JPH0695381A - 光重合性混合物およびこれから調製した記録材料 - Google Patents

光重合性混合物およびこれから調製した記録材料

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JPH0695381A
JPH0695381A JP26890991A JP26890991A JPH0695381A JP H0695381 A JPH0695381 A JP H0695381A JP 26890991 A JP26890991 A JP 26890991A JP 26890991 A JP26890991 A JP 26890991A JP H0695381 A JPH0695381 A JP H0695381A
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JP26890991A
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Hans-Dieter Frommeld
ハンス‐ディーター、フロメルト
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Hoechst AG
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Hoechst AG
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    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【構成】重合体結合剤、重合性化合物、トリクロロメチ
ル−s−トリアジンおよび一般式II (式中、R3 およびR4 は、水素またはハロゲン原子、
アルキル、アルコキシ、アルコキシカルボニルまたはア
リール基を表わす、または一緒に縮合ベンゼン環を表わ
し、R5 およびR6 は、アルキル、アリールまたはアラ
ルキル基を表わす、または一緒に5または6員環の複素
環を表わす。)の化合物からなる光重合性混合物。 【効果】転写可能なドライフォトレジスト層の製造に好
適であり、フォトスピードが高く、画像コントラストが
良い。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】本発明は、重合体結合剤、少なくとも一つ
の末端エチレン性二重結合を有し、常圧における沸点が
100℃を超える、フリーラジカルにより重合し得る化
合物、および光反応開始剤からなり、記録材料、特に印
刷版およびフォトレジストの調製に適した光重合性混合
物に関する。
【0002】EP−A 138,187は、ヘキサアリ
ール−ビス−イミダゾールと、置換基として一つ以上の
p−ジアルキルアミノフェニル基を有する複素環式化合
物との組合わせである光反応開始剤を記載している。こ
の混合物は、フォトスピードが高く、貯蔵性の良いのが
特徴である。開始剤系として置換した1,2,3−トリ
アゾールおよびヘキサアリール−ビス−イミダゾールま
たはN−アルコキシピリジニウム塩の組合わせを含む類
似の混合物もEP−A−291,878およびEP−A
−291,881から公知である。これらの混合物は、
露光の後、明白な色対比を生じる。
【0003】EP−A−243,784には、フォトス
ピードを増加させた、N−複素環式化合物、特にアクリ
ジン化合物およびトリクロロメチル基を含む化合物の組
合わせが記載されている。
【0004】公知の開始剤組合わせから得られる混合物
は、フォトスピード、画像コントラストあるいは貯蔵性
などの、多くの特性の中の一つは著しく優れているが、
他の特性が望ましい標準に適合しない。
【0005】従って、本発明の目的は、高フォトスピー
ドおよび強画像コントラストなどの特に好ましい特性の
組合わせを特徴とする光重合性混合物を提供することで
ある。
【0006】本発明により、必須成分として、 a)重合体結合剤、 b)少なくとも一つの末端エチレン性二重結合を有し、
常圧における沸点が100℃を超える、フリーラジカル
反応により重合し得る化合物、および c)一般式I
【化3】 (式中、R1 およびR2 は同一または異なっており、置
換されていてもよいアルキル、アルケニルまたはアリー
ル基、あるいはトリクロロメチル基を表わす。)のトリ
クロロメチル化合物を含む光重合性混合物を提案する。
【0007】本発明に係る混合物は、さらに他の光反応
開始剤として、一般式II
【化4】 (式中、R3 およびR4 は、同一または異なっており、
個別に水素またはハロゲン原子またはアルキル、アルコ
キシ、アルコキシカルボニルまたはアリール基を表わ
す、または一緒に縮合ベンゼン環を表わし、R5 および
6 は、個別に同一のまたは異なったアルキル、アリー
ルまたはアラルキル基を表わす、または一緒に5または
6員環の複素環を表わす。)の化合物を含むことを特徴
とする。
【0008】本発明のもう一つの目的は、層支持体およ
び光重合性層からなる光重合性記録材料であって、該層
が上記の混合物からなることを特徴とする記録材料を提
供することである。
【0009】一般式Iの好適な化合物はEP−A−24
3,784に記載されている。これらの化合物の中で、
一分子あたり少なくとも2つのトリクロロメチル基を有
する化合物が好ましい。アルキル基R1 および/または
2 は一般に1〜6、好ましくは1〜3個の炭素原子を
有し、好適なアルケニル基は2〜6個の炭素原子を有す
る。後者は1または2個の芳香族環を有する芳香族基に
より置換されているのが好ましく、その芳香族環は置換
基としてハロゲン原子または1〜4個の炭素原子を有す
るアルキルまたはアルコキシ基を有することができる。
好適なアリール基には、単環〜三環式の、好ましくは単
環または二環式の基が含まれるが、これらの基は上記の
種類の置換基またはアラルケニル置換基を備えていても
よい。好適な基R1 および/またはR2 の例としては、
トリクロロメチル基、メチル基、クロロメチル基、メト
キシエチル基、ビニル基、アリル基、スチリル基、アル
ファ−クロロスチリル基、2,6−ジメチルスチリル
基、4−メトキシスチリル基、3−ブロモスチリル基、
4−メトキシフェニル基、4−エトキシナフチル−
(1)基、p−ビフェニリル基、4−スチリルフェニル
基および4−(p−エトキシスチリル)フェニル基があ
る。混合物はその不揮発成分に対して好ましくは0.0
5〜1重量%の式Iの化合物を含む。
【0010】一般式IIの好適な化合物は、EP−A−2
91,878に開示されている。R3 およびR4 がアル
キルまたはアルコキシ基を表わす、または含む場合、こ
れらの基は一般に1〜6、好ましくは1〜3個の炭素原
子を有し、好ましいハロゲン原子は塩素または臭素であ
る。好ましいアリール基はフェニル基である。
【0011】R5 およびR6 は、1〜8、好ましくは1
〜4個の炭素原子を有するアルキル基、これらの基の2
つ以上がアリール基ではないとして6〜10個の炭素原
子を有するアリール基、または7〜12個の炭素原子を
有するアラルキル基でよい。R5 およびR6 が一緒に複
素環を表わす場合、この環は一般に飽和し、窒素原子に
加えてN、OまたはSの様な別の異原子を含むことがで
きる。R5 およびR6は好ましくはアルキル基である。
混合物は好ましくは0.05〜0.5重量%の式IIの化
合物を含む。一般に、混合物は、式IIの化合物1重量部
あたり0.1〜20、好ましくは0.3〜10重量部の
式Iの化合物を含む。
【0012】式IIの好ましい化合物の例を以下に示す。
2−(p−ジメチルアミノフェニル)−ベンゾトリアゾ
ール、2−(p−ジエチルアミノフェニル)−クロロ−
ベンゾトリアゾール、2−(p−ジプロピルアミノフェ
ニル)−5−ブロモ−ベンゾトリアゾール、2−(p−
ジエチルアミノフェニル)−5−ブロモ−ベンゾトリア
ゾール、2−(p−ジメチルアミノフェニル)−5−メ
チル−ベンゾトリアゾール、および2−(p−ジメチル
アミノフェニル)−ナフトトリアゾール。
【0013】本発明の混合物は、少なくとも一つの、好
ましくは少なくとも二つの末端エチレン性二重結合を有
する重合性化合物を含む。使用する重合性化合物は、一
般にアクリル酸またはメタクリル酸と多価、好ましくは
第一アルコールとのエステルを含む。好適な多価アルコ
ールとしては、例えばエチレングリコール、プロピレン
グリコール、ブタンジオール−1,4、ブタンジオール
−1,3、ジエチレングリコール、トリエチレングリコ
ール、分子量200〜1,000のポリエチレングリコ
ールまたはポリプロピレングリコール、ネオペンチルグ
リコール、グリセロール、トリメチロールエタンおよび
トリメチロールプロパン、ペンタエリトリトール、ビス
フェノール−A誘導体、およびこれらの化合物とエチレ
ンオキシドおよび/またはプロピレンオキシドとの反応
生成物がある。1モルのジイソシアネートを2モルのア
クリル酸ヒドロキシアルキルまたはメタクリル酸ヒドロ
キシアルキルと反応させることにより得られる、ウレタ
ン基含有ビスアクリル酸エステルおよびビスメタクリル
酸エステルを使用するのも有利である。ジイソシアネー
トは、ジオールと過剰モルの単量体ジイソシアネートと
の反応により得られるオリゴマー生成物でもよい。この
種のモノマーおよびウレタン基を含む類似のモノマー
は、DE−A 2064079、2822190、30
48502および3540480に記載されている。
【0014】層中に含まれるモノマーの量的比率は、一
般に約10〜75重量%、好ましくは20〜60重量%
である。
【0015】結合剤としては、数多くの可溶な有機重合
体を使用できる。その例としては、ポリアミド、ポリビ
ニルエステル、ポリビニルアセタール、ポリビニルエー
テル、エポキシ樹脂、ポリアクリル酸エステル、ポリメ
タクリル酸エステル、ポリエステル、アルキッド樹脂、
ポリアクリルアミド、ポリビニルアルコール、ポリエチ
レンオキシド、ポリジメチルアクリルアミド、ポリビニ
ルピロリドン、ポリビニルメチルホルムアミド、ポリビ
ニルメチルアセトアミド、および上記の単独重合体を形
成するモノマーの共重合体を挙げることができる。
【0016】他の好適な結合剤としては、天然物質また
は転化した天然物質、例えばゼラチンおよびセルロース
エーテルがある。
【0017】また、水に不溶だが、アルカリ水溶液には
可溶、または少なくとも膨潤し得る結合剤を使用するの
も有利である。その様な結合剤は、例えば−COOH、
−PO3 2 、−SO3 H、−SO2 NH、−SO2
NH−SO2 −および−SO2 −NH−CO−の基を含
むことができる。その様な結合剤の例としては、マレイ
ン酸エステル樹脂、β−メタクリロイルオキシエチル−
N−(p−トリルスルホニル)−カルバメートの重合
体、およびこれらのモノマーおよび類似のモノマーと他
のモノマーとの共重合体、並びに酢酸ビニル/クロトン
酸およびスチレン/無水マレイン酸共重合体がある。D
E−A 2064080、2363806および342
7519に記載されている様な、メタクリル酸アルキル
/メタクリル酸共重合体、およびメタクリル酸、高分子
量メタクリル酸アルキルおよびメタクリル酸メチルおよ
び/またはスチレン、アクリロニトリル、等の共重合体
が好ましい。DE−A 3805706に記載されてい
る様な、α、β−不飽和カルボン酸、メタクリル酸エス
テル、アクリル酸エステルおよび芳香族置換基を含む化
合物からなる結合剤を使用するのも有利である。
【0018】組成物に含むことができる他の通常の成分
には、重合防止剤、他の安定剤、水素供与体、感光性調
整剤、染料、ロイコ染料、光酸化剤、例えばトリブロモ
メチル−フェニルスルホン、顔料、可塑剤および熱的に
活性化し得る架橋剤がある。
【0019】本発明に係る組成物が感応性を示す活性線
放射としては、重合の開始に十分なエネルギーを有する
ならどの様な電磁放射でも使用できる。可視および紫外
線、X線および電子線放射が特に好適である。可視およ
び紫外領域におけるレーザー放射を使用することもでき
る。短波長可視および近紫外線が好ましい。
【0020】本発明の組成物で調製する記録材料に使用
する層支持体の例としては、アルミニウム、鋼、亜鉛、
銅、スクリーンまたはプラスチックフィルム、例えばポ
リエチレンテレフタレートがある。支持体表面は、化学
的または機械的方法により前処理し、層の密着性を適切
に調整することができる。
【0021】本発明に係る混合物は、転写性ドライフォ
トレジスト材料の形で使用するのが好ましい。この目的
には、この混合物を使用して調整し、予め加工した、転
写性ドライレジストフィルムを公知の方法で、処理すべ
き加工品、例えば回路基板用の支持体材料に適用するこ
とができる。ドライレジスト材料を調製するには、一般
に、組成物を溶剤に溶解した溶液を好適な層支持体、例
えばポリエステルフィルムに塗布し、乾燥させる。レジ
スト層の厚さは約10〜80μm 、好ましくは20〜6
0μm にすることができる。層の自由表面は、適宜、支
持体に対するよりもその層に対して弱く密着するトップ
フィルム、例えばポリエチレンまたはポリプロピレンの
フィルムで覆う。
【0022】フィルムはドライレジスト技術で通常使用
されている装置により、処理することができる。市販の
ラミネーターで、トップフィルムを剥離し、フォトレジ
スト層を、ドリル穴開けした銅めっき支持体材料に張り
合わせる。その様にして調製した基板を次に原画を通し
て露光し、支持体フィルムを除去した後、この技術にお
いて公知の方法で現像する。
【0023】好適な現像剤としては、有機溶剤、例えば
トリクロロエタン、または所望により水と混和し得る有
機溶剤または湿潤剤を少量加えた、水溶液、好ましくは
例えばアルカリ金属リン酸塩、アルカリ金属炭酸塩また
はアルカリ金属ケイ酸塩のアルカリ性水溶液がある。
【0024】本発明に係る組成物は、各種の用途に使用
できる。これらの組成物は、金属、例えば銅の支持体材
料上のレジスト、すなわちエッチングレジスト層または
電気めっきレジストを製造するためのドライレジストフ
ィルムの形で使用するのが特に有利である。
【0025】本発明の光反応開始剤の組合わせを使用し
て、露光および現像の後、高いフォトスピード、優れた
解像力および高い可視画像コントラストを示すフォトレ
ジスト層が得られる。下記の実施例により、本発明の好
ましい実施形態を説明する。量的比率および百分率は、
他に指示がない限り重量単位とする。成分の量は一般的
に重量部で表す。各例の後の文字(C)は比較例を表わ
す。
【0026】実施例1 60.0重量部の、メタクリル酸、メタクリル酸メチ
ル、スチレンおよびアクリル酸ブチル(21:42:1
0:27)の重合体、20.0重量部の、エトキシル化
したトリメチロールプロパンのトリアクリル酸エステ
ル、20.0重量部の、1モルの2,2−ビス−(p−
ヒドロキシフェニル)−プロパン−ビス−(2,3−エ
ポキシプロピルエーテル)と2モルのアクリル酸の反応
生成物、0.5重量部のロイコ クリスタル バイオレ
ットおよび0.5重量部のビクトリア ピュア ブルー
FGA(C.I.ベーシックブルー81)を135.0
重量部のブタノンおよび80.0重量部のエタノールに
溶解して塗布溶液を調製した。
【0027】これらの原液に下記の開始剤の一つを溶解
した。 A(C) 0.1重量部の2−(p−ジメチルアミノフ
ェニル)−5−ブロモ−ベンゾトリアゾール、1.0重
量部のN−メトキシ−2−ピコリニウム−トシレート B(C) 0.1重量部の2−(p−ジメチルアミノフ
ェニル)−5−ブロモ−ベンゾトリアゾール、1.0重
量部の2,2' −ビス−(o−クロロフェニル)−4,
4',5,5' −テトラフェニル−ビスイミダゾール、 C 0.1重量部の2−(p−ジメチルアミノフ
ェニル)−5−ブロモ−ベンゾトリアゾール、0.8重
量部の2,2' −ビス−(o−クロロフェニル)−4,
4',5,5' −テトラフェニル−ビスイミダゾール、
0.2重量部の2−メチル−4,6−ビス−トリクロロ
メチル−s−トリアジン D 0.1重量部の2−(p−ジメチルアミノフ
ェニル)−5−ブロモ−ベンゾトリアゾール、0.5重
量部の2,2' −ビス−(o−クロロフェニル)−4,
4',5,5' −テトラフェニル−ビスイミダゾール、
0.5重量部の2−メチル−4,6−ビス−トリクロロ
メチル−s−トリアジン E 0.1重量部の2−(p−ジメチルアミノフ
ェニル)−5−ブロモ−ベンゾトリアゾール、1.0重
量部の2−メチル−4,6−ビス−トリクロロメチル−
s−トリアジン F 0.1重量部の2−(p−ジメチルアミノフ
ェニル)−5−ブロモ−ベンゾトリアゾール、1.0重
量部の2−p−ビフェニリル−4,6−ビス−トリクロ
ロメチル−s−トリアジン
【0028】この様にして得た溶液を25μm 厚の、二
軸延伸し、ヒートセットしたポリエチレンテレフタレー
トフィルム上に、それぞれの場合に100℃で乾燥後の
層重量が31 g/m2 になる様に塗布した。
【0029】このドライレジスト層をたとえばちりによ
るよごれおよび機械的損傷から保護するために、23μ
m厚の保護ポリエチレンフィルムを上記層の上部に積層
した。その後、これらの材料をロール状に巻き、光を遮
蔽して長期間貯蔵することができた。
【0030】これらの材料のフォトスピードを測定する
ために、通常の張り合わせ装置を使用し、ドライレジス
トフィルムを、35μm 厚の銅ホイルを張り合わせたフ
ェノプラストラミネートボード上に115℃で張り合わ
せ、次いで真空複写フレーム中で、フレームから110
cmの距離に配置した5kWハロゲン化金属ランプを使用し
て7秒間露光した。0.15の濃度勾配を有する13ス
テップ露光試験ウェッジを原画として使用した。露光に
続いて、ポリエステルの保護フィルムを剥離し、層を噴
霧現像装置内で1%濃度の炭酸ナトリウム溶液で1分間
現像した。それぞれの混合物のフォトスピードが高い
程、より多くのステップが硬化し、銅上に残った。
【0031】露光コントラストを測定するために、レジ
スト図形を7秒間露光し、露光区域と非露光区域との間
のコントラストをマクベス濃度計TE−528(Wratte
n 106フィルター、透過光)を使用して測定した。そ
の差がコントラストに相当する。硬化したウェッジステ
ップの数およびコントラスト値を下記の表に示す。
【0032】 試料番号 フォトスピード(硬化ステップ) コントラスト(濃度値) A(C)* 5 0.13 B(C)* 7 0.12 C 8 0.26 D 10 0.27 E 11 0.25 F 10 0.33 *(C)=比較
【0033】実施例2 50.0重量部の、メタクリル酸メチルおよびメタクリ
ル酸からなる共重合体(酸価115)、50.0重量部
の、トリメチロールプロパントリアクリレート、0.3
重量部のビクトリア ピュア ブルーFGA 0.3重量部のロイコ クリスタル バイオレットおよ
び0.5重量部の2−(p−ジエチルアミノフェニル)
−ベンゾトリアゾールを800.0重量部のブタノンに
溶解して塗布溶液を調製した。
【0034】これらの原液に下記の開始剤の一つを溶解
した。 A 0.6重量部の1−メトキシ−2−ピコリニウ
ム−p−トルエンスルホネート、 B 0.6重量部の2,2' −ビス−(o−クロロ
フェニル)−4,4' ,5,5' −テトラフェニルビス
イミダゾール、 C 0.3重量部の2,2' −ビス−(o−クロロ
フェニル)−4,4' ,5,5' −テトラフェニルビス
イミダゾールおよび0.3重量部の2−フェニル−4,
6−ビス−トリクロロメチル−s−トリアジン D 0.6重量部の2−フェニル−4,6−ビス−
トリクロロメチル−s−トリアジン
【0035】これらの溶液を、電解により粗粒化し、陽
極酸化処理した0.3mm厚のアルミニウム上にスピンコ
ートした。塗布層を100℃で2分間乾燥させ、2.6
g/m2 の乾燥層重量を得た。感光層を備えたこれらの
板に15%濃度のポリビニルアルコール水溶液(残留ア
セチル基12%、K値4)を塗布し、乾燥してそれぞれ
約4 g/m2 の乾燥重量のトップ層を得た。得られた印刷
版は、100cmの距離に配置した2kWハロゲン化金属ラ
ンプを使用し、陰原画および実施例1のウェッジステッ
プを通して4秒間露光した。
【0036】露光コントラストを測定するために、パシ
フィック サイエンティフィック社、ガードナー ネオ
テック インスツルメント事業部製のスペクトラルフォ
トメーターを使用し、露光区域および非露光区域のCi
e−L*−、a*−およびb*値を測定した。L*値は
0(暗)〜100(明)の目盛り範囲で示されるコント
ラストの尺度である。各場合に測定した2つのL*値間
の差デルタ−L*を下記の表に示す。より高いデルタL
*値はよりよいコントラストを意味する。a*およびb
*の値は共に試料の色値の尺度である。これらの値はこ
の場合には評価しなかった。
【0037】露光により硬化しなかった明区域を、下記
の組成を有する現像剤溶液により除去した。3.00重
量部のケイ酸ナトリウムx9H2 O、0.05重量部の
塩化ストロンチウム、0.03重量部の非イオン性界面
活性剤(約8オキシエチレン単位を有するココナッツ脂
肪アルコールポリオキシエチレンエーテル)、および1
00.00重量部の完全に脱イオン化した水。
【0038】硬化したウェッジステップの数はそれぞれ
の層または印刷版のフォトスピードを表わす尺度であ
る。
【0039】 層 A(C) B(C) C D デルタ−L*−値 2.61 2.38 5.47 4.76 硬化したステップ 2 4 7 7
【0040】実施例3 54.0重量部の、99%のメタクリル酸メチルおよび
1%のメタクリル酸からなる重合体 7.3重量部のo/p−トルエンスルホンアミド、0.
4重量部のロイコ クリスタル バイオレット、38.
0重量部の、1モルのブタン−1,4−ビス−グリシジ
ルエーテルおよび2モルのアクリル酸から得たエステ
ル、0.1重量部の2−(p−ジメチルアミノフェニ
ル)−5−クロロベンゾトリアゾール、および0.2重
量部の可溶性銅フタロシアニン(C.I.ソルベントブ
ルー70)を150.0重量部のアセトンに溶解して原
液を調製し、これらの原液に下記の開始剤を溶解した。 A 0.4重量部の2,2' −ビス−(o−クロロ
フェニル)−4,4' ,5,5' −テトラフェニルビス
イミダゾール、 B 0.4重量部の1−メトキシ−2−ピコリニウ
ム−p−トルエン/スルホネート、 C 0.4重量部の2−フェニル−4,6−ビス−
トリクロロメチル−s−トリアジン、 D 0.2重量部の2−フェニル−4,6−ビス−
トリクロロメチル−s−トリアジンおよび0.2重量部
の2,2' −ビス−(o−クロロフェニル)−4,4'
,5,5' −テトラフェニルビスイミダゾール。
【0041】これらの溶液を、二軸延伸し、ヒートセッ
トした25μm 厚のポリエチレンテレフタレートフィル
ム上に、それぞれの場合に100℃で乾燥後の層重量が
54g/m2 になる様にスピンコートした。この様にして
調製したドライレジストフィルムを、市販の張り合わせ
装置を使用し、35μm 厚の銅ホイルを張り合わせたフ
ェノール樹脂ラミネートボード上に115℃で張り合わ
せた。真空複写フレーム中で、複写フレームから110
cmの距離に配置した5kWハロゲン化金属ランプを使用し
て9秒間露光した。使用した原画は、a)ステップウェ
ッジ、b)露光コントラストを測定するための透明区域
および光学濃度の高い区域、およびc)線幅および空間
が50μm までの線原画であった。
【0042】露光後、ポリエステルフィルムを剥離し、
層を噴霧現像装置内で、1,1,1−トリクロロエタン
を使用して60秒間現像した。
【0043】画像コントラストは、実施例2に記載する
様に、現像前のデルタ−L*−値を測定することにより
評価した。
【0044】 層 A(C) B(C) C D コントラスト(デルタ-L*) 9.73 10.18 19.35 20.65 硬化したウェッジステップ 7 8 12 13
【0045】線画像を再現するための最適露光時間 層A 10秒間 層B 9秒間 層C 4秒間 層D 3秒間
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G03F 7/029 7/032 H01L 21/027

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】必須成分として、 a)重合体結合剤、 b)少なくとも一つの末端エチレン性二重結合を有し、
    常圧における沸点が100℃を超える、フリーラジカル
    反応により重合し得る化合物、および c)一般式I 【化1】 (式中、R1 およびR2 は、同一または異なっており、
    置換されていてもよいアルキル、アルケニルまたはアリ
    ール基、あるいはトリクロロメチル基を表わす。)のト
    リクロロメチル化合物を含む光重合性混合物であって、 前記混合物が、さらに他の光反応開始剤として、一般式
    II 【化2】 (式中、R3 およびR4 は、同一または異なっており、
    個別に水素またはハロゲン原子またはアルキル、アルコ
    キシ、アルコキシカルボニルまたはアリール基を表わ
    す、または一緒に縮合ベンゼン環を表わし、R5 および
    6 は、同一のまたは異なったアルキル、アリールまた
    はアラルキル基を表わす、または一緒に5または6員環
    の複素環を表わす。)の化合物を含むことを特徴とする
    光重合性混合物。
  2. 【請求項2】式Iの化合物を含み、R1 がアルキル、ア
    リール、またはアラルケニル基を表わし、R2 がトリク
    ロロメチル基を表わすことを特徴とする、請求項1に記
    載の光重合性混合物。
  3. 【請求項3】0.05〜0.5重量%の式Iの化合物を
    含むことを特徴とする、請求項1または2に記載の光重
    合性混合物。
  4. 【請求項4】式IIの化合物を含み、R5 およびR6 がそ
    れぞれ1〜4個の炭素原子を有するアルキル基を表わす
    ことを特徴とする、請求項1に記載の光重合性混合物。
  5. 【請求項5】0.05〜1重量%の式IIの化合物を含む
    ことを特徴とする、請求項1または4に記載の光重合性
    混合物。
  6. 【請求項6】式Iおよび式IIの化合物が1:10〜2
    0:1の比率で含まれていることを特徴とする、請求項
    1に記載の光重合性混合物。
  7. 【請求項7】フリーラジカル反応により重合し得る化合
    物が多価アルコールのアクリル酸エステルまたはメタク
    リル酸エステルであることを特徴とする、請求項1に記
    載の光重合性混合物。
  8. 【請求項8】20〜80重量%の重合体結合剤および2
    0〜75重量%の重合性化合物を含むことを特徴とす
    る、請求項1に記載の光重合性混合物。
  9. 【請求項9】層支持体および光重合性層からなる光重合
    性記録材料であって、前記層が請求項1〜8のいずれか
    1項に記載の混合物からなることを特徴とする光重合性
    記録材料。
  10. 【請求項10】層支持体が層から機械的に除去し得る透
    明な可撓性プラスチックフィルムからなること、および
    その層の反対側表面が可撓性のトップシートで被覆され
    ており、そのトップシートは前記層に、プラスチックフ
    ィルムより弱く密着していることを特徴とする請求項9
    に記載の光重合性記録材料。
JP26890991A 1990-09-20 1991-09-20 光重合性混合物およびこれから調製した記録材料 Pending JPH0695381A (ja)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100855600B1 (ko) * 2001-09-18 2008-09-01 후지 필름 일렉트로닉 머트리얼즈 가부시키가이샤 감방사선성 착색조성물

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008118122A2 (en) * 2006-05-08 2008-10-02 Molecular Neuroimaging, Llc Compounds and amyloid probes thereof for therapeutic and imaging uses
MY158359A (en) * 2009-09-15 2016-09-30 Novartis Ag Prepolymers suitable for making ultra-violet absorbing contact lenses

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3717038A1 (de) * 1987-05-21 1988-12-08 Basf Ag Photopolymerisierbare aufzeichnungsmaterialien sowie photoresistschichten und flachdruckplatten auf basis dieser aufzeichnungsmaterialien
JPH07120036B2 (ja) * 1987-07-06 1995-12-20 富士写真フイルム株式会社 光重合性組成物

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100855600B1 (ko) * 2001-09-18 2008-09-01 후지 필름 일렉트로닉 머트리얼즈 가부시키가이샤 감방사선성 착색조성물

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