JPH07100361B2 - ガラス被覆方法と被覆ガラス - Google Patents
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Description
【発明の詳細な説明】 関連出願の参照 本出願は現在出願係属中の1986年８月28日付特許出願第
901,282号の一部継続出願である。
901,282号の一部継続出願である。
技術分野 本発明は、被覆ガラス、特に建築用被覆熱反射性ガラス
を製造するための連続化学蒸着方法及びその方法により
製造された被覆ガラスに関する。より詳細に言えば、本
発明は、モノシラン（SiH4）または場合によってモノシ
ランとエチレン（C2H4）との混合物からなる非酸化性ガ
スで処理することによって形成されるシリコン層と、例
えば四塩化チタン（TiCl4）のような四ハロゲン化チタ
ンにアンモニアのような還元ガスを混合しかつ該混合ガ
スを前記シリコン層の表面に於てまたはその近傍で反応
させることにより前記シリコン層上に形成される窒化チ
タン層と、モノシランまたはモノシランとエチレンから
なる非酸化性ガスによって処理することにより前記窒化
チタン層上に形成される第２シリコン層とで被覆したガ
ラスを製造するための方法に関する。本発明は、前記第
２シリコン層上に酸化錫からなる保護層即ち摩耗抵抗層
を形成する工程を任意に含めることができる。
を製造するための連続化学蒸着方法及びその方法により
製造された被覆ガラスに関する。より詳細に言えば、本
発明は、モノシラン（SiH4）または場合によってモノシ
ランとエチレン（C2H4）との混合物からなる非酸化性ガ
スで処理することによって形成されるシリコン層と、例
えば四塩化チタン（TiCl4）のような四ハロゲン化チタ
ンにアンモニアのような還元ガスを混合しかつ該混合ガ
スを前記シリコン層の表面に於てまたはその近傍で反応
させることにより前記シリコン層上に形成される窒化チ
タン層と、モノシランまたはモノシランとエチレンから
なる非酸化性ガスによって処理することにより前記窒化
チタン層上に形成される第２シリコン層とで被覆したガ
ラスを製造するための方法に関する。本発明は、前記第
２シリコン層上に酸化錫からなる保護層即ち摩耗抵抗層
を形成する工程を任意に含めることができる。
従来技術 モノシランからなる非酸化性ガスで連続化学処理を行な
うことにより形成されるシリコンで被覆した建築用ガラ
スの製造については、カークブライド等（Kirkbride et
al.）による米国特許第4,019,887号明細書に開示され
ている。このカークブライド等の特許明細書に開示され
た方法は、本発明による方法の所定の工程、即ちガラス
面上及び窒化チタン被膜上にシリコン膜層を形成する工
程を実施するのに適している。
うことにより形成されるシリコンで被覆した建築用ガラ
スの製造については、カークブライド等（Kirkbride et
al.）による米国特許第4,019,887号明細書に開示され
ている。このカークブライド等の特許明細書に開示され
た方法は、本発明による方法の所定の工程、即ちガラス
面上及び窒化チタン被膜上にシリコン膜層を形成する工
程を実施するのに適している。
カークブライド等の方法に使用されるモノシランからな
る非酸化性ガスにエチレンを付加する手法が、ランドー
（Landau）による米国特許第4,188,444号明細書に開示
されており、このようにエチレンを用いることによっ
て、シリコン被膜の耐アルカリ性が著しく改良される利
点がある。
る非酸化性ガスにエチレンを付加する手法が、ランドー
（Landau）による米国特許第4,188,444号明細書に開示
されており、このようにエチレンを用いることによっ
て、シリコン被膜の耐アルカリ性が著しく改良される利
点がある。
アンモニアと四塩化チタンとの混合物を用いて化学蒸着
法によってガラス上に窒化チタン被膜を形成する方法が
ゴードン（Gordon）による米国特許第4,535,000号明細
書に開示されている。
法によってガラス上に窒化チタン被膜を形成する方法が
ゴードン（Gordon）による米国特許第4,535,000号明細
書に開示されている。
カークブライド等の方法によって形成されるシリコン層
で被覆され、更に該シリコン層に金属酸化物の被膜が被
覆された表面を有するガラスの製造がドンレイ（Donle
y）による米国特許第4,100,330号明細書に開示されてい
る。
で被覆され、更に該シリコン層に金属酸化物の被膜が被
覆された表面を有するガラスの製造がドンレイ（Donle
y）による米国特許第4,100,330号明細書に開示されてい
る。
通常の建築用ガラスは、カークブライド等による前記特
許明細書に部分的に図示されているように、所謂「フロ
ートガラス製法」によって生産される。この方法は、適
当に封入された溶融錫槽上でガラスを鋳造する工程と、
このガラスを十分冷却した後に前記溶融錫槽と同一線上
に配置されたローラへ移送する工程と、該ガラスを最初
にレアを通過させ、かつ最後に周囲条件に露出させた状
態でローラ上を搬送しつつ冷却する工程とからなる。溶
融錫槽と接触状態にある上記方法のフロート工程の部分
に於いては酸化を防止するために非酸化性雰囲気が保持
されるが、レア内の雰囲気は空気により保持される。
許明細書に部分的に図示されているように、所謂「フロ
ートガラス製法」によって生産される。この方法は、適
当に封入された溶融錫槽上でガラスを鋳造する工程と、
このガラスを十分冷却した後に前記溶融錫槽と同一線上
に配置されたローラへ移送する工程と、該ガラスを最初
にレアを通過させ、かつ最後に周囲条件に露出させた状
態でローラ上を搬送しつつ冷却する工程とからなる。溶
融錫槽と接触状態にある上記方法のフロート工程の部分
に於いては酸化を防止するために非酸化性雰囲気が保持
されるが、レア内の雰囲気は空気により保持される。
ガラスをシリコン及び窒化チタンで被覆し、次に酸化錫
または他の酸化物で被覆する場合に、これらの被膜をフ
ロートガラス製法によってガラスを製造するのに関連し
て形成することができれば有利である。カークブライド
等及びゴードンによる前記特許明細書に開示されている
ように、ガラスは前記方法のフロート工程に於てシリコ
ン被膜及び窒化チタン被膜を披着させる処理に適した温
度にある。また、ガラスは空気を含むレアの部分に於て
テトラメチル錫からなる酸化性ガスで表面を処理して酸
化錫被膜を形成するために適した温度にある。
または他の酸化物で被覆する場合に、これらの被膜をフ
ロートガラス製法によってガラスを製造するのに関連し
て形成することができれば有利である。カークブライド
等及びゴードンによる前記特許明細書に開示されている
ように、ガラスは前記方法のフロート工程に於てシリコ
ン被膜及び窒化チタン被膜を披着させる処理に適した温
度にある。また、ガラスは空気を含むレアの部分に於て
テトラメチル錫からなる酸化性ガスで表面を処理して酸
化錫被膜を形成するために適した温度にある。
発明の開示 本発明は、建物の内部に窓ガラスとして取り付けること
ができ、かつ非常に有益な太陽光特性を発揮し得る低い
放射率を被膜が有するという点に於て建築用窓ガラスと
しての特定の用途を有する被覆ガラスが、ガラス基板と
該ガラス基板に付着される第１シリコン被膜と該シリコ
ン被膜に付着される窒化チタン被膜と該窒化チタン被膜
に付着される第２シリコン被膜と該第２シリコン被膜に
任意で付着される金属酸化物被膜とを有する構造によっ
て得られるという事実に基づくものである。また、この
低い放射率によって同じ組成と厚さとを有する無被覆ガ
ラスよりも良好な絶縁性が与えられる。このガラスの冬
期条件下で評価される全伝熱係数即ちＵ値は、内部に向
けて低放射率被膜を施すことによって大幅に軽減され
る。例えば、0.22の放射率を有する被膜はＵ値が30％低
減され、即ち１枚のガラスについて内側を21℃（70゜
F）としかつ外側を−32℃（０゜F）として計算される正
味保熱率（net heat savings）が5.7cal/時/cm2（21Btu
/hr./ft.2）となって無被覆ガラスより優れたものとな
る。
ができ、かつ非常に有益な太陽光特性を発揮し得る低い
放射率を被膜が有するという点に於て建築用窓ガラスと
しての特定の用途を有する被覆ガラスが、ガラス基板と
該ガラス基板に付着される第１シリコン被膜と該シリコ
ン被膜に付着される窒化チタン被膜と該窒化チタン被膜
に付着される第２シリコン被膜と該第２シリコン被膜に
任意で付着される金属酸化物被膜とを有する構造によっ
て得られるという事実に基づくものである。また、この
低い放射率によって同じ組成と厚さとを有する無被覆ガ
ラスよりも良好な絶縁性が与えられる。このガラスの冬
期条件下で評価される全伝熱係数即ちＵ値は、内部に向
けて低放射率被膜を施すことによって大幅に軽減され
る。例えば、0.22の放射率を有する被膜はＵ値が30％低
減され、即ち１枚のガラスについて内側を21℃（70゜
F）としかつ外側を−32℃（０゜F）として計算される正
味保熱率（net heat savings）が5.7cal/時/cm2（21Btu
/hr./ft.2）となって無被覆ガラスより優れたものとな
る。
図面の簡単な説明 本発明の新規な特徴は請求の範囲に記載されている。し
かしながら、本発明自体及びその目的・利点は、構造及
び製造方法の双方に関して添附図面を参照しつつ以下に
詳述する実施例によってより詳細に明らかになると思
う。
かしながら、本発明自体及びその目的・利点は、構造及
び製造方法の双方に関して添附図面を参照しつつ以下に
詳述する実施例によってより詳細に明らかになると思
う。
第１図は、本発明を実施し得るように適当に配置された
４個のガス配給装置を備えるフロートガラス製法を実施
するための装置の縦断面を示す概略図である。
４個のガス配給装置を備えるフロートガラス製法を実施
するための装置の縦断面を示す概略図である。
第２図は、本発明による被覆ガラスの部分断面図であ
る。
る。
第３図は、本発明による被覆ガラスの別の実施例を示す
部分断面図である。
部分断面図である。
発明を実施するための好適な形態 図示されるように、フロートガラス製法を実施するため
の装置10はフロートセクション11とレア12と冷却セクシ
ョン13とを備える。フロートセクション11は錫槽15を備
える底部14と上部16と図示されない側壁と壁17とを有
し、これらによりシールされて後に詳述するように錫槽
15の酸化を防止するために非酸化性雰囲気が保持される
閉塞領域18が形成される。
の装置10はフロートセクション11とレア12と冷却セクシ
ョン13とを備える。フロートセクション11は錫槽15を備
える底部14と上部16と図示されない側壁と壁17とを有
し、これらによりシールされて後に詳述するように錫槽
15の酸化を防止するために非酸化性雰囲気が保持される
閉塞領域18が形成される。
装置10を使用する場合には、溶融ガラス19が炉床20に保
持され、そこから計量用制御壁21の下側を通って錫槽15
表面に流れ込み、該表面からローラ22によって取り上げ
られ、かつレア12及び冷却セクション13を介して搬送さ
れる。
持され、そこから計量用制御壁21の下側を通って錫槽15
表面に流れ込み、該表面からローラ22によって取り上げ
られ、かつレア12及び冷却セクション13を介して搬送さ
れる。
フロートセクション11内は、例えば99体積％の窒素と１
体積％の水素とからなる適当なガスを領域18内にマニホ
ールド24と操作可能に接続された導管23を介して導入す
ることによって非酸化性雰囲気が保持される。このガス
は壁17の下側を通って領域18から流出することによる雰
囲気の損失を補填し、かつ周囲よりも例えば0.001〜0.0
1気圧程度高い正圧に保持されるような流量で導管23か
ら領域18内に導入される。錫槽15及び閉塞領域18はヒー
タ25からの下向きの放射熱によって加熱される。レア12
内の雰囲気は空気であるが、冷却セクション13は閉塞さ
れておらず、ファン26によって周囲空気をガラス上に送
風するようになっている。
体積％の水素とからなる適当なガスを領域18内にマニホ
ールド24と操作可能に接続された導管23を介して導入す
ることによって非酸化性雰囲気が保持される。このガス
は壁17の下側を通って領域18から流出することによる雰
囲気の損失を補填し、かつ周囲よりも例えば0.001〜0.0
1気圧程度高い正圧に保持されるような流量で導管23か
ら領域18内に導入される。錫槽15及び閉塞領域18はヒー
タ25からの下向きの放射熱によって加熱される。レア12
内の雰囲気は空気であるが、冷却セクション13は閉塞さ
れておらず、ファン26によって周囲空気をガラス上に送
風するようになっている。
また、装置10はフロートセクション11にガス配給装置2
7、28、29を、レア12内にガス供給装置30をそれぞれ備
えている。
7、28、29を、レア12内にガス供給装置30をそれぞれ備
えている。
尚、以下の実施例は本発明を実施するための最良の形態
を構成するが、本発明を開示しかつ説明するためのもの
であって、本発明の技術的範囲を何ら限定するものでは
ない。
を構成するが、本発明を開示しかつ説明するためのもの
であって、本発明の技術的範囲を何ら限定するものでは
ない。
実施例Ｉ 装置10は被覆フロートガラスを製造することにより本発
明による方法を実施するために使用された。約14重量％
の酸化ナトリウム（Na2O）、73重量％の二酸化硅素（Si
O2）、8.5重量％の酸化カルシュウム（CaO）、0.48重量
％の酸化第２鉄（Fe2O3）、0.18重量％の酸化アルミニ
ウム（Al2O3）、0.01重量％の二酸化チタン（TiO2）、
４重量％の酸化マグネシウム（MgO）及び0.001重量％の
酸化コバルト（Co3O4）を含有する熱吸収性緑色ガラス
を炉床20に注入し、かつ幅3.6m（12フィート）厚さ5mm
（3/16インチ）の板状にして錫槽15に流れ込ませた。こ
の板ガラスは毎分約8.25m（27フィート）の速度で装置1
0上を搬送された。炉床20上のガラスの温度は約1093℃
（2000゜F）であった。領域18内は、99体積％の窒素と
１体積％の水素とからなるガスを導管23から導入して周
囲よりも0.006気圧高い正圧に保持することによって非
酸化性雰囲気が保持された。レア12内の雰囲気を制御す
るために特別の処理はなされず、レア12に於ける酸化性
雰囲気は空気であった。
明による方法を実施するために使用された。約14重量％
の酸化ナトリウム（Na2O）、73重量％の二酸化硅素（Si
O2）、8.5重量％の酸化カルシュウム（CaO）、0.48重量
％の酸化第２鉄（Fe2O3）、0.18重量％の酸化アルミニ
ウム（Al2O3）、0.01重量％の二酸化チタン（TiO2）、
４重量％の酸化マグネシウム（MgO）及び0.001重量％の
酸化コバルト（Co3O4）を含有する熱吸収性緑色ガラス
を炉床20に注入し、かつ幅3.6m（12フィート）厚さ5mm
（3/16インチ）の板状にして錫槽15に流れ込ませた。こ
の板ガラスは毎分約8.25m（27フィート）の速度で装置1
0上を搬送された。炉床20上のガラスの温度は約1093℃
（2000゜F）であった。領域18内は、99体積％の窒素と
１体積％の水素とからなるガスを導管23から導入して周
囲よりも0.006気圧高い正圧に保持することによって非
酸化性雰囲気が保持された。レア12内の雰囲気を制御す
るために特別の処理はなされず、レア12に於ける酸化性
雰囲気は空気であった。
ガラスは、ガス配給装置27の下方を通過する際に90体積
％の窒素と10体積％のモノシランとからなるガスによっ
て処理され、ガス配給装置28の下方を通過する際に６体
積％の四塩化チタンと19体積％のアンモニアと75体積％
の窒素とからなるガスによって処理され、かつ最後にガ
ス配給装置29の下方の通過する際に95体積％の窒素と５
体積％のモノシランとからなるガスによって処理され
た。ガラスはガス配給装置27からフロートセクション11
の出口まで約44秒乃至67秒で搬送された。ガラスの温度
はガス配給装置28の下方で660℃（1200゜F）であった。
％の窒素と10体積％のモノシランとからなるガスによっ
て処理され、ガス配給装置28の下方を通過する際に６体
積％の四塩化チタンと19体積％のアンモニアと75体積％
の窒素とからなるガスによって処理され、かつ最後にガ
ス配給装置29の下方の通過する際に95体積％の窒素と５
体積％のモノシランとからなるガスによって処理され
た。ガラスはガス配給装置27からフロートセクション11
の出口まで約44秒乃至67秒で搬送された。ガラスの温度
はガス配給装置28の下方で660℃（1200゜F）であった。
この被覆ガラスは、閉塞領域18から取り上げられると直
ちにレア12内に搬送され、レア12及び冷却セクション13
を通過して約38℃（100゜F）の温度で冷却セクション13
から搬出された。ガス配給装置30は、帯状の前記板ガラ
スがレア12内を通過する際に作動させなかった。
ちにレア12内に搬送され、レア12及び冷却セクション13
を通過して約38℃（100゜F）の温度で冷却セクション13
から搬出された。ガス配給装置30は、帯状の前記板ガラ
スがレア12内を通過する際に作動させなかった。
第２図に上述の実施例Ｉで説明した方法により製造され
たガラス35が図示されており、このガラス35はガラス基
板36とガラス基板36の一方の表面に付着された多層反射
性被膜37とを有する。反射性被膜37は、前記ガラス上の
膜厚200〜300Åのシリコン層38と、該シリコン層上の膜
厚900〜1100Åの窒化チタン層39と、該窒化チタン層上
に形成されかつ空気に接触する膜厚100〜200Åの第２シ
リコン層40とを有する。この被覆ガラスは反射光がガラ
ス基板側から見ると銀色であるが、被膜37側から見ると
青色であった。被覆面の放射率は0.25〜0.38であった。
この被覆ガラスのガラス基板側からの遮光係数は0.25で
あり、ガラス基板側からの昼光即ち可視反射率は32％で
あり、昼光即ち可視透過率が6.6％であり、かつ全太陽
光透過率が4.5％であった。このガラスは後焼戻し可能
（post−temperable）であった。
たガラス35が図示されており、このガラス35はガラス基
板36とガラス基板36の一方の表面に付着された多層反射
性被膜37とを有する。反射性被膜37は、前記ガラス上の
膜厚200〜300Åのシリコン層38と、該シリコン層上の膜
厚900〜1100Åの窒化チタン層39と、該窒化チタン層上
に形成されかつ空気に接触する膜厚100〜200Åの第２シ
リコン層40とを有する。この被覆ガラスは反射光がガラ
ス基板側から見ると銀色であるが、被膜37側から見ると
青色であった。被覆面の放射率は0.25〜0.38であった。
この被覆ガラスのガラス基板側からの遮光係数は0.25で
あり、ガラス基板側からの昼光即ち可視反射率は32％で
あり、昼光即ち可視透過率が6.6％であり、かつ全太陽
光透過率が4.5％であった。このガラスは後焼戻し可能
（post−temperable）であった。
上述した実施例Ｉの各工程は、透明ガラスと同様に灰色
及びブロンズ色の熱吸収性ガラスを被覆するために用い
ることができる。
及びブロンズ色の熱吸収性ガラスを被覆するために用い
ることができる。
実施例Ｉの被覆ガラスは様々な用途について十分な耐久
性を有するが、好ましくは酸化錫のような金属酸化物層
を第２シリコン被膜に付着しかつ被覆することによっ
て、ガラスの優れた光学特性に全く影響を与えることな
く被覆面の摩耗及び引っかき抵抗を大幅に向上させ得る
ことがわかった。
性を有するが、好ましくは酸化錫のような金属酸化物層
を第２シリコン被膜に付着しかつ被覆することによっ
て、ガラスの優れた光学特性に全く影響を与えることな
く被覆面の摩耗及び引っかき抵抗を大幅に向上させ得る
ことがわかった。
実施例II シリコン−窒化チタン−シリコン被覆板ガラスがレア12
内を約510〜538℃（950〜1000゜F）の温度でガス配給装
置30の下方を通過する際に、ガス配給装置30が作動して
98.6体積％の空気と1.4体積％のテトラメチル錫からな
るガスを噴射して前記被覆ガラスに接触させるという点
を除いて、実施例Ｉと同じ各工程を繰り返した。第３図
にこの実施例IIによる方法で製造されたガラス45が示さ
れ、この板ガラス45は第１シリコン層38、窒化チタン層
39及び第２シリコン層40に加えて第２シリコン層40に一
体的に付着されかつ被覆する膜厚約200〜300Åの酸化錫
層46を有する。この被覆ガラスの反射光は、ガラス面及
び被覆面の両側から見て低純度の青色乃至銀色であっ
た。被覆面の放射率は0.25〜0.38であった。遮光係数は
ガラス面側から0.25でありかつ被覆面側から0.28であっ
た。またこの被覆ガラスは、可視反射率がガラス面側か
ら32.5％であり、可視透過率がガラス面側から7.1％で
あり、かつ全太陽光透過率が4.0％であった。このガラ
スは後焼戻し可能であり、かつ優れた耐久性、即ち引っ
かき及び摩耗抵抗を有することがわかった。
内を約510〜538℃（950〜1000゜F）の温度でガス配給装
置30の下方を通過する際に、ガス配給装置30が作動して
98.6体積％の空気と1.4体積％のテトラメチル錫からな
るガスを噴射して前記被覆ガラスに接触させるという点
を除いて、実施例Ｉと同じ各工程を繰り返した。第３図
にこの実施例IIによる方法で製造されたガラス45が示さ
れ、この板ガラス45は第１シリコン層38、窒化チタン層
39及び第２シリコン層40に加えて第２シリコン層40に一
体的に付着されかつ被覆する膜厚約200〜300Åの酸化錫
層46を有する。この被覆ガラスの反射光は、ガラス面及
び被覆面の両側から見て低純度の青色乃至銀色であっ
た。被覆面の放射率は0.25〜0.38であった。遮光係数は
ガラス面側から0.25でありかつ被覆面側から0.28であっ
た。またこの被覆ガラスは、可視反射率がガラス面側か
ら32.5％であり、可視透過率がガラス面側から7.1％で
あり、かつ全太陽光透過率が4.0％であった。このガラ
スは後焼戻し可能であり、かつ優れた耐久性、即ち引っ
かき及び摩耗抵抗を有することがわかった。
実施例III ガラスがガス配給装置27の下を通過する際に94体積％の
窒素と４体積％のモノシランと２体積％のエチレンとか
らなるガスによって処理され、ガス配給装置28の下側を
通過する際に１体積％の四塩化チタンと６体積％のアン
モニアと93体積％のヘリウム（N2または他の不活性ガス
を使用することができる）からなるガスによって処理さ
れ、かつ最後にガス配給装置29の下側を通過する際に95
体積％の窒素と５体積％のモノシランとからなるガスに
よって処理されるという点を除いて、実施例Ｉと同じ各
工程を繰り返した。ガラスはガス配給装置28からフロー
トセクション11の出口端まで約44〜67秒で搬送された。
ガラスの温度はガス配給装置28の下方で660℃（1200゜
F）であった。
窒素と４体積％のモノシランと２体積％のエチレンとか
らなるガスによって処理され、ガス配給装置28の下側を
通過する際に１体積％の四塩化チタンと６体積％のアン
モニアと93体積％のヘリウム（N2または他の不活性ガス
を使用することができる）からなるガスによって処理さ
れ、かつ最後にガス配給装置29の下側を通過する際に95
体積％の窒素と５体積％のモノシランとからなるガスに
よって処理されるという点を除いて、実施例Ｉと同じ各
工程を繰り返した。ガラスはガス配給装置28からフロー
トセクション11の出口端まで約44〜67秒で搬送された。
ガラスの温度はガス配給装置28の下方で660℃（1200゜
F）であった。
被覆ガラスは、閉塞領域18から取り上げられると同時に
レア12内に搬入され、レア12及び冷却セクション13を通
過して約38℃（100゜F）の温度で冷却セクション13から
搬出された。ガス供給装置30は帯状の前記板ガラスがレ
ア12内を通過する際に作動されなかった。
レア12内に搬入され、レア12及び冷却セクション13を通
過して約38℃（100゜F）の温度で冷却セクション13から
搬出された。ガス供給装置30は帯状の前記板ガラスがレ
ア12内を通過する際に作動されなかった。
上述の実施例IIIの方法により製造されたガラスは、ガ
ラス基板と該ガラス基板の一方の表面に付着された多層
反射性被膜とを有する。この反射性被膜は、ガラス上の
膜厚175〜225Åのシリコン層と、該シリコン層上の膜厚
650〜750Åの窒化チタン層と、該窒化チタン層上の空気
に接触する膜厚200〜250Åの第２シリコン層とを有す
る。この被覆ガラスの反射光は、熱吸収性ガラスではな
く透明なガラス基板を用いた場合と同様に低い色調の淡
紅色であった。この被覆ガラスは全太陽光透過率が6.3
％であり、可視透過率が11.8％であり、ガラス面側の全
太陽光反射率が10.2％であり、かつガラス面側の可視反
射率が6.9％であった。被膜は放射率が0.27であり、遮
光係数がガラス面側から0.28及び被膜面側から0.33であ
り、かつ冬期条件下に於けるＵ値が0.22cal/時・cm
2（0.81Btu/hr.ft.2）であった（同一厚さの無被覆ガラ
スのＵ値は0.30cal/時・cm2（1.11Btu/hr.ft.2）であ
る）。このガラスは後焼戻し可能であった。
ラス基板と該ガラス基板の一方の表面に付着された多層
反射性被膜とを有する。この反射性被膜は、ガラス上の
膜厚175〜225Åのシリコン層と、該シリコン層上の膜厚
650〜750Åの窒化チタン層と、該窒化チタン層上の空気
に接触する膜厚200〜250Åの第２シリコン層とを有す
る。この被覆ガラスの反射光は、熱吸収性ガラスではな
く透明なガラス基板を用いた場合と同様に低い色調の淡
紅色であった。この被覆ガラスは全太陽光透過率が6.3
％であり、可視透過率が11.8％であり、ガラス面側の全
太陽光反射率が10.2％であり、かつガラス面側の可視反
射率が6.9％であった。被膜は放射率が0.27であり、遮
光係数がガラス面側から0.28及び被膜面側から0.33であ
り、かつ冬期条件下に於けるＵ値が0.22cal/時・cm
2（0.81Btu/hr.ft.2）であった（同一厚さの無被覆ガラ
スのＵ値は0.30cal/時・cm2（1.11Btu/hr.ft.2）であ
る）。このガラスは後焼戻し可能であった。
上述の説明では第２シリコン層のプリカーサ（precurso
r）が窒素及びモノシランと記載されているが、被覆ガ
ラスの可視透過率を高くしたい場合には、エチレンを含
む第１シリコン層を形成するために使用されるものと同
じプリカーサを用いることができる。
r）が窒素及びモノシランと記載されているが、被覆ガ
ラスの可視透過率を高くしたい場合には、エチレンを含
む第１シリコン層を形成するために使用されるものと同
じプリカーサを用いることができる。
実施例IV シリコン−窒化チタン−シリコン被膜板ガラスがレア12
内を約510〜538℃（950〜1000゜F）の温度でガス配給装
置30の下方を通過する際に、ガス配給装置30が作動して
98.6体積％の空気と1.4体積％のテトラメチル錫とから
なるガスを噴射する点を除いて、実施例IIIと同じ各工
程を繰り返した。この実施例IVによる方法で製造された
ガラスは、第１シリコン層、窒化チタン層及び第２シリ
コン層に加えて第２シリコン層に一体的に付着されかつ
被覆する膜厚約200〜300Åの酸化錫層を有する。この被
覆ガラスの反射光は、ガラス面側及び被覆面側の双方か
ら見て低い色調の淡紅色であった。被膜面の放射率は0.
27であった。遮光係数はガラス面側から0.28であり、か
つ被膜面側から0.33であった。この被覆ガラスは、ガラ
ス面側の全太陽光反射率が10.2％であり、全太陽光透過
率が6.3％であり、かつガラス面側の可視反射率が6.9％
であった。またこの被覆ガラスは後焼戻し可能であり、
かつ優れた耐久性即ち引っかき及び摩耗抵抗を有するこ
とがわかった。
内を約510〜538℃（950〜1000゜F）の温度でガス配給装
置30の下方を通過する際に、ガス配給装置30が作動して
98.6体積％の空気と1.4体積％のテトラメチル錫とから
なるガスを噴射する点を除いて、実施例IIIと同じ各工
程を繰り返した。この実施例IVによる方法で製造された
ガラスは、第１シリコン層、窒化チタン層及び第２シリ
コン層に加えて第２シリコン層に一体的に付着されかつ
被覆する膜厚約200〜300Åの酸化錫層を有する。この被
覆ガラスの反射光は、ガラス面側及び被覆面側の双方か
ら見て低い色調の淡紅色であった。被膜面の放射率は0.
27であった。遮光係数はガラス面側から0.28であり、か
つ被膜面側から0.33であった。この被覆ガラスは、ガラ
ス面側の全太陽光反射率が10.2％であり、全太陽光透過
率が6.3％であり、かつガラス面側の可視反射率が6.9％
であった。またこの被覆ガラスは後焼戻し可能であり、
かつ優れた耐久性即ち引っかき及び摩耗抵抗を有するこ
とがわかった。
本発明がその技術的範囲内に於て、上述の実施例に関し
様々な変形・変更を加えて実施し得ることは言うまでも
ない。本発明は、詳細には本質的に被覆ガラスを製造す
るための連続化学蒸着法である。この方法は、高温状態
のガラスを連続する第１、第２及び第３処理ステーショ
ンと選択的に第４処理ステーションとを通過させて連続
的に搬送する工程からなる。前記第１乃至第３処理ステ
ーションは非酸化性雰囲気が保持された閉塞領域内にあ
る。任意の前記第４処理ステーションの付近では酸化性
雰囲気が保持される。上述の実施例では、第１乃至第３
処理ステーションが配置された閉塞領域内の非酸化性雰
囲気は、前記領域内部に99体積％の窒素と１体積％の水
素とからなるガスを導入することにより保持された。こ
のような雰囲気は、上述の実施例Ｉ、II、III、IVにつ
いて行なわれた方法の結果から明らかなように最適であ
る。しかしながら、錫槽の酸化が防止されかつシリコン
及び窒化チタン被膜がガラス基板に被着されるという必
要な条件が達成される限り、窒素の代りに他の不活性ガ
スを使用し、或いは水素の割合を増加または減少させる
ことができる。同様に、上述の実施例II、IVの方法に於
ては、レア12内に酸化性雰囲気を与えるために空気を使
用したが、レア自体に過度の損傷を与えることなく酸化
錫または他の酸化物の被膜が形成されるという条件が達
成される限り、例えば酸素または窒素の割合を多くした
空気または窒素以外の不活性ガスを含む空気等のような
他の酸化性雰囲気を使用することもできる。
様々な変形・変更を加えて実施し得ることは言うまでも
ない。本発明は、詳細には本質的に被覆ガラスを製造す
るための連続化学蒸着法である。この方法は、高温状態
のガラスを連続する第１、第２及び第３処理ステーショ
ンと選択的に第４処理ステーションとを通過させて連続
的に搬送する工程からなる。前記第１乃至第３処理ステ
ーションは非酸化性雰囲気が保持された閉塞領域内にあ
る。任意の前記第４処理ステーションの付近では酸化性
雰囲気が保持される。上述の実施例では、第１乃至第３
処理ステーションが配置された閉塞領域内の非酸化性雰
囲気は、前記領域内部に99体積％の窒素と１体積％の水
素とからなるガスを導入することにより保持された。こ
のような雰囲気は、上述の実施例Ｉ、II、III、IVにつ
いて行なわれた方法の結果から明らかなように最適であ
る。しかしながら、錫槽の酸化が防止されかつシリコン
及び窒化チタン被膜がガラス基板に被着されるという必
要な条件が達成される限り、窒素の代りに他の不活性ガ
スを使用し、或いは水素の割合を増加または減少させる
ことができる。同様に、上述の実施例II、IVの方法に於
ては、レア12内に酸化性雰囲気を与えるために空気を使
用したが、レア自体に過度の損傷を与えることなく酸化
錫または他の酸化物の被膜が形成されるという条件が達
成される限り、例えば酸素または窒素の割合を多くした
空気または窒素以外の不活性ガスを含む空気等のような
他の酸化性雰囲気を使用することもできる。
本発明に於ては、シランを含む非酸化性ガスをガラスの
表面に噴射することによって該表面上にシリコン被膜を
形成し、かつ該ガスを窒化チタン層上に噴射して第２シ
リコン層を形成する。上述の実施例では、シランはモノ
シラン（SiH4）であった。しかしながら、この処理に
は、モノシランに付加してまたはモノシランに代えて他
のシランを含むガスを使用することができる。本発明に
使用することができる他のシランとしては、例えばモノ
クロロシラン（ClSiH3）、ジクロロシラン（Cl2Si
H2）、他のシランハロゲン化物、アルコキシシラン、ジ
−またはトリ−或いはそれ以上のシラン多量体がある。
上述のシランに比してメチルトリクロロシラン等のよう
な有機シランはシリコン対炭素結合を分解して所望のシ
リコン被膜を形成することが困難なため反応物として好
ましくない。モノシランは価格及び入手容易性の点に於
て、及び上述したクロロシランは副産物が塩化水素であ
るのと比較してモノシランを使用する場合の副産物が水
素であって生態学的問題を生じないことから現状では最
適の処理剤である。
表面に噴射することによって該表面上にシリコン被膜を
形成し、かつ該ガスを窒化チタン層上に噴射して第２シ
リコン層を形成する。上述の実施例では、シランはモノ
シラン（SiH4）であった。しかしながら、この処理に
は、モノシランに付加してまたはモノシランに代えて他
のシランを含むガスを使用することができる。本発明に
使用することができる他のシランとしては、例えばモノ
クロロシラン（ClSiH3）、ジクロロシラン（Cl2Si
H2）、他のシランハロゲン化物、アルコキシシラン、ジ
−またはトリ−或いはそれ以上のシラン多量体がある。
上述のシランに比してメチルトリクロロシラン等のよう
な有機シランはシリコン対炭素結合を分解して所望のシ
リコン被膜を形成することが困難なため反応物として好
ましくない。モノシランは価格及び入手容易性の点に於
て、及び上述したクロロシランは副産物が塩化水素であ
るのと比較してモノシランを使用する場合の副産物が水
素であって生態学的問題を生じないことから現状では最
適の処理剤である。
本発明の好適な実施例によれば、或る量のオレフィン例
えばエチレンがシランに加えられる。モノシランにエチ
レン（C2H4）を加えることによってベース及びトップシ
リコン層について大きな利点が得られる。ベース層を形
成するように反応するモノシランにエチレンを少量加え
ることによって遮光係数に大きな影響を与えることなく
可視光線透過率が高まるという光学特性の変化が生じ
る。また、ベースシリコン層の上に窒化チタン層を形成
する際に生じるピンホールの発生率及びその大きさが、
ベース層に少量のエチレンを加えることによって大幅に
減少する。トップ層を形成するモノシランにエチレンを
加えることによっても、前記薄膜積層体の可視光線透過
率が高まる。
えばエチレンがシランに加えられる。モノシランにエチ
レン（C2H4）を加えることによってベース及びトップシ
リコン層について大きな利点が得られる。ベース層を形
成するように反応するモノシランにエチレンを少量加え
ることによって遮光係数に大きな影響を与えることなく
可視光線透過率が高まるという光学特性の変化が生じ
る。また、ベースシリコン層の上に窒化チタン層を形成
する際に生じるピンホールの発生率及びその大きさが、
ベース層に少量のエチレンを加えることによって大幅に
減少する。トップ層を形成するモノシランにエチレンを
加えることによっても、前記薄膜積層体の可視光線透過
率が高まる。
上述の各実施例に於て、窒化チタン層は第１シリコン被
膜に対して不活性搬器内に於て四塩化チタン及びアンモ
ニアを含むガスを噴射することによって形成された。こ
の混合ガスは、一般に0.5〜10モル％の四塩化チタンと
３〜50（好適には５〜30）モル％のアンモニアの範囲内
の濃度を有する。
膜に対して不活性搬器内に於て四塩化チタン及びアンモ
ニアを含むガスを噴射することによって形成された。こ
の混合ガスは、一般に0.5〜10モル％の四塩化チタンと
３〜50（好適には５〜30）モル％のアンモニアの範囲内
の濃度を有する。
ベースシリコン層は、ガラス基板とシリコン層との間の
遷移層として酸素を混入することができる。この遷移層
は意図的に形成されるものではなく、上述した方法によ
り高温のガラス上にシリコン層を被覆する過程に於て、
その結果物として必然的に形成されるものである。更
に、基本的なシリコンベース層の本体部分は、前記プリ
カーサがエチレン及びモノシランを含む場合に於て僅か
な量の炭素、水素及び酸素を含むことができる。同様
に、窒化チタン層は炭素、塩素及び酸素を混入すること
ができ、かつプリカーサ材料またはその両側のシリコン
被膜から僅かな量の他の要素を含むことができる。第２
シリコン層は、特にプリカーサがエチレンを含む場合に
於て僅かな量の炭素、水素及び酸素を全体的に含むであ
ろうことを加えて、錫槽から取り上げられる際及びレア
内を移動する際にその表面上に形成される酸化膜を有す
ることができる。この表面酸化膜層が存在することによ
って、酸化錫のような膜層が第２シリコン層の上に形成
される場合に、被覆ガラスのピンホールの形成を防止で
きることがわかった。このように、各膜層の組成は上述
したようにかつ請求の範囲に記載されるようにシリコン
及び窒化チタンであると認められるが、本発明に於ける
これらの語には上述したような僅かの量の他の要素及び
遷移層を含むことが理解される。
遷移層として酸素を混入することができる。この遷移層
は意図的に形成されるものではなく、上述した方法によ
り高温のガラス上にシリコン層を被覆する過程に於て、
その結果物として必然的に形成されるものである。更
に、基本的なシリコンベース層の本体部分は、前記プリ
カーサがエチレン及びモノシランを含む場合に於て僅か
な量の炭素、水素及び酸素を含むことができる。同様
に、窒化チタン層は炭素、塩素及び酸素を混入すること
ができ、かつプリカーサ材料またはその両側のシリコン
被膜から僅かな量の他の要素を含むことができる。第２
シリコン層は、特にプリカーサがエチレンを含む場合に
於て僅かな量の炭素、水素及び酸素を全体的に含むであ
ろうことを加えて、錫槽から取り上げられる際及びレア
内を移動する際にその表面上に形成される酸化膜を有す
ることができる。この表面酸化膜層が存在することによ
って、酸化錫のような膜層が第２シリコン層の上に形成
される場合に、被覆ガラスのピンホールの形成を防止で
きることがわかった。このように、各膜層の組成は上述
したようにかつ請求の範囲に記載されるようにシリコン
及び窒化チタンであると認められるが、本発明に於ける
これらの語には上述したような僅かの量の他の要素及び
遷移層を含むことが理解される。
基板となるガラスの組成はその上に形成される被膜の組
成に構造上または化学的な影響を与えないが、ガラスの
種類が異なると太陽光吸収特性が異なるので最終製品の
性能は影響を受ける。ガラスの色が透明、青緑、灰色ま
たはブロンズ色と異なることによって、太陽光スペクト
ルの可視及び赤外領域に於ける吸収性が異なり、かつ最
終製品の外観及び性能が変化する。また、これらの特徴
は他のガラスの性質によって影響を受ける。
成に構造上または化学的な影響を与えないが、ガラスの
種類が異なると太陽光吸収特性が異なるので最終製品の
性能は影響を受ける。ガラスの色が透明、青緑、灰色ま
たはブロンズ色と異なることによって、太陽光スペクト
ルの可視及び赤外領域に於ける吸収性が異なり、かつ最
終製品の外観及び性能が変化する。また、これらの特徴
は他のガラスの性質によって影響を受ける。
上述の実施例II、IVに関する方法には、98.6体積％の空
気と1.4体積％のテトラメチル錫とからなるガスをレア1
2内でガス配給装置30から被覆ガラス35上に噴射するこ
とにより処理する工程が含まれていた。この処理の目的
は、先に形成されたシリコン−窒化チタン−シリコン層
の上に酸化錫被膜を形成することであった。テトラメチ
ル錫によって酸化錫被膜が形成されるためには酸化性雰
囲気が必要である。この目的に使用する酸化性ガスとし
ては空気が便利であるが、空気に代えて酸素または窒素
の割合を多くした空気または他の不活性ガスを使用する
ことができる。空気に約1.6体積％以上のテトラメチル
錫を混合すると可燃性を有するので、かかる混合ガスは
使用すべきでない。テトラメチル錫の代りに他の錫化合
物を使用することができる。実際上、他の金属酸化物を
用いることができ、例えばシリコン−窒化チタン−シリ
コン層の上に例えば四塩化チタンを用いて酸化チタン被
膜を被着させることができ、例えばジエチル塩化アルミ
ニウムを用いてアルミナ被膜を、シリカ被膜を、または
四塩化チタン、水素化ホウ素及びジエチル塩化アルミニ
ウムの混合物から酸化チタン／三酸化二ホウ素／酸化ア
ルミニウム被膜を被着させることができる。
気と1.4体積％のテトラメチル錫とからなるガスをレア1
2内でガス配給装置30から被覆ガラス35上に噴射するこ
とにより処理する工程が含まれていた。この処理の目的
は、先に形成されたシリコン−窒化チタン−シリコン層
の上に酸化錫被膜を形成することであった。テトラメチ
ル錫によって酸化錫被膜が形成されるためには酸化性雰
囲気が必要である。この目的に使用する酸化性ガスとし
ては空気が便利であるが、空気に代えて酸素または窒素
の割合を多くした空気または他の不活性ガスを使用する
ことができる。空気に約1.6体積％以上のテトラメチル
錫を混合すると可燃性を有するので、かかる混合ガスは
使用すべきでない。テトラメチル錫の代りに他の錫化合
物を使用することができる。実際上、他の金属酸化物を
用いることができ、例えばシリコン−窒化チタン−シリ
コン層の上に例えば四塩化チタンを用いて酸化チタン被
膜を被着させることができ、例えばジエチル塩化アルミ
ニウムを用いてアルミナ被膜を、シリカ被膜を、または
四塩化チタン、水素化ホウ素及びジエチル塩化アルミニ
ウムの混合物から酸化チタン／三酸化二ホウ素／酸化ア
ルミニウム被膜を被着させることができる。
上述の実施例では、ガラスの温度がガス配給装置27、2
8、29に於て649±55℃（1200±100゜F）であり、かつガ
ス配給装置30に於て521±11℃（970±20゜F）であっ
た。ガス配給装置30からの空気−テトラメチル錫ガスで
処理される以前のレア12の酸化性雰囲気即ち空気内に於
けるガラスの滞留時間は約６分間であった。
8、29に於て649±55℃（1200±100゜F）であり、かつガ
ス配給装置30に於て521±11℃（970±20゜F）であっ
た。ガス配給装置30からの空気−テトラメチル錫ガスで
処理される以前のレア12の酸化性雰囲気即ち空気内に於
けるガラスの滞留時間は約６分間であった。
一般に、本発明による被覆ガラスはガラス基板と、該基
板の表面に付着された膜厚約100〜400Åの第１シリコン
被膜と、該第１シリコン被膜に付着された膜厚約500〜1
200Åの窒化チタンと、該窒化チタン被膜に付着した膜
厚約100〜400Åの第２シリコン被膜と、該第２シリコン
被膜に任意に付着される金属酸化物被膜とを有する。こ
の金属酸化物被膜は、膜厚約150〜300Åの酸化錫で形成
することが好ましい。
板の表面に付着された膜厚約100〜400Åの第１シリコン
被膜と、該第１シリコン被膜に付着された膜厚約500〜1
200Åの窒化チタンと、該窒化チタン被膜に付着した膜
厚約100〜400Åの第２シリコン被膜と、該第２シリコン
被膜に任意に付着される金属酸化物被膜とを有する。こ
の金属酸化物被膜は、膜厚約150〜300Åの酸化錫で形成
することが好ましい。
この被覆ガラスは15％未満の可視光線透過率を有し、ガ
ラス面側及び被膜側の双方から計測した遮光係数が0.35
未満である。この遮光係数は、ガラス面側から計測した
値が被膜側から計測した値よりも低く、かつ0.23〜0.32
の範囲内にあることが好ましい。第２シリコン被膜に付
着された酸化錫被膜を有し、特に優れた特徴を有する本
発明による窓ガラスは、膜厚150〜300Åの第１及び第２
シリコン被膜と膜厚600〜1100Åの窒化チタン被膜とか
らなり、かつ膜厚150〜250Åの酸化錫被膜を有する。こ
の窓ガラスは可視光線透過率が５〜12％の範囲内にあ
り、かつ遮光係数がガラス面側に於て0.23〜0.28の範囲
にあり、かつ被膜面側に於て0.26〜0.31の範囲内にあっ
て、常にガラス面側より高い値を取る。
ラス面側及び被膜側の双方から計測した遮光係数が0.35
未満である。この遮光係数は、ガラス面側から計測した
値が被膜側から計測した値よりも低く、かつ0.23〜0.32
の範囲内にあることが好ましい。第２シリコン被膜に付
着された酸化錫被膜を有し、特に優れた特徴を有する本
発明による窓ガラスは、膜厚150〜300Åの第１及び第２
シリコン被膜と膜厚600〜1100Åの窒化チタン被膜とか
らなり、かつ膜厚150〜250Åの酸化錫被膜を有する。こ
の窓ガラスは可視光線透過率が５〜12％の範囲内にあ
り、かつ遮光係数がガラス面側に於て0.23〜0.28の範囲
にあり、かつ被膜面側に於て0.26〜0.31の範囲内にあっ
て、常にガラス面側より高い値を取る。
尚、本発明が、その技術的範囲内に於て上述の実施例に
他の様々な変形・変更を加えて実施し得ることは当業者
にとって明らかである。
他の様々な変形・変更を加えて実施し得ることは当業者
にとって明らかである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭59−148654（ＪＰ，Ａ)
Claims (19)
- 【請求項１】ガラス基板と、前記ガラス基板に付着され
た第１シリコン被膜と、前記第１シリコン被膜に付着さ
れた窒化チタン被膜と、前記窒化チタン被膜に付着され
た第２シリコン被膜と、前記第２シリコン被膜に付着さ
れた任意の金属酸化物被膜とからなることを特徴とする
被覆ガラス。 - 【請求項２】前記ガラス基板側及び前記被膜側の双方か
ら計測した遮光係数が0.35未満であり、かつ可視光線透
過率が15％未満であることを特徴とする請求の範囲第１
項に記載の被覆ガラス。 - 【請求項３】前記ガラス基板側及び前記被膜側から計測
した遮光係数が0.23〜0.35の範囲内にあり、かつ前記ガ
ラス基板側から計測した遮光係数が前記被膜側から計測
した遮光係数より低いことを特徴とする請求の範囲第１
項に記載の被膜ガラス。 - 【請求項４】ガラス基板と、前記ガラス基板に付着され
かつ約100〜400Åの膜厚を有する第１シリコン被膜と、
前記第１シリコン被膜に付着されかつ約500〜1200Åの
膜厚を有する窒化チタン被膜と、前記窒化チタン被膜に
付着されかつ100〜400Åの膜厚を有する第２シリコン被
膜と、前記第２シリコン被膜に付着される任意の酸化錫
被膜とからなることを特徴とする被覆ガラス。 - 【請求項５】前記第２シリコン被膜に付着された酸化錫
被膜が約150〜300Åの膜厚を有することを特徴とする請
求の範囲第４項に記載の被覆ガラス。 - 【請求項６】前記ガラス基板側から計測した遮光係数が
0.23〜0.28の範囲内にあり、かつ前記被覆側から計測し
た遮光係数が0.26〜0.31の範囲内にあって常に前記ガラ
ス基板側から計測した遮光係数より高く、かつ可視光線
透過率が約５〜10％であることを特徴とする請求の範囲
第４項に記載の被覆ガラス。 - 【請求項７】前記第２シリコン被膜に付着された酸化錫
被膜を有し、前記第１シリコン被膜の膜厚が約150〜300
Åであり、前記窒化チタン被膜の膜厚が約600〜1100Å
であり、前記第２シリコン被膜の膜厚が約150〜300Åで
あり、かつ前記酸化錫被膜の膜厚が約150〜250Åであ
り、前記基板側及び前記被膜側から見て反射光が低純度
の青色乃至銀色であることを特徴とする請求の範囲第６
項に記載の被覆ガラス。 - 【請求項８】ガラス基板と、前記ガラス基板に付着され
かつ約150〜300Åの膜厚を有する第１シリコン被膜と、
前記第１シリコン被膜に付着されかつ約500〜1200Åの
膜厚を有する窒化チタン被膜と、前記窒化チタン被膜に
付着されかつ約150〜300Åの膜厚を有する第２シリコン
被膜とからなることを特徴とする被膜ガラス。 - 【請求項９】前記被膜側の放射率が0.22〜0.38であり、
かつ前記被膜側を内部に向けて建物の窓に取り付けた際
に冬期条件下に於けるＵ計算値が、同一の組成及び厚さ
を有する１枚の無被覆窓用ガラスと比較して30％低いこ
とを特徴とする請求の範囲第１項に記載の被覆ガラス。 - 【請求項１０】ガラス基板と、前記ガラス基板に付着さ
れた第１シリコン含有被膜と、前記第１シリコン含有被
膜に付着された窒化チタン含有被膜と、前記窒化チタン
含有被膜に付着された第２シリコン含有被膜と、前記第
２シリコン含有被膜に付着された任意の摩耗抵抗性金属
酸化物被膜とからなり、前記ガラス基板側及び前記被膜
側の双方から計測した遮光係数が0.35未満であり、かつ
可視光線透過率が15％未満であることを特徴とする被覆
ガラス。 - 【請求項１１】前記ガラス基板側及び前記被膜側の双方
から計測した遮光係数が0.23〜0.35の範囲内にあり、か
つ前記ガラス基板側から計測した遮光係数が前記被膜側
から計測した遮光係数より低いことを特徴とする請求の
範囲第10項に記載の被覆ガラス。 - 【請求項１２】前記被膜側の放射率が0.22〜0.38の範囲
内にあることを特徴とする請求の範囲第10項に記載の被
覆ガラス。 - 【請求項１３】一方の面に多層被膜を有するガラス基板
を備え、ガラス面側及び被膜面側の双方から計測した遮
光係数が0.35未満であり、かつ前記ガラス面側に於ける
遮光係数が前記被膜面側に於ける遮光係数より低い熱反
射性窓ガラスを製造する方法であって、 （ａ）非酸化性雰囲気内に少なくとも約593℃（1100゜
F）の温度で板状ガラス基板を保持する過程と、 （ｂ）前記ガラス基板の一方の表面にシランを含む混合
ガスを十分な時間接触させて前記一方の表面上に第１シ
リコン被膜を形成する過程と、 （ｃ）アンモニアと四塩化チタンとを含む非酸化性ガス
を前記第１シリコン被膜に十分な時間接触させて前記第
１シリコン被膜上に窒化チタン被膜を形成する過程と、 （ｄ）シランガスを含む混合ガスを前記窒化チタン被膜
に十分な時間接触させて前記窒化チタン被膜上に第２シ
リコン被膜を形成する過程と、 （ｅ）被覆された前記ガラス基板を前記非酸化性雰囲気
から取り出して室温に冷却する過程とからなることを特
徴とする被覆ガラス製造方法。 - 【請求項１４】前記過程（ｄ）の後であって前記過程
（ｅ）の前に、前記ガラス基板が少なくとも約496℃（9
25゜F）の温度で酸化性雰囲気内にある状態で、前記被
覆面に、前記被膜と接触すると熱的に分解して露呈金属
酸化物摩耗抵抗被膜を形成する金属化合物からなる合成
物を接触させる過程を含むことを特徴とする請求の範囲
第13項に記載の被覆ガラス製造方法。 - 【請求項１５】前記四ハロゲン化チタンが四塩化チタン
であることを特徴とする請求の範囲第13項に記載の被覆
ガラス製造方法。 - 【請求項１６】一方の表面に多層被膜を有するガラス基
板を備え、ガラス面及び被覆面の双方から計測した遮光
係数が0.35未満であり、かつ前記ガラス面側から計測し
た遮光係数が前記被膜面側の遮光係数より低い熱反射性
窓ガラスを製造する方法であって、 （ａ）板状ガラス基板を非酸化性雰囲気内に少なくとも
約593℃（1100゜F）の温度で保持する過程と、 （ｂ）前記ガラス基板の前記一方の表面にシラン及びオ
レフィンを含む混合ガスを十分な時間接触させて前記表
面上に第１シリコン含有被膜を形成する過程と、 （ｃ）前記第１シリコン含有被膜にアンモニアと四ハロ
ゲン化チタンを含む非酸化性ガスを十分な時間接触させ
て前記第１シリコン含有被膜上に窒化チタン含有被膜を
形成する過程と、 （ｄ）前記窒化チタン含有被膜にシランとオレフィンと
を含む混合ガスを十分な時間接触させて前記窒化チタン
含有被膜上に第２シリコン含有被膜を形成する過程と、 （ｅ）被覆した前記ガラス基板を前記非酸化性雰囲気か
ら取り出しかつ室温に冷却する過程とからなることを特
徴とする被覆ガラス製造方法。 - 【請求項１７】前記過程（ｅ）の前に、被覆された前記
ガラス基板が少なくとも約496℃（925゜F）の温度で酸
化性雰囲気内にある状態で、前記第２シリコン含有被膜
に、該被膜に接触すると同時に熱的に分解して前記第２
シリコン含有被膜上に金属酸化物含有摩耗抵抗被膜を形
成する金属化合物からなる合成物を接触させる過程を含
むことを特徴とする請求の範囲第16項に記載の被覆ガラ
ス製造方法。 - 【請求項１８】前記オレフィンがエチレンであることを
特徴とする請求の範囲第16項に記載の被覆ガラス製造方
法。 - 【請求項１９】前記四ハロゲン化チタンが四塩化チタン
であることを特徴とする請求の範囲第16項に記載の被覆
ガラス製造方法。
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