JPH0695433B2 - フレキシブル磁気デイスク - Google Patents
フレキシブル磁気デイスクInfo
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- JPH0695433B2 JPH0695433B2 JP59038260A JP3826084A JPH0695433B2 JP H0695433 B2 JPH0695433 B2 JP H0695433B2 JP 59038260 A JP59038260 A JP 59038260A JP 3826084 A JP3826084 A JP 3826084A JP H0695433 B2 JPH0695433 B2 JP H0695433B2
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Description
【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明はフレキシブル磁気デイスクの改良に関し、さら
に詳しくは書込みおよび読取り用装置に偏心することな
く充填されるフレキシブル磁気デイスクに関する。
に詳しくは書込みおよび読取り用装置に偏心することな
く充填されるフレキシブル磁気デイスクに関する。
(従来技術) 従来フレキシブルな磁気デイスクシートをジヤケツトに
収納し、ジヤケツトとシートの両方に設けた中央円孔に
書込みおよび読取り用装置のシート位置決め部材を係合
せしめ、これを回転させてシート上に磁気記録をし、あ
るいはシートから磁気再生するものが知られている。こ
の種の磁気デイスクはシートがジヤケツトに多少余裕を
もつて収納されているため、保管時、取扱時あるい携帯
時に中のシートがジヤケツト内で片寄つた位置にずれ、
装置にデイスクを装填したとき、シート中央の円孔が装
置の位置決め部材(コレツト)の位置に対して偏心し、
位置決め時にシートが偏心した位置に保持されてしまう
ことがある。
収納し、ジヤケツトとシートの両方に設けた中央円孔に
書込みおよび読取り用装置のシート位置決め部材を係合
せしめ、これを回転させてシート上に磁気記録をし、あ
るいはシートから磁気再生するものが知られている。こ
の種の磁気デイスクはシートがジヤケツトに多少余裕を
もつて収納されているため、保管時、取扱時あるい携帯
時に中のシートがジヤケツト内で片寄つた位置にずれ、
装置にデイスクを装填したとき、シート中央の円孔が装
置の位置決め部材(コレツト)の位置に対して偏心し、
位置決め時にシートが偏心した位置に保持されてしまう
ことがある。
第1Aおよび1B図はこの種のフレキシブル磁気シートを示
すもので、中央に円形開口1aを有する矩形のジヤケツト
1の中に、前記中央円形開口1aの中に中央円孔2aの周縁
を露出した円形のフレキシブル磁気シート2が回転自在
に収納されている。
すもので、中央に円形開口1aを有する矩形のジヤケツト
1の中に、前記中央円形開口1aの中に中央円孔2aの周縁
を露出した円形のフレキシブル磁気シート2が回転自在
に収納されている。
このフレキシブル磁気デイスクを書き込みおよび読取り
装置に装填するとき、第2図に示すように位置決め部材
の回転部3をシート2の下から当て、この上からコレツ
ト4を下げて、回転部3の円形凹部3aの中に圧入する。
このとき、シート2の中央円孔2aの周縁は回転部3の円
形凹部3aの位置に必ずしも一致しているわけではなく、
ずれていることが多いから、このままコレツト4を下げ
ると第3図のようにシート2の円孔2aの周縁の一部がコ
レツト4と回転部3の凹部3aの間に挾持され、偏心した
状態で回転することになる。磁気デイスクシート2は常
に中心が正しく回転中心軸に一致して回転されなければ
書込み、読取りが正しく行なわれないから、このような
位置に保持されることは防止されねばならない。また、
このような状態で保持され、回転されると、シート2の
平面性が損なわれ、回転時にがたつくという問題もあ
る。コレツト4を下げてシート1を挾持するとき、シー
トの1が第3図のごとくではなく、第4図のごとく正し
く装填されるためには、シート中央円孔周縁が適当な硬
度を有し、かつシート1とコレツト4および回転部3と
の摩擦係数(μ)の小さいことが必要となる。
装置に装填するとき、第2図に示すように位置決め部材
の回転部3をシート2の下から当て、この上からコレツ
ト4を下げて、回転部3の円形凹部3aの中に圧入する。
このとき、シート2の中央円孔2aの周縁は回転部3の円
形凹部3aの位置に必ずしも一致しているわけではなく、
ずれていることが多いから、このままコレツト4を下げ
ると第3図のようにシート2の円孔2aの周縁の一部がコ
レツト4と回転部3の凹部3aの間に挾持され、偏心した
状態で回転することになる。磁気デイスクシート2は常
に中心が正しく回転中心軸に一致して回転されなければ
書込み、読取りが正しく行なわれないから、このような
位置に保持されることは防止されねばならない。また、
このような状態で保持され、回転されると、シート2の
平面性が損なわれ、回転時にがたつくという問題もあ
る。コレツト4を下げてシート1を挾持するとき、シー
トの1が第3図のごとくではなく、第4図のごとく正し
く装填されるためには、シート中央円孔周縁が適当な硬
度を有し、かつシート1とコレツト4および回転部3と
の摩擦係数(μ)の小さいことが必要となる。
この目的のために、特開昭57−113422号には、フレキシ
ブル磁気デイスクの中央円孔周縁のシート位置決め部材
と接触する部分に、紫外線により重合可能なポリオレフ
イン材と脂肪酸エステルとを含有する保護層を設けて摩
擦係数を減少させる方法が開示されている。
ブル磁気デイスクの中央円孔周縁のシート位置決め部材
と接触する部分に、紫外線により重合可能なポリオレフ
イン材と脂肪酸エステルとを含有する保護層を設けて摩
擦係数を減少させる方法が開示されている。
しかし、ここで問題となるのは、保護層を設けることに
よる実用上の問題である。すなわち保護層厚味が厚すぎ
ると、操作中にいわゆるトラツクずれが生じる恐れがあ
り好ましくない。
よる実用上の問題である。すなわち保護層厚味が厚すぎ
ると、操作中にいわゆるトラツクずれが生じる恐れがあ
り好ましくない。
また硬化の際の収縮(重合収縮)の寄与が大きくなり、
フレキシブル磁気デイスクの平面性を損ない、寸方精度
を悪化させ、ひいてはトラツク精度に悪い影響を与え
る。
フレキシブル磁気デイスクの平面性を損ない、寸方精度
を悪化させ、ひいてはトラツク精度に悪い影響を与え
る。
また前記発明のほか、特願昭58−130438号、特願昭58−
130439号、特願昭58−219607号等にも紫外線照射により
硬化が可能な樹脂と種々の潤滑剤を含有する保護層を設
けて摩擦係数を減少させる方法が示されている。
130439号、特願昭58−219607号等にも紫外線照射により
硬化が可能な樹脂と種々の潤滑剤を含有する保護層を設
けて摩擦係数を減少させる方法が示されている。
しかし上述したような保護層では特定のドライブにおい
て、いまだ十分効果を発揮できない場合が生ずる。
て、いまだ十分効果を発揮できない場合が生ずる。
そこで、本発明者らは、放射線硬化型樹脂を含有する保
護層について鋭意検討した結果、保護層を薄層化し、保
護層の表面を粗面化することでより顕著な効果が発揮さ
れることを見出し、本発明に到つた。
護層について鋭意検討した結果、保護層を薄層化し、保
護層の表面を粗面化することでより顕著な効果が発揮さ
れることを見出し、本発明に到つた。
(発明の目的) 本発明の目的はフレキシブル磁気デイスクシートと位置
決め部材との間の摩擦を小さく保ち、装置に偏心するこ
となく装填され、またトラツク精度寸法精度上問題のな
いフレキシブル磁気デイスクを提供することにある。
決め部材との間の摩擦を小さく保ち、装置に偏心するこ
となく装填され、またトラツク精度寸法精度上問題のな
いフレキシブル磁気デイスクを提供することにある。
(発明の構成) すなわち本発明の上記目的は(1)フレキシブル磁気デ
イスクシートの中央円孔周縁に保護層を設けたフレキシ
ブル磁気デイスクにおいて該保護層は分子の主鎖末端お
よび側鎖の少なくとも一方にアクリル酸又はメタクリル
酸とのエステル結合を有する化合物を含む組成物よりな
り、かつ該保護層は放射線照射により、硬化され、厚み
が30μm以下であることを特徴とするフレキシブル磁気
デイスク及び(2)前記保護層の表面粗さがカットオフ
0.25mmの中心線平均粗さ(Ra)にて0.03μm以上である
ことを特徴とする上記(1)記載のフレキシブル磁気デ
イスクによつて達成できる。
イスクシートの中央円孔周縁に保護層を設けたフレキシ
ブル磁気デイスクにおいて該保護層は分子の主鎖末端お
よび側鎖の少なくとも一方にアクリル酸又はメタクリル
酸とのエステル結合を有する化合物を含む組成物よりな
り、かつ該保護層は放射線照射により、硬化され、厚み
が30μm以下であることを特徴とするフレキシブル磁気
デイスク及び(2)前記保護層の表面粗さがカットオフ
0.25mmの中心線平均粗さ(Ra)にて0.03μm以上である
ことを特徴とする上記(1)記載のフレキシブル磁気デ
イスクによつて達成できる。
本発明において使用できる化合物は分子主鎖末端および
側鎖の少なくとも一方にアクリル酸またはメタクリル酸
とのエステル結合を有する化合物であり、その数は分子
量1000あたり1〜10個、好ましくは1〜6個、さらに好
ましくは2〜4個である。その分子量は特に限定されな
いが500〜30,000が好ましく、1,000〜20,000のオリゴマ
ーからポリマー領域のものがさらに好ましい。主鎖の骨
格は、ポリエステル骨格、ポリウレタン骨格、ポリエー
テル骨格、ポリカーボネート骨格、エポキシ樹脂の骨格
などが好ましく、それらの混合された骨格であつてもま
たそれらを二種以上混合して使用してもよい。
側鎖の少なくとも一方にアクリル酸またはメタクリル酸
とのエステル結合を有する化合物であり、その数は分子
量1000あたり1〜10個、好ましくは1〜6個、さらに好
ましくは2〜4個である。その分子量は特に限定されな
いが500〜30,000が好ましく、1,000〜20,000のオリゴマ
ーからポリマー領域のものがさらに好ましい。主鎖の骨
格は、ポリエステル骨格、ポリウレタン骨格、ポリエー
テル骨格、ポリカーボネート骨格、エポキシ樹脂の骨格
などが好ましく、それらの混合された骨格であつてもま
たそれらを二種以上混合して使用してもよい。
本発明において放射線とは−低エネルギー放射線である
紫外線、高エネルギー放射線であるα線、X線、電子線
などをいう。このうち特に紫外線が発生装置も簡便で好
ましい。
紫外線、高エネルギー放射線であるα線、X線、電子線
などをいう。このうち特に紫外線が発生装置も簡便で好
ましい。
紫外線を放射線として用いる時、光重合開始剤である芳
香族ケトンを含有させると好ましい。芳香族ケトンは、
特に限定されないが、紫外線照射光源として通常使用さ
れる水銀灯の輝線スペクトルを生ずる254,313,365nmの
波長において吸光係数の比較的大なるものが好ましい。
その代表例としては、アセトフエノン、ベンゾフエノ
ン、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルメチルケター
ル、ベンジルエチルケタール、ベンゾインイソブチルケ
トン、ヒドロキシジメチルフエニルケトン、1−ヒドロ
キシシクロヘキシルフエニルケトン、2−2ジエトキシ
アセトフエノン、Michlersケトンなどがあり、種々の芳
香族ケトンが使用できる。
香族ケトンを含有させると好ましい。芳香族ケトンは、
特に限定されないが、紫外線照射光源として通常使用さ
れる水銀灯の輝線スペクトルを生ずる254,313,365nmの
波長において吸光係数の比較的大なるものが好ましい。
その代表例としては、アセトフエノン、ベンゾフエノ
ン、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルメチルケター
ル、ベンジルエチルケタール、ベンゾインイソブチルケ
トン、ヒドロキシジメチルフエニルケトン、1−ヒドロ
キシシクロヘキシルフエニルケトン、2−2ジエトキシ
アセトフエノン、Michlersケトンなどがあり、種々の芳
香族ケトンが使用できる。
芳香族ケトンの混合比率は、前記化合物100重量部に対
し0.5〜20重量%、好ましくは2〜15重量部、さらに好
ましくは3〜10重量部である。
し0.5〜20重量%、好ましくは2〜15重量部、さらに好
ましくは3〜10重量部である。
本発明において潤滑剤を前記組成物中に添加して摩擦係
数を下げることが好ましい。
数を下げることが好ましい。
潤滑剤としては、飽和脂肪酸、不飽和脂肪酸ならびに脂
肪酸エステル、脂肪酸アミド、さらにシリコーン系潤滑
剤、鉱油、食物油、フツ素系化合物、等の潤滑剤、ある
いは黒鉛、二硫化モリブデン、二硫化タングステン、窒
化ほう素、弗化黒鉛、金酸化物等の固体潤滑剤を用いる
ことができる。潤滑剤の混合比率は前記化合物100重量
部に対し1〜10重量部が好ましい。
肪酸エステル、脂肪酸アミド、さらにシリコーン系潤滑
剤、鉱油、食物油、フツ素系化合物、等の潤滑剤、ある
いは黒鉛、二硫化モリブデン、二硫化タングステン、窒
化ほう素、弗化黒鉛、金酸化物等の固体潤滑剤を用いる
ことができる。潤滑剤の混合比率は前記化合物100重量
部に対し1〜10重量部が好ましい。
塗液を調整する場合、種々の有機溶剤を必要に応じて使
用してもよい。
用してもよい。
本発明において、保護層の厚みは30μm以下が使用で
き、好ましくは15μm以下、さらに好ましくは7μm以
下である。又保護層の表面粗さは0.03μm以上が好まし
く、0.1μm以上がさらに好ましい。
き、好ましくは15μm以下、さらに好ましくは7μm以
下である。又保護層の表面粗さは0.03μm以上が好まし
く、0.1μm以上がさらに好ましい。
保護層の厚みが30μmより大きいとオフトラツクが認め
られ実用上問題であり、又外観上も平面性にひずみがあ
り問題となる。
られ実用上問題であり、又外観上も平面性にひずみがあ
り問題となる。
30μm以下であればオフトラツクは認められるが実用上
問題なく、15μm以下であればオフトラツクはわずかし
か認められず問題はない。さらに7μm以下であればオ
フトラツクはまつたく認められず、特に4μm以下の時
最良の結果が得られる。
問題なく、15μm以下であればオフトラツクはわずかし
か認められず問題はない。さらに7μm以下であればオ
フトラツクはまつたく認められず、特に4μm以下の時
最良の結果が得られる。
保護層を設ける印刷方法としてはスクリーン印刷、タン
ポ印刷、オフセット印刷が用いられ、特に薄層塗布には
オフセット印刷が一番よく次に良好なのがタンポ印刷で
ある。
ポ印刷、オフセット印刷が用いられ、特に薄層塗布には
オフセット印刷が一番よく次に良好なのがタンポ印刷で
ある。
(実施例) 以下に本発明を実施例により説明する。
第5図は本発明の実施例を示すものであり、フレキシブ
ル磁気シート10の中央円孔10aの周縁にそつて、表裏両
面に本発明による保護層11がオフセット印刷により塗布
され、80W/cmの高圧水銀灯により紫外線照射をし、重合
硬化した。保護層の巾は3mmとした。
ル磁気シート10の中央円孔10aの周縁にそつて、表裏両
面に本発明による保護層11がオフセット印刷により塗布
され、80W/cmの高圧水銀灯により紫外線照射をし、重合
硬化した。保護層の巾は3mmとした。
実施例、比較例の保護層の組成は以下の如くした。
実施例1〜6、比較例1〜2 東亜合成製ポリウレタンアクリレート「M−1100」 100
重量部 ブチルステアレート 5 〃 ベンジルジメチルケタール 5 〃 ここで保護層の厚み及び表面粗さを第1表の如く変え、
実施例、比較例のサンプルを作成した。
重量部 ブチルステアレート 5 〃 ベンジルジメチルケタール 5 〃 ここで保護層の厚み及び表面粗さを第1表の如く変え、
実施例、比較例のサンプルを作成した。
比較例3 保護層を設けないサンプルを用いた。
第1表 前記実施例および比較例における位置決め部材との摩擦
係数測定と、デイスクドライブへの装填テストを25℃80
%RHの条件下で行なつた結果を第1表に示す。
係数測定と、デイスクドライブへの装填テストを25℃80
%RHの条件下で行なつた結果を第1表に示す。
摩擦係数の測定は、位置決め部材(回転部)を磁気シー
ト上で送り速度0.8mm/sec.で摩擦し、その際の付加荷重
を70g重として行なつた。表面粗さは小坂研究所製サー
フコーダーModel SE−3Eを用いて測定した。
ト上で送り速度0.8mm/sec.で摩擦し、その際の付加荷重
を70g重として行なつた。表面粗さは小坂研究所製サー
フコーダーModel SE−3Eを用いて測定した。
デイスクドライブへの装填テストに使用したドライブ
は、Y−Eデータ社製YD−280および380、松下通工社製
JA751および561、三菱電機社製M−2894および4853であ
る。テストには磁気デイスクを各ドライブにつき10枚用
い、1枚につき連続50回くりかえし装填を行ない、全ド
ライブ連続50回のテスト中1回でも不良の生じた磁気デ
イスクは不良とし、不良の生じた枚数より不良率を算出
した。
は、Y−Eデータ社製YD−280および380、松下通工社製
JA751および561、三菱電機社製M−2894および4853であ
る。テストには磁気デイスクを各ドライブにつき10枚用
い、1枚につき連続50回くりかえし装填を行ない、全ド
ライブ連続50回のテスト中1回でも不良の生じた磁気デ
イスクは不良とし、不良の生じた枚数より不良率を算出
した。
即ち、不良率とは、上記のように6種のディスクドライ
ブに各ドライブ当たり10枚づつ総数10(枚)×6=60枚
中、不良の生じた磁気ディスクの枚数の割合のことであ
り、100分率で表示した。
ブに各ドライブ当たり10枚づつ総数10(枚)×6=60枚
中、不良の生じた磁気ディスクの枚数の割合のことであ
り、100分率で表示した。
結果を第1表に示す。
また、実用特性の結果を第2表に示す。
以上述べたところから明らかなように、フレキシブル磁
気デイスクシートのデイスクドライブへの装填を失敗な
く行なうには、対回転部との摩擦係数を低下させること
が必要であり、これを達成するためにはUV硬化形成等に
よる保護層が有効である。保護層の厚味を薄くすること
によつて磁気デイスクシートの寸法、トラツク精度を維
持でき、しかも薄層化による、摩擦係数の増加、装填不
良率の増加等の悪影響は見受けられない。
気デイスクシートのデイスクドライブへの装填を失敗な
く行なうには、対回転部との摩擦係数を低下させること
が必要であり、これを達成するためにはUV硬化形成等に
よる保護層が有効である。保護層の厚味を薄くすること
によつて磁気デイスクシートの寸法、トラツク精度を維
持でき、しかも薄層化による、摩擦係数の増加、装填不
良率の増加等の悪影響は見受けられない。
さらに摩擦係数の低下、装填不良率の低下には、保護層
の表面を粗面化することが有効であることが明白であ
る。
の表面を粗面化することが有効であることが明白であ
る。
第1A図はフレキシブル磁気デイスクの例を示す平面図、 第1B図はその断面図、 第2図はフレキシブル磁気デイスクを装置の位置決め部
材に装填する状態を示す一部断面図、 第3図は同じくそのシートが偏心したまま保持される状
態を示す一部断面図、 第4図は同じくそのシートが正しく位置決めされた状態
を示す一部断面図、 第5図は本発明の一実施例のシート部を示す平面図、 1……ジヤケツト、1a……ジヤケツト開口 2……磁気シート、2a……中央円孔 3……位置決め部材(回転部) 3a……円形凹部、4……位置決め部材(コレツト) 10……磁気シート、10a……中央円孔 11……保護層
材に装填する状態を示す一部断面図、 第3図は同じくそのシートが偏心したまま保持される状
態を示す一部断面図、 第4図は同じくそのシートが正しく位置決めされた状態
を示す一部断面図、 第5図は本発明の一実施例のシート部を示す平面図、 1……ジヤケツト、1a……ジヤケツト開口 2……磁気シート、2a……中央円孔 3……位置決め部材(回転部) 3a……円形凹部、4……位置決め部材(コレツト) 10……磁気シート、10a……中央円孔 11……保護層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き 審判の合議体 審判長 藤田 孝司 審判官 犬飼 宏 審判官 山田 洋一 (56)参考文献 特開 昭57−113422(JP,A) 特開 昭56−25232(JP,A) 特開 昭58−146029(JP,A)
Claims (1)
- 【請求項1】フレキシブル磁気ディスクシートの中央円
孔周縁に保護層を設けたフレキシブル磁気ディスクにお
いて該保護層は分子の主鎖末端および側鎖の少なくとも
一方にアクリル酸叉はメタクリル酸とのエステル結合を
有する化合物を含む組成物よりなり、かつ該保護層は放
射線照射により硬化され、保護層の厚みが4μm以上30
μm以下であり、さらに前記保護層の表面粗さがカット
オフ0.25mmの中心線平均粗さ(Ra)にて0.03μm以上0.
60μm以下であることを特徴とするフレキシブル磁気デ
ィスク。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59038260A JPH0695433B2 (ja) | 1984-02-29 | 1984-02-29 | フレキシブル磁気デイスク |
| US06/706,568 US4707392A (en) | 1984-02-29 | 1985-02-28 | Flexible magnetic disk |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59038260A JPH0695433B2 (ja) | 1984-02-29 | 1984-02-29 | フレキシブル磁気デイスク |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60182575A JPS60182575A (ja) | 1985-09-18 |
| JPH0695433B2 true JPH0695433B2 (ja) | 1994-11-24 |
Family
ID=12520346
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59038260A Expired - Lifetime JPH0695433B2 (ja) | 1984-02-29 | 1984-02-29 | フレキシブル磁気デイスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0695433B2 (ja) |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5625232A (en) * | 1979-08-06 | 1981-03-11 | Sony Corp | Magnetic recording medium |
| US4387114A (en) * | 1980-11-20 | 1983-06-07 | Verbatim Corporation | Spindle aperture reinforcement for a floppy disk |
| JPS57150316A (en) * | 1981-03-12 | 1982-09-17 | Kubota Ltd | Nursery plant planting device |
| JPS58146029A (ja) * | 1982-02-24 | 1983-08-31 | Sony Corp | 磁気記録媒体 |
-
1984
- 1984-02-29 JP JP59038260A patent/JPH0695433B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60182575A (ja) | 1985-09-18 |
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