JPH0693296A

JPH0693296A - 洗浄剤組成物

Info

Publication number: JPH0693296A
Application number: JP26948692A
Authority: JP
Inventors: Toshiaki Tezuka; 利明手塚; Kunihisa Koo; 邦寿小尾; Manabu Tomitani; 学富谷
Original assignee: Olympus Optical Co Ltd
Current assignee: Olympus Corp
Priority date: 1992-09-11
Filing date: 1992-09-11
Publication date: 1994-04-05

Abstract

(57)【要約】【目的】洗浄力、プリント基板に対する影響力、水リ
ンス性、排水処理性を備えた水系洗浄剤を提供する。【構成】ｐ−サイメン、ｐ−メンタン、γ−テルピネ
ン、ターピノーレン、ジヒドロターピネオールなどの水
素化テルペン類と、ポリオキシエチレンアルキルエーテ
ル類などの界面活性剤とを混合した組成物により、水系
洗浄剤を構成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は電気回路、電子回路が形
成されたプリント基板の洗浄に使用される洗浄用組成物
に関する。

【０００２】

【従来の技術】電気回路を構成するプリント基板は電子
部品が半田付けにより実装されるが、近年の電子部品の
小型化および高密度実装化に伴い、回路パターン幅も高
密度となっている。また、このようなプリント基板では
電子部品実装後の基板表面に対して、高レベルの清浄度
が要求されている。このため、高清浄度でプリント基板
の表面を洗浄して汚れを除去する必要があるが、この汚
れの内、問題となるのはフラックス成分である。このフ
ラックスは半田付け以前の表面処理として必須の材料で
あるが、これがプリント基板の表面に残留していると、
腐蝕が促進されて回路破壊の原因となるためである。

【０００３】従来のプリント基板の洗浄剤としては、フ
ッ素系溶剤とアルコール系溶剤との混合組成物が使用さ
れてきた。これは、この洗浄剤が高い洗浄能力を有し、
プリント基板に対する影響が少ないと共に安全性が高い
特性を有するためである。ところが、この洗浄剤はオゾ
ン層を破壊する環境問題による世界的なハロゲン系溶剤
の廃止の動向から将来的に使用が規制される問題があ
る。このため、フッ素系溶剤を含有しない洗浄剤の開発
がなされている。この洗浄剤としては、そのほとんどが
洗浄の後工程で水によるリンスを必要とする水系溶剤で
あり、例えば、アルカリ石鹸を洗浄中心成分としたアル
カリケン化タイプの洗浄剤、米国特許第４，５１１，４
８８号明細書、同第４，６４０，７１９号明細書および
同第４，７４０，２４７号明細書に記載されるようにテ
ルペン類を洗浄力の主体とする洗浄剤、特開平３−１４
０４８６号公報に記載されるように有機溶剤と界面活性
剤とを任意に組み合わせた洗浄剤がある。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】上述した水系洗浄剤
は、いずれもハロゲン系溶剤による洗浄理論とは異なっ
ており、これに伴って洗浄槽構成の個々の変更が必要と
なっている。即ち、アルカリケン化タイプの洗浄剤は洗
浄力自体の選択性が高い上に、水によるリンス工程が長
く、しかも排水処理の負荷が大きいという問題点があ
る。また、テルペン類洗浄剤は、アルカリケン化タイプ
の欠点を解消した高い洗浄能力を有するが、後工程で行
われる水による洗浄液のリンス性が悪いという課題を有
する。一方、有機溶剤と界面活性剤との組み合わせから
なる洗浄剤も、有機溶剤固有の特性が強い傾向があり、
プリント基板材料への悪影響があると共に、排水の生物
分解性、安全性等が低い問題がある。

【０００５】以上のとおり従来の水系洗浄剤は、いずれ
もプリント基板の洗浄剤としての要求に完全に対応でき
るものは存在しないが、水リンス工程の有用性が高い
為、改良によるプリント基板の洗浄への適用性が求めら
れている。プリント基板の洗浄剤に必要な基本性能は、
汚れそのもの落とす洗浄力を有すると共に基板に対する
アタック性が低いこと、さらには、水による洗浄液のリ
ンスが容易なことである。加えて、洗浄剤をリンスした
ときに発生するリンス水の処理についても公害防止、水
質汚濁防止の観点から排水処理の負荷が低い材料の選択
が必要となっている。そこで、本発明はこれらの課題を
解消した水系の洗浄剤組成物を提供することを目的とす
る。

【０００６】

【課題を解決するための手段および作用】上記目的を達
成するため本発明者が鋭意研究した結果、特定の水素化
テルペン類と、特定の界面活性剤とを組み合わせた組成
物が水素洗浄剤として洗浄対象物に対する影響がなく、
かつ十分な清浄度を得られ、かつ水で簡単に洗い流せる
ことを見出し、この知見に基づいて本発明を完成したも
のである。これは水素化テルペン類が汚れ溶解力が大き
く、かつ基板に対する影響が少ない特性を有することを
見出し、しかも水素化テルペン類に組み合わせた場合に
最高の機能を発現し、生物分解性が良好な界面活性剤を
見出した結果である。

【０００７】すなわち、本発明の洗浄剤組成物は、水素
化テルペン類と界面活性剤とからなることを特徴とす
る。ここで水素化テルペン類としては、ｐ−サイメン、
ｐ−メンタン、γ−テルピネン、ターピノーレン、ジヒ
ドロターピネオール等の水素添加テルペン類の内の１種
または２種以上を選択できる。これらの水素添加テルペ
ン類はフラックスに対して大きな洗浄力を有すると共
に、一定の能力を維持する特性を有しており、１０〜５
０重量％の範囲内で混合される。

【０００８】一方、界面活性剤は水リンス性を確保する
ために使用されるものであり、５０〜９０重量％の範囲
で混合される。この界面活性剤についてはカチオン系あ
るいはノニオン系が使用可能であるが、水素化テルペン
類との組み合わせ性および生物分解性を考慮した場合、
ノニオン系のポリオキシエチレンアルキルエーテル類が
最適である。本発明では、これらに加えてハイドロトロ
ーブ、安全剤等を必要に応じて数％〜数１０％添加する
ことができる。本発明の洗浄剤組成物の使用にあたって
は、通常の水系洗浄剤を使った場合と同じ方法が使用可
能である。即ち、洗浄においてはシャワー洗浄、超音波
洗浄、ブラシ洗浄、噴流洗浄を適宜使用でき、これらの
洗浄後においては、水によるリンス工程を経て、温風乾
燥による水の除去が行われる。

【０００９】

【実施例】以下、本発明を実施例により具体的に説明す
るが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではな
い。表１における実施例欄Ｎｏ．１〜Ｎｏ．４０に示す
配合比で水素化テルペン類と界面活性剤とを混合して洗
浄剤組成物を作成し、これらの洗浄剤組成物を汚れ除去
性試験、基板アタック性試験、水リンス性試験および排
水処理性試験に供した。なお、比較例として、リモネン
単独、水単独、これらの混合液を同様に試験に供した。
以下、各試験の方法および判定基準を項分けで説明し、
その結果を表１および表２に示す。なお、表１および表
２においてＰＯＥはポリオキシエチレンを示す。

【００１０】

【表１】

【００１１】

【表２】

【００１２】（１）汚れの除去表面に電子部品を実装したプリント基板をテストピース
とし、このプリント基板を６０℃に保った各洗浄剤に浸
漬して、５分間超音波洗浄し、プリント基板からのフラ
ックスの除去性を目視で判定した。表１の汚れ除去性判
定欄において、○印はフラックスの汚れ残りのない清浄
状態を、△印は一部にフラックスの汚れが残ったもの
を、×印はほとんどのフラックス汚れが残ったものを示
す。

【００１３】（２）基板に対するアタック性ポリカーボネート、ポリフェニレンオキシド、ポリアセ
タール（商品名デルリン）、ポリエチレン、ポリエーテ
ルイミド、ポリエチレンテレフタレート、ＡＢＳ樹脂、
ポリフェニレンサルファイド、フェノール樹脂、エポキ
シ樹脂、ナイロン６，６、ナイロン６およびポリ塩化ビ
ニル樹脂の各プラスチック基板およびステンレス、真
鍮、アルミニウムおよび銅の各金属基板をそれぞれの洗
浄剤に室温下で１昼夜浸漬して放置した後、各基板に対
するアタック性を確認した。表１の基板アタック性判定
欄において、○印はいずれの材料においても、その表面
状態の変化がないものを、△印は一部の材料に変化があ
ったものを、×印は多くの材料が変質したものを示す。

【００１４】（３）水リンス性各洗浄剤をプリント基板の表面に塗布した後、水で５分
間リンスし、その表面状態を目視観察した。表１の水リ
ンス性判定欄において、○印は均一な表面状態を確認し
たものを、△印は表面の一部にムラがあったものを、×
印は表面がほとんどリンスされていないものを示す。

【００１５】（４）排水処理性各洗浄剤をＪＩＳＫ０１０２１７に準拠して、そ
のＣＯＤを測定した。表１の排水処理判定欄において、
○印は１日経過時に８０％以上の生物分解性を示したも
の、△印は１日経過時に５０％以上８０％未満の生物分
解性を示したもの、×印は１日経過時に５０％以下の生
物分解性を示したものである。

【００１６】

【発明の効果】以上のとおり、本発明の洗浄剤組成物
は、洗浄力、基板に対する影響力、水リンス性、排水処
理性などの洗浄液に必要な基本性能を十分に備え、水系
洗浄剤としての有用性を備えたものとすることができ
る。

─────────────────────────────────────────────────────

【手続補正書】

【提出日】平成５年９月１０日

【手続補正１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】０００６

【補正方法】変更

【補正内容】

【０００６】

【課題を解決するための手段および作用】上記目的を達
成するため本発明者が鋭意研究した結果、特定の水素化
テルペン類と、特定の界面活性剤とを組み合わせた組成
物が水系洗浄剤として洗浄対象物に対する影響がなく、
かつ十分な清浄度を得られ、かつ水で簡単に洗い流せる
ことを見出し、この知見に基づいて本発明を完成したも
のである。これは水素化テルペン類が汚れ溶解力が大き
く、かつ基板に対する影響が少ない特性を有することを
見出し、しかも水素化テルペン類に組み合わせた場合に
最高の機能を発現し、生物分解性が良好な界面活性剤を
見出した結果である。

【手続補正２】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】０００７

【補正方法】変更

【補正内容】

【０００７】すなわち、本発明の洗浄剤組成物は、水素
化テルペン類と界面活性剤とからなることを特徴とす
る。ここで水素化テルペン類としては、ｐ−サイメン、
ｐ−メンタン、γ−テルピネン、ターピノーレン、ジヒ
ドロターピネオール等の水素化テルペン類の内の１種ま
たは２種以上を選択できる。これらの水素化テルペン類
はフラックスに対して大きな洗浄力を有すると共に、一
定の能力を維持する特性を有しており、１０〜５０重量
％の範囲内で混合される。

【手続補正３】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】０００８

【補正方法】変更

【補正内容】

【０００８】一方、界面活性剤は水リンス性を確保する
ために使用されるものであり、５０〜９０重量％の範囲
で混合される。この界面活性剤についてはカチオン系あ
るいはノニオン系が使用可能であるが、水素化テルペン
類との組み合わせ性および生物分解性を考慮した場合、
ノニオン系のポリオキシエチレンアルキルエーテル類が
最適である。本発明では、これらに加えてハイドロトロ
ープ、安全剤等を必要に応じて数％〜数１０％添加する
ことができる。本発明の洗浄剤組成物の使用にあたって
は、通常の水系洗浄剤を使った場合と同じ方法が使用可
能である。即ち、洗浄においてはシャワー洗浄、超音波
洗浄、ブラシ洗浄、噴流洗浄を適宜使用でき、これらの
洗浄後においては、水によるリンス工程を経て、温風乾
燥による水の除去が行われる。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】水素化テルペン類と界面活性剤とからな
ることを特徴とする洗浄剤組成物。
【請求項２】前記水素化テルペン類はｐ−サイメン、
ｐ−メンタン、γ−テルピネン、ターピノーレン、ジヒ
ドロターピネオールの内のいずれか、または２以上の組
み合わせであることを特徴とする請求項１記載の洗浄剤
組成物。
【請求項３】前記界面活性剤はポリオキシエチレンア
ルキルエーテル類であることを特徴とする請求項１記載
の洗浄剤組成物。