JPH0693477B2 - イオン注入装置 - Google Patents
イオン注入装置Info
- Publication number
- JPH0693477B2 JPH0693477B2 JP61248786A JP24878686A JPH0693477B2 JP H0693477 B2 JPH0693477 B2 JP H0693477B2 JP 61248786 A JP61248786 A JP 61248786A JP 24878686 A JP24878686 A JP 24878686A JP H0693477 B2 JPH0693477 B2 JP H0693477B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- transfer system
- wafer
- substrate
- ion implantation
- detection
- Prior art date
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- Expired - Lifetime
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- Multi-Process Working Machines And Systems (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Safety Devices In Control Systems (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 ［発明の目的］ （産業上の利用分野） 本発明はイオン注入装置の基板搬送系監視装置に係り、
特に複数の基板搬送系監視機構を具備したイオン注入装
置に関する。
特に複数の基板搬送系監視機構を具備したイオン注入装
置に関する。
（従来の技術） 近年半導体ウエハ等の被処理基板に例えばＢ、Ｐ、As等
の不純物原子を注入して半導体基板を処理するイオン注
入装置が広く普及している。
の不純物原子を注入して半導体基板を処理するイオン注
入装置が広く普及している。
このイオン注入装置では被処理基板例えば半導体ウエハ
の搬送は、半導体ウエハを大気中から予備真空室を介し
て真空処理室に搬入し、イオン注入処理後に半導体ウエ
ハを再び予備真空室を介して大気中に搬出するという構
造となっているので半導体ウエハを搬送するためのウエ
ハ搬送系が設けられている。
の搬送は、半導体ウエハを大気中から予備真空室を介し
て真空処理室に搬入し、イオン注入処理後に半導体ウエ
ハを再び予備真空室を介して大気中に搬出するという構
造となっているので半導体ウエハを搬送するためのウエ
ハ搬送系が設けられている。
ところでこのウエハ搬送系においては、搬送機構にトラ
ブルが発生した場合にこれをすみやかに検出し、後工程
に影響を与えることがないようにウエハ搬送系監視装置
が設けられている。このウエハ搬送系監視装置は搬送系
監視制御装置と、ウエハ搬送系内各所に設けられた多数
の検出装置から成る検出部とから構成されており、検出
部からの情報を搬送系監視装置に入力してウエハ搬送系
の動作・状態を常に監視している。
ブルが発生した場合にこれをすみやかに検出し、後工程
に影響を与えることがないようにウエハ搬送系監視装置
が設けられている。このウエハ搬送系監視装置は搬送系
監視制御装置と、ウエハ搬送系内各所に設けられた多数
の検出装置から成る検出部とから構成されており、検出
部からの情報を搬送系監視装置に入力してウエハ搬送系
の動作・状態を常に監視している。
（発明が解決しようとする問題点） しかしながら従来のウエハ搬送系監視装置はひとつのウ
エハ搬送系に対してひとつしか設けられておらず、搬送
系監視制御装置に異常が発生した状態で検出部から次の
異常信号が入力されてもこれを見逃してしまうという問
題があり、イオン注入装置全体の依頼性低下の原因とな
っていた。
エハ搬送系に対してひとつしか設けられておらず、搬送
系監視制御装置に異常が発生した状態で検出部から次の
異常信号が入力されてもこれを見逃してしまうという問
題があり、イオン注入装置全体の依頼性低下の原因とな
っていた。
本発明は上述した問題点を解決するために成されたもの
で、信頼性の高いイオン注入装置を提供することを目的
とする。
で、信頼性の高いイオン注入装置を提供することを目的
とする。
［発明の構成］ （問題点を解決するための手段） 本発明のイオン注入装置は、イオン注入位置と被処理基
板収納容器との間で被処理基板を搬送する基板搬送系の
動作・状態を検出する少なくとも一系統の検出手段と、
この検出手段からの情報を入力して前記基板搬送系の動
作・状態を監視する少なくとも二系統の搬送系監視手段
と、これら搬送系監視手段からの信号により前記基板搬
送系の動作・状態を制御する制御手段と、イオン注入処
理済の基板数を表示する基板処理枚数表示手段とを備え
たことを特徴とするものである。
板収納容器との間で被処理基板を搬送する基板搬送系の
動作・状態を検出する少なくとも一系統の検出手段と、
この検出手段からの情報を入力して前記基板搬送系の動
作・状態を監視する少なくとも二系統の搬送系監視手段
と、これら搬送系監視手段からの信号により前記基板搬
送系の動作・状態を制御する制御手段と、イオン注入処
理済の基板数を表示する基板処理枚数表示手段とを備え
たことを特徴とするものである。
（作 用） 本発明では、ウエハ搬送系監視部を複数設け、これら複
数のウエハ搬送系監視部でウエハ搬送系の監視を行なう
ことにより、一方の監視部が動作不良になっても他方の
監視部で制御可能にできる信頼性の高いイオン注入作業
が行なえる。
数のウエハ搬送系監視部でウエハ搬送系の監視を行なう
ことにより、一方の監視部が動作不良になっても他方の
監視部で制御可能にできる信頼性の高いイオン注入作業
が行なえる。
（実施例） 以下本発明の一実施例について図を参照にして説明す
る。
る。
第１図は実施例のウエハ搬送系監視装置の構成を示すも
ので、第３図に示す半導体ウエハ２を真空室外に設けら
れたウエハカセット１から取出して真空室であるイオン
注入処理室へと搬送し、処理室でプラテンに装着してイ
オン注入作業終了後、再びウエハカセット１へと搬送帰
還するウエハ搬送系が構成されている。この搬送系の各
要所には、多数の搬送系検出装置例えば真空室のウエハ
出入時に開閉するバルブ開閉状態を確認するための検出
機構10a、半導体ウエハの搬送に際し半導体ウエハを保
持するピックの昇降状態を検出するピック昇降検出機構
10b、各工程における半導体ウエハの搬送位置を確認す
るための複数のウエハ位置検出機構10c等が設けられ
て、ウエハ搬送系監視系の検出部10が構成される。これ
ら機構の具体例はホトカプラ、圧電センサ、ドアスイッ
チ等を用いることができる。
ので、第３図に示す半導体ウエハ２を真空室外に設けら
れたウエハカセット１から取出して真空室であるイオン
注入処理室へと搬送し、処理室でプラテンに装着してイ
オン注入作業終了後、再びウエハカセット１へと搬送帰
還するウエハ搬送系が構成されている。この搬送系の各
要所には、多数の搬送系検出装置例えば真空室のウエハ
出入時に開閉するバルブ開閉状態を確認するための検出
機構10a、半導体ウエハの搬送に際し半導体ウエハを保
持するピックの昇降状態を検出するピック昇降検出機構
10b、各工程における半導体ウエハの搬送位置を確認す
るための複数のウエハ位置検出機構10c等が設けられ
て、ウエハ搬送系監視系の検出部10が構成される。これ
ら機構の具体例はホトカプラ、圧電センサ、ドアスイッ
チ等を用いることができる。
この検出部10で検出されたウエハ搬送系の動作状態検出
信号は搬送系監視制御部11と補助搬送系監視制御部12へ
それぞれ入力される。
信号は搬送系監視制御部11と補助搬送系監視制御部12へ
それぞれ入力される。
補助搬送系監視制御部12では、検出部10から入力された
検出信号によりウエハ搬送系の動作状態を監視し、信号
が入力された場合は、検出部異常信号を搬送系監視制御
部11へと出力例えば異常信号を出力した検出部情報と共
に出力し表示する。一方搬送系監視制御部11にも検出部
10から各検出部からの検出信号が供給されており、動作
状態を監視することは勿論異常信号の内容に応じて、当
該異常部の搬送を停止制御する。すなわち２系統で監視
する。また、ウエハ処理終了時にウエハ処理終了信号を
出力してウエハ処理数表示部13にウエハ処理終了枚数を
表示させる。ウエハ処理数表示部13としては、例えばウ
エハ処理枚数をひとつずつLED表示するパネルを設けて
これに点灯表示させてもよい。
検出信号によりウエハ搬送系の動作状態を監視し、信号
が入力された場合は、検出部異常信号を搬送系監視制御
部11へと出力例えば異常信号を出力した検出部情報と共
に出力し表示する。一方搬送系監視制御部11にも検出部
10から各検出部からの検出信号が供給されており、動作
状態を監視することは勿論異常信号の内容に応じて、当
該異常部の搬送を停止制御する。すなわち２系統で監視
する。また、ウエハ処理終了時にウエハ処理終了信号を
出力してウエハ処理数表示部13にウエハ処理終了枚数を
表示させる。ウエハ処理数表示部13としては、例えばウ
エハ処理枚数をひとつずつLED表示するパネルを設けて
これに点灯表示させてもよい。
また、上記搬送系監視制御部11は、上記検出部10から入
力された検出信号によりウエハ搬送系の動作状態を監視
し、検出部10からの異常信号はもちろんのこと走行位
置、正常走行等の情報を補助搬送系監視制御部12から搬
送系監視制御部11へ出力する。そして異常信号が入力さ
れると、搬送系異常信号を出力してウエハ搬送系の異常
を知らせる。例えば異常を出力した検出部から異常箇所
および異常を表示する。さらに、同時に異常内容に応じ
て少なくとも当該部の搬送操作を停止する如く制御す
る。
力された検出信号によりウエハ搬送系の動作状態を監視
し、検出部10からの異常信号はもちろんのこと走行位
置、正常走行等の情報を補助搬送系監視制御部12から搬
送系監視制御部11へ出力する。そして異常信号が入力さ
れると、搬送系異常信号を出力してウエハ搬送系の異常
を知らせる。例えば異常を出力した検出部から異常箇所
および異常を表示する。さらに、同時に異常内容に応じ
て少なくとも当該部の搬送操作を停止する如く制御す
る。
このように搬送系監視制御部を複数系統例えば２系統と
すれば一方の監視制御部の搬送系監視制御部11に障害が
発生してウエハ搬送系の異常を見逃しても補助搬送系監
視制御部12で発見し制御することができ、装置全体の信
頼性が向上する。
すれば一方の監視制御部の搬送系監視制御部11に障害が
発生してウエハ搬送系の異常を見逃しても補助搬送系監
視制御部12で発見し制御することができ、装置全体の信
頼性が向上する。
上記実施例では、一系統の検出部10からの検出信号を２
系統に分けてそれぞれ搬送系監視制御部に入力したが、
本発明はこれに限定されるものではなく、夫々搬送系監
視制御部ごとにそれぞれ独立した検出部から検出信号を
入力するような構成としてもよい。
系統に分けてそれぞれ搬送系監視制御部に入力したが、
本発明はこれに限定されるものではなく、夫々搬送系監
視制御部ごとにそれぞれ独立した検出部から検出信号を
入力するような構成としてもよい。
以下本発明の他の実施例として複数の独立した検出部か
らそれぞれ搬送系監視制御部に検出信号を入力するよう
にしたものについて第２図を参照して説明する。検出部
10と独立して設けられた補助検出部14から出力された検
出信号は、補助搬送系監視制御部12へ入力されるように
なっており、ここで補助検出部14からの検出信号をもと
にウエハ搬送系が正常に作動しているか否かを判断す
る。補助検出部14を構成する多数の検出機構は、検出部
10を構成する検出機構とは異なった検出機構例えばウエ
ハカセット近傍に設置されピックが半導体ウエハを保持
したか否かを検出するためのカセット内ウエハ検出機構
14aやウエハ搬送中における半導体ウエハの落下音やウ
エハの割れによる破損音などを検出する音検出機構14b
等から構成されている。
らそれぞれ搬送系監視制御部に検出信号を入力するよう
にしたものについて第２図を参照して説明する。検出部
10と独立して設けられた補助検出部14から出力された検
出信号は、補助搬送系監視制御部12へ入力されるように
なっており、ここで補助検出部14からの検出信号をもと
にウエハ搬送系が正常に作動しているか否かを判断す
る。補助検出部14を構成する多数の検出機構は、検出部
10を構成する検出機構とは異なった検出機構例えばウエ
ハカセット近傍に設置されピックが半導体ウエハを保持
したか否かを検出するためのカセット内ウエハ検出機構
14aやウエハ搬送中における半導体ウエハの落下音やウ
エハの割れによる破損音などを検出する音検出機構14b
等から構成されている。
この検出部14を構成する検出機構の具体的な一例として
カセット内ウエハ検出装置14aを例にとり第３図を参照
にして説明する。下面に開口部を有する箱体のウエハカ
セット１内には多数の半導体ウエハ２が収納されてお
り、ウエハカセット１下部に配置されたしゃもじ状のウ
エハ搬送用ピック３を図中矢印Ｙで示す如く上昇させて
このピック３上端部に設けられた弧状溝3a部で半導体ウ
エハ２を保持しながらウエハカセット１上部にある図示
を省略したイオン注入処理室へと垂直に１枚ずつ搬送す
る。
カセット内ウエハ検出装置14aを例にとり第３図を参照
にして説明する。下面に開口部を有する箱体のウエハカ
セット１内には多数の半導体ウエハ２が収納されてお
り、ウエハカセット１下部に配置されたしゃもじ状のウ
エハ搬送用ピック３を図中矢印Ｙで示す如く上昇させて
このピック３上端部に設けられた弧状溝3a部で半導体ウ
エハ２を保持しながらウエハカセット１上部にある図示
を省略したイオン注入処理室へと垂直に１枚ずつ搬送す
る。
ウエハカセット１は図示を省略したウエハカセット駆動
機構により図中矢印Ｘ方向へと歩進するようになってお
り、ウエハカセット１を順次歩進させて次処理の半導体
ウエハをピック３上に配置させる。
機構により図中矢印Ｘ方向へと歩進するようになってお
り、ウエハカセット１を順次歩進させて次処理の半導体
ウエハをピック３上に配置させる。
ピック３と半導体ウエハ２との接触部近傍には横Ｌ字状
のフォトセンサタイプカセット内ウエハ検出機構14aが
設けられており、ピック３上に半導体ウエハ２があるか
否かを検知することができる。カセット内ウエハ検出機
構14aはウエハカセット駆動機構固定台４上に取付けら
れたカセット内ウエハ検出機構固定用マウント５に位置
調整可能に取付られている。なおカセット内ウエハ検出
装置14aは本例ではフォトセンサタイプのものを使用し
ているが特にこれに限定されるものではない。
のフォトセンサタイプカセット内ウエハ検出機構14aが
設けられており、ピック３上に半導体ウエハ２があるか
否かを検知することができる。カセット内ウエハ検出機
構14aはウエハカセット駆動機構固定台４上に取付けら
れたカセット内ウエハ検出機構固定用マウント５に位置
調整可能に取付られている。なおカセット内ウエハ検出
装置14aは本例ではフォトセンサタイプのものを使用し
ているが特にこれに限定されるものではない。
このような構成のウエハ搬送系監視系では、ピック３上
にウエハ２が保持されているにもかかわらず検出部10の
ウエハ載置検出機構10cの故障により半導体ウエハ２が
ピック３上に無いという信号即ちウエハ搬送系に半導体
ウエハ２が無いという信号が搬送系監視制御部11へ入力
された場合でも、カセット内ウエハ検出機構14aがウエ
ハカセット１内に半導体ウエハ２が無いという信号即ち
ウエハ搬送系に半導体ウエハ２があるという信号が補助
搬送系監視制御部12へ入力されるのでこれら二つの信号
の矛盾により補助搬送系監視制御部12ではウエハ搬送系
の異常と判断して異常信号を搬送系監視制御部11へ出力
し、異常の検出ができる。また補助検出部14に音検出機
構14bを設ければ、検出部10では検出ができない半導体
ウエハの割れを発見することができる。
にウエハ２が保持されているにもかかわらず検出部10の
ウエハ載置検出機構10cの故障により半導体ウエハ２が
ピック３上に無いという信号即ちウエハ搬送系に半導体
ウエハ２が無いという信号が搬送系監視制御部11へ入力
された場合でも、カセット内ウエハ検出機構14aがウエ
ハカセット１内に半導体ウエハ２が無いという信号即ち
ウエハ搬送系に半導体ウエハ２があるという信号が補助
搬送系監視制御部12へ入力されるのでこれら二つの信号
の矛盾により補助搬送系監視制御部12ではウエハ搬送系
の異常と判断して異常信号を搬送系監視制御部11へ出力
し、異常の検出ができる。また補助検出部14に音検出機
構14bを設ければ、検出部10では検出ができない半導体
ウエハの割れを発見することができる。
本発明のさらに他の実施例として第２図に示すように補
助検出部14を構成する検出機構を検出部10を構成する検
出機構と同等のもの例えばバルブ開閉検出機構10aやピ
ック昇降検出機構10b等として検出部に対し二重の安全
性を図る構成としてもよい。
助検出部14を構成する検出機構を検出部10を構成する検
出機構と同等のもの例えばバルブ開閉検出機構10aやピ
ック昇降検出機構10b等として検出部に対し二重の安全
性を図る構成としてもよい。
このように搬送系監視制御部を複数設けることでどちら
か一方の搬送系監視制御部に障害が発生しても異常を検
出することができ、信頼性が大幅に向上する。さらに本
例のようにウエハ処理数表示部13を設けておけば、何枚
目までの半導体ウエハが処理済であるか作業者が容易に
知ることができる。
か一方の搬送系監視制御部に障害が発生しても異常を検
出することができ、信頼性が大幅に向上する。さらに本
例のようにウエハ処理数表示部13を設けておけば、何枚
目までの半導体ウエハが処理済であるか作業者が容易に
知ることができる。
［発明の効果］ 以上説明したように本発明のイオン注入装置によれば、
基板搬送系監視系の信頼性を大幅に向上させることが可
能となるとともに、何枚目までの基板が処理済であるか
作業者が容易に知ることができる。
基板搬送系監視系の信頼性を大幅に向上させることが可
能となるとともに、何枚目までの基板が処理済であるか
作業者が容易に知ることができる。
第１図は本発明による一実施例のイオン注入装置のウエ
ハ搬送系監視系の構成を示す図、第２図は他の実施例の
構成を示す図、第３図はカセット内ウエハ検出機構の取
付け位置の一例を示す斜視図である。 ２……半導体ウエハ、３……ピック、10……検出部、11
……搬送系監視制御部、12……補助搬送系監視制御部、
13……ウエハ処理数表示部、14……補助検出部、14a…
…カセット内ウエハ検出機構、14b……音検出機構。
ハ搬送系監視系の構成を示す図、第２図は他の実施例の
構成を示す図、第３図はカセット内ウエハ検出機構の取
付け位置の一例を示す斜視図である。 ２……半導体ウエハ、３……ピック、10……検出部、11
……搬送系監視制御部、12……補助搬送系監視制御部、
13……ウエハ処理数表示部、14……補助検出部、14a…
…カセット内ウエハ検出機構、14b……音検出機構。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/265
Claims (5)
- 【請求項１】イオン注入位置と被処理基板収納容器との
間で被処理基板を搬送する基板搬送系の動作・状態を検
出する少なくとも一系統の検出手段と、 この検出手段からの情報を入力して前記基板搬送系の動
作・状態を監視する少なくとも二系統の搬送系監視手段
と、 これら搬送系監視手段からの信号により前記基板搬送系
の動作・状態を制御する制御手段と、 イオン注入処理済の基板数を表示する基板処理枚数表示
手段と を備えたことを特徴とするイオン注入装置。 - 【請求項２】搬送系監視手段がイオン注入処理済の基板
数を表示する基板処理枚数表示手段を備えたことを特徴
とする特許請求の範囲第１項記載のイオン注入装置。 - 【請求項３】搬送系監視手段が独立した検出手段を備え
ていることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載のイ
オン注入装置。 - 【請求項４】検出手段が被処理基板収納容器内の被処理
基板の存在を検出する検出手段を備えていることを特徴
とする特許請求の範囲第１項記載のイオン注入装置。 - 【請求項５】検出手段が被処理基板の搬送中における異
音を検出する音検出手段を備えていることを特徴とする
特許請求の範囲第１項記載のイオン注入装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61248786A JPH0693477B2 (ja) | 1986-10-20 | 1986-10-20 | イオン注入装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61248786A JPH0693477B2 (ja) | 1986-10-20 | 1986-10-20 | イオン注入装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63102335A JPS63102335A (ja) | 1988-05-07 |
| JPH0693477B2 true JPH0693477B2 (ja) | 1994-11-16 |
Family
ID=17183374
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61248786A Expired - Lifetime JPH0693477B2 (ja) | 1986-10-20 | 1986-10-20 | イオン注入装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0693477B2 (ja) |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS52126862A (en) * | 1976-04-15 | 1977-10-25 | Fuji Electric Co Ltd | Monitor and control system for conveying line |
| JPS5813498A (ja) * | 1981-07-16 | 1983-01-25 | Fusajiro Matsuoka | 自動機械の作業管理装置 |
| JPS5950859A (ja) * | 1982-09-16 | 1984-03-24 | 株式会社東芝 | 列車運行制御装置 |
| SE8305006L (sv) * | 1983-09-19 | 1985-03-20 | David Lindqvist | Forfarande vid linjeproduktion och anordning for genomforande av forfarandet |
| JPS60167814A (ja) * | 1984-02-10 | 1985-08-31 | Tsubakimoto Chain Co | コンベヤシステムの制御装置 |
| JPS60232855A (ja) * | 1984-05-04 | 1985-11-19 | Asics Corp | コンベア・ラインを含む生産工程の管理システム |
| JPS61125674A (ja) * | 1984-11-22 | 1986-06-13 | Fujitsu Ltd | 物品搬送制御システム |
| JPS61192458A (ja) * | 1985-02-21 | 1986-08-27 | Toshiba Corp | 生産ラインシステム |
-
1986
- 1986-10-20 JP JP61248786A patent/JPH0693477B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63102335A (ja) | 1988-05-07 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |