JPH0694401A - 光の反射により光学的に読み取られる測微尺とその製造方法 - Google Patents
光の反射により光学的に読み取られる測微尺とその製造方法Info
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- JPH0694401A JPH0694401A JP4012300A JP1230092A JPH0694401A JP H0694401 A JPH0694401 A JP H0694401A JP 4012300 A JP4012300 A JP 4012300A JP 1230092 A JP1230092 A JP 1230092A JP H0694401 A JPH0694401 A JP H0694401A
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- G01D—MEASURING NOT SPECIALLY ADAPTED FOR A SPECIFIC VARIABLE; ARRANGEMENTS FOR MEASURING TWO OR MORE VARIABLES NOT COVERED IN A SINGLE OTHER SUBCLASS; TARIFF METERING APPARATUS; MEASURING OR TESTING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G01D5/00—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable
- G01D5/26—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light
- G01D5/32—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light with attenuation or whole or partial obturation of beams of light
- G01D5/34—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light with attenuation or whole or partial obturation of beams of light the beams of light being detected by photocells
- G01D5/347—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light with attenuation or whole or partial obturation of beams of light the beams of light being detected by photocells using displacement encoding scales
- G01D5/34707—Scales; Discs, e.g. fixation, fabrication, compensation
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- General Physics & Mathematics (AREA)
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- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 食刻により形成された刻み目に比べて明確な
輪郭と平らな表面をもつ目盛を備えた測微尺を提供する
こと。 【構成】 本発明の測微尺は、光の吸収が少ない地の面
（２）を持つ堅い基板（１）と、地の面の上に形成され
地の面とのコントラストにより電気−光学読取り装置に
より検出される目盛等の図形マーク（６）を含む。図形
マーク（６）は光を良く吸収する物質の薄層により形成
される。地の面（２）は、好ましくはアルミニウムのよ
うな光を良く反射する金属の層により形成される。地の
面（２）は、好ましくは、２酸化珪素の層のような透明
な薄い保護層（３）で覆われる。図形マーク（６）は、
好ましくはクロムまたはクロムを主成分とする組成物に
より形成される。本発明の方法では、図形マーク（６）
は、写真食刻と析出により形成する。また反射層
（２），保護層（３），目盛（６）を、真空蒸着により
一連の連続した工程で形成するのが好ましい。
輪郭と平らな表面をもつ目盛を備えた測微尺を提供する
こと。 【構成】 本発明の測微尺は、光の吸収が少ない地の面
（２）を持つ堅い基板（１）と、地の面の上に形成され
地の面とのコントラストにより電気−光学読取り装置に
より検出される目盛等の図形マーク（６）を含む。図形
マーク（６）は光を良く吸収する物質の薄層により形成
される。地の面（２）は、好ましくはアルミニウムのよ
うな光を良く反射する金属の層により形成される。地の
面（２）は、好ましくは、２酸化珪素の層のような透明
な薄い保護層（３）で覆われる。図形マーク（６）は、
好ましくはクロムまたはクロムを主成分とする組成物に
より形成される。本発明の方法では、図形マーク（６）
は、写真食刻と析出により形成する。また反射層
（２），保護層（３），目盛（６）を、真空蒸着により
一連の連続した工程で形成するのが好ましい。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光を良く反射する地の
面(background surface)の上に光を良く吸収し反射の少
ない目盛を形成し光の反射により光学的に目盛を読み取
るようにした微細尺と、このような測微尺を製造するた
めの方法に関する。
面(background surface)の上に光を良く吸収し反射の少
ない目盛を形成し光の反射により光学的に目盛を読み取
るようにした微細尺と、このような測微尺を製造するた
めの方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】本発明は、細長い形状の堅い基板を持つ
直線形の測微尺を対象として開発されたものであるが、
円形あるいは扇形またはその他の形状の基板の上に曲線
特に円や円弧に沿って目盛を形成した尺(graduated ele
ment) をはじめ、他の広範な用途にも適用できる。
直線形の測微尺を対象として開発されたものであるが、
円形あるいは扇形またはその他の形状の基板の上に曲線
特に円や円弧に沿って目盛を形成した尺(graduated ele
ment) をはじめ、他の広範な用途にも適用できる。
【０００３】現在、直線寸法をマイクロメータ・レベル
の高い精度と誤差で測定するために、レーザー光線を用
いる干渉測定システム，誘導型および／または容量型シ
ステム，光学的に読み取る尺を用いる光−電気システム
を含む種々の方式の逐次測定システムが使用されてい
る。光学的に読み取る尺を用いる光−電気システムは、
他のシステムに比べて、とりわけ工作機械および一般の
機械分野において好まれている。
の高い精度と誤差で測定するために、レーザー光線を用
いる干渉測定システム，誘導型および／または容量型シ
ステム，光学的に読み取る尺を用いる光−電気システム
を含む種々の方式の逐次測定システムが使用されてい
る。光学的に読み取る尺を用いる光−電気システムは、
他のシステムに比べて、とりわけ工作機械および一般の
機械分野において好まれている。
【０００４】この光−電気システムでは、光電変換器と
組み合わせて使用される測微尺は、金属またはガラスの
堅くて細長い基板の一面に、等間隔に、基板の長さ方向
に直角に微細な刻み目が設けられている。これらの刻み
目は、光のパルスを発生させることを可能にする。発生
した光のパルスは、対応する一連の刻み目を含むヘッド
を持つ読み取りカーソルにより、フォトダイオードを用
いて、電気信号に変換される。
組み合わせて使用される測微尺は、金属またはガラスの
堅くて細長い基板の一面に、等間隔に、基板の長さ方向
に直角に微細な刻み目が設けられている。これらの刻み
目は、光のパルスを発生させることを可能にする。発生
した光のパルスは、対応する一連の刻み目を含むヘッド
を持つ読み取りカーソルにより、フォトダイオードを用
いて、電気信号に変換される。
【０００５】現在、対象としている測微尺は、いろいろ
な方法で製造されている。それほどの精度を必要としな
い用途では、刻み目の幅１０μｍおよび間隔１０μｍで
２０μｍごとに設けられている。光電気変換器の出力に
均一で完全な信号が得られるようにするためには、刻み
目が高精度で正確に形成されていなければならない。刻
み目の品質は、ひとえに、それらを形成するために使用
される方法に依存する。
な方法で製造されている。それほどの精度を必要としな
い用途では、刻み目の幅１０μｍおよび間隔１０μｍで
２０μｍごとに設けられている。光電気変換器の出力に
均一で完全な信号が得られるようにするためには、刻み
目が高精度で正確に形成されていなければならない。刻
み目の品質は、ひとえに、それらを形成するために使用
される方法に依存する。
【０００６】本発明は、反射光により読み取る方式の測
微尺とその製造方法に関する。ガラスまたは他の透明な
物質からなる基板を持つ屈折型の測微尺は、考慮してい
ない。 従来の測微尺は、クロムとの合金であるステン
レス鋼の細長材からなり、鏡のような反射面を持ち、通
常厚さ０．０５〜０．５ｍｍおよび幅５〜１５ｍｍの基
板を含む。各基板は、３０〜４０ｍの連続した帯材から
製造される。
微尺とその製造方法に関する。ガラスまたは他の透明な
物質からなる基板を持つ屈折型の測微尺は、考慮してい
ない。 従来の測微尺は、クロムとの合金であるステン
レス鋼の細長材からなり、鏡のような反射面を持ち、通
常厚さ０．０５〜０．５ｍｍおよび幅５〜１５ｍｍの基
板を含む。各基板は、３０〜４０ｍの連続した帯材から
製造される。
【０００７】基板の鏡面は、通常、金メッキにより反射
を良好にされ、さらに目盛の刻み目が形成される。
を良好にされ、さらに目盛の刻み目が形成される。
【０００８】写真食刻法として知られている代表的な方
法によれば、鋼の帯材の鏡面に感光性樹脂が塗布され乾
燥される。次に乾燥した感光性樹脂の層に、食刻しよう
とする刻み目の幅に対応する寸法の細穴が設けられたポ
ジ（陽画）のマスクが当てられる。そしてマスクの上か
ら紫外線が照射され、その結果細穴を通して露光された
感光性樹脂は溶剤に溶けるようになる。感光性樹脂は次
にその感光した部分を溶かす溶剤で処理され、その下の
鋼の基板が露出される。さらに塩酸や塩化鉄のような酸
を主成分とする溶液で処理することにより、鋼の基板に
刻み目が化学的に刻み込まれる。最後に、残っている樹
脂が、適宜な溶剤により除去される。かくして、化学的
に食刻された刻み目を持つ鋼の基板が得られる。
法によれば、鋼の帯材の鏡面に感光性樹脂が塗布され乾
燥される。次に乾燥した感光性樹脂の層に、食刻しよう
とする刻み目の幅に対応する寸法の細穴が設けられたポ
ジ（陽画）のマスクが当てられる。そしてマスクの上か
ら紫外線が照射され、その結果細穴を通して露光された
感光性樹脂は溶剤に溶けるようになる。感光性樹脂は次
にその感光した部分を溶かす溶剤で処理され、その下の
鋼の基板が露出される。さらに塩酸や塩化鉄のような酸
を主成分とする溶液で処理することにより、鋼の基板に
刻み目が化学的に刻み込まれる。最後に、残っている樹
脂が、適宜な溶剤により除去される。かくして、化学的
に食刻された刻み目を持つ鋼の基板が得られる。
【０００９】別の写真食刻法では、細穴の代わりに黒い
部分を持つネガ（陰画）のマスクが使用される。このマ
スクは、マスクの黒い部分により覆われていない領域の
感光性樹脂を感光させる。それに続く現像工程において
感光した樹脂が除去され、基板の刻み目を形成すべき領
域が樹脂に覆われたまま残される。このようにして用意
された基板は次に金メッキされ、基板の表面の樹脂で覆
われていない部分が非常に薄い金の層で覆われる。さら
に残っている樹脂を取り除き、基板の刻み目を形成すべ
き領域を露出させて、上記したのと同じ方法で、酸によ
り食刻する。最終結果として、化学的に食刻された刻み
目を持つ鋼の基板が得られる。
部分を持つネガ（陰画）のマスクが使用される。このマ
スクは、マスクの黒い部分により覆われていない領域の
感光性樹脂を感光させる。それに続く現像工程において
感光した樹脂が除去され、基板の刻み目を形成すべき領
域が樹脂に覆われたまま残される。このようにして用意
された基板は次に金メッキされ、基板の表面の樹脂で覆
われていない部分が非常に薄い金の層で覆われる。さら
に残っている樹脂を取り除き、基板の刻み目を形成すべ
き領域を露出させて、上記したのと同じ方法で、酸によ
り食刻する。最終結果として、化学的に食刻された刻み
目を持つ鋼の基板が得られる。
【００１０】上記した化学的に食刻する方法により形成
される刻み目は、いつでも精度が高く正確であるとは限
らない。この問題は、基板に使用される鋼合金の組成が
均一ではなく、そのために表面が均等に食刻されないと
いう事実に起因する。顕微鏡で見ると、刻み目の底部お
よび側縁部は、でこぼこしており、凹凸があり、さらに
じぐざぐしている。その結果、製造された測微尺は、光
電変換器の出力に不完全な電気信号を発生させる。
される刻み目は、いつでも精度が高く正確であるとは限
らない。この問題は、基板に使用される鋼合金の組成が
均一ではなく、そのために表面が均等に食刻されないと
いう事実に起因する。顕微鏡で見ると、刻み目の底部お
よび側縁部は、でこぼこしており、凹凸があり、さらに
じぐざぐしている。その結果、製造された測微尺は、光
電変換器の出力に不完全な電気信号を発生させる。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、輪郭
がはっきりしており、その精度においてガラスの基板に
形成することができる刻み目に匹敵する品質の目盛また
は他の図形マークを備えた測微尺を提供することによ
り、上記した問題を解決することである。
がはっきりしており、その精度においてガラスの基板に
形成することができる刻み目に匹敵する品質の目盛また
は他の図形マークを備えた測微尺を提供することによ
り、上記した問題を解決することである。
【００１２】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、上記課
題は、特許請求の範囲に記載したような測微尺とその製
造方法により達成される。
題は、特許請求の範囲に記載したような測微尺とその製
造方法により達成される。
【００１３】本発明の測微尺は、光沢があり好ましくは
光を良く反射する地の面に対して良く目だつ、地の面か
ら突出した、不透明な、好ましくは暗色の目盛または他
の図形マークを持つ。
光を良く反射する地の面に対して良く目だつ、地の面か
ら突出した、不透明な、好ましくは暗色の目盛または他
の図形マークを持つ。
【００１４】本発明の測微尺によれば、光電変換器か
ら、従来技術による測微尺から得られる電気信号に比べ
てずっと均一な電気信号が得られる。これは、本発明の
測微尺の目盛の輪郭と上面が、従来技術による刻み目の
側縁と底部に比べてずっと均一であることによる。
ら、従来技術による測微尺から得られる電気信号に比べ
てずっと均一な電気信号が得られる。これは、本発明の
測微尺の目盛の輪郭と上面が、従来技術による刻み目の
側縁と底部に比べてずっと均一であることによる。
【００１５】本発明のその他の特徴と利点は、添付の図
面を参照した本発明の１実施例についての詳細な説明か
ら明らかになるであろう。
面を参照した本発明の１実施例についての詳細な説明か
ら明らかになるであろう。
【００１６】
【実施例】図１において、１で示すのは堅い基板で、細
長い形状のオーステナイトのステンレス鋼（クローム合
金鋼）により構成するのが好ましい。基板１の好ましい
化学組成は次のとおりである。
長い形状のオーステナイトのステンレス鋼（クローム合
金鋼）により構成するのが好ましい。基板１の好ましい
化学組成は次のとおりである。
【００１７】クローム：１７％，炭素：０．０９％，マ
ンガン：１．３％，ニッケル：８％，珪素：１．２％，
モリブデン：０．７％ 基板１の好ましい寸法は、厚さが０．５ｍｍおよび幅が
１５ｍｍである。基板の材料を３０〜４０ｍ程度の長さ
の帯に成形し、これを所望の長さに切断して、目盛を付
けた要素(element) を形成する。
ンガン：１．３％，ニッケル：８％，珪素：１．２％，
モリブデン：０．７％ 基板１の好ましい寸法は、厚さが０．５ｍｍおよび幅が
１５ｍｍである。基板の材料を３０〜４０ｍ程度の長さ
の帯に成形し、これを所望の長さに切断して、目盛を付
けた要素(element) を形成する。
【００１８】上記のような基板１は、光の吸収が少ない
面を持つ。この目的のため、基板１は、好ましくは、予
め通常の方法により研磨され、次に第１の高真空装置に
入れられて、既知の方法により、その１表面が、昇華せ
しめられた金属のアルミニウムにさらされる。これが完
了すると、基板は、好ましくは約１μｍの厚さの極めて
薄い金属層２により被覆される。
面を持つ。この目的のため、基板１は、好ましくは、予
め通常の方法により研磨され、次に第１の高真空装置に
入れられて、既知の方法により、その１表面が、昇華せ
しめられた金属のアルミニウムにさらされる。これが完
了すると、基板は、好ましくは約１μｍの厚さの極めて
薄い金属層２により被覆される。
【００１９】アルミニウム層２は、その光を非常に良く
反射する性質により、基板１に光沢を持たせ、光を良く
反射するようにする働きをする。
反射する性質により、基板１に光沢を持たせ、光を良く
反射するようにする働きをする。
【００２０】図２に示すように、基板１とアルミニウム
の被覆２とから構成される細長材は、好ましくは、第２
の高真空装置を通され、その内部において再び既知の方
法により、極めて薄い透明の保護層３，好ましくは２酸
化珪素（ＳｉＯ２）の層が、アルミニウムの層の上に形
成される。保護層３の好ましい厚さは、約０．１μｍで
ある。
の被覆２とから構成される細長材は、好ましくは、第２
の高真空装置を通され、その内部において再び既知の方
法により、極めて薄い透明の保護層３，好ましくは２酸
化珪素（ＳｉＯ２）の層が、アルミニウムの層の上に形
成される。保護層３の好ましい厚さは、約０．１μｍで
ある。
【００２１】アルミニウムはかなり軟らかい金属であ
り、２酸化珪素の層を形成する目的は、固い物質の保護
被覆によりアルミニウムが摩耗しないように保護するこ
とである。
り、２酸化珪素の層を形成する目的は、固い物質の保護
被覆によりアルミニウムが摩耗しないように保護するこ
とである。
【００２２】図２のように被覆された帯材には、図３に
示すように、既知の方法により、市販されている種類の
感光性樹脂４が塗布される。ＳＨＹＰＬＹ社により製造
されている感光性樹脂 Ｍｉｃｒｏｐｏｓｉｔ Ｓ１４
００（商標）が好都合に使用できる。樹脂層４は、次の
処理が施される前に乾燥される。
示すように、既知の方法により、市販されている種類の
感光性樹脂４が塗布される。ＳＨＹＰＬＹ社により製造
されている感光性樹脂 Ｍｉｃｒｏｐｏｓｉｔ Ｓ１４
００（商標）が好都合に使用できる。樹脂層４は、次の
処理が施される前に乾燥される。
【００２３】次に図４に示すように、基板１に形成しよ
うとする微細な目盛等の図形マークの形と寸法を持つ細
穴５ａが設けられたポジティブ（陽画）マスクすなわち
ステンシル（型紙）５が、樹脂層４に重ねられる。例え
ば、細穴５ａの幅１０μｍ、細穴の間隔１０μｍであ
る。
うとする微細な目盛等の図形マークの形と寸法を持つ細
穴５ａが設けられたポジティブ（陽画）マスクすなわち
ステンシル（型紙）５が、樹脂層４に重ねられる。例え
ば、細穴５ａの幅１０μｍ、細穴の間隔１０μｍであ
る。
【００２４】マスク４が当てられた帯材は、紫外線ラン
プからの光線にさらされる。この露光は、好ましくは、
帯材を、マスク５に相対的に、マスクの長さに等しい距
離だけステップ送りすることにより行なわれる。そこ
で、層４の樹脂は細穴５ａに対応して露出される。
プからの光線にさらされる。この露光は、好ましくは、
帯材を、マスク５に相対的に、マスクの長さに等しい距
離だけステップ送りすることにより行なわれる。そこ
で、層４の樹脂は細穴５ａに対応して露出される。
【００２５】図５において、層４の感光した樹脂は、感
光性樹脂を製造した会社によって推奨される現像剤で処
理される。このようにして、樹脂層４にマスク５の細穴
５ａに対応する細穴４ａが形成され、その下の２酸化珪
素層３が露出される。
光性樹脂を製造した会社によって推奨される現像剤で処
理される。このようにして、樹脂層４にマスク５の細穴
５ａに対応する細穴４ａが形成され、その下の２酸化珪
素層３が露出される。
【００２６】図５のように準備された帯材は、次に第３
の高真空装置内に入れられ、再び既知の昇華方法によっ
て、暗色（光の反射が少ない）金属組成物の薄層が、図
６に示すように細穴４ａの底に露出している２酸化珪素
の表面に析出させられる。この組成物は、好ましくは、
クロムまたはクロムを主成分とする化合物と、２酸化チ
タンＴｉＯ２を構成要素として含む。析出層６の好まし
い厚さは、約０．１μｍである。
の高真空装置内に入れられ、再び既知の昇華方法によっ
て、暗色（光の反射が少ない）金属組成物の薄層が、図
６に示すように細穴４ａの底に露出している２酸化珪素
の表面に析出させられる。この組成物は、好ましくは、
クロムまたはクロムを主成分とする化合物と、２酸化チ
タンＴｉＯ２を構成要素として含む。析出層６の好まし
い厚さは、約０．１μｍである。
【００２７】図７に示すように図６において図形マーク
が形成された帯材は、適宜な溶剤、通常はアセトンによ
り処理され、図４の工程で露光されなかった層４の樹脂
がすべて溶解される。このようにして、目盛またはその
他の図形マークを構成する突部６の間の透明層３が、再
び露出される。
が形成された帯材は、適宜な溶剤、通常はアセトンによ
り処理され、図４の工程で露光されなかった層４の樹脂
がすべて溶解される。このようにして、目盛またはその
他の図形マークを構成する突部６の間の透明層３が、再
び露出される。
【００２８】このようにして製造された測微尺は、固く
て透明な層３により摩耗を防ぐように保護された、光沢
があり非常に良く光を反射する表面２の上に、暗色の微
細な目盛または他の図形マークを持つ。
て透明な層３により摩耗を防ぐように保護された、光沢
があり非常に良く光を反射する表面２の上に、暗色の微
細な目盛または他の図形マークを持つ。
【００２９】この測微尺は、次に、光の反射で目盛を読
み取る光学読取り装置と組み合わせ使用するために、適
宜な大きさおよび形状の部分すなわち定規に切断され
る。
み取る光学読取り装置と組み合わせ使用するために、適
宜な大きさおよび形状の部分すなわち定規に切断され
る。
【００３０】
【発明の効果】上記のようにして製造された測微尺は、
図６に示すような目盛または他の図形マークの輪郭が非
常にはっきりしておりかつマークの表面が一様であるた
め、非常に正確な光学読み取りが可能である。そのため
光学読取り装置の出力に、形の整った一様な電気信号を
発生させることできる。
図６に示すような目盛または他の図形マークの輪郭が非
常にはっきりしておりかつマークの表面が一様であるた
め、非常に正確な光学読み取りが可能である。そのため
光学読取り装置の出力に、形の整った一様な電気信号を
発生させることできる。
【００３１】また本発明によれば、上記の方法と同様の
方法により、突形成された図形マークが、例えば、円ま
たは円弧にそって配列された、湾曲した光学読取りのた
めの目盛も製造できる。
方法により、突形成された図形マークが、例えば、円ま
たは円弧にそって配列された、湾曲した光学読取りのた
めの目盛も製造できる。
【図１】本発明の測微尺の製造方法の１実施例の工程を
示す説明図である。
示す説明図である。
【図２】上記製造方法の次の工程を示す説明図である。
【図３】上記製造方法のその次の工程を示す説明図であ
る。
る。
【図４】上記製造方法のその次の工程を示す説明図であ
る。
る。
【図５】上記製造方法のその次の工程を示す説明図であ
る。
る。
【図６】上記製造方法のその次の工程を示す説明図であ
る。
る。
【図７】上記製造方法のその次の工程を示す説明図であ
る。
る。
１ シリコン基板 ２ アルミニウム層 ３ 保護層 ４ 感光性樹脂層 ５ マスク ５ａ 細穴 ６ 目盛
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (71)出願人 592028868 プリマ インドゥストリー ソシエタ ペ ル アチオニ ＰＲＩＭＡ ＩＮＤＵＳＴＲＩＥ ＳＯＣ ＩＥＴＡ ＰＥＲ ＡＺＩＯＮＩ イタリア国 10097 トリノ レジナ マ ルゲリータ ディ コレーニョ ヴィア アントネッリ 32 (72)発明者 エドアルド ヴァン ラムスウィールデ イタリア国 20146 ミラノ ヴィア ロ レンテッジョ 39
Claims (23)
- 【請求項１】 光の吸収が少ない地の面（２）を持つ堅
い基板（１）と、地の面の上に形成され地の面とのコン
トラストにより電気−光学読取り装置により検出される
図形マーク（６）を含む光の反射により光学的に読み取
られる測微尺であって、前記図形マーク（６）が、前記
地の面（２）の上に析出された光を良く吸収する物質の
薄層により形成されていることを特徴とする測微尺。 - 【請求項２】 前記基板（１）の地の面（２）が光を良
く反射する金属であることを特徴とする請求項１に記載
の測微尺。 - 【請求項３】 前記地の面（２）の光を良く反射する金
属がアルミニウムであることを特徴とする請求項２に記
載の測微尺。 - 【請求項４】 前記地の面が、前記光を良く反射する金
属の薄層（２）により構成されていることを特徴とする
請求項２または請求項３のいずれかに記載の測微尺。 - 【請求項５】 前記基板（１）の材料が鋼であることを
特徴とする請求項４に記載の測微尺。 - 【請求項６】 前記図形マーク（６）が暗色の金属また
は金属の化合物により形成されていることを特徴とする
請求項１ないし請求項５のいずれかに記載の測微尺。 - 【請求項７】 前記図形マーク（６）がクロムまたはク
ロムの化合物から形成されていることを特徴とする請求
項６に記載の測微尺。 - 【請求項８】 前記図形マーク（６）を形成する組成物
が、クロムおよび２酸化チタンを含有することを特徴と
する請求項７に記載の測微尺。 - 【請求項９】 前記地の面の上（２）の上に薄く透明な
保護層（３）が形成され、さらに前記図形マークが該保
護層（３）の上に形成されていることを特徴とする請求
項１ないし８のいずれかに記載の測微尺。 - 【請求項１０】 前記の薄く透明な保護層（３）が２酸
化珪素により形成されていることを特徴とする請求項９
に記載の測微尺。 - 【請求項１１】 前記の薄層（２，３，６）の少なくと
も１つが、真空蒸着による析出によって形成されること
を特徴とする請求項１ないし請求項１０のいずれかに記
載の測微尺。 - 【請求項１２】 前記基板（１）が直線状の細長い形状
をしていることを特徴とする請求項１ないし請求項１１
のいずれかに記載の測微尺。 - 【請求項１３】 曲線に沿って形成された図形マーク
と、円板，扇形またはその他の形状の基板（１）を持つ
ことを特徴とする請求項１ないし請求項１１のいずれか
に記載の測微尺。 - 【請求項１４】 光の反射により光学的に読み取られる
目盛等の図形マークが形成された測微尺を製造するため
の方法であって、 光の吸収が少ない地の面を持つ堅い基板（１）に感光性
のある物質の層（４）を形成し、 前記感光性のある物質の層（４）に、光化学的方法によ
り、前記基板に形成すべき目盛等の図形マークに対応す
る細穴（４ａ）を形成して前記基板（１）の地の面
（２）を露出させ、 前記感光性のある物質の層（４）の表面と前記細穴（４
ａ）内の露出した基板（１）の地の面（２）に、光を良
く吸収する物質の薄層（６）を形成し、 最後に適宜な溶剤を用いて残っている感光性のある物質
を取り除くことにより、 前記基板（１）の地の面の露出した部分に析出した薄層
が基板の地の面から突出した状態で残ることにより図形
マークを形成することを特徴とする方法。 - 【請求項１５】 前記感光性のある物質の層（４）を形
成する前に、前記地の面を形成するために前記堅い基板
（１）に光を良く反射する金属（２）の薄層を形成する
ことを特徴とする請求項１４に記載の方法。 - 【請求項１６】 前記光を良く反射する金属としてアル
ミニウム（２）を使用することを特徴とする請求項１５
に記載の方法。 - 【請求項１７】 前記堅い基板（１）の材料が鋼である
ことを特徴とする請求項１５または請求項１６のいずれ
かに記載の方法。 - 【請求項１８】 前記感光性のある物質の層（４）と該
層に形成された前記細穴（４ａ）内に暗色の金属層
（６）を析出させることを特徴とする請求項１４または
請求項１５のいずれかに記載の方法。 - 【請求項１９】 前記暗色の金属層（６）を形成するた
めにクロムまたはクロムを主成分とする化合物を使用す
ることを特徴とする請求項１８に記載の方法。 - 【請求項２０】 前記暗色の金属層（６）を形成するた
めにクロムと２酸化チタンを含有する組成物を使用する
ことを特徴とする請求項１９に記載の方法。 - 【請求項２１】 前記感光性のある物質の層（４）を形
成する前に、薄くて透明な保護層（３）を前記基板の地
の面（２）に形成し、該保護層（３）の上に、前記感光
性のある物質の層に形成した細穴（４ａ）を通して、図
形マーク（６）を形成するための物質を析出させること
を特徴とする請求項１４ないし請求項２０の各項のいず
れかに記載の方法。 - 【請求項２２】 前記薄くて透明な保護層（３）を形成
するために２酸化珪素を使用することを特徴とする請求
項２１に記載の方法。 - 【請求項２３】 前記の薄層（２，３，６）の少なくと
も１つを、真空蒸着による析出によって形成されること
を特徴とする請求項１４ないし請求項２２のいずれかに
記載の方法。
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