoconductive layer 7 by
Image formed on the boundary surface between the optical member 8R and the optical member 8R (optical member 8R having wavelength selectivity capable of reflecting light in the wavelength region of read light and transmitting light in the wavelength region of erase light) To erase.
このように、本発明の光一光変換素子では書込み動作時
に光導電層7と光学部材8R(読出光の波長域の光を反
射させるとともに、消去光の波長域の光を透過させうる
ような波長選択性を有する光学部材8R)との境界面に
形成されていた電荷像が、光一光変換素子における読出
し光RLの入射側から光一光変換素子に入射される消去
光ELによって消去させるようにしているから、書込み
光WLが入射される側に撮像光学系を設けることが必要
とされているような構成の撮像装置、その他、書込み光
WLが入射される側に消去光の入射装置を設けることが
困難な事情のある構成態様の装置にも容易に適用するこ
とができ、本発明によれば既述した従来の問題点を良好
に解決することができる。As described above, in the light-to-light conversion element of the present invention, the photoconductive layer 7 and the optical member 8R (a wavelength that allows light in the wavelength range of read light to be reflected and allows light in the wavelength range of erase light to be transmitted during the writing operation are performed. The charge image formed on the boundary surface with the optical member 8R) having selectivity is erased by the erasing light EL that is incident on the light-to-light conversion element from the incident side of the reading light RL in the light-to-light conversion element. Therefore, an imaging device having a configuration in which it is necessary to provide an imaging optical system on the side on which the writing light WL enters, and an erasing light incidence device on the side on which the writing light WL enters are provided. However, the present invention can be easily applied to a device having a configuration mode having a difficult situation, and the present invention can satisfactorily solve the above-mentioned conventional problems.
第4図は、第1図乃至第3図を参照して説明したような
構成を有する本発明の光一光変換素子を用いて構成させ
た撮像装置の一例の斜視図であり、この第4図において
PPCは本発明の光一光変換素子を示しているが、第4
図に示す光一光変換素子PPCにおいては、第1図及び
第3図などで図面符号WLで示されている書込み光WL
が入射されるガラス板1の表面側に図面符号1を付し、
また、第1図及び第3図などで図面符号RLで示されて
いる読出し光RL及び図面符号ELで示されている消去
光ELが入射されるガラス板2の表面側に図面符号2を
付して、第1図及び第3図に示されている光一光変換素
子との対応関係を明らかにしているだけで、図示の簡略
化のために光一光変換素子における他の構成部分の具体
的な図示記載は省略してある。FIG. 4 is a perspective view of an example of an image pickup apparatus configured by using the light-to-light conversion element of the present invention having the configuration described with reference to FIGS. 1 to 3, and FIG. PPC indicates the light-to-light conversion element of the present invention.
In the light-to-light conversion element PPC shown in the figure, the writing light WL indicated by the reference numeral WL in FIG. 1 and FIG.
Is attached to the surface side of the glass plate 1 on which is incident,
Further, the reference numeral 2 is attached to the front surface side of the glass plate 2 on which the reading light RL indicated by the reference numeral RL and the erasing light EL indicated by the reference numeral EL in FIGS. Then, only the correspondence with the light-to-light conversion element shown in FIGS. 1 and 3 is clarified, and for simplification of the illustration, a concrete description of other components in the light-to-light conversion element is made. The illustration is omitted.
第4図においてOは被写体、Lは撮像レンズ、BS1,BS
2はビーム・スプリッタ、PSrは読出し光の光源(読
出し光の光源PSrとしては、例えば、レーザ光による
飛点走査機を用いることができるのであり、第4図示の
撮像装置に関する以下の記載における読出し光の光源P
Srとしては、レーザ光を所定の態様で偏向させるよう
な飛点走査機が用いられているものとされている)、P
Seは消去光の光源、PLPは偏光板、PDは光検出器
であり、第4図に例示されている光一光変換素子PPC
を用いて構成されている撮像装置においては、被写体O
の光学像が撮像レンズLによって光一光変換素子PPC
に対して書込み光としてガラス板1側から入射される。In FIG. 4, O is a subject, L is an imaging lens, and BS1 and BS
Reference numeral 2 is a beam splitter, and PSr is a light source for reading light (as a light source PSr for reading light, for example, a flying spot scanner using a laser light can be used. Light source P
As Sr, it is assumed that a flying spot scanner that deflects the laser light in a predetermined manner is used), P
Se is a light source for erasing light, PLP is a polarizing plate, PD is a photodetector, and the light-to-light conversion element PPC illustrated in FIG.
In an image pickup apparatus configured using
Of the optical image of PPC by the imaging lens L
The writing light is incident on the glass plate 1 side.
書込みモード及び読出しモードになされているときの光
一光変換素子PPCにおける透明電極3,4には、第3
図に示すように可動接点が固定接点WR側に切換えられ
ている状態の切換スイッチSWを介して電源10の電圧
が加えられているから、被写体Oの光学像と対応する光
が書込み光として撮像レンズLを介してガラス板1側に
与えられる光一光変換素子PPCでは、第3図を参照し
て既述したように、それの光導電層7と光学部材8R
(読出光RLの波長域の光を反射させるとともに、消去
光ELの波長域の光を透過させうるような波長選択性を
有する光学部材8R)との境界面に光導電層7に到達し
た入射光による光学像と対応した電荷像(第4図中で
は、被写体Oのイの字の光学像に対して、光一光変換素
子PPCにおける光導電層7と光学部材8Rとの境界面
に逆さのイの字の電荷像として示してある)を生じる。The transparent electrodes 3 and 4 in the light-to-light conversion element PPC when in the writing mode and the reading mode have a third
As shown in the figure, since the voltage of the power supply 10 is applied through the changeover switch SW in the state where the movable contact is switched to the fixed contact WR side, the light corresponding to the optical image of the object O is captured as the writing light. In the light-to-light conversion element PPC provided to the glass plate 1 side through the lens L, as described above with reference to FIG. 3, the photoconductive layer 7 and the optical member 8R thereof are provided.
Incident reaching the photoconductive layer 7 at the interface with (optical member 8R having a wavelength selectivity capable of reflecting light in the wavelength range of the reading light RL and transmitting light in the wavelength range of the erasing light EL). A charge image corresponding to the optical image formed by the light (in FIG. 4, the inverted optical image of the subject O is shown upside down on the boundary surface between the photoconductive layer 7 and the optical member 8R in the light-to-light conversion element PPC. (Shown as a charge image in the shape of a letter)).
前記のようにガラス板1側から書込み光による光情報の
書込みが行われて、光一光変換素子PPCの光導電層7
と光学部材8R(読出光RLの波長域の光を反射させる
とともに、消去光ELの波長域の光を透過させうるよう
な波長選択性を有する光学部材8R)との境界面に、入
射光による光学像と対応した電荷像が生じている状態の
光一光変換素子PPCにおける透明電極3,4間に切換
スイッチSWを介して電源10の電圧が加えられている
状態において、レーザ光の飛点走査機として構成されて
いる読出し光の光源PSrから放射された可干渉光の読
出し光RLをビーム・スプリッタBS1を透過させた後に
ビーム・スプリッタBS2で反射せて光一光変換素子PP
Cにおけるガラス板2の側から投射すると、第3図を参
照して既述したように、ガラス板2側に投射された読出
し光RLは、透明電極4→ニオブ酸リチウム単結晶9→
光学部材8R(読出光RLの波長域の光を反射させると
ともに、消去光ELの波長域の光を透過させうるような
波長選択性を有する光学部材8R)→のように進行して
行く。As described above, the optical information is written by the writing light from the glass plate 1 side, and the photoconductive layer 7 of the light-to-light conversion element PPC is formed.
And the optical member 8R (optical member 8R having wavelength selectivity capable of reflecting light in the wavelength range of the reading light RL and transmitting light in the wavelength range of the erasing light EL) are affected by incident light. In the state where the voltage of the power source 10 is applied through the changeover switch SW between the transparent electrodes 3 and 4 in the light-to-light conversion element PPC in the state where the charge image corresponding to the optical image is generated, the flying point scanning of the laser light is performed. The read light RL of the coherent light emitted from the light source PSr of the read light, which is configured as a device, is transmitted through the beam splitter BS1 and then reflected by the beam splitter BS2 to convert the light-to-light conversion element PP.
When projected from the side of the glass plate 2 in C, the read light RL projected on the side of the glass plate 2 is, as described above with reference to FIG. 3, the transparent electrode 4 → the lithium niobate single crystal 9 →
The optical member 8R (optical member 8R having wavelength selectivity that allows light in the wavelength range of the reading light RL to be reflected and transmits light in the wavelength range of the erasing light EL) to proceed.
前記した読出し光RLは読出光の波長域の光を反射させ
るとともに、消去光の波長域の光を透過させうるような
波長選択性を有する光学部材8Rで反射してガラス板2
側に反射光として戻って行くが、前記のように読出し光
RLが往復するニオブ酸リチウム単結晶9の常光線と異
常光線とに対する屈折率は、ニオブ酸リチウム単結晶9
の電気光学効果によってニオブ酸リチウム単結晶9に印
加されている電界強度に応じてそれぞれ異なって変化す
るから、読出し光RLの反射光はニオブ酸リチウム単結
晶9の電気光学効果によってニオブ酸リチウム単結晶9
に加わる電界の強度分布に応じた画像情報を含むものと
なっており、したがって、ガラス板2側には入射光によ
る光学像に対応した再生光学像が生じることになる。The read light RL is reflected by the optical member 8R having a wavelength selectivity that allows the light in the wavelength range of the read light to be reflected and allows the light in the wavelength range of the erase light to be transmitted, and is reflected by the glass plate 2
Although it returns to the side as reflected light, the refractive index for the ordinary ray and the extraordinary ray of the lithium niobate single crystal 9 that the read light RL reciprocates as described above is as follows.
Since the electro-optical effect of the lithium niobate single crystal 9 changes differently according to the electric field strength applied to the lithium niobate single crystal 9, the reflected light of the read light RL is changed by the electro-optical effect of the lithium niobate single crystal 9. Crystal 9
Since the image information includes image information corresponding to the intensity distribution of the electric field applied to, the reproduced optical image corresponding to the optical image by the incident light is generated on the glass plate 2 side.
前記した読出し光RLの光源PSrとしてレーザ光によ
る飛点走査機が用いられている場合に光一光変換素子P
PCにおけるガラス板2側に現われる再生光学像は飛点
走査によって構成されたものになっているから、その再
生光学像の光がビーム・スプリッタBS2と偏光板PLP
とを透過して光検出器PDに与えられることにより、光
検出器PDからは被写体Oの光学像に対応している映像
信号が出力されることになる。The light-to-light conversion element P is used when a flying spot scanner using laser light is used as the light source PSr of the read light RL.
Since the reproduced optical image appearing on the glass plate 2 side of the PC is formed by the flying spot scanning, the light of the reproduced optical image is the beam splitter BS2 and the polarizing plate PLP.
By being transmitted through and given to the photodetector PD, a video signal corresponding to the optical image of the object O is output from the photodetector PD.
なお、使用されるべき前記した光検出器PDとしては、
読出し光RLの光源PSrにおけるレーザ光の偏向の態
様や、光検出器PDが副走査方向に変位されるようにな
されているかなどの構成態様の如何に応じて、それぞれ
適当な構成態様のものが使用されるべきことは当然であ
る。In addition, as the above-mentioned photodetector PD to be used,
Depending on how the laser light is deflected by the light source PSr of the reading light RL, and how the photodetector PD is displaced in the sub-scanning direction, the appropriate configuration may be adopted. Of course it should be used.
第4図示の撮像装置では時間軸上で予め定められた時間
長毎に、それぞれ異なる被写体の画像を書込み、読出し
て映像信号を発生させることが必要とされるが、前記の
ように時間軸上で予め定められた時間長毎に、それぞれ
異なる被写体の画像を書込み、読出すようにするために
は、前記の時間軸上で予め定められた時間長毎に新らた
な被写体の光学像が書込まれる前に、それまでに書込ま
れていた光学像と対応する電荷像を消去することが必要
とされる。In the image pickup apparatus shown in FIG. 4, it is necessary to write and read images of different subjects for each predetermined time length on the time axis to generate a video signal. In order to write and read images of different subjects for each predetermined time length, a new optical image of the subject is set for each predetermined time length on the time axis. Before being written, it is necessary to erase the charge image corresponding to the previously written optical image.
そして、撮像装置における前記した消去動作は、時間軸
上で相次ぐ新らたな光学像の書込みが行われる以前にお
ける予め定められた時間中に行われるのであり、それは
光検出器PDから出力させる映像信号における垂直帰線
消去期間と対応して行われるように、光検出器PDから
出力させる映像信号における垂直帰線消去期間と対応し
て、第3図について既述したように光一光変換素子の端
子5,6間に接続されている切換スイッチSWにおける
切換制御信号の入力端子11に供給された切換制御信号
により、切換スイッチSWの可動接点を固定接点E側に
切換えた状態にし、前記した透明電極3,4間を電気的
に短絡して透明電極3,4を同電位にし、光導電層7の
両端間に電界が加わらないようにするとともに、消去光
の光源PSeから消去光ELを放射させ、その消去光E
LがビームスプリッタBS1,BS2を介して光一光変換素
子PPCにおけるガラス板2側から入射されるようにす
るのである。Then, the erasing operation in the image pickup device is performed during a predetermined time period before writing new optical images one after another on the time axis, which is an image output from the photodetector PD. Corresponding to the vertical blanking period in the video signal output from the photodetector PD, as in the case of the vertical blanking period in the signal, as described above with reference to FIG. The movable contact of the changeover switch SW is changed to the fixed contact E side by the changeover control signal supplied to the input terminal 11 of the changeover control signal in the changeover switch SW connected between the terminals 5 and 6, and the above-mentioned transparent The electrodes 3 and 4 are electrically short-circuited so that the transparent electrodes 3 and 4 have the same potential so that an electric field is not applied between both ends of the photoconductive layer 7. The Sahikari EL to radiation, the erasing light E
L is made to enter from the glass plate 2 side in the light-to-light conversion element PPC via the beam splitters BS1 and BS2.
前記のように光一光変換素子のガラス板2側に入射した
消去光ELは、第3図について既述したようにガラス板
2→透明電極4→ニオブ酸リチウム単結晶9→光学部材
8R(読出光の波長域の光を反射させるとともに、消去
光の波長域の光を透過させうるような波長選択性を有す
る光学部材8R)→光導電層7のような経路で光導電層
7に到達して、その消去光ELにより光導電層7の電気
抵抗値を低下させ、光導電層7と光学部材8Rとの境界
面に形成されていた電荷像が消去される。As described above with reference to FIG. 3, the erasing light EL incident on the glass plate 2 side of the light-to-light conversion element is the glass plate 2 → transparent electrode 4 → lithium niobate single crystal 9 → optical member 8R (readout). An optical member 8R having a wavelength selectivity capable of reflecting light in the wavelength range of light and transmitting light in the wavelength range of erasing light → reaches the photoconductive layer 7 by a route such as the photoconductive layer 7. Then, the erasing light EL reduces the electric resistance value of the photoconductive layer 7, and the charge image formed on the boundary surface between the photoconductive layer 7 and the optical member 8R is erased.
ところで、編集、トリミング、その他の画像信号処理が
容易であるとともに、既記録信号を消去できる可逆性を
有する記録部材を使用して記録再生が容易に行えるとい
う特徴を有している映像信号を発生させるための撮像装
置として、光一光変換素子を使用して構成された撮像装
置は、従来から一般的に使用されて来ている撮像装置、
すなわち、撮像レンズによって撮像管や固体撮像素子の
ような撮像素子における光電変換部に結像された被写体
の光学像を映像信号に変換するようにしている撮像装置
に比べて、容易に高画質・高解像度の再生画像が得られ
るのである。By the way, a video signal is generated which is characterized by easy editing, trimming, and other image signal processing, and easy recording and reproduction by using a reversible recording member capable of erasing a recorded signal. As an image pickup device for performing the above, an image pickup device configured by using a light-to-light conversion element is an image pickup device that has been generally used from the past,
That is, compared with an image pickup apparatus which converts an optical image of a subject formed on a photoelectric conversion unit of an image pickup device such as an image pickup tube or a solid-state image pickup device by an image pickup lens into a video signal, high image quality can be easily achieved. A high-resolution reproduced image can be obtained.
すなわち、高画質・高解像度の再生画像を再生させうる
ような映像信号を発生させることのできる撮像装置にお
いて、撮像素子として撮像管が使用されている撮像装置
においては、撮像管における電子ビーム径の微小化に限
界があるために、電子ビーム径の微小化による高解像度
化が望めないこと、及び、撮像管のターゲット容量はタ
ーゲット面積と対応して増大するものであるために、タ
ーゲット面積の増大による高解像度化も実現することが
できないこと、また、例えば動画の撮像装置の場合には
高解像度化に伴って映像信号の周波数帯域が数十MHz
〜数百MHz以上にもなるためにS/Nの点で問題にな
る、等の理由によって、撮像装置により高画質・高解像
度の再生画像を再生させうるような映像信号を発生させ
ることは困難である。That is, in an image pickup apparatus capable of generating a video signal capable of reproducing a high-quality / high-resolution reproduced image, in an image pickup apparatus using an image pickup tube as an image pickup element, Since there is a limit to miniaturization, it is not possible to expect high resolution by miniaturizing the electron beam diameter, and the target capacity of the image pickup tube increases corresponding to the target area. It is not possible to realize high resolution due to, and, for example, in the case of a moving image pickup device, the frequency band of the video signal is several tens of MHz due to the higher resolution.
It is difficult to generate a video signal capable of reproducing a high-quality / high-resolution reproduced image by the image pickup device due to the fact that it becomes a problem in terms of S / N due to the frequency of several hundred MHz or more. Is.
前記の点を具体的に説明すると次のとおりである。撮像
素子として撮像管が使用されている撮像装置により高画
質・高解像度の再生画像を再生させうるような映像信号
を発生させるのには、撮像管における電子ビーム径を微
小化したり、ターゲットとして大面積のものを使用した
りすることが考えられるが、撮像管の電子銃の性能、及
び集束系の構造などにより撮像管の電子ビーム径の微小
化には限界があるために電子ビーム径の微小化による高
解像度化には限界があり、また、撮像イメージサイズの
大きな撮像レンズを使用した上で、ターゲットの面積の
増大によって高解像度を得ようとした場合には、ターゲ
ット面積の増大による撮像管のターゲット容量の増大に
よる撮像管の出力信号における高域信号成分の低下によ
って、撮像管出力信号のS/Nの低下が著るしくなるこ
とにより、撮像管を使用した撮像装置によっては高画質
・高解像度の再生画像を再生させうるような映像信号を
良好に発生させることはできないのである。The above points will be specifically described as follows. In order to generate a video signal capable of reproducing a high-quality and high-resolution reproduced image by an image pickup device in which an image pickup tube is used as an image pickup element, the electron beam diameter in the image pickup tube is made small or a large target is used. Although it may be possible to use an electron beam with a small area, there is a limit to the miniaturization of the electron beam diameter of the image pickup tube due to the performance of the electron gun of the image pickup tube and the structure of the focusing system. There is a limit to the increase in resolution by increasing the size of the image pickup lens, and if an image pickup lens with a large image pickup size is used and high resolution is to be obtained by increasing the area of the target, the image pickup tube will increase due to the increase in the target area. The high-frequency signal component in the output signal of the image pickup tube decreases due to the increase in the target capacitance of the image pickup tube, and the S / N of the image pickup tube output signal decreases significantly. Depending imaging device using a pipe is not possible to satisfactorily generate a video signal as capable of reproducing the high image quality and high resolution of the reproduced image.
また、撮像素子として固体撮像素子を使用した撮像装置
により高画質・高解像度の再生画像を再生させるのに
は、画素数の多い固体撮像素子を使用することが必要と
されるが、画素数の多い固体撮像素子はそれを駆動する
ためのクロックの周波数が高くなる(例えば、動画カメ
ラの場合における固体撮像素子の駆動のためのクロック
の周波数は数百MHzとなる)とともに、駆動の対象に
されている回路の静電容量値は画素数の増大によって大
きくなっているために、そのような固体撮像装置は、固
体撮像素子のクロックの周波数の限界が20MHzとい
われている現状からすると実用的なものとして構成でき
ないと考えられる。Further, in order to reproduce a high-quality and high-resolution reproduced image by an image pickup apparatus using a solid-state image pickup element as an image pickup element, it is necessary to use a solid-state image pickup element having a large number of pixels. Many solid-state image pickup devices have a high clock frequency for driving them (for example, the frequency of a clock for driving a solid-state image pickup device in the case of a video camera is several hundred MHz), and are also targeted for driving. Since the capacitance value of the circuit that is used increases with the increase in the number of pixels, such a solid-state imaging device is practical in view of the current limit of the clock frequency of the solid-state imaging device being 20 MHz. It cannot be configured as a thing.
このように、従来の撮像装置はそれの構成のために不可
欠な撮像素子の存在によって、高画質・高解像度の再生
画像を再生させうるような映像信号を良好に発生させる
ことはできなかったのであるが、光一光変換素子を用い
た撮像装置においては、前記した従来の撮像装置におけ
る問題点がなく高画質・高解像度の再生画像が得られる
映像信号を容易に発生させ得るのである。As described above, the conventional image pickup apparatus cannot generate a video signal capable of reproducing a high-quality / high-resolution reproduced image satisfactorily due to the existence of the image pickup element indispensable for its configuration. However, in the image pickup apparatus using the light-to-light conversion element, there is no problem in the conventional image pickup apparatus described above, and it is possible to easily generate a video signal capable of obtaining a reproduced image of high image quality and high resolution.
光一光変換素子を使用して構成した撮像装置について
は、本出願人会社が昭和61年12月30日に特許出願
した「撮像装置」(特願昭61−311333号)を参
照されるとよい。For an image pickup device configured using a light-to-light conversion element, refer to "Image pickup device" (Japanese Patent Application No. 61-313333) filed by the applicant company on December 30, 1986. .
第4図を参照して既述した撮像装置中で使用されていた
光一光変換素子においては、それの構成に必要とれてい
る複数の光学部材の内で、印加された電界の強度分布に
応じて光の状態を変化させる光学部材として、その光学
部材の中を通過する常光線と異常光線との位相差が結晶
に印加した電界強度に応じて変化するという性質を有し
ているニオブ酸リチウム単結晶のような異方性結晶を用
いていた。In the light-to-light conversion element used in the image pickup apparatus described above with reference to FIG. 4, depending on the intensity distribution of the applied electric field among the plurality of optical members required for its construction. Lithium niobate as an optical member that changes the state of light by the property that the phase difference between an ordinary ray and an extraordinary ray passing through the optical member changes according to the electric field strength applied to the crystal. An anisotropic crystal such as a single crystal was used.
ところが、ニオブ酸リチウム単結晶のような異方性結晶
は、結晶中を通過する常光線と異常光線との位相差が、
異方性結晶に印加された電界強度に応じて変化するだけ
ではなく、周知のように異方性結晶の厚さによっても変
化するものであるから、印加された電界の強度分布に応
じて光の状態を変化させる光学部材としてニオブ酸リチ
ウム単結晶のような異方性結晶が使用されている光一光
変換素子を用いている第4図示の構成の撮像装置では、
前記した光一光変換素子で使用されているニオブ酸リチ
ウム単結晶のような異方性結晶を用いた光学部材の厚さ
を高い精度で一定なものとして作られていない場合に、
光一光変換素子から読出された再生像に、前記したニオ
ブ酸リチウム単結晶のような異方性結晶を用いた光学部
材9の厚さのむらに対応したシェーディングが生じるこ
とは既述のとおりである。However, an anisotropic crystal such as a lithium niobate single crystal has a phase difference between an ordinary ray and an extraordinary ray passing through the crystal,
Not only does it change according to the strength of the electric field applied to the anisotropic crystal, but it also changes according to the thickness of the anisotropic crystal, as is well known. In the image pickup device having the configuration shown in FIG. 4, which uses a light-to-light conversion element in which an anisotropic crystal such as a lithium niobate single crystal is used as an optical member that changes the state of
When the thickness of the optical member using an anisotropic crystal such as the lithium niobate single crystal used in the light-to-light conversion element is not made constant with high accuracy,
As described above, the reproduced image read from the light-to-light conversion element has shading corresponding to the uneven thickness of the optical member 9 using the anisotropic crystal such as the lithium niobate single crystal. .
第6図の(a)は、印加された電界の強度分布に応じて光
の状態を変化させる光学部材9としてニオブ酸リチウム
単結晶のような異方性結晶が使用されている光一光変換
素子PPCを用いて構成されている第4図示の撮像装置
において、前記した光一光変換素子PPCで使用されて
いるニオブ酸リチウム単結晶のような異方性結晶を用い
た光学部材9の厚さが、第7図に例示されているように
図中のX方向にdだけの厚さむらを持っている場合に、
ニオブ酸リチウム単結晶のような異方性結晶を用いた光
学部材9を読出し光RLにより図中のX方向に走査して
電荷像を読出して得られる信号の波形例図であり、ま
た、第6図の(c)はもともとの電荷像に対応している信
号の波形を例示したものである。FIG. 6 (a) is a light-to-light conversion element in which an anisotropic crystal such as a lithium niobate single crystal is used as the optical member 9 for changing the state of light according to the intensity distribution of the applied electric field. In the image pickup apparatus shown in FIG. 4 configured by using PPC, the thickness of the optical member 9 using an anisotropic crystal such as the lithium niobate single crystal used in the light-to-light conversion element PPC described above is , As shown in FIG. 7, when the thickness unevenness is d in the X direction in the figure,
FIG. 9 is a waveform example diagram of a signal obtained by scanning the optical member 9 using an anisotropic crystal such as a lithium niobate single crystal in the X direction by the reading light RL to read a charge image. FIG. 6 (c) illustrates the waveform of the signal corresponding to the original charge image.
第6図の(a),(c)から判かるように、光一光変換素子P
PCで使用されているニオブ酸リチウム単結晶のような
異方性結晶を用いた光学部材9の厚さが、第7図に例示
されているように図中のX方向にdだけの厚さむらを持
っている場合には、ニオブ酸リチウム単結晶のような異
方性結晶を用いた光学部材9を読出し光RLにより図中
のX方向に走査して電荷像を読出して得られる1水平走
査期間(1H)の信号は、第6図の(c)に示されている電荷
像と対応しているもともとの信号とは異なり、第6図の
(c)に示されているもともとの電荷像に対応している信
号に、光一光変換素子PPCで使用されているニオブ酸
リチウム単結晶のような異方性結晶におけるX方向のd
だけの厚さむらと対応して発生した信号との和の信号、
すなわち第6図の(a)に示されているような波形の信号
となるのである。As can be seen from (a) and (c) of FIG. 6, the light-to-light conversion element P
The thickness of the optical member 9 using an anisotropic crystal such as a lithium niobate single crystal used in a PC has a thickness of d in the X direction as illustrated in FIG. In the case of unevenness, one horizontal line obtained by scanning the optical member 9 using an anisotropic crystal such as a lithium niobate single crystal in the X direction by the reading light RL to read a charge image. The signal in the scanning period (1H) is different from the original signal corresponding to the charge image shown in FIG.
In the signal corresponding to the original charge image shown in (c), d in the X direction in an anisotropic crystal such as a lithium niobate single crystal used in the photo-to-photo conversion device PPC is used.
A signal of the sum of the thickness unevenness and the signal generated corresponding to it,
That is, the signal has a waveform as shown in FIG. 6 (a).
第5図に示されている撮像装置は、第4図示の撮像装置
における前記のような問題点が解決できるような構成と
した撮像装置、すなわち、2つの透明電極の間に少なく
とも光導電層部材と、読出光の波長域の光を反射させる
とともに、消去光の波長域の光を透過させうるような波
長選択性を有する誘電体ミラーと、印加された電界の強
度分布に応じて光の状態を変化させる光変調材層部材と
を積層してなる光一光変換素子における光導電層部材側
に被写体からの光を入射させて光一光変換素子に被写体
の光学像と対応する電荷像を生成させる手段と、光一光
変換素子の光変調材層部材側から光一光変換素子に入射
させた読出し光によって、前記した被写体の光学像と対
応する電荷像を光学像として読出す手段と、前記した被
写体の光学像と対応する電荷像の消去手段とを備えてな
る撮像装置において、前記した被写体の光学像が与えら
れるべき光一光変換素子に対する読出し光の入射光路中
に、印加電界の強度分布に応じて光の状態が変化する光
変調材層部材を含んで構成されているシェーディング補
正用光学部材を設けるとともに、前記した光一光変換素
子における光変調材層部材の不所望な複屈折状態と対応
して再生光学像に生じる光のシェーディングを補正でき
るようなシェーディング補正用電界を前記したシェーデ
ィング補正用光学部材に与える補正信号発生部とを備え
て構成させた撮像装置の一実施例を示したものである
が、この第5図示の撮像装置では既述した第4図示の撮
像装置において問題になった再生像におけるシェーディ
ングが発生しないようにできるのである。The imaging device shown in FIG. 5 is an imaging device configured to solve the above-mentioned problems in the imaging device shown in FIG. 4, that is, at least a photoconductive layer member between two transparent electrodes. And a dielectric mirror having wavelength selectivity that allows light in the wavelength range of the read light to be transmitted while transmitting light in the wavelength range of the erase light, and the state of the light depending on the intensity distribution of the applied electric field. The light from the object is made incident on the photoconductive layer member side of the light-to-light conversion element formed by laminating the light-modulation material layer member to change the light-to-light conversion element to generate a charge image corresponding to the optical image of the object. Means, means for reading out a charge image corresponding to the optical image of the subject as an optical image by the reading light incident on the light-to-light converting element from the light modulation material layer member side of the light-to-light conversion element, and the subject. Paired with the optical image of In the image pickup apparatus including the charge image erasing unit, the state of light changes depending on the intensity distribution of the applied electric field in the incident light path of the reading light with respect to the light-to-light conversion element to which the optical image of the subject is given. An optical member for shading correction including a changing light modulating material layer member is provided, and a reproduced optical image is formed in correspondence with the undesired birefringence state of the light modulating material layer member in the light-to-light conversion element. 1 shows an embodiment of an image pickup apparatus that is configured to include a correction signal generation unit that gives a shading correction electric field to the shading correction optical member that can correct shading of light that occurs. In the image pickup apparatus shown in FIG. 5, it is possible to prevent shading from occurring in the reproduced image, which has been a problem in the image pickup apparatus shown in FIG. .
第5図示の撮像装置において再生像にシェーディングが
生じないようできるのは次のような構成原理及び動作原
理による。The reason why shading does not occur in a reproduced image in the image pickup apparatus shown in FIG. 5 is based on the following configuration principle and operation principle.
すなわち、第5図示の撮像装置においては、印加された
電界の強度分布に応じて光の状態を変化させる光学部材
9としてニオブ酸リチウム単結晶のような異方性結晶が
使用されている光一光変換素子PPCが用いられてお
り、かつ、前記した光一光変換素子PPCで使用されて
いるニオブ酸リチウム単結晶のような異方性結晶を用い
た光学部材9の厚さが、第7図に示されているように図
中のX方向にdだけの厚さむらを持っているために、ニ
オブ酸リチウム単結晶のような異方性結晶を用いた光学
部材9を読出し光RLにより図中のX方向に走査して電
荷像を読出したときに第6図の(a)に示されるような信
号波形の信号が得られるような場合に、前記した光一光
変換素子PPCにおける電荷像の読出しのために用いら
れる読出し光RLの時間軸上での強度変化の態様を、光
一光変換素子PPCで使用されているニオブ酸リチウム
単結晶のような異方性結晶を用いた光学部材9の厚さの
変化態様と対応させて設定しておくことにより、その読
出し光RLによって第7図に例示されているように図中
のX方向にdだけの厚さむらを持っているニオブ酸リチ
ウム単結晶のような異方性結晶を用いた光学部材9を読
出し光RLにより、図中のX方向に走査して電荷像を読
出したときに、1水平走査期間(1H)の信号として第6図
の(c)に示されている電荷像と対応しているもともとの
信号が得られるようにしているのである。That is, in the image pickup apparatus shown in FIG. 5, an optical crystal that uses an anisotropic crystal such as a lithium niobate single crystal as the optical member 9 that changes the state of light according to the intensity distribution of the applied electric field. The conversion element PPC is used, and the thickness of the optical member 9 using an anisotropic crystal such as the lithium niobate single crystal used in the light-to-light conversion element PPC is shown in FIG. As shown in the drawing, since the thickness unevenness is equal to d in the X direction in the figure, the optical member 9 using an anisotropic crystal such as a lithium niobate single crystal is read by the reading light RL. When the charge image is read by scanning in the X direction, the read-out of the charge image in the photo-to-photo conversion element PPC is performed when a signal having a signal waveform as shown in FIG. 6 (a) is obtained. When the reading light RL used for The mode of intensity change on the axis is set in correspondence with the mode of thickness change of the optical member 9 using an anisotropic crystal such as a lithium niobate single crystal used in the light-to-light conversion element PPC. By using the reading light RL, an anisotropic crystal such as a lithium niobate single crystal having a thickness unevenness of d in the X direction in the figure is used as illustrated in FIG. When the charge image is read by scanning the optical member 9 with the reading light RL in the X direction in the figure, the charge shown in (c) of FIG. 6 as a signal for one horizontal scanning period (1H). The original signal corresponding to the image is obtained.
第6図の(b)は、読出し光RLによって第7図に例示さ
れているように図中のX方向にdだけの厚さむらを持っ
ているニオブ酸リチウム単結晶のような異方性結晶を用
いた光学部材9を、読出し光RLにより図中のX方向に
走査して電荷像を読出したときに発生される1水平走査
期間(1H)の信号として、第6図の(c)に示されている電
荷像と対応している信号波形の信号が得られるように、
光一光変換素子PPCで使用されているニオブ酸リチウ
ム単結晶のような異方性結晶を用いた光学部材9の厚さ
の変化態様と、前記した光一光変換素子PPCにおける
電荷像の読出しのために用いられる読出し光RLの時間
軸上での強度の変化態様とが対応しているものとなるよ
うに、被写体の光学像が与えられるべき前記した光一光
変換素子PPCに対して供給される読出し光RLの入射
光路中に設けられる印加電界の強度分布に応じて光の状
態が変化する光変調材層部材を含んで構成されているシ
ェーディング補正用光学部材SCAに供給すべきシェー
ディング補正用電界(シェーディング補正用信号電圧)
の時間軸上での変化態様例を示したものである。FIG. 6 (b) shows anisotropy such as a lithium niobate single crystal having a thickness unevenness of d in the X direction in the figure as illustrated in FIG. 7 by the reading light RL. As a signal of one horizontal scanning period (1H) which is generated when the charge image is read by scanning the optical member 9 using crystals with the reading light RL in the X direction in the figure, (c) of FIG. In order to obtain a signal with a signal waveform corresponding to the charge image shown in
For changing the thickness of the optical member 9 using an anisotropic crystal such as a lithium niobate single crystal used in the light-to-light conversion element PPC, and for reading out a charge image in the light-to-light conversion element PPC. The reading supplied to the light-to-light conversion element PPC to which the optical image of the subject is to be given so that the change mode of the intensity of the reading light RL used for the above on the time axis corresponds. A shading correction electric field to be supplied to the shading correction optical member SCA including a light modulation material layer member whose light state changes according to the intensity distribution of the applied electric field provided in the incident optical path of the light RL ( Shading correction signal voltage)
7 shows an example of a change mode on the time axis of.
第5図において、Oは被写体、Lは撮像レンズ、BS1,
BS2はビーム・スプリッタ、PSrは読出し光の光源、
PSeは消去光の光源、PLPは偏光板、PDは光検出
器であり、また、SCAは印加電界の強度分布に応じて
光の状態が変化する光変調材層部材を含んで構成されて
いるシェーディング補正用光学部材であって、このシェ
ーディング補正用光学部材SCAは被写体の光学像が与
えられるべき光一光変換素子PPCに対する読出し光R
Lの入射光路中に設けられている。In FIG. 5, O is a subject, L is an imaging lens, BS1,
BS2 is a beam splitter, PSr is a light source for reading light,
PSe is a light source for erasing light, PLP is a polarizing plate, PD is a photodetector, and SCA is configured to include a light modulation material layer member whose light state changes according to the intensity distribution of an applied electric field. The shading correction optical member SCA is a read light R for the light-to-light conversion element PPC to which an optical image of a subject is to be given.
It is provided in the incident light path of L.
前記したシェーディング補正用光学部材SCAとして
は、光の入射面に対して直交する方向に電極を位置させ
てあるような構成態様の横型変調器(第5図中に示され
ている形態のもの)が用いられても、あるいは光の入射
面に対して平行な方向に電極を位置させてあるような構
成態様の縦型変調器が用いられてもよい。As the above-mentioned shading correction optical member SCA, a lateral modulator (having the form shown in FIG. 5) having a configuration in which electrodes are positioned in a direction orthogonal to the light incident surface. May be used, or a vertical modulator having a configuration in which electrodes are arranged in a direction parallel to the light incident surface may be used.
前記した印加電界の強度分布に応じて光の状態が変化す
る光変調材層部材を含んで構成されているシェーディン
グ補正用光学部材SCAの電極13,14には、光一光
変換素子PPCにおける光変調材層部材として用いられ
ているニオブ酸リチウム単結晶のような異方性結晶の厚
さのむらに基づいて異方性結晶に生じる不所望な複屈折
状態と対応して再生光学像に起こる光のシェーディング
を補正できるようなシェーディング補正用電圧が補正信
号発生部CSGから供給されていて、シェーディング補
正用光学部材SCAの電極13,14間には光一光変換
素子PPCにおける光変調材層部材として用いられてい
るニオブ酸リチウム単結晶のような異方性結晶の厚さの
むらに基づいて異方性結晶に生じる不所望な複屈折状態
と対応して再生光学像に生じる光のシェーディングを補
正できるようなシェーディング補正用電界が形成される
ようにしている。The electrodes 13, 14 of the shading correction optical member SCA, which is configured to include the light modulation material layer member whose light state changes according to the intensity distribution of the applied electric field, have the optical modulation in the light-to-light conversion element PPC. Of an anisotropic crystal such as a lithium niobate single crystal used as a material layer member due to the uneven birefringence that occurs in the anisotropic crystal and A shading correction voltage capable of correcting shading is supplied from the correction signal generation unit CSG, and is used as a light modulation material layer member in the light-to-light conversion element PPC between the electrodes 13 and 14 of the shading correction optical member SCA. Reproduction light corresponding to an undesired birefringence state generated in an anisotropic crystal based on uneven thickness of an anisotropic crystal such as a lithium niobate single crystal Shading correction electric field can be corrected shading of the light generated in the image is to be formed.
前記した補正信号発生部CSGから発生させるべきシェ
ーディング補正用電圧は、例えば、光一光変換素子PP
Cに電荷像パターンが無い状態、すなわち、消去動作後
で無信号時における光一光変換素子PPCに読出し光R
Lを入射させて読出し動作を行って得た再生像の情報を
初期情報として記憶し、その情報を用いてシェーディン
グ補正用信号電圧を発生させるようにしたり、あるい
は、従来から一般的な撮像装置において各種の補正信号
の発生手段によって各種の補正信号を発生させる場合と
同様な手段を適用してシェーディング補正用電圧が発生
されるようにすればよい。The shading correction voltage to be generated by the correction signal generation unit CSG is, for example, the light-to-light conversion element PP.
The state where there is no charge image pattern in C, that is, the read light R in the light-to-light conversion element PPC when there is no signal after the erasing operation
Information of a reproduced image obtained by performing the read operation with L incident thereon is stored as initial information, and the shading correction signal voltage is generated by using the information, or in a conventional general imaging device. The shading correction voltage may be generated by applying the same means as the case where various correction signals are generated by various correction signal generation means.
また、シェーディング補正用光学部材SCA電極13,
14間に設けられるべき印加電界の強度分布に応じて光
の状態が変化する如き光変調材層部材としては、液晶、
ニオブ酸リチウム単結晶、その他、所定の機能を有する
ものであればどのような材料が用いられても良いのであ
る。In addition, the shading correction optical member SCA electrode 13,
A liquid crystal material layer member whose light state changes according to the intensity distribution of the applied electric field to be provided between
Any material may be used as long as it has a predetermined function, such as a lithium niobate single crystal.
第5図中におけるPDEFは光偏向器であり、この光偏
向器PDEFは前記したシェーディング補正用光学部材
SCAから出射したレーザ光束を所定の態様で縦横に偏
向できるような機能を有するものとして構成されている
ものが使用されている。PDEF in FIG. 5 is an optical deflector, and this optical deflector PDEF is configured to have a function of vertically and horizontally deflecting the laser light beam emitted from the above-mentioned shading correction optical member SCA in a predetermined manner. What is used is being used.
光一光変換素子PPCを用いて構成されている第5図に
例示されている構成の撮像装置においては、被写体Oの
光学像が撮像レンズLによって光一光変換素子PPCに
対して書込み光としてガラス板1側から入射される。In the image pickup apparatus having the configuration illustrated in FIG. 5 configured by using the light-to-light conversion element PPC, the optical image of the object O is written by the image pickup lens L to the light-to-light conversion element PPC as the writing light to the glass plate. It is incident from the 1 side.
第5図に例示されている構成を有する撮像装置におい
て、書込みモード及び読出しモードになされているとき
の光一光変換素子PPCにおける透明電極3,4には、
可動接点が固定接点WR側に切換えられている状態の切
換スイッチSWを介して電源10の電圧が加えられてい
るから、被写体Oの光学像と対応する光が書込み光とし
て撮像レンズLを介してガラス板1側に与えられる光一
光変換素子PPCでは、第3図を参照して既述したよう
に、それの光導電層7と光学部材8R(読出光RLの波
長域の光を反射させるとともに、消去光ELの波長域の
光を透過させうるような波長選択性を有する光学部材8
R)との境界面に光導電層7に到達した入射光による光
学像と対応した電荷像(第5図中では、被写体Oのイの
字の光学像に対して、光一光変換素子PPCにおける光
導電層7と光学部材8Rとの境界面に逆さのイの字の電
荷像として示してある)が生じる。In the imaging device having the configuration illustrated in FIG. 5, the transparent electrodes 3 and 4 in the light-to-light conversion element PPC in the writing mode and the reading mode are
Since the voltage of the power source 10 is applied through the changeover switch SW in the state where the movable contact is switched to the fixed contact WR side, the light corresponding to the optical image of the subject O is written as the writing light via the imaging lens L. In the light-to-light conversion element PPC provided on the glass plate 1 side, as described above with reference to FIG. 3, the photoconductive layer 7 and the optical member 8R (the light in the wavelength range of the read light RL) are reflected. , An optical member 8 having wavelength selectivity capable of transmitting light in the wavelength range of the erasing light EL.
R), a charge image corresponding to the optical image by the incident light that has reached the photoconductive layer 7 (in FIG. 5, for the optical image of the object O in the V shape in the light-to-light conversion element PPC). At the boundary surface between the photoconductive layer 7 and the optical member 8R, an inverted charge image (shown as an inverted charge image) appears.
前記のようにガラス板1側から書込み光による光情報の
書込みが行われて、光一光変換素子PPCの光導電層7
と光学部材8R(読出光RLの波長域の光を反射させる
とともに、消去光ELの波長域の光を透過させうるよう
な波長選択性を有する光学部材8R)との境界面に、入
射光による光学像と対応した電荷像が生じている状態の
光一光変換素子PPCにおける透明電極3,4間に切換
スイッチSWを介して電源10の電圧が加えられている
状態において、読出し光の光源PSrから放射された可
干渉光の読出し光RLはビーム・スプリッタBS1を透過
した後に、印加電界の強度分布に応じて光の状態が変化
する光変調材層部材を含んで構成されているシェーディ
ング補正用光学部材SCAに入射される。As described above, the optical information is written by the writing light from the glass plate 1 side, and the photoconductive layer 7 of the light-to-light conversion element PPC is formed.
And the optical member 8R (optical member 8R having wavelength selectivity capable of reflecting light in the wavelength range of the reading light RL and transmitting light in the wavelength range of the erasing light EL) are affected by incident light. From the light source PSr of the reading light in the state where the voltage of the power source 10 is applied through the changeover switch SW between the transparent electrodes 3 and 4 in the light-to-light conversion element PPC in the state where the charge image corresponding to the optical image is generated. The emitted coherent light read-out light RL is transmitted through the beam splitter BS1 and then includes an optical modulation material layer member whose light state changes according to the intensity distribution of the applied electric field. It is incident on the member SCA.
前記したシェーディング補正用光学部材SCAの電極1
3,14には、光一光変換素子PPCにおける光変調材
層部材として用いられているニオブ酸リチウム単結晶の
ような異方性結晶の厚さのむらに基づいて異方性結晶に
生じる不所望な複屈折状態と対応して再生光学像に起こ
る光量のシェーディングを補正できるようなシェーディ
ング補正用電圧が補正信号発生部CSGから供給されて
いるから、このシェーディング補正用光学部材SCAか
ら出射したレーザ光が光偏向器PDEFによって所定の
態様で偏向された状態となされた後にビーム・スプリッ
タBS2に入射し、そこで光一光変換素子PPCの方に反
射されて光一光変換素子PPCにおけるガラス板2の側
から入射すると、第3図を参照して既述したように、ガ
ラス板2側に入射した読出し光RLは、透明電極4→ニ
オブ酸リチウム単結晶9→光学部材8R(読出光RLの
波長域の光を反射させるとともに、消去光ELの波長域
の光を透過させうるような波長選択性を有する光学部材
8R)→のように進行して行く。Electrode 1 of the above-mentioned optical member SCA for shading correction
Nos. 3 and 14 are undesired ones generated in anisotropic crystals due to uneven thickness of anisotropic crystals such as lithium niobate single crystal used as a light modulating material layer member in the light-to-light conversion element PPC. Since the shading correction voltage capable of correcting the shading of the light amount occurring in the reproduced optical image corresponding to the birefringence state is supplied from the correction signal generation unit CSG, the laser light emitted from the shading correction optical member SCA is After being deflected in a predetermined manner by the optical deflector PDEF, it enters the beam splitter BS2, where it is reflected toward the light-to-light conversion element PPC and enters from the glass plate 2 side of the light-to-light conversion element PPC. Then, as already described with reference to FIG. 3, the read light RL incident on the glass plate 2 side is transparent electrode 4 → lithium niobate single Crystal 9 → Optical member 8R (optical member 8R having wavelength selectivity capable of reflecting light in the wavelength range of the reading light RL and transmitting light in the wavelength range of the erasing light EL) → go.
次いで、前記した読出し光RLは読出光の波長域の光を
反射させるとともに、消去光の波長域の光を透過させう
るような波長選択性を有する光学部材8Rで反射してガ
ラス板2側に反射光として戻って行く。Next, the read light RL is reflected by the optical member 8R having a wavelength selectivity that allows the light in the wavelength range of the read light to be reflected and the light in the wavelength range of the erase light to be transmitted to the glass plate 2 side. It returns as reflected light.
前記のように読出し光RLが往復する光一光変換素子P
PCにおける光変調材層部材として用いられているニオ
ブ酸リチウム単結晶のような異方性結晶の常光線と異常
光線とに対する屈折率は、ニオブ酸リチウム単結晶9の
電気光学効果によってニオブ酸リチウム単結晶9に印加
されている電界強度に応じてそれぞれ異なる状態で変化
するが、ニオブ酸リチウム単結晶9の厚さが不均一の場
合には、厚さのむらに基づいて異方性結晶に生じる不所
望な複屈折状態が生じるが、第5図示の撮像装置におい
ては、ニオブ酸リチウム単結晶9の厚さむらに基づいて
異方性結晶に生じる不所望な複屈折状態が補正できるよ
うに、光一光変換素子PPCにおける光変調材層部材と
して用いられているニオブ酸リチウム単結晶を往復する
読出し光RLとして、再生光学像に光のシェーディング
が生じないような状態となるように前以ってシェーディ
ング補正用光学部材SCAによって補正が行われるよう
にされているから、この第5図示の撮像装置においては
再生光学像にシェーディングが生じないようにできる。As described above, the light-to-light conversion element P in which the reading light RL reciprocates
The refractive index for an ordinary ray and an extraordinary ray of an anisotropic crystal such as a lithium niobate single crystal used as a light modulating material layer member in a PC is lithium niobate due to the electro-optical effect of the lithium niobate single crystal 9. It changes in different states depending on the electric field strength applied to the single crystal 9, but when the thickness of the lithium niobate single crystal 9 is non-uniform, it occurs in the anisotropic crystal due to the unevenness of the thickness. Although an undesired birefringence state occurs, in the imaging device shown in FIG. 5, the undesired birefringence state occurring in the anisotropic crystal can be corrected based on the thickness unevenness of the lithium niobate single crystal 9. As the read light RL that travels back and forth through the lithium niobate single crystal used as the light modulation material layer member in the light-to-light conversion element PPC, it is possible to prevent light shading in the reproduced optical image. Since on purpose so as corrected by the shading correcting optical member SCA I previously is to be performed, in the imaging apparatus of the fifth depicted can so as not to cause shading in the reproduction optical image.
前記の再生光学像の光はビーム・スプリッタBS2と偏光
板PLPとを透過して光検出器PDに与えられることに
より、光検出器PDからは被写体Oの光学像に対応して
いる映像信号が出力されることになる。The light of the reproduced optical image is transmitted through the beam splitter BS2 and the polarizing plate PLP and given to the photodetector PD, so that a video signal corresponding to the optical image of the object O is output from the photodetector PD. Will be output.
第5図示の撮像装置でも既述した第4図示の撮像装置と
同様に時間軸上で予め定められた時間長毎に、それぞれ
異なる被写体の画像を書込み、読出して映像信号を発生
させることが必要とされるが、前記したように時間軸上
で予め定められた時間長毎に、それぞれ異なる被写体の
画像を書込み、読出すようにするためには、前記の時間
軸上で予め定められた時間長毎に新らたな被写体の光学
像が書込まれる前に、それまでに書込まれていた光学像
と対応する電荷像を消去することが必要とされる。In the image pickup apparatus shown in FIG. 5 as well, similar to the image pickup apparatus shown in FIG. 4 described above, it is necessary to write and read images of different subjects for each predetermined time length on the time axis to generate a video signal. However, as described above, in order to write and read images of different subjects at predetermined time lengths on the time axis, in order to read and write images of the different objects, the predetermined time on the time axis is set. Before the optical image of a new subject is written for each length, it is necessary to erase the charge image corresponding to the optical image that has been written so far.
そして、撮像装置における前記した消去動作は、時間軸
上で相次ぐ新らたな光学像の書込みが行われる以前にお
ける予め定められた時間中に行われるのであり、それは
光検出器PDから出力させる映像信号における垂直帰線
消去期間と対応して行われるように、光検出器PDから
出力させる映像信号における垂直帰線消去期間と対応し
て、第3図を参照して既述したように光一光変換素子の
端子5,6間に接続されている切換スイッチSWにおけ
る切換制御信号の入力端子11に供給された切換制御信
号により、切換スイッチSWの可動接点を固定接点E側
に切換えた状態にし、前記した透明電極3,4間を電気
的に短絡して透明電極3,4を同電位にし、光導電層7
の両端間に電界が加わらないようにするとともに、消去
光の光源PSeから消去光ELを放射させ、その消去光
ELがビームスプリッタBS1,BS2を介して光一光変換
素子PPCにおけるガラス板2側から入射されるように
するのである。Then, the erasing operation in the image pickup device is performed during a predetermined time period before writing new optical images one after another on the time axis, which is an image output from the photodetector PD. Corresponding to the vertical blanking period in the video signal output from the photodetector PD, as described above with reference to FIG. The movable contact of the changeover switch SW is changed to the fixed contact E side by the changeover control signal supplied to the input terminal 11 of the changeover control signal in the changeover switch SW connected between the terminals 5 and 6 of the conversion element, The transparent electrodes 3 and 4 are electrically short-circuited to make the transparent electrodes 3 and 4 have the same potential, and the photoconductive layer 7
The erasing light EL is emitted from the light source PSe of the erasing light, and the erasing light EL is emitted from the glass plate 2 side of the light-to-light conversion element PPC via the beam splitters BS1 and BS2. Make it incident.
前記のように光一光変換素子のガラス板2側に入射した
消去光ELは、第3図について既述したようにガラス板
2→透明電極4→ニオブ酸リチウム単結晶9→光学部材
8R(読出光の波長域の光を反射させるとともに、消去
光の波長域の光を透過させうるような波長選択性を有す
る光学部材8R)→光導電層7のような経路で光導電層
7に到達して、その消去光ELにより光導電層7の電気
抵抗値を低下させ、光導電層7と光学部材8Rとの境界
面に形成されていた電荷像が消去される。As described above with reference to FIG. 3, the erasing light EL incident on the glass plate 2 side of the light-to-light conversion element is the glass plate 2 → transparent electrode 4 → lithium niobate single crystal 9 → optical member 8R (readout). An optical member 8R having a wavelength selectivity capable of reflecting light in the wavelength range of light and transmitting light in the wavelength range of erasing light → reaches the photoconductive layer 7 by a route such as the photoconductive layer 7. Then, the erasing light EL reduces the electric resistance value of the photoconductive layer 7, and the charge image formed on the boundary surface between the photoconductive layer 7 and the optical member 8R is erased.
(発明の効果) 以上、詳細に説明したところから明らかなように本発明
は、透明電極と、光導電層と、読出光の波長域の光を反
射させるとともに、消去光の波長域の光を透過させうる
ような波長選択性を有する光学部材と、印加された電界
の強度分布に応じて光の状態を変化させる光学部材と、
透明電極とを積層してなる光一光変換素子、及び2つの
透明電極の間に少なくとも光導電層部材と、読出光の波
長域の光を反射させるとともに、消去光の波長域の光を
透過させうるような波長選択性を有する誘電体ミラー
と、印加された電界の強度分布に応じて光の状態を変化
させる光変調材層部材とを積層してなる光一光変換素子
における光導電層部材側に被写体からの光を入射させて
光一光変換素子に被写体の光学像と対応する電荷像を生
成させる手段と、光一光変換素子の光変調材層部材側か
ら光一光変換素子に入射させた読出し光によって、前記
した被写体の光学像と対応する電荷像を光学像として読
出す手段と、前記した被写体の光学像と対応する電荷像
の消去手段とを備えてなる撮像装置、ならびに2つの透
明電極の間に少なくとも光導電層部材と、読出光の波長
域の光を反射させるとともに、消去光の波長域の光を透
過させうるような波長選択性を有する誘電体ミラーと、
印加された電界の強度分布に応じて光の状態を変化させ
る光変調材層部材とを積層してなる光一光変換素子にお
ける光導電層部材側に被写体からの光を入射させて光一
光変換素子に被写体の光学像と対応する電荷像を生成さ
せる手段と、光一光変換素子の光変調材層部材側から光
一光変換素子に入射させた読出し光によって、前記した
被写体の光学像と対応する電荷像を光学像として読出す
手段と、前記した被写体の光学像と対応する電荷像の消
去手段とを備えてなる撮像装置において、前記した被写
体の光学像が与えられるべき光一光変換素子に対する読
出し光の入射光路中に、印加電界の強度分布に応じて光
の状態が変化する光変調材層部材を含んで構成されてい
るシェーディング補正用光学部材を設けるとともに、前
記した光一光変換素子における光変調材層部材の不所望
な複屈折状態と対応して再生光学像に生じる光のシェー
ディングを補正できるようなシェーディング補正用電界
を前記したシェーディング補正用光学部材に与える補正
信号発生部とを備えてなる撮像装置であるから、本発明
の光一光変換素子は書込み光WLが入射される側に撮像
光学系を設けることが必要とされているような構成の撮
像装置、その他、書込み光WLが入射される側に消去光
の入射装置を設けることが困難な事情のある構成態様の
装置にも容易に適用することができ、本発明の光一光変
換素子によれば既述した従来の光一光変換素子における
問題点を良好に解決することができ、また、印加された
電界の強度分布に応じて光の状態を変化させる光学部材
を含んで構成されている光一光変換素子において、印加
された電界の強度分布に応じて光の状態を変化させる光
学部材として、例えばニオブ酸リチウム単結晶のような
異方性結晶が用いられるような場合に、異方性結晶中を
通過する常光線と異常光線との位相差が、前記のように
異方性結晶に印加された電界強度に応じて変化するだけ
ではなく、周知のように異方性結晶の厚さによっても変
化するということから、前記のように光一光変換素子に
おいて使用される異方性結晶の厚さが高い精度で一定な
ものとして作られていないと、光一光変換素子から読出
された再生像にシェーディングを生じさせることが問題
になるが、本発明の撮像装置では異方性結晶の厚さむら
に基づいて異方性結晶に生じる不所望な複屈折状態を補
正して再生光学像に光のシェーディングが生じないよう
な状態となるように、光一光変換素子PPCに対する読
出し光の入射光路中に、印加電界の強度分布に応じて光
の状態が変化する光変調材層部材を含んで構成されてい
るシェーディング補正用光学部材SCAを設置してお
き、そのシェーディング補正用光学部材SCAによって
前以って読出し光RLに対して再生光学像に光のシェー
ディングが生じないように補正するようにしたので、再
生光学像にシェーディングが生じないようにできるので
ある。(Effects of the Invention) As is apparent from the above description, according to the present invention, the transparent electrode, the photoconductive layer, the light in the wavelength range of the reading light, and the light in the wavelength range of the erasing light are reflected. An optical member having wavelength selectivity that allows transmission, and an optical member that changes the state of light according to the intensity distribution of the applied electric field,
A light-to-light conversion element in which a transparent electrode is laminated, and at least a photoconductive layer member between two transparent electrodes, which reflects light in the wavelength range of read light and transmits light in the wavelength range of erase light. Photoconductive layer member side in a photo-to-optical conversion element in which a dielectric mirror having such wavelength selectivity and a light modulation material layer member that changes the state of light according to the intensity distribution of an applied electric field are laminated. Means for injecting light from the subject into the light-to-light conversion element to generate a charge image corresponding to the optical image of the subject, and reading the light-to-light conversion element from the light modulation material layer member side of the light-to-light conversion element An image pickup device provided with means for reading out a charge image corresponding to the optical image of the subject as an optical image by light, and a means for erasing the charge image corresponding to the optical image of the subject, and two transparent electrodes. Less during A photoconductive layer member also causes reflected light in a wavelength range of the reading light, a dielectric mirror having wavelength selectivity such as may not transmit light in the wavelength region of the erasing light,
Light-to-light conversion element in which light from a subject is incident on the photoconductive layer member side of a light-to-light conversion element formed by laminating a light modulation material layer member that changes the state of light according to the intensity distribution of an applied electric field Means for generating a charge image corresponding to the optical image of the subject, and the read light incident on the light-to-light converting element from the light modulation material layer member side of the light-to-light converting element, the charge corresponding to the optical image of the object described above. In an image pickup apparatus comprising means for reading an image as an optical image and means for erasing the charge image corresponding to the optical image of the subject, read light for the light-to-light conversion element to which the optical image of the subject is to be given. In the incident optical path of, the shading correction optical member including the light modulation material layer member whose state of light changes according to the intensity distribution of the applied electric field is provided, and the light-to-light conversion described above is performed. A correction signal generator that gives a shading correction electric field to the shading correction optical member so as to correct the shading of light generated in the reproduced optical image corresponding to the undesired birefringence state of the light modulation material layer member in the child. Therefore, the light-to-light conversion element of the present invention is an image pickup device having a configuration in which an image pickup optical system is required to be provided on the side where the write light WL is incident, and The present invention can be easily applied to a device having a configuration mode in which it is difficult to provide an erasing light incident device on the side where the WL is incident. A light-to-light conversion device which can satisfactorily solve the problems in the light-to-light conversion device and which includes an optical member that changes the state of light according to the intensity distribution of the applied electric field. When an anisotropic crystal such as a lithium niobate single crystal is used as an optical member that changes the state of light in accordance with the intensity distribution of an applied electric field, the anisotropic crystal is The phase difference between the ordinary ray and the extraordinary ray passing through does not only change according to the electric field strength applied to the anisotropic crystal as described above, but also changes according to the thickness of the anisotropic crystal as is well known. Therefore, if the thickness of the anisotropic crystal used in the light-to-light conversion element is not made to be highly accurate and constant as described above, the reproduced image read from the light-to-light conversion element is shaded. However, in the image pickup apparatus of the present invention, an undesired birefringence state generated in the anisotropic crystal is corrected based on the unevenness of the thickness of the anisotropic crystal to shade the reproduced optical image. Does not occur For correcting shading, the light modulation material layer member whose light state changes according to the intensity distribution of the applied electric field is included in the incident light path of the reading light with respect to the light-to-light conversion element PPC. Since the optical member SCA is installed and the shading correction optical member SCA is used to correct the reading light RL so as not to cause light shading in the reproduced optical image, the reproduced optical image is corrected. It is possible to prevent shading.
第1図は本発明の光一光変換素子の一実施例の側面図、
第2図は読出光の波長域の光を反射させるとともに、消
去光の波長域の光を透過させうるような波長選択性を有
する光学部材の波長選択特性例を示す特性曲線例図、第
3図は第1図に示す本発明の一実施例の光一光変換素子
の動作説明用のブロック図、第4図及び第5図は本発明
の一実施例の光一光変換素子を用いて構成したそれぞれ
異なる撮像装置の概略構成を示す斜視図、第6図は動作
説明用の波形図、第7図は問題点を説明するための光学
部材の側面図、第8図は光一光変換素子の従来例のブロ
ック図である。 1,2…ガラス板、3,4…透明電極、5,6…端子、
7…光導電層、8…誘電体ミラー、8R…読出光の波長
域の光を反射させるとともに、消去光の波長域の光を透
過させうるような波長選択性を有する光学部材、9…印
加された電界の強度分布に応じて光の状態を変化させる
光学部材、10…電源、11…端子、12…遮光層、W
L…書込み光、RL…読出し光、EL…消去光、SW…
切換スイッチ、13,14…電極、SCA…印加電界の
強度分布に応じて光の状態が変化する光変調材層部材を
含んで構成されているシェーディング補正用光学部材、
PPC…光一光変換素子、CSG…補正信号発生部、P
DEF…光偏向器、L…撮像レンズ、PLP…偏光板、FIG. 1 is a side view of an embodiment of the light-to-light conversion element of the present invention,
FIG. 2 is a characteristic curve example diagram showing an example of wavelength selection characteristics of an optical member having a wavelength selectivity capable of reflecting light in the wavelength range of read light and transmitting light in the wavelength range of erase light. FIG. 1 is a block diagram for explaining the operation of the light-to-light conversion element of one embodiment of the present invention shown in FIG. 1, and FIGS. 4 and 5 are constructed using the light-to-light conversion element of one embodiment of the present invention. FIG. 6 is a perspective view showing a schematic configuration of each different image pickup device, FIG. 6 is a waveform diagram for explaining the operation, FIG. 7 is a side view of an optical member for explaining the problem, and FIG. 8 is a conventional optical-to-optical conversion element. FIG. 3 is a block diagram of an example. 1, 2 ... Glass plate, 3, 4 ... Transparent electrode, 5, 6 ... Terminal,
Reference numeral 7 ... Photoconductive layer, 8 ... Dielectric mirror, 8R ... Optical member having wavelength selectivity capable of reflecting light in the wavelength range of read light and transmitting light in the wavelength range of erase light, 9 ... Optical member for changing the state of light according to the intensity distribution of the generated electric field, 10 ... Power source, 11 ... Terminal, 12 ... Light shielding layer, W
L ... writing light, RL ... reading light, EL ... erasing light, SW ...
Changeover switches, 13, 14 ... Electrodes, SCA ... Shading correction optical member including an optical modulation material layer member whose light state changes according to the intensity distribution of the applied electric field,
PPC ... Optical-to-optical conversion element, CSG ... Correction signal generator, P
DEF ... Optical deflector, L ... Imaging lens, PLP ... Polarizing plate,
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 浅倉 伝 神奈川県横浜市神奈川区守屋町3丁目12番 地 日本ビクター株式会社内 (72)発明者 古屋 正人 神奈川県横浜市神奈川区守屋町3丁目12番 地 日本ビクター株式会社内 (56)参考文献 特開 昭54−94058(JP,A) 特開 昭41−60243(JP,A) 特開 昭55−74514(JP,A) ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Den Asakura, 12-12 Moriya-cho, Kanagawa-ku, Yokohama, Kanagawa Prefecture, Japan Victor Company of Japan, Ltd. (72) Masato Furuya 3--12, Moriya-cho, Kanagawa-ku, Yokohama Address within Victor Company of Japan (56) Reference JP-A-54-94058 (JP, A) JP-A-41-60243 (JP, A) JP-A-55-74514 (JP, A)
Claims (3)
の光を反射させるとともに、消去光の波長域の光を透過
させうるような波長選択性を有する光学部材と、印加さ
れた電界の強度分布に応じて光の状態を変化させる光学
部材と、透明電極とを積層してなる光一光変換素子1. A transparent electrode, a photoconductive layer, and an optical member having a wavelength selectivity capable of reflecting light in the wavelength range of read light and transmitting light in the wavelength range of erase light. Optical-to-optical conversion element formed by stacking a transparent electrode and an optical member that changes the state of light according to the intensity distribution of the electric field
部材と、読出光の波長域の光を反射させるとともに、消
去光の波長域の光を透過させうるような波長選択性を有
する誘電体ミラーと、印加された電界の強度分布に応じ
て光の状態を変化させる光変調材層部材とを積層してな
る光一光変換素子における光導電層部材側に被写体から
の光を入射させて光一光変換素子に被写体の光学像と対
応する電荷像を生成させる手段と、光一光変換素子の光
変調材層部材側から光一光変換素子に入射させた読出し
光によって、前記した被写体の光学像と対応する電荷像
を光学像として読出す手段と、前記した被写体の光学像
と対応する電荷像の消去手段とを備えてなる撮像装置2. At least a photoconductive layer member between two transparent electrodes and a dielectric having a wavelength selectivity capable of reflecting light in the wavelength range of read light and transmitting light in the wavelength range of erase light. The light from the subject is made incident on the photoconductive layer member side of the light-to-light conversion element in which the body mirror and the light modulation material layer member that changes the state of light according to the intensity distribution of the applied electric field are laminated. An optical image of the subject described above by means for causing the light-to-light conversion element to generate a charge image corresponding to the optical image of the subject and read-out light incident on the light-to-light conversion element from the light modulation material layer member side of the light-to-light conversion element. An image pickup device comprising means for reading out an electric charge image corresponding to the optical image as an optical image, and means for erasing the electric charge image corresponding to the optical image of the subject described above.
部材と、読出光の波長域の光を反射させるとともに、消
去光の波長域の光を透過させうるような波長選択性を有
する誘電体ミラーと、印加された電界の強度分布に応じ
て光の状態を変化させる光変調材層部材とを積層してな
る光一光変換素子における光導電層部材側に被写体から
の光を入射させて光一光変換素子に被写体の光学像と対
応する電荷像を生成させる手段と、光一光変換素子の光
変調材層部材側から光一光変換素子に入射させた読出し
光によって、前記した被写体の光学像と対応する電荷像
を光学像として読出す手段と、前記した被写体の光学像
と対応する電荷像の消去手段とを備えてなる撮像装置に
おいて、前記した被写体の光学像が与えられるべき光一
光変換素子に対する読出し光の入射光路中に、印加電界
の強度分布に応じて光の状態が変化する光変調材層部材
を含んで構成されているシェーディング補正用光学部材
を設けるとともに、前記した光一光変換素子における光
変調材層部材の不所望な複屈折状態と対応して再生光学
像に生じる光のシェーディングを補正できるようなシェ
ーディング補正用電界を前記したシェーディング補正用
光学部材に与える補正信号発生部とを備えてなる撮像装
置3. At least a photoconductive layer member between two transparent electrodes, and a dielectric having wavelength selectivity such that light in the wavelength region of read light is reflected and light in the wavelength region of erase light is transmitted. The light from the subject is made incident on the photoconductive layer member side of the light-to-light conversion element in which the body mirror and the light modulation material layer member that changes the state of light according to the intensity distribution of the applied electric field are laminated. An optical image of the subject described above by means for causing the light-to-light conversion element to generate a charge image corresponding to the optical image of the subject and read-out light incident on the light-to-light conversion element from the light modulation material layer member side of the light-to-light conversion element. In an image pickup device comprising a means for reading out a charge image corresponding to the optical image as an optical image and a means for erasing the charge image corresponding to the optical image of the subject, light-to-light conversion to which the optical image of the subject should be given. To the element In the incident light path of the reading light, a shading correction optical member including a light modulation material layer member whose light state changes according to the intensity distribution of the applied electric field is provided, and in the light-to-light conversion element described above. A shading correction electric field for correcting shading of light generated in a reproduced optical image corresponding to an undesired birefringence state of the light modulation material layer member; Imaging device
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63113304A JPH068935B2 (en) | 1987-12-02 | 1988-05-10 | Light-to-light conversion element |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30544287 | 1987-12-02 | ||
| JP62-305442 | 1987-12-02 | ||
| JP63113304A JPH068935B2 (en) | 1987-12-02 | 1988-05-10 | Light-to-light conversion element |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02820A JPH02820A (en) | 1990-01-05 |
| JPH068935B2 true JPH068935B2 (en) | 1994-02-02 |
Family
ID=26452293
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63113304A Expired - Lifetime JPH068935B2 (en) | 1987-12-02 | 1988-05-10 | Light-to-light conversion element |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH068935B2 (en) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE69119245T2 (en) * | 1990-02-28 | 1996-08-14 | Victor Company Of Japan | Color imaging system |
| CN115840305B (en) * | 2022-11-10 | 2025-08-22 | 昆山国显光电有限公司 | Display panel and display device |
-
1988
- 1988-05-10 JP JP63113304A patent/JPH068935B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02820A (en) | 1990-01-05 |
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