JPH0697659B2 - ウエハのエツチング装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 この発明は半導体ウエハの表面に、各種の電子素子を形
成する場合に、焼付の後その半導体ウエハ（以下単にウ
エハと言う）の表面をエツチングするための装置に関す
るものである。

従来の技術 従来、この種の装置の一例として第３図に示すような米
国特許第4339297号が知られている。同図においてａは
液槽であり、その中にエツチング液ｂが収容されてあ
り、このエツチング液ｂは図示しない噴出装置により矢
印Abに示すように上方に噴出させられ、かつその噴出後
戻し孔ｃから前記液槽ａに戻り、以下循環させられるよ
うになつている。そして前記液槽ａの上方にウエハチヤ
ツクｄが、フレームｅに軸支され、かつモータｆにより
回転させられるようになつてる。ｇは図示しない真空ポ
ンプに連通された通路であり、前記ウエハチヤツクｄに
連通させられてあり、これによつてウエハｈを、ウエハ
チヤツクｄに吸着できるようになつている。なおｉはメ
カニカルシール、ｊはエアシリンダであり、詳細な構造
は省略されているが、ウエハチヤツクｄを設けたフレー
ムｅを上下動できるようになつている。

ウエハｈはウエハチヤツクｄに吸着されて取付けられ、
モータｆにより回転され、その状態において下方からエ
ツチング液ｂを噴出させられて、これによりエツチング
が行われる。

発明が解決しようとする問題点 しかし上記従来のエツチング装置は次のような問題点を
有している。それは、上方に向つて噴出させられるエツ
チング液ｂが場所によりその噴出の量、速度等に差のあ
ることである。このため同エツチング液ｂによつて腐食
されるウエハｈの表面には腐食のむらを生じることが避
けられない。

この現象はモータｆによりウエハｈが回転するように形
成されていても避けられないものである。

この発明はこのような問題を解決するためになされたも
ので、その目的はウエハのエツチングのむらを、前記従
来のものよりも一層少くすることのできるウエハのエツ
チング装置を提供することである。

問題点を解決するための手段 この発明を、実施例を示す図面について述べると、第１
図において、フレーム１に回転自在に軸支され、かつ駆
動装置２に連結された駆動軸3;該駆動軸３に、該駆動軸
３の軸心４に対して偏心した位置に設けられた、後記ウ
エハチャック６を公転させる、ウエハチャック６の軸支
部5;該軸支部５に回動自在に軸着されたウエハチャック
6;該ウエハチャック６と前記フレーム１間に設けられ
た、該両者６、１の一部が摩擦し合うことにより、公転
する該ウエハチャック６が自動的に自転するように形成
された回転装置7;上記ウエハチャック６の下方に設けら
れた、エッチング液を上向きに噴出させる噴出装置8;か
ら成ることを特徴とするウエハのエッチング装置であ
る。

作用 第１図において、ウエハチヤツク６にウエハ10が取付け
られる。次に前記駆動装置２を作動させて駆動軸３を回
転させる。駆動軸３に、その軸心４に対して偏心した位
置に設けられている軸支部５は、軸心４を中心として公
転を行う。又それと共にウエハチヤツク６は前記回転装
置７により回転させられる。これによりウエハチヤツク
６は公転及び自転を行うことになり、これに取付けられ
ているウエハ10も公転及び自転をする。そして、この状
態においてウエハ10の下方からエツチング液11が、その
噴出装置８により噴出され、噴流として与えられる。こ
うしてウエハ10は公転及び自転しながら、エツチング液
11により腐食される。

実施例 第１図において12はフレーム11に設けられたメカニカル
シールであり、パイプ13を通じて図示しない真空ポンプ
に連通させられている。そして、前記駆動軸３は、その
内部に軸方向のエア通路14を有し、メカニカルシール1
2、及びフレーム１の軸受15に軸支されている。16は屈
曲部、17はプーリ等の伝動部を示す。

次に、18は鍔部であり、該鍔部18はその一部が、フレー
ム１に設けられた下向きの筒部19の端面20の一部と圧接
させられている。但しこの圧接は前記エア通路14内が、
前記真空ポンプの作動により負圧になることによるもの
である。21は環状の、ウエハチヤツク６の保持部であ
り、前記筒部19に螺合させて設けられ、かつそのストツ
パ22が、前記鍔部18と係合し、前記エア通路14内が常圧
となつた場合に、ウエハチヤツク６が下方に落下してし
まうのを防止している。23はゴムリングを示し、その内
側に吸着室を形成する。

次に、前記回転装置７について述べると、それはこの実
施例においては前記駆動装置２、駆動軸３、及びこれに
偏心して設けられた軸支部５、ウエハチヤツク６の鍔部
18、及びフレーム１の前記筒部19等から成つているもの
であり、それは駆動軸３の回転に伴い軸支部５は公転
し、前記鍔部18が部分的に筒部19に圧接しているため、
この鍔部18にモーメントが生じ、回転するのである。但
し上記圧接は必ずしも負圧によることなく、図示しない
弾性部材を用いてもよく、又はギヤで連結されてもよ
い。要するにフレーム１とウエハチヤツク６間の回転装
置７は、摩擦により、公転するウエハチャック６を自動
的に自転させるものであればよく、この発明はそれら
の、摩擦力による自転力の発生機構をすべて含むもので
ある。

次に、24は液槽であり、25は基台、26は回収口であつ
て、図示しないタンクに連通されている。又27は噴出口
であり、図示しないポンプを介して前記タンクに連通さ
れている。28は液槽24の高さを調節するネジである。

前記エア通路14が図示しない真空ポンプの作動により負
圧になると、ウエハ10はウエハチヤツク６に吸着して取
付けられ、それと共に前記鍔部18の一部が、筒部19の下
面に圧接する。この状態において駆動装置２を作動させ
ると駆動軸３は回転し、ウエハチヤツク６は公転し、か
つ前記回転装置７により自転する。こうしてウエハ10は
公転及び自転する。

そしてこの状態においてエツチング液11が、図示しない
ポンプにより上向きに、前記ウエハ10の下面に噴流とし
て衝突させられ、腐食が行われる。

発明の効果 この発明は前記のように構成され、ウエハ10を保持する
ウエハチャック６は、公転と共に自転させられる結果、
ウエハ10の、噴出するエッチング液11に対する位置的不
均一は大巾に減少し、従って前記従来の装置より一層む
らの少ないエッチングを行うことができる。

又、ウエハチャック６の軸支部５は、駆動軸３に偏心し
て設けられ、かつ上記ウエハチャック６とフレーム１の
両者6.1の一部が摩擦し合うことにより、公転するウエ
ハチャック６を自動的に自転できるように形成したこと
により、極めて簡単な装置によって上記ウエハチャック
６を、公転と自転の両方を行わせることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の実施例を示すものでウエハのエツチ
ング装置の要部の、一部断面図、第２図は第１図のII-I
I線断面図、第３図は従来の同種装置の断面図である。 １……フレーム ２……駆動装置 ３……駆動軸 ４……軸心 ５……軸支部 ６……ウエハチヤツク ７……回転装置 ８……噴出装置

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】フレーム１に回転自在に軸支され、かつ駆
   動装置２に連結された駆動軸3;該駆動軸３に、該駆動軸
   ３の軸心４に対して偏心した位置に設けられた、後記ウ
   エハチャック６を公転させる、ウエハチャック６の軸支
   部5;該軸支部５に回動自在に軸着されたウエハチャック
   6;該ウエハチャック６と前記フレーム１間に設けられ
   た、該両者６、１の一部が摩擦し合うことにより、公転
   する該ウエハチャック６が自動的に自転するように形成
   された回転装置7;上記ウエハチャック６の下方に設けら
   れた、エッチング液を上向きに噴出させる噴出装置8;か
   ら成ることを特徴とするウエハのエッチング装置。