JPH07100442A - 被洗浄物の洗浄方法 - Google Patents

被洗浄物の洗浄方法

Info

Publication number
JPH07100442A
JPH07100442A JP24958193A JP24958193A JPH07100442A JP H07100442 A JPH07100442 A JP H07100442A JP 24958193 A JP24958193 A JP 24958193A JP 24958193 A JP24958193 A JP 24958193A JP H07100442 A JPH07100442 A JP H07100442A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
solvent
cleaning
cleaned
rinsing
primary cleaning
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP24958193A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2694111B2 (ja
Inventor
Masahide Uchino
正英 内野
Masao Watanabe
正夫 渡辺
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Japan Field Co Ltd
Original Assignee
Japan Field Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Japan Field Co Ltd filed Critical Japan Field Co Ltd
Priority to JP5249581A priority Critical patent/JP2694111B2/ja
Publication of JPH07100442A publication Critical patent/JPH07100442A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2694111B2 publication Critical patent/JP2694111B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C11ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11DDETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D7/00Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
    • C11D7/50Solvents
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/22Secondary treatment of printed circuits
    • H05K3/26Cleaning or polishing of the conductive pattern

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
  • Detergent Compositions (AREA)
  • Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 高粘度油等の落ちにくい汚れが付着した被洗
浄物の確実な洗浄を行う。可燃性溶剤の使用量を少なく
し、引火の危険を最小限とする。また、濯ぎ洗浄液の再
生利用と、濯ぎ液の浄化を可能にし、廃水処理の問題を
生じない。 【構成】 炭化水素系溶剤、テルペン系溶剤、親水性溶
剤又はシリコン系溶剤に、水又は及び界面活性剤を混合
した一次洗浄液を用いて被洗浄物の一次洗浄を行う。こ
の後、3ーメチルー3ーメトキシブタノールに15wt%
〜50wt%の水を加えて形成した混合溶剤により被洗浄
物の濯ぎ洗浄を行う。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、機械部品、電子部品、
プリント基盤等の被洗浄物を洗浄する洗浄方法に係るも
のである。そして、被洗浄物の洗浄能力を高める事を可
能にすると共に、濯ぎ液の清浄化を保ちながら濯ぎ液の
再利用化を可能としたものである。
【0002】
【従来の技術】従来、被洗浄物の洗浄方法には、大別し
て3つの方法が用いられている。その1つは、可燃性溶
剤である炭化水素系溶剤、シリコン系溶剤、テルペン系
溶剤、親水性溶剤等を使用して、一次洗浄から濯ぎ洗浄
までを行う方法である。
【0003】また、第2の方法では、炭化水素系溶剤、
シリコン系溶剤、親水性溶剤、テルペン系溶剤等に水又
は及び界面活性剤を混合した混合洗浄溶剤により、被洗
浄物の洗浄を行い、濯ぎ洗浄を水で行う方法がある。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記第
1の方法により被洗浄物の洗浄を行う場合は、可燃性溶
剤である炭化水素系溶剤、シリコン系溶剤、テルペン系
溶剤、親水性溶剤等を使用して一次洗浄から濯ぎ洗浄ま
でを行うものであるから、大量の可燃性溶剤を使用する
ため、防火対策上問題があり、危険性の高い洗浄方法と
成っている。
【0005】また、第2の炭化水素系溶剤、シリコン系
溶剤、親水性溶剤、テルペン系溶剤等に界面活性剤また
は水、若しくはその双方を混合した混合洗浄溶剤によ
り、被洗浄物の洗浄を行う方法では、混合洗浄溶剤によ
る一次洗浄の後で、界面活性剤を除去する為に、水を用
いて濯ぎ洗浄を行う必要がある。その為、濯ぎ排水が大
量に発生する結果、排水処理施設に多額の費用がかか
り、不経済であるばかりでなく、排水処理から公害を生
じたりする場合がある。
【0006】本発明は、上述のごとき課題を解決しよう
とするものであって、高粘度油等の落ちにくい汚れが付
着した被洗浄物の、効果的な洗浄を行うと共に、可燃性
溶剤の使用量を少なくし、引火の危険を最小限とする。
また、被洗浄物に使用する濯ぎ洗浄液の再生利用と、濯
ぎ液の浄化を可能にし、大量の排水等が発生することの
無いようにするものである。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明は、上述の如き課
題を解決するため、一次洗浄液を用いて被洗浄物の一次
洗浄を行った後、3ーメチルー3ーメトキシブタノール
に15wt%〜50wt%の水を加えて形成した混合溶剤に
より被洗浄物の濯ぎ洗浄を行う事を特徴として成るもの
である。
【0008】また、一次洗浄液は、炭化水素系溶剤、テ
ルペン系溶剤、親水性溶剤又はシリコン系溶剤であって
も良い。
【0009】また、一次洗浄液は、炭化水素系溶剤、テ
ルペン系溶剤、親水性溶剤又はシリコン系溶剤に、水又
は及び界面活性剤を混合したものであっても良い。ま
た、一次洗浄液は、沸点175℃以上のものであっても
良い。
【0010】また、濯ぎ洗浄は、混合溶剤を充填した濯
ぎ洗浄槽で行い、この濯ぎ洗浄槽に、蒸留再生器、浮上
油分離器のいずれか一方またはその双方を接続し、混合
溶剤の浄化を行いながら濯ぎ洗浄を行うものであっても
良い。
【0011】
【作用】本発明は上述のごとく構成したものであるか
ら、被洗浄物の一次洗浄は、被洗浄物に付着した汚れに
対応する適宜の洗浄液を用いて行う。この洗浄液は、炭
化水素系溶剤、テルペン系溶剤、親水性溶剤又はシリコ
ン系溶剤であっても良いし、これらの溶剤に、水又は及
び界面活性剤を混合したものであっても良い。このよう
に、一次洗浄液は、被洗浄物の汚れに対応した洗浄力に
優れたものを用いる事が出来るから、被洗浄物に付着し
ている汚染が高粘度油等の落ちにくい汚れであっても、
除去を容易に行う事ができる。また、この一次洗浄液で
は、一次洗浄のみを行い、濯ぎ洗浄を行わない事によ
り、可燃性の溶剤の使用量を少なくする事ができる。
【0012】そして、この一次洗浄液を用いて一次洗浄
を行った被洗浄物は、3ーメチルー3ーメトキシブタノ
ールに15wt%〜50wt%の水を加えて形成した混合溶
剤により、被洗浄物の濯ぎ洗浄を行う。この、3ーメチ
ルー3ーメトキシブタノールは、15wt%〜50wt%の
水を加える事により難燃性と成り、引火点をもたない混
合溶剤と成る。ここに於いて、水の混合量は、15wt%
より少ないと3ーメチルー3ーメトキシブタノールが引
火点を有するものとなる。また、50wt%を超えるもの
とすると洗浄能力を低下させるとともに蒸留再生に無駄
な時間とエネルギーを必要とする。
【0013】この混合溶剤は、3ーメチルー3ーメトキ
シブタノールを主体とするものである為、高粘度油等の
強い汚れに対しては十分な溶解性を有していない。しか
し、一次洗浄液を用いて被洗浄物の一次洗浄を行ってい
る為、被洗浄物からは高粘度油等の落ちにくい汚れが除
去されており、上記の混合溶剤による濯ぎ洗浄によっ
て、被洗浄物の確実な洗浄が可能となる。
【0014】また、一次洗浄に用いる溶剤を、3ーメチ
ルー3ーメトキシブタノールより沸点が高いものとすれ
ば、温度管理を、一次洗浄液よりも低く、3ーメチルー
3ーメトキシブタノールの沸点よりも高いものとするこ
とにより、蒸留完了時には一次洗浄液のみが蒸留部に残
ることとなり、蒸留再生を容易にする。
【0015】そして、一次洗浄液の沸点は、3ーメチル
ー3ーメトキシブタノールの沸点である174℃よりも
高いものであれば良いが、その差は大きい程望ましいも
ので、200℃以上の沸点のものとすれば、蒸留再生時
の温度管理が容易となり、一次洗浄液として望ましいも
のである。
【0016】このように、沸点の高い一次洗浄液を用い
る事により、3ーメチルー3ーメトキシブタノールを蒸
留再生する場合において、3ーメチルー3ーメトキシブ
タノールのみが蒸留再生され、沸点の高い一次洗浄液を
容易に分離する事が可能となる。また、沸点の高い一次
洗浄液を用いる事により引火点も高くなるから、引火防
止にも望ましい結果を得ることができる。
【0017】また、一次洗浄液には、水、または界面活
性剤を混合して使用するものとしてもよい。この場合、
水は沸点が100℃であって、3ーメチルー3ーメトキ
シブタノールの沸点174℃よりも低いものとなる。し
かし、3ーメチルー3ーメトキシブタノールの沸点と、
水の沸点との間に大きい差があるため、蒸留再生の初期
段階で、3ーメチルー3ーメトキシブタノールが沸点に
達する前に、水分は全て蒸発される。その為に、水分の
みを別個に取り出し、一次洗浄液の水として補給するこ
とが可能となる。
【0018】また、界面活性剤は一般的に沸点が高いも
のであるから、3ーメチルー3ーメトキシブタノールの
蒸留再生には、混入等の支障を生じることがない。
【0019】以上の如く、被洗浄物の一次洗浄に、炭化
水素系溶剤、テルペン系溶剤、親水性溶剤又はシリコン
系溶剤若しくはこれらの溶剤に、水又は及び界面活性剤
を混合したものを用いることにより、高粘度油等の落ち
にくい汚れを容易に除去することができる。また、この
高粘度油等を除去した被洗浄物を、3ーメチルー3ーメ
トキシブタノールを混合した混合溶剤で濯ぐことによ
り、被洗浄物の濯ぎ洗浄を容易に行うことができる。さ
らに、混合溶剤による濯ぎ洗浄によって、一次洗浄液の
混入した濯ぎ混合溶剤は、これを蒸留再生することによ
り、容易に一次洗浄液及び水、界面活性剤等と、3ーメ
チルー3ーメトキシブタノールとを分離して、再生利用
することができる。また、濯ぎの工程で混合溶剤の蒸留
再生を行えば、常に清浄化された混合溶剤を、濯ぎ洗浄
用に供給することが可能となり、確実な洗浄効果を得る
ことができるものである。
【0020】
【実施例】以下本発明の実施例を図面に於いて説明すれ
ば、(1)は、被洗浄物(2)の一次洗浄を行う一次洗浄槽
であって、3ーメチルー3ーメトキシブタノールよりも
沸点の高い一次洗浄液(3)を充填している。この一次洗
浄液(3)は、沸点175℃以上の炭化水素系溶剤、テル
ペン系溶剤、親水性溶剤又はシリコン系溶剤を用いる。
また、この一次洗浄液(3)は、上記の溶剤に水、界面活
性剤等を混合したものを使用しても良い。また、この一
次洗浄液(3)は、水、界面活性剤等を混合せずに用いる
ものであってもよく、その洗浄目的に応じて、任意に選
択的に使用するものである。
【0021】また、この一次洗浄槽(1)に隣接して、濯
ぎ洗浄槽(4)を形成する。この濯ぎ洗浄槽(4)には、一
次洗浄液(3)よりも沸点の低い、3ーメチルー3ーメト
キシブタノールに15wt%〜50wt%の水を加えて、引
火点を生じないものとした混合溶剤(5)を充填してい
る。
【0022】また、この濯ぎ洗浄槽(4)は蒸留再生器
(6)を接続し、被洗浄物(2)の濯ぎ洗浄によって生じ
た、汚濁した混合溶剤(5)を蒸留再生し、浄化した混合
溶剤(5)を油分離器(7)を介して濯ぎ洗浄槽(4)に還流
している。
【0023】また、濯ぎ洗浄槽(4)に隣接して乾燥槽
(8)を形成し、被洗浄物(2)の乾燥を可能としている。
【0024】上述のごとく構成したものに於いて、被洗
浄物(2)の洗浄を行うには、まず一次洗浄槽(1)に被洗
浄物(2)を挿入し、一次洗浄液(3)により被洗浄物(2)
の洗浄を行う。この一次洗浄液(3)は、被洗浄物(2)に
付着している、高粘度油等の落ちにくい汚れの溶解性に
優れたものであるから、被洗浄物(2)に付着した高粘度
油等も容易に除去し、被洗浄物(2)を清浄化することが
可能となる。
【0025】また、一次洗浄液(3)は水、界面活性剤を
混合したり、若しくは水、界面活性剤を混合せずに単独
で用いるものであってもよく、その洗浄作業の目的に応
じて任意に使い分けるものとすることができる。
【0026】また、一次洗浄槽(1)で一次洗浄の完了し
た被洗浄物(2)は、濯ぎ洗浄槽(4)に導入して濯ぎ洗浄
を行う。この濯ぎ洗浄槽(4)内には、3ーメチルー3ー
メトキシブタノールに15wt%〜50wt%の水を加え
て、引火点を有しないものとした混合溶剤(5)を充填し
ている。そして、この混合溶剤(5)により一次洗浄槽
(1)で高粘度油等を除去された被洗浄物(2)の濯ぎ洗浄
を行う。この濯ぎ洗浄槽(4)では混合溶剤(5)は、引火
点を有しないものであるから安全で、確実な被洗浄物
(2)の濯ぎ洗浄を行うことができる。
【0027】また、この濯ぎ洗浄の作業と同時に、若し
くは濯ぎ洗浄作業とは別個に蒸留再生器(6)を作動し、
混合溶剤(5)を蒸留再生器(6)に導入することにより、
混合溶剤(5)の蒸留再生を行うことができる。この蒸留
再生に於いては、濯ぎ洗浄により混合溶剤(5)中に混入
する一次洗浄液は、3ーメチルー3ーメトキシブタノー
ルよりも沸点が高い。そのため、蒸留再生器(6)の温度
管理を、3ーメチルー3ーメトキシブタノールの沸点よ
りも高く、一次洗浄液(3)の沸点よりも低いものとして
おけば、3ーメチルー3ーメトキシブタノールのみが蒸
留再生され、一次洗浄液(3)を分離除去することが可能
となる。
【0028】また、水分は3ーメチルー3ーメトキシブ
タノールよりも沸点がはるかに低いものであるため、蒸
留再生の初期工程に於いて蒸発分離され、3ーメチルー
3ーメトキシブタノールのみを取り出すことが可能とな
る。また、この清浄化された3ーメチルー3ーメトキシ
ブタノールは、濯ぎ洗浄槽(4)に戻す際に、水分を補給
して引火点のないものとすることができる。そして、濯
ぎ洗浄槽(4)で濯ぎ洗浄の完了した被洗浄物(2)は、次
の乾燥槽(8)に移送し、乾燥作業を行うことによって洗
浄作業を完了する。
【0029】また、上記の実施例では、一次洗浄液を、
3ーメチルー3ーメトキシブタノールよりも沸点の高い
ものとしたが、蒸留時の温度管理を行うことにより、一
次洗浄液を、3ーメチルー3ーメトキシブタノールより
も沸点の低いものとしても良い。この場合は、蒸留完了
後に蒸留部に残留した溶剤が3ーメチルー3ーメトキシ
ブタノールとなる。
【0030】
【発明の効果】本発明は上述のごとく、高粘度油等の落
ちにくい汚れが付着した被洗浄物の確実な洗浄を行うと
共に、可燃性溶剤の使用量を少なくし、引火の危険を最
小限とする。また、被洗浄物に使用する濯ぎ洗浄液の再
生利用と、濯ぎ液の浄化を可能にするとともに廃水処理
の問題を生じる事がないものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明洗浄方法の洗浄槽の配置図を示す概
略図である。
【符号の説明】
2 被洗浄物 3 一次洗浄液 5 混合溶剤

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一次洗浄液を用いて被洗浄物の一次洗浄
    を行った後、3ーメチルー3ーメトキシブタノールに1
    5wt%〜50wt%の水を加えて形成した混合溶剤により
    被洗浄物の濯ぎ洗浄を行う事を特徴とする被洗浄物の洗
    浄方法。
  2. 【請求項2】 一次洗浄液は、炭化水素系溶剤、テルペ
    ン系溶剤、親水性溶剤又はシリコン系溶剤である事を特
    徴とする請求項1記載の被洗浄物の洗浄方法。
  3. 【請求項3】 一次洗浄液は、炭化水素系溶剤、テルペ
    ン系溶剤、親水性溶剤又はシリコン系溶剤に、水又は及
    び界面活性剤を混合したものである事を特徴とする請求
    項2記載の被洗浄物の洗浄方法。
  4. 【請求項4】 一次洗浄液は、沸点175℃以上のもの
    である事を特徴とする請求項1、2又は3記載の被洗浄
    物の洗浄方法。
  5. 【請求項5】 濯ぎ洗浄は、混合溶剤を充填した濯ぎ洗
    浄槽で行い、この濯ぎ洗浄槽に、蒸留再生器、油分離器
    のいずれか一方またはその双方を接続し、混合溶剤の浄
    化を行いながら濯ぎ洗浄を行うものである事を特徴とす
    る請求項1記載の被洗浄物の洗浄方法。
JP5249581A 1993-10-05 1993-10-05 被洗浄物の洗浄方法 Expired - Fee Related JP2694111B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5249581A JP2694111B2 (ja) 1993-10-05 1993-10-05 被洗浄物の洗浄方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5249581A JP2694111B2 (ja) 1993-10-05 1993-10-05 被洗浄物の洗浄方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH07100442A true JPH07100442A (ja) 1995-04-18
JP2694111B2 JP2694111B2 (ja) 1997-12-24

Family

ID=17195141

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP5249581A Expired - Fee Related JP2694111B2 (ja) 1993-10-05 1993-10-05 被洗浄物の洗浄方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2694111B2 (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013522878A (ja) * 2010-03-08 2013-06-13 ダイナロイ,リミティド ライアビリティ カンパニー シリコン基板を単分子層でドープする方法および組成物
JP2014008447A (ja) * 2012-06-28 2014-01-20 Olympus Corp 物品の洗浄方法
JP2015040217A (ja) * 2013-08-20 2015-03-02 アクア化学株式会社 洗浄剤組成物及びその蒸留再生システム
JP2023063639A (ja) * 2021-10-25 2023-05-10 ジャパン・フィールド株式会社 被洗浄物の洗浄方法

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06336600A (ja) * 1993-05-27 1994-12-06 Olympus Optical Co Ltd 洗浄組成物および洗浄方法

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06336600A (ja) * 1993-05-27 1994-12-06 Olympus Optical Co Ltd 洗浄組成物および洗浄方法

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013522878A (ja) * 2010-03-08 2013-06-13 ダイナロイ,リミティド ライアビリティ カンパニー シリコン基板を単分子層でドープする方法および組成物
KR20180094149A (ko) * 2010-03-08 2018-08-22 버슘머트리얼즈 유에스, 엘엘씨 분자 단층으로 규소 기판을 도핑하는 방법 및 조성물
JP2014008447A (ja) * 2012-06-28 2014-01-20 Olympus Corp 物品の洗浄方法
JP2015040217A (ja) * 2013-08-20 2015-03-02 アクア化学株式会社 洗浄剤組成物及びその蒸留再生システム
JP2023063639A (ja) * 2021-10-25 2023-05-10 ジャパン・フィールド株式会社 被洗浄物の洗浄方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP2694111B2 (ja) 1997-12-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5503681A (en) Method of cleaning an object
AU673062B2 (en) Cleaning apparatus
JP2694111B2 (ja) 被洗浄物の洗浄方法
JP5013562B2 (ja) 洗浄方法及び装置
JP3311934B2 (ja) 洗浄方法
JP2008238110A (ja) 被処理物の洗浄乾燥方法及び洗浄乾燥装置
JP3246694B2 (ja) 物品の洗浄方法
KR0182375B1 (ko) 청정화 물품의 제조방법
JP3375104B2 (ja) 物品の洗浄方法
JP4367807B2 (ja) 洗浄方法
JPH11128854A (ja) 洗浄方法および装置
JP3375097B2 (ja) 物品の洗浄方法
JPH08252401A (ja) 洗浄剤の浄化回収装置
JPH07197092A (ja) 洗浄乾燥方法
JP2647608B2 (ja) 被洗浄物の濯ぎ洗浄方法
WO2018180731A1 (ja) W/oエマルジョン洗浄液を使用する洗浄方法
JP2732998B2 (ja) 被洗浄物の濯ぎ洗浄方法
JPH04290586A (ja) 被洗浄物の濯ぎ洗浄方法およびその装置
US3452490A (en) Cleaning surface deposits from raschig rings
JP3602598B2 (ja) 洗浄乾燥方法
JP2000290694A (ja) レンズ製造工程用洗浄剤組成物
JPH06220670A (ja) 有機溶剤による洗浄方法
JPH0913080A (ja) 精密洗浄方法
JPH07194901A (ja) 洗浄乾燥方法
JPH09221696A (ja) 洗浄剤組成物及び洗浄方法

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20070905

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 11

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080905

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 12

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090905

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 12

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090905

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100905

Year of fee payment: 13

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100905

Year of fee payment: 13

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110905

Year of fee payment: 14

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120905

Year of fee payment: 15

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees