JPH07100442A - 被洗浄物の洗浄方法 - Google Patents
被洗浄物の洗浄方法Info
- Publication number
- JPH07100442A JPH07100442A JP24958193A JP24958193A JPH07100442A JP H07100442 A JPH07100442 A JP H07100442A JP 24958193 A JP24958193 A JP 24958193A JP 24958193 A JP24958193 A JP 24958193A JP H07100442 A JPH07100442 A JP H07100442A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- solvent
- cleaning
- cleaned
- rinsing
- primary cleaning
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
- C11D7/50—Solvents
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/22—Secondary treatment of printed circuits
- H05K3/26—Cleaning or polishing of the conductive pattern
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Detergent Compositions (AREA)
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
Abstract
浄物の確実な洗浄を行う。可燃性溶剤の使用量を少なく
し、引火の危険を最小限とする。また、濯ぎ洗浄液の再
生利用と、濯ぎ液の浄化を可能にし、廃水処理の問題を
生じない。 【構成】 炭化水素系溶剤、テルペン系溶剤、親水性溶
剤又はシリコン系溶剤に、水又は及び界面活性剤を混合
した一次洗浄液を用いて被洗浄物の一次洗浄を行う。こ
の後、3ーメチルー3ーメトキシブタノールに15wt%
〜50wt%の水を加えて形成した混合溶剤により被洗浄
物の濯ぎ洗浄を行う。
Description
プリント基盤等の被洗浄物を洗浄する洗浄方法に係るも
のである。そして、被洗浄物の洗浄能力を高める事を可
能にすると共に、濯ぎ液の清浄化を保ちながら濯ぎ液の
再利用化を可能としたものである。
て3つの方法が用いられている。その1つは、可燃性溶
剤である炭化水素系溶剤、シリコン系溶剤、テルペン系
溶剤、親水性溶剤等を使用して、一次洗浄から濯ぎ洗浄
までを行う方法である。
シリコン系溶剤、親水性溶剤、テルペン系溶剤等に水又
は及び界面活性剤を混合した混合洗浄溶剤により、被洗
浄物の洗浄を行い、濯ぎ洗浄を水で行う方法がある。
1の方法により被洗浄物の洗浄を行う場合は、可燃性溶
剤である炭化水素系溶剤、シリコン系溶剤、テルペン系
溶剤、親水性溶剤等を使用して一次洗浄から濯ぎ洗浄ま
でを行うものであるから、大量の可燃性溶剤を使用する
ため、防火対策上問題があり、危険性の高い洗浄方法と
成っている。
溶剤、親水性溶剤、テルペン系溶剤等に界面活性剤また
は水、若しくはその双方を混合した混合洗浄溶剤によ
り、被洗浄物の洗浄を行う方法では、混合洗浄溶剤によ
る一次洗浄の後で、界面活性剤を除去する為に、水を用
いて濯ぎ洗浄を行う必要がある。その為、濯ぎ排水が大
量に発生する結果、排水処理施設に多額の費用がかか
り、不経済であるばかりでなく、排水処理から公害を生
じたりする場合がある。
とするものであって、高粘度油等の落ちにくい汚れが付
着した被洗浄物の、効果的な洗浄を行うと共に、可燃性
溶剤の使用量を少なくし、引火の危険を最小限とする。
また、被洗浄物に使用する濯ぎ洗浄液の再生利用と、濯
ぎ液の浄化を可能にし、大量の排水等が発生することの
無いようにするものである。
題を解決するため、一次洗浄液を用いて被洗浄物の一次
洗浄を行った後、3ーメチルー3ーメトキシブタノール
に15wt%〜50wt%の水を加えて形成した混合溶剤に
より被洗浄物の濯ぎ洗浄を行う事を特徴として成るもの
である。
ルペン系溶剤、親水性溶剤又はシリコン系溶剤であって
も良い。
ルペン系溶剤、親水性溶剤又はシリコン系溶剤に、水又
は及び界面活性剤を混合したものであっても良い。ま
た、一次洗浄液は、沸点175℃以上のものであっても
良い。
ぎ洗浄槽で行い、この濯ぎ洗浄槽に、蒸留再生器、浮上
油分離器のいずれか一方またはその双方を接続し、混合
溶剤の浄化を行いながら濯ぎ洗浄を行うものであっても
良い。
ら、被洗浄物の一次洗浄は、被洗浄物に付着した汚れに
対応する適宜の洗浄液を用いて行う。この洗浄液は、炭
化水素系溶剤、テルペン系溶剤、親水性溶剤又はシリコ
ン系溶剤であっても良いし、これらの溶剤に、水又は及
び界面活性剤を混合したものであっても良い。このよう
に、一次洗浄液は、被洗浄物の汚れに対応した洗浄力に
優れたものを用いる事が出来るから、被洗浄物に付着し
ている汚染が高粘度油等の落ちにくい汚れであっても、
除去を容易に行う事ができる。また、この一次洗浄液で
は、一次洗浄のみを行い、濯ぎ洗浄を行わない事によ
り、可燃性の溶剤の使用量を少なくする事ができる。
を行った被洗浄物は、3ーメチルー3ーメトキシブタノ
ールに15wt%〜50wt%の水を加えて形成した混合溶
剤により、被洗浄物の濯ぎ洗浄を行う。この、3ーメチ
ルー3ーメトキシブタノールは、15wt%〜50wt%の
水を加える事により難燃性と成り、引火点をもたない混
合溶剤と成る。ここに於いて、水の混合量は、15wt%
より少ないと3ーメチルー3ーメトキシブタノールが引
火点を有するものとなる。また、50wt%を超えるもの
とすると洗浄能力を低下させるとともに蒸留再生に無駄
な時間とエネルギーを必要とする。
シブタノールを主体とするものである為、高粘度油等の
強い汚れに対しては十分な溶解性を有していない。しか
し、一次洗浄液を用いて被洗浄物の一次洗浄を行ってい
る為、被洗浄物からは高粘度油等の落ちにくい汚れが除
去されており、上記の混合溶剤による濯ぎ洗浄によっ
て、被洗浄物の確実な洗浄が可能となる。
ルー3ーメトキシブタノールより沸点が高いものとすれ
ば、温度管理を、一次洗浄液よりも低く、3ーメチルー
3ーメトキシブタノールの沸点よりも高いものとするこ
とにより、蒸留完了時には一次洗浄液のみが蒸留部に残
ることとなり、蒸留再生を容易にする。
ー3ーメトキシブタノールの沸点である174℃よりも
高いものであれば良いが、その差は大きい程望ましいも
ので、200℃以上の沸点のものとすれば、蒸留再生時
の温度管理が容易となり、一次洗浄液として望ましいも
のである。
る事により、3ーメチルー3ーメトキシブタノールを蒸
留再生する場合において、3ーメチルー3ーメトキシブ
タノールのみが蒸留再生され、沸点の高い一次洗浄液を
容易に分離する事が可能となる。また、沸点の高い一次
洗浄液を用いる事により引火点も高くなるから、引火防
止にも望ましい結果を得ることができる。
性剤を混合して使用するものとしてもよい。この場合、
水は沸点が100℃であって、3ーメチルー3ーメトキ
シブタノールの沸点174℃よりも低いものとなる。し
かし、3ーメチルー3ーメトキシブタノールの沸点と、
水の沸点との間に大きい差があるため、蒸留再生の初期
段階で、3ーメチルー3ーメトキシブタノールが沸点に
達する前に、水分は全て蒸発される。その為に、水分の
みを別個に取り出し、一次洗浄液の水として補給するこ
とが可能となる。
のであるから、3ーメチルー3ーメトキシブタノールの
蒸留再生には、混入等の支障を生じることがない。
水素系溶剤、テルペン系溶剤、親水性溶剤又はシリコン
系溶剤若しくはこれらの溶剤に、水又は及び界面活性剤
を混合したものを用いることにより、高粘度油等の落ち
にくい汚れを容易に除去することができる。また、この
高粘度油等を除去した被洗浄物を、3ーメチルー3ーメ
トキシブタノールを混合した混合溶剤で濯ぐことによ
り、被洗浄物の濯ぎ洗浄を容易に行うことができる。さ
らに、混合溶剤による濯ぎ洗浄によって、一次洗浄液の
混入した濯ぎ混合溶剤は、これを蒸留再生することによ
り、容易に一次洗浄液及び水、界面活性剤等と、3ーメ
チルー3ーメトキシブタノールとを分離して、再生利用
することができる。また、濯ぎの工程で混合溶剤の蒸留
再生を行えば、常に清浄化された混合溶剤を、濯ぎ洗浄
用に供給することが可能となり、確実な洗浄効果を得る
ことができるものである。
ば、(1)は、被洗浄物(2)の一次洗浄を行う一次洗浄槽
であって、3ーメチルー3ーメトキシブタノールよりも
沸点の高い一次洗浄液(3)を充填している。この一次洗
浄液(3)は、沸点175℃以上の炭化水素系溶剤、テル
ペン系溶剤、親水性溶剤又はシリコン系溶剤を用いる。
また、この一次洗浄液(3)は、上記の溶剤に水、界面活
性剤等を混合したものを使用しても良い。また、この一
次洗浄液(3)は、水、界面活性剤等を混合せずに用いる
ものであってもよく、その洗浄目的に応じて、任意に選
択的に使用するものである。
ぎ洗浄槽(4)を形成する。この濯ぎ洗浄槽(4)には、一
次洗浄液(3)よりも沸点の低い、3ーメチルー3ーメト
キシブタノールに15wt%〜50wt%の水を加えて、引
火点を生じないものとした混合溶剤(5)を充填してい
る。
(6)を接続し、被洗浄物(2)の濯ぎ洗浄によって生じ
た、汚濁した混合溶剤(5)を蒸留再生し、浄化した混合
溶剤(5)を油分離器(7)を介して濯ぎ洗浄槽(4)に還流
している。
(8)を形成し、被洗浄物(2)の乾燥を可能としている。
浄物(2)の洗浄を行うには、まず一次洗浄槽(1)に被洗
浄物(2)を挿入し、一次洗浄液(3)により被洗浄物(2)
の洗浄を行う。この一次洗浄液(3)は、被洗浄物(2)に
付着している、高粘度油等の落ちにくい汚れの溶解性に
優れたものであるから、被洗浄物(2)に付着した高粘度
油等も容易に除去し、被洗浄物(2)を清浄化することが
可能となる。
混合したり、若しくは水、界面活性剤を混合せずに単独
で用いるものであってもよく、その洗浄作業の目的に応
じて任意に使い分けるものとすることができる。
た被洗浄物(2)は、濯ぎ洗浄槽(4)に導入して濯ぎ洗浄
を行う。この濯ぎ洗浄槽(4)内には、3ーメチルー3ー
メトキシブタノールに15wt%〜50wt%の水を加え
て、引火点を有しないものとした混合溶剤(5)を充填し
ている。そして、この混合溶剤(5)により一次洗浄槽
(1)で高粘度油等を除去された被洗浄物(2)の濯ぎ洗浄
を行う。この濯ぎ洗浄槽(4)では混合溶剤(5)は、引火
点を有しないものであるから安全で、確実な被洗浄物
(2)の濯ぎ洗浄を行うことができる。
くは濯ぎ洗浄作業とは別個に蒸留再生器(6)を作動し、
混合溶剤(5)を蒸留再生器(6)に導入することにより、
混合溶剤(5)の蒸留再生を行うことができる。この蒸留
再生に於いては、濯ぎ洗浄により混合溶剤(5)中に混入
する一次洗浄液は、3ーメチルー3ーメトキシブタノー
ルよりも沸点が高い。そのため、蒸留再生器(6)の温度
管理を、3ーメチルー3ーメトキシブタノールの沸点よ
りも高く、一次洗浄液(3)の沸点よりも低いものとして
おけば、3ーメチルー3ーメトキシブタノールのみが蒸
留再生され、一次洗浄液(3)を分離除去することが可能
となる。
タノールよりも沸点がはるかに低いものであるため、蒸
留再生の初期工程に於いて蒸発分離され、3ーメチルー
3ーメトキシブタノールのみを取り出すことが可能とな
る。また、この清浄化された3ーメチルー3ーメトキシ
ブタノールは、濯ぎ洗浄槽(4)に戻す際に、水分を補給
して引火点のないものとすることができる。そして、濯
ぎ洗浄槽(4)で濯ぎ洗浄の完了した被洗浄物(2)は、次
の乾燥槽(8)に移送し、乾燥作業を行うことによって洗
浄作業を完了する。
3ーメチルー3ーメトキシブタノールよりも沸点の高い
ものとしたが、蒸留時の温度管理を行うことにより、一
次洗浄液を、3ーメチルー3ーメトキシブタノールより
も沸点の低いものとしても良い。この場合は、蒸留完了
後に蒸留部に残留した溶剤が3ーメチルー3ーメトキシ
ブタノールとなる。
ちにくい汚れが付着した被洗浄物の確実な洗浄を行うと
共に、可燃性溶剤の使用量を少なくし、引火の危険を最
小限とする。また、被洗浄物に使用する濯ぎ洗浄液の再
生利用と、濯ぎ液の浄化を可能にするとともに廃水処理
の問題を生じる事がないものである。
略図である。
Claims (5)
- 【請求項1】 一次洗浄液を用いて被洗浄物の一次洗浄
を行った後、3ーメチルー3ーメトキシブタノールに1
5wt%〜50wt%の水を加えて形成した混合溶剤により
被洗浄物の濯ぎ洗浄を行う事を特徴とする被洗浄物の洗
浄方法。 - 【請求項2】 一次洗浄液は、炭化水素系溶剤、テルペ
ン系溶剤、親水性溶剤又はシリコン系溶剤である事を特
徴とする請求項1記載の被洗浄物の洗浄方法。 - 【請求項3】 一次洗浄液は、炭化水素系溶剤、テルペ
ン系溶剤、親水性溶剤又はシリコン系溶剤に、水又は及
び界面活性剤を混合したものである事を特徴とする請求
項2記載の被洗浄物の洗浄方法。 - 【請求項4】 一次洗浄液は、沸点175℃以上のもの
である事を特徴とする請求項1、2又は3記載の被洗浄
物の洗浄方法。 - 【請求項5】 濯ぎ洗浄は、混合溶剤を充填した濯ぎ洗
浄槽で行い、この濯ぎ洗浄槽に、蒸留再生器、油分離器
のいずれか一方またはその双方を接続し、混合溶剤の浄
化を行いながら濯ぎ洗浄を行うものである事を特徴とす
る請求項1記載の被洗浄物の洗浄方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5249581A JP2694111B2 (ja) | 1993-10-05 | 1993-10-05 | 被洗浄物の洗浄方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5249581A JP2694111B2 (ja) | 1993-10-05 | 1993-10-05 | 被洗浄物の洗浄方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07100442A true JPH07100442A (ja) | 1995-04-18 |
| JP2694111B2 JP2694111B2 (ja) | 1997-12-24 |
Family
ID=17195141
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5249581A Expired - Fee Related JP2694111B2 (ja) | 1993-10-05 | 1993-10-05 | 被洗浄物の洗浄方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2694111B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013522878A (ja) * | 2010-03-08 | 2013-06-13 | ダイナロイ,リミティド ライアビリティ カンパニー | シリコン基板を単分子層でドープする方法および組成物 |
| JP2014008447A (ja) * | 2012-06-28 | 2014-01-20 | Olympus Corp | 物品の洗浄方法 |
| JP2015040217A (ja) * | 2013-08-20 | 2015-03-02 | アクア化学株式会社 | 洗浄剤組成物及びその蒸留再生システム |
| JP2023063639A (ja) * | 2021-10-25 | 2023-05-10 | ジャパン・フィールド株式会社 | 被洗浄物の洗浄方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06336600A (ja) * | 1993-05-27 | 1994-12-06 | Olympus Optical Co Ltd | 洗浄組成物および洗浄方法 |
-
1993
- 1993-10-05 JP JP5249581A patent/JP2694111B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06336600A (ja) * | 1993-05-27 | 1994-12-06 | Olympus Optical Co Ltd | 洗浄組成物および洗浄方法 |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013522878A (ja) * | 2010-03-08 | 2013-06-13 | ダイナロイ,リミティド ライアビリティ カンパニー | シリコン基板を単分子層でドープする方法および組成物 |
| KR20180094149A (ko) * | 2010-03-08 | 2018-08-22 | 버슘머트리얼즈 유에스, 엘엘씨 | 분자 단층으로 규소 기판을 도핑하는 방법 및 조성물 |
| JP2014008447A (ja) * | 2012-06-28 | 2014-01-20 | Olympus Corp | 物品の洗浄方法 |
| JP2015040217A (ja) * | 2013-08-20 | 2015-03-02 | アクア化学株式会社 | 洗浄剤組成物及びその蒸留再生システム |
| JP2023063639A (ja) * | 2021-10-25 | 2023-05-10 | ジャパン・フィールド株式会社 | 被洗浄物の洗浄方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2694111B2 (ja) | 1997-12-24 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5503681A (en) | Method of cleaning an object | |
| AU673062B2 (en) | Cleaning apparatus | |
| JP2694111B2 (ja) | 被洗浄物の洗浄方法 | |
| JP5013562B2 (ja) | 洗浄方法及び装置 | |
| JP3311934B2 (ja) | 洗浄方法 | |
| JP2008238110A (ja) | 被処理物の洗浄乾燥方法及び洗浄乾燥装置 | |
| JP3246694B2 (ja) | 物品の洗浄方法 | |
| KR0182375B1 (ko) | 청정화 물품의 제조방법 | |
| JP3375104B2 (ja) | 物品の洗浄方法 | |
| JP4367807B2 (ja) | 洗浄方法 | |
| JPH11128854A (ja) | 洗浄方法および装置 | |
| JP3375097B2 (ja) | 物品の洗浄方法 | |
| JPH08252401A (ja) | 洗浄剤の浄化回収装置 | |
| JPH07197092A (ja) | 洗浄乾燥方法 | |
| JP2647608B2 (ja) | 被洗浄物の濯ぎ洗浄方法 | |
| WO2018180731A1 (ja) | W/oエマルジョン洗浄液を使用する洗浄方法 | |
| JP2732998B2 (ja) | 被洗浄物の濯ぎ洗浄方法 | |
| JPH04290586A (ja) | 被洗浄物の濯ぎ洗浄方法およびその装置 | |
| US3452490A (en) | Cleaning surface deposits from raschig rings | |
| JP3602598B2 (ja) | 洗浄乾燥方法 | |
| JP2000290694A (ja) | レンズ製造工程用洗浄剤組成物 | |
| JPH06220670A (ja) | 有機溶剤による洗浄方法 | |
| JPH0913080A (ja) | 精密洗浄方法 | |
| JPH07194901A (ja) | 洗浄乾燥方法 | |
| JPH09221696A (ja) | 洗浄剤組成物及び洗浄方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20070905 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 11 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080905 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 12 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090905 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 12 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090905 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100905 Year of fee payment: 13 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100905 Year of fee payment: 13 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110905 Year of fee payment: 14 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120905 Year of fee payment: 15 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |