JPH07103128B2

JPH07103128B2 - 光学活性なエチレン性不飽和単量体

Info

Publication number: JPH07103128B2
Application number: JP62043295A
Authority: JP
Inventors: 靖五月女; 健夫宮沢; 剛遠藤
Original assignee: エム・デイ・リサ−チ株式会社
Priority date: 1987-02-26
Filing date: 1987-02-26
Publication date: 1995-11-08
Anticipated expiration: 2010-11-08
Also published as: EP0281234A1; CA1295610C; JPS63210107A; KR880009972A; US4873301A; KR960009265B1

Description

【発明の詳細な説明】〔発明の背景〕（産業上の利用分野）本発明は、光学活性単量体およびその重合物である光学
活性高分子化合物に関するものである。詳しくは、本発
明は、ラジカル重合性の置換基を有する６−アミノペニ
シラン酸誘導体およびこの誘導体を原料の一つとして製
造される重合体に関する。

（従来の技術）光学活性な高分子化合物には数多くの用途がある。代表
的なものとしては、光学活性分子の特異な分子認識能力
を生かした触媒としての用途、また光学活性な分子の不
斉識別能を生かしたクロマトグラフィーの充填剤として
の用途が挙げられよう〔これらの用途に関しては、例え
ば、高分子学会主催のミクロシンポジウム（副題：光学
活性高分子）の講演要旨集（1986年11月25−26日、金
沢）で詳しく紹介されている〕。

このような用途に用いられる高分子化合物としては、天
然に産出される数多くの天然高分子をはじめ、その化学
的誘導体や、多種におよび合成品が知られている。しか
しながら、特異な分子認識能力を生かした触媒としての
用途、また光学活性な分子の不斉識別能を生かしたクロ
マトグラフィーの充填剤としての用途等を考えると、現
在知られている光学活性高分子だけでは充分に産業上の
要求に答えられているとは言えないのが現状である。さ
らに、天然高分子やその化学誘導体は、多糖類をはじめ
として容易に人手できることに特徴があるが、これらは
天然品であるため、任意の分子量のものを容易には提供
出来ないと言う欠点がある。分子量は、成膜性や溶解性
に大きな影響を与える要素であることはいうまでもな
い。また、合成品は、天然品やその誘導体に比べて製造
に多くの工程を要すると言う欠点がある。

〔発明の概要〕

（発明が解決しようとする問題点）以上述べたように、光学活性な高分子化合物は数多く知
られているが、新規な光学活性高分子への要求は大き
い。即ち、人手が容易で、分子量などの特性が可変であ
り、単純な製造工程で生産できる光学活性な高分子化合
物およびその原料が求められているわけである。

本発明の目的は以上述べた問題点を解決すべく新規な物
質を提供することにあるが、具体的には、ラジカル重合
性の置換基を有する６−アミノペニシラン酸誘導体およ
びこの誘導体を原料の一つとして製造される光学活性な
重合体を提供することにある。

（問題点を解決する手段）本発明の要旨とするところは、人手の容易な培養生産物
である６−アミノペニシラン酸およびそのアシル体を主
たる原料として、ペニシラン酸骨格（以下、ペナム核と
記す）の光学活性を保持したままラジカル重合性の置換
基を導入することによって光学活性な単量体を提供する
点と、その単量体を原料の一つとしてラジカル単独ある
いは共重合を行って光学活性な高分子化合物を提供する
点にある。ペナム核を光学活性単量体および重合体の光
学活性点として用いることが重要な点である。すなわ
ち、本発明による光学活性なエチレン性不飽和単量体
は、下記構造式で示されるものである。

（式中、Ａは、Ｓ、SOまたはSO₂を示す。ＸおよびＹ
は、それぞれ水素原子、アルキル基、およびアシル基の
うちから選ばれる置換基を示す。Ｚは、アルコキシ基、
アルキルアミノ基、水酸基、およびシリルオキシ基のう
ちから選ばれる置換基を示す。ＸとＹとは、相互に結合
して、それぞれが結合する窒素原子と共に環を形成して
いても、あるいは二重結合によって該窒素原子と結合す
る単一の基であってもよい、たゞし、ＸおよびＺは、そ
の少なくとも一方が該基に対応するアルケニル誘導体で
ある。）また、本発明による前記単量体から得られる、光学活性
な重合体は、下記構造式で示される光学活性なエチレン
性不飽和単量体の基ＸまたはＺのエチレン性不飽和結合
の開裂により生じる繰返し単位10〜100モル％からな
り、数平均分子量が3000以上である、ものである。

（式中、Ａは、Ｓ、SOまたはSO₂を示す。ＸおよびＹ
は、それぞれ水素原子、アルキル基、およびアシル基の
うちから選ばれる置換基を示す。Ｚは、アルコキシ基、
アルキルアミノ基、水酸基、およびシリルオキシ基のう
ちから選ばれる置換基を示す。ＸとＹとは、相互に結合
して、それぞれが結合する窒素原子と共に環を形成して
いても、あるいは二重結合によって該窒素原子と結合す
る単一の基であっても、よい。たゞし、ＸおよびＺは、
その少なくとも一方が該基対応するアルケニル誘導体で
ある。）（発明の効果）本発明によって、ラジカル重合性の置換基を有する６−
アミノペニシラン酸誘導体、およびこの誘導体を原料と
して製造される光学活性な重合体が得られる。本発明の
提供する一連の化合物は、高い光学純度をはじめとする
その化学的あるいは物理的性質を利用して種々の応用が
期待されるものである。

〔発明の具体的説明〕

光学活性単量体単量体の定義本発明による光学活性はエチレン性不飽和単量体（以
下、単量体という）は、前記の式で示される。

式中、Ａ、Ｘ、ＹおよびＺは前記定義の通りである。Ｘ
およびＹがアルキル基またはアシル基である場合は、そ
の炭素数は１〜30程度が好ましい。Ｚがアルコキシ基、
アルキルアミノ基またはシリルオキシ基である場合は、
その炭素数は１〜30程度が好ましい。

この単量体をラジカル重合可能なものとするエチレン性
不飽和結合は、基Ｘおよび（または）Ｚに存在する。す
なわち、この光学活性単量体は、ペナム核の６位および
（または）３位にエチレン性不飽和結合を有する。どち
らか一方にこのようなラジカル重合可能な基を持つもの
が本発明の代表的な単量体である。本発明では、「エチ
レン性不飽和結合」という用語は、「ラジカル重合可能
な炭素−炭素二重結合」と同義に、あるいは互換性を持
つものとして、使用するものとする。

このようなエチレン性不飽和結合は、ＸおよびＺの対応
アルケニル誘導体、すなわちＸがアルキルである場合は
アルケニル、Ｘがアシルであって−CO以外の部分がアル
キルである場合はその部分がアルケニル、Ｚがアルコキ
シである場合はアルケニルオキシ、であることによって
導入される。

ペナム核の６位にこのようなラジカル重合性基を有する
化合物としては、６位のアミノ基の一つの窒素原子をア
クリル、メタクリル、ビニルベンゾイル、シアノアクリ
ル基等のような重合性アシル基（Ｘ）で置換した一連の
化合物が一つの例として挙げられる。この場合前記窒素
原子のもう一つの水素原子は、置換されていなくてもよ
い（Ｒすなわち、Ｙ＝Ｈ）。置換されている場合（Ｙ≠
Ｈ）は、置換基としてメチル、エチル基のような低級ア
ルキル基、ベンジルのようなアラルキル基、アセチル、
ベンゾイル基のようなアシル基が一例として挙げられ
る。さらに、６位の窒素原子はアミド型窒素などとして
環構造内に組み込まれていてもよいし、炭素−窒素二重
結合などの二重結合で置換基と結ばれていてもよい。ま
た、このように６位に重合性基を有する場合に、３位の
カルボキシル基は無置換（Ｚ＝OH）でもよいし、カルバ
モイル、置換カルバモイル基のようにアミド構造に変換
されていてもよい。また、メトキシカルボニル基等のア
ルキルエステル、ベンジルオキシカルボニル基等の置換
アルキルエステル、トリアルキルシリルオキシカルボニ
ル基などのような金属原子のエステル構造を成していて
もよい。さらに、１位の硫黄原子はスルフィド型硫黄で
あってもよいし、スルホキシド型、あるいはスルホン型
硫黄であってもよい。

一方、ペナム核の３位にラジカル重合性基を持つ化合物
としては、３位がビニルベンジルオキシカルボニル、１
−（アクリルオキシ）エトキシカルボニル基等のような
炭素−炭素二重結合を含むエステル型構造である一連の
化合物が一つの例として挙げられる。またビニルカルバ
モイル、イソプロペニルカルバモイル等のようなアミド
型構造も一例として挙げられる。この場合、６位の窒素
原子の水素原子は、置換されていてもいなくともよい。
置換されている場合（Ｘおよび（または）Ｙ≠Ｈ）は、
置換基としてメチル、エチル基のような低級アルキル
基、ベンジルのようなアラルキル基、アセチル、ベンゾ
イル基のようなアシル基が一例として挙げられる。さら
に、この窒素原子はイミド型窒素等として環構造内に組
み込まれていてもよいし、炭素−窒素二重結合などの二
重結合で置換基と結ばれていてもよい。また、置換ある
いは無置換のアンモニウム塩であってもよい。さらに１
位の硫黄原子はスルフィド型硫黄であってもよいし、ス
ルホキシド型、あるいはスルホン型硫黄であってもよ
い。

なお、この光学活性単量体は、発酵生産物である６−ア
ミノペニシラン酸およびそのアシル誘導体等を原料とし
て、合成化学的手法を用いることによって、容易に製造
することができる（後記実験例参照）。

光学活性重合体本発明によって提供される新規な光学活性高分子は、ペ
ナム核の６位あるいは３位にラジカル重合性基を有する
上記の光学活性単量体をラジカル機構またはイオン機構
で単独重合あるいは共重合して合成されるが、ラジカル
重合する際の条件には、一般に用いられるものがそのま
ま適用できる。一例としては、アゾビスイソブチロニト
リル等のような加熱あるいは紫外線照射によって遊離基
を発生する化合物と共に本発明単量体を溶媒に溶解し、
加熱あるいは紫外光照射を行えばよい。また、遊離基
を、本発明の単量体に結合している炭素−炭素二重結合
そのものや、共重合成分の二重結合から、紫外光などの
照射によって発生させてラジカル重合を開始させてもよ
い。

本発明の光学活性単量体を共重合させる場合は、共重合
成分は、一般にラジカル共重合可能な単量体であればよ
い。その構造は目的に応じて選択可能である。すなわ
ち、溶解性、成膜性、化学的あるいは物理的安定性等
の、付与したい特性に応じたものを用いればよい。一例
としては、水溶性単量体であるアクリルアミド、メタク
リルアミド、アクリル酸、メタクリル酸等の化合物が、
また脂溶性単量体であるスチレン、メタクリル酸メチ
ル、アクリル酸メチル等が挙げられる。さらに、共重合
体の構成はランダム重合体だけに限定されるわけではな
く、ブロック重合体であっても使用目的に適合すれば差
し支えない。また、本発明単量体を各種重合体鎖の側部
に重合させてなるグラフト共重合体も、本発明の重合体
の範疇に入るものとする。

従って、本発明による重合体は、前式の光学活性単量体
のＸ基またはＺ基のエチレン性不飽和結合の開裂により
生じる繰返し単位が10〜100モル％からなるものであ
る。このエチレン性不飽和結合がその一方の炭素原子が
２個の水素でかつ他方の炭素が１個の水素で置換されて
いるものである場合にはこのエチレン性不飽和結合以外
のこの単量体部分をＷとすれば、本発明による重合体は
下記の繰返し単位を持つものである。

本発明による重合体は、この繰返し単位からなることを
特徴とするものであるから、この重合体が共重合体であ
る場合はこの繰返し単位を10モル％以上含むものである
ことが望ましい。ラジカル重合の属性として生じること
あるべき、ポリマー鎖側部でのラジカル発生によるグラ
フト共重合を除けば、本発明による重合体の典型的なも
のは、上記繰返し単位が10〜100モル％の割合で重合体
鎖中にランダムとしてあるいはブロック状に存在する単
独重合体または共重合体である。

新規重合体を特徴づけるもう一つの要素である分子量
は、本発明による重合体の場合は数平均分子量で3000以
上である。数平均分子量は、GPC（ゲル・パーミエーシ
ョン・クロマトグラフィー）による方法によって求め、
ポリスチレン換算したものである。

本発明による重合体は、ペナム核を有するという特徴を
有するものである。ペナム核は、種々の試薬と速やかに
反応して様々な誘導体を与えることが広く知られてい
る。従って、その高い化学反応性を利用して上記の方法
で合成した本発明の化合物にさらに化学修飾を施すこと
ができる。一例としては、アルキルアミンの４員環への
開環付加反応、塩基触媒下におけるアルコールの同じく
４員環への開環付加反応などが挙げられる。本発明によ
って得られる化合物にこのような化学変換を施して使用
に供することもできる。

実験例以上の記載で例示した置換基、製造方法などは本発明を
より詳細に説明するために用いたものである。本発明の
内容は、これらによって限定されるものではない。

参考例１６−アミノペニシラン酸（64.9g、300mmol）を室温で、
アルゴン雰囲気下、乾燥塩化メチレン（1500ml）に分散
させ、攪拌しながらトリエチルアミン（60.7g、600mmo
l）を加え、均一な溶液となるまで攪拌を続ける。次に
アセト酢酸メチル（34.8g、300mmol）を滴下し、室温で
３時間攪拌してから減圧で濃縮する。残った油状物を減
圧乾燥後、乾燥ジメチルホルムアミド（700ml）及びベ
ンジルブロミド54.7g、320mmol）を加えて室温で３時間
攪拌する。混合物に蒸留水（1000ml）を加えて、塩化メ
チレン−ジエチルエーテル（1:5）で抽出（４×300ml）
し、水洗（２×300ml）、食塩水洗（２×200ml）し、硫
酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧で除き去る。乾燥
アセトン（750ml）に溶解し、攪拌しながらパラトルエ
ンスルホン酸−水塩（68.5g、360mmol）を加えて12分間
攪拌する。ジエチルエーテル（750ml）を加えた析出結
晶を濾過し、ジエチルエーテルで２回洗浄する。粗結晶
が83.7g（58.2％）得られる。これをメタノール−塩化
メチレン−ジエチルエーテル混合溶媒より再結晶する
と、６−アミノペニシラン酸ベンジルエステル・パラト
ルエンスルホン酸塩が得られる。収量:74.3g（51.8
％）。

融点:156℃ IR:1770、1725、1650、 1600cm^-1。¹ H-NMR(CDCl₃-DMSO-d6)：δ＝9.03（br,3H）、7.42（A
B,4H）、7.38（s,5H）、5.52（d,1H,J＝4.3Hz）、5.20
（d,2H,J＝1.6Hz）、4.94（d,1H,J＝4.3Hz）、4.49（s,
1H）、2.35（s,3H）、1.65（s,3H）、1.40ppm（s,3
H）。

参考例２６−アミノペニシラン酸（43.2g、200mmol）を０℃で、
蒸留水（300ml）に分散させ、攪拌しながらパラトルエ
ンスルホン酸−水塩（38.0g、200mmol）を2gづつ加え
る。均一な溶液となるまで０℃で攪拌を続け、次に過酢
酸40％水溶液（40.0g、210mmol）を、反応液温度が５℃
から10℃の範囲に保たれるようにゆっくりと滴下し、滴
下終了後、氷浴中でさらに１時間攪拌してからアセトン
を150ml加える。析出結晶を濾過し、ジエチルエーテル
で洗浄後、減圧乾燥すると、６−アミノペニシラン酸ス
ルホキシド・パラトルエンスルホン酸塩が、56.0g（69.
2％）得られる。

融点:168−170℃ IR:1795、1720cm^-1。

参考例３参考例２で合成した６−アミノペニシラン酸スルホキシ
ド・パラトルエンスルホン酸塩（9.1g、22.5mmol）を室
温で、アルゴン雰囲気下、乾燥塩化メチレン（125ml）
に分散させ、攪拌しながらトリエチルアミン（9.4ml、6
7.5mmol）を加え、均一な溶液となるまで約５分間攪拌
を続ける。次に、アセト酢酸メチル（2.42ml、22.5mmo
l）を滴下し、室温で３時間攪拌してから減圧で濃縮す
る。残った油状物を減圧乾燥後、乾燥ジメチルホルムア
ミド（50ml）及びベンジルブロミド（22.5ml、2.71mmo
l）を加えて室温で３時間攪拌する。混合物に蒸留水（6
0ml）を加えて、塩化メチレン−ジエチルエーテル（1:
5）で抽出（４×60ml）し、水洗（２×50ml）、食塩水
洗（２×20ml）し硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減
圧で除き去る。乾燥アセトン（40ml）に溶解し、攪拌し
ながらパラトルエンスルホン酸−水塩（4.28g、22.5mmo
l）を加えて12分間攪拌する。ジエチルエーテル（100m
l）を加えて析出結晶を濾過し、ジエチルエーテルで２
回洗浄する。メタノール−塩化メチレン−ジエチルエー
テル混合溶媒より再結晶すると、６−アミノペニシラン
酸スルホキシドベンジルエステル・パラトルエンスルホ
ン酸塩が、得られる。収量:3.48g（31.3％）。

融点:154−156℃。

IR:1795、1750、1590cm^-1。¹ H-NMR(CDCl₃-DMSO-d6)：δ＝7.45（AB,4H）、7.38（s,
5H）、5.23（AB,2H）、5.21（d,1H,J＝4.7Hz）、5.13
（d,1H,J＝4.7Hz）、4.63（s,1H）、、2.35（s,3H）、
1.62（s,3H）、1.05ppm（s,3H）。

実施例１６−アミノペニシラン酸（6.49g、30mmol）を室温で、
アルゴン雰囲気下、乾燥塩化メチレン（150ml）に分散
させ、攪拌しながらトリエチルアミン（8.4ml、60mmo
l）を加え、均一な溶液となるまで攪拌を続ける。次
に、アセト酢酸メチル（3.2ml、30mmol）を滴下し、室
温で３時間攪拌してから減圧で濃縮する。残った油状物
を減圧乾燥後、乾燥ジメチルホルムアミド（70ml）及び
ビニルベンジルクロリド（メタ、パラ混合物）（4.58
g、30mmol）を加えて室温で18時間攪拌する。混合物に
蒸留水（60ml）を加えて、塩化メチレン−ジエチルエー
テル（1:5）で抽出（４×60ml）し、水洗（２×5ml）、
食塩水洗（２×50ml）し、硫酸マグネシウムで乾燥後、
溶媒を減圧で除き去る。乾燥アセトン（20ml）に溶解
し、攪拌しながらパラトルエンスルホン酸−水塩（3.12
g、16.4mmol）を加えて12分間攪拌する。ジエチルエー
テル（50ml）を加えて析出結晶を濾過し、ジエチルエー
テルで２回洗浄する。塩化メチレン−ジエチルエーテル
混合溶媒より再結晶すると、６−アミノペニシラン酸ビ
ニルベンジルエステル・パラトルエンスルホン酸塩がメ
タ、パラ混合物として得られる。収量4.63g（30.7
％）。

融点:130.5−131.5℃。

〔α〕_D＝130（c1、メタノール） IR:1790、1750、1625cm^-1。¹ H-NMR(CDCl₃)：δ＝8.64（br,3H）、7.43（AB,4H）、
7.40−7.22（m,4H）、6.69（dd,1H,J＝17.5,11Hz）、5.
78、5.55（d,d,合計1H,共にＪ＝17.5Hz）、5.41（d,1H,
J＝4.1Hz）、5.28、5.27（d,d,合計1H,共にＪ＝11H
z）、5.13−5.12（m,2H）、4.94（d,1H,J＝4.1Hz）4.4
5、4.44（s,s,合計1H）、2.31（s,3H）、1.43（s,3
H）、1.29、1.28ppm（s,s,合計3H）。

実施例２参考例２で合成した６−アミノペニシラン酸スルホキシ
ド・パラトルエンスルホン酸塩（8.0g、19.8mmol）を室
温で、アルゴン雰囲気下、乾燥塩化メチレン（160ml）
に分散させ、攪拌しながらトリエチルアミン（8.28ml、
59.4mmol）を加え、均一な溶液となるまで攪拌を続け
る。次にアセト酢酸メチル（2.13ml、19.8mmol）を滴下
し、室温で３時間攪拌してから減圧で濃縮する。残った
油状物を減圧乾燥後、乾燥ジメチルホルムアミド（50m
l）及びビニルベンジルクロリド（メタ、パラ混合物）（3.02g、19.8mmol）を加えて室温で18時間攪拌する。
混合物に蒸留水（70ml）を加えて、塩化メチレン−ジエ
チルエーテル（1:5）で抽出（４×70ml）し、水洗（２
×50ml）、食塩水洗（２×30ml）し、硫酸マグネシウム
で乾燥後、溶媒を減圧で除き去る。シリカゲルカラムク
ロマトグラフィー（ゲル:500ml、クロロホルム−酢酸エ
チル（10:1））で、シリカゲル薄層クロマトグラフィー
（クロロホルム−酢酸エチル（10:1））におけるRf値0.
32の成分を分取し（収量1.3g）、乾燥アセトン（4ml）
に溶解し、攪拌しながらパラトルエンスルホン酸−水塩
（0.63g、3.3mmol）を加えて10分間攪拌する。ジエチル
エーテル（80ml）を加えて析出結晶を濾過し、ジエチル
エーテルで２回洗浄する。メタノール−塩化メチレン−
ジエチルエーテル混合溶媒より再結晶すると、６−アミ
ノペニシラン酸スルホキシドビニルベンジルエステル・
パラトルエンスルホン酸塩が、メタ、パラ混合物として
得られる。収量0.76g（7.4％）。

融点:164.5−165.0℃。

〔α〕_D＝118（c1、メタノール）。

IR:1790、1745、1620cm^-1。¹ H-NMR(CDCl₃-DMSO-d6)：δ＝8.9（br,3H）、7.45（AB,
4H）、7.44−7.26（m,4H）、6.72（dd,1H,J＝17.5,11H
z）、5.79、5.78（d,d,合計1H,共にＪ＝17.5Hz）、5.31
−5.16（オーバーラップm,4H）、5.08（d,1H,J＝4.6H
z）、4.64、4.62（s,s,合計1H）、2.35（s,3H）、1.6
4、1.63（s,s,合計3H）、1.09、1.08ppm（s,s,合計3
H）。

実施例３参考例１で合成した６−アミノペニシラン酸ベンジルエ
ステル・パラトルエンスルホン酸塩（5.00g、10.4mmo
l）を室温で塩化メチレン（700ml）に分散させ、アルゴ
ン雰囲気下で攪拌しながらトリエチルアミン（1.82ml、
13.1mmol）を加える。液が均一になったらさらに同量の
トリエチルアミンを加え、氷浴で冷却する。液温を０℃
から５℃の間に保ちながら、250mlの塩化メチレンに溶
かしたアクリル酸クロリド（0.93ml、11.4mmol）を１時
間かけて滴下し、さらに室温で３時間攪拌する。溶液を
５％炭酸水素ナトリウム水溶液（２×100ml）、蒸留水
（２×100ml）、食塩水（50ml）で洗浄し、硫酸マグネ
シウムで乾燥後、溶媒を減圧で除去する。シリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（ゲル:300ml、クロロホルム−
酢酸エチル（10:1））で、第１溜出成分を分取し、減圧
で充分乾燥して６−アクリルアミノペニシラン酸ベンジ
ルエステルを得る。収量2.36g（62.9％）。

〔α〕_D＝177（c1、塩化メチレン）。

IR:1780、1746、1670、1630cm^-1。¹ H-NMR(CDCl₃)：δ＝7.41−7.36（m,5H）、6.36（dd,1
H,J＝17.0,1.0Hz）、6.24、（d,1H、Ｊ＝9Hz）、6.13
（dd,1H,J＝17.0,10.3Hz）、5.80（dd,1H,J＝9,4.1H
z）、5.75（dd,1H,J＝10.3,1.0Hz）、5.75（d,1H,J＝4.
1Hz）、5.20（AB,2H）、4.47（s,1H）、1.64（s,3H）、
1.43ppm（s,3H）。

実施例４参考例１で合成した６−アミノペニシラン酸ベンジルエ
ステル・パラトルエンスルホン酸塩（5.00g、10.4mmo
l）を室温で塩化メチレン（700ml）に分散させ、アルゴ
ン雰囲気下で攪拌しながらトリエチルアミン（1.82ml、
13.1mmol）を加える。液が均一になったらさらに同量の
トリエチルアミンを加え、氷浴で冷却する。液温を０℃
から５℃の間に保ちながら、200mlの塩化メチレンに溶
かしたメタクリル酸クロリド（1.11ml、11.4mmol）を１
時間かけて滴下し、さらに室温で３時間攪拌する。溶液
を５％炭酸水素ナトリウム水溶液（２×100ml）、蒸留
水（３×100ml）、食塩水（２×20ml）で洗浄し、硫酸
マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧で除去する。シリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（ゲル:300ml、クロロホ
ルム−酢酸エチル（10:1））で、シリカゲル薄層クロマ
トグラフィー（塩化メチレン−酢酸エチル（1:1））に
おけるRf値0.88の成分を分取し、減圧で充分乾燥して６
−メタクリルアミノペニシラン酸ベンジルエステルを得
る。収量3.72g（95.6％）。

〔α〕_D＝154（c1、塩化メチレン）。

IR:1795、1750、1670、1630cm^-1。¹ H-NMR(CDCl₃)：δ＝7.37（s,5H）、6.44（d,1H,J＝9H
z）、5.76（d,1H,J＝0.8Hz）、5.74（dd,1H,J＝9,4.1H
z）、5.57（d,1H,J＝4.1Hz）、5.43−5.42（m,1H）、5.
20（d,2H,J＝0.8Hz）、4.48（s,1H）、1.98（s,3H）、
1.64（s,3H）、1.43ppm（s,3H）。

実施例５参考例３で合成した６−アミノペニシラン酸スルホキシ
ドベンジルエステル・パラトルエンスルホン酸塩（0.26
1g、0.528mmol）を室温で塩化メチレン（30ml）に分散
させ、アルゴン雰囲気下で攪拌しながらトリエチルアミ
ン（0.184ml、1.32mmol）を加え、氷浴で冷却する。液
温を０℃から５℃の間に保ちながら、10mlの塩化メチレ
ンに溶かしたアクリル酸クロリド（0.0472ml、0.581mmo
l）を１時間かけて滴下し、さらに室温で３時間攪拌す
る。溶液を５％炭酸水素ナトリウム水溶液（２×50m
l）、蒸留水（２×50ml）、食塩水（30ml）で洗浄し、
硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧で除去する。シ
リカゲルカラムクロマトグラフィー（ゲル:50ml、クロ
ロホルム−酢酸エチル（10:1））てせ、シリカゲル薄層
クロマトグラフィー（塩化メチレン−酢酸エチル（5:
1））におけるRf値0.22の成分を分取し、減圧で充分乾
燥して６−アクリルアミノペニシラン酸スルホキシドベ
ンジルエステルを得る。収量0.181g（91.0％）。

〔α〕_D＝193（c1、塩化メチレン）。

IR:1790、1750、1680、1630cm^-1。¹ H-NMR(CDCl₃)：δ＝7.39（s,5H）、7.15（d,1H,J＝10.
3Hz）、6.33（dd,1H,17.2,1.0Hz）、6.15（dd,1H,J＝1
0.3,4.6Hz）、6.09（dd,1H,J＝17.2,10.3Hz）、5.75（d
d,1H,J＝10.3,1.0Hz）、5.24（AB,2H）、5.05（d,1H,J
＝4.6Hz）、4.70（s,1H）、1.68（s,3H）、1.09ppm（s,
3H）。

実施例６参考例３で合成した６−アミノペニシラン酸スルホキシ
ドベンジルエステル・パラトルエンスルホン酸塩（5.14
g、10.4mmol）を室温で塩化メチレン（700ml）に分散さ
せ、アルゴン雰囲気下で攪拌しながらトリエチルアミン
（1.82ml、13.1mmol）を加える。液が均一になったらさ
らに同量のトリエチルアミンを加え、氷浴で冷却する。
液温を０℃から５℃の間に保ちながら、200mlの塩化メ
チレンに溶かしたメタクリル酸クロリド（1.11ml、11.4
mmol）を１時間かけて滴下し、さらに室温で３時間攪拌
する。溶液を５％炭酸水素ナトリウム水溶液（２×100m
l）、蒸留水（３×100ml）、食塩水（２×20ml）で洗浄
し、硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧で除去す
る。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ゲル:300m
l、クロロホルム−酢酸エチル（15:1））で、シリカゲ
ル薄層クロマトグラフィー（塩化メチレン−酢酸エチル
（5:1））におけるRf値0.51の成分を分取し、減圧で充
分乾燥して６−メタクリルアミノペニシラン酸スルホキ
シドベンジルエステルを得る。収量3.42g（84.2％）。

融点:135−136℃。

〔α〕_D＝187（c1、塩化メチレン）。

IR:1780、1750、1670、1625cm^-1。¹ H-NMR(CDCl₃)：δ＝7.45（d,1H,J＝10Hz）、7.39（s,5
H）、6.13（dd,1H,J＝10,4.6Hz）、5.79（d,1H,J＝0.8H
z）、5.43（m,1H）、5.24（AB,2H）、5.05（d,1H,J＝4.
6Hz）、4.70（s,1H）、1.96−1.95（m,3H）、1.68（s,3
H）、1.09ppm（s,3H）。

実施例７実施例１で合成した６−アミノペニシラン酸ビニルベン
ジルエステル・パラトルエンスルホン酸塩（メタ、パラ
混合物）（1.04g、2.06mmol）を室温で塩化メチレン（1
50ml）に溶解し、アルゴン雰囲気下で攪拌しながらトリ
エチルアミン（0.72ml、5.15mmol）を加え、氷浴で冷却
する。液温を０℃から５℃の間に保ちながら、40mlの塩
化メチレンに溶かしたベンゾイルクロリド（0.26ml、2.
23mmol）を１時間かけて滴下し、さらに室温で３時間攪
拌する。溶液を５％炭酸水素ナトリウム水溶液（２×10
0ml）、蒸留水（３×100ml）、食塩水（50ml）で洗浄
し、硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧で除去す
る。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ゲル:80m
l、クロロホルム）で、シリカゲル薄層クロマトグラフ
ィー（塩化メチレン−酢酸エチル（5:1））におけるRf
値0.89の成分を分取し、減圧で充分乾燥して６−ベンゾ
イルアミノペニシラン酸ビニルベンジルエステルのメ
タ、パラ混合物を得る。

収量0.836g（93.0％）。

〔α〕_D＝151（c1、塩化メチレン）。

IR:1785、1750、1665、1605cm^-1。¹ H-NMR(CDCl₃)：δ＝7.80−7.28（m,9H）、6.78（d,1H,
J＝9.0Hz）、6.72（dd,1H,J＝17.7,10.8Hz）5.90、5.90
（dd,dd,合計1H,共にＪ＝9.0,4.1Hz）、5.78（d,1H,J＝
17.7Hz）。5.64、5.64（d,d,合計1H,共にＪ＝4.1Hz）、
5.30、5.29（d,d,合計1H,共にＪ＝10.8Hz）、5.21−5.1
9（m,2H）、4.52、4.51（s,s,合計1H）、1.67、1.66
（s,s,合計3H）、1.46、1.44ppm（s,s,合計3H）。

実施例８参考例３で合成した６−アミノペニシラン酸スルホキシ
ドビニルベンジルエステル・パラトルエンスルホン酸塩
（メタ、パラ混合物）（0.505g、0.970mmol）を室温で
塩化メチレン（70ml）に分散させ、アルゴン雰囲気下で
攪拌しながらトリエチルアミン（0.169ml、1.21mmol）
を加える。10分間室温で攪拌後さらに同量のトリエチル
アミンを加え、氷浴で冷却する。液温を０℃から５℃の
間に保ちながら、20mlの塩化メチレンに溶かしたベンゾ
イルクロリド（0.124ml、1.07mmol）を１時間かけて滴
下し、さらに室温で３時間攪拌する。溶液を５％炭酸水
素ナトリウム水溶液（２×50ml）、蒸留水（３×50m
l）、食塩水（20ml）で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾
燥後、溶媒を減圧で除去する。シリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（ゲル:50ml、クロロホルム）で、シリカ
ゲル薄層クロマトグラフィー（塩化メチレン−酢酸エチ
ル（5:1））におけるRf値0.55の成分を分取し、減圧で
充分乾燥して６−ベンゾイルアミノペニシラン酸スルホ
キシドビニルベンジルエステルのメタ、パラ混合物を得
る。

収量0.328g（74.7％）。

〔α〕_D＝150（c1、塩化メチレン）。

IR:1790、1755、1670、1630、1605cm^-1。¹ H-NMR(CDCl₃)：δ＝7.86（d,1H,J＝10Hz）、7.80−7.2
7（m,9H）、6.72（dd,1H,J＝17.7,11Hz）、6.30（dd,1
H,J＝10,4.6Hz）5.78（d,1H,J＝17.7Hz）5.32−5.28
（m,2H）、5.19、5.17（d,d,合計1H,共にＪ＝11Hz）、
5.12、5.11（d,d,合計1H,共にＪ＝4.6Hz）、4.75、4.74
（s,s,合計1H）、1.70、1.69（s,s,合計3H）、1.13、1.
12ppm（s,s,合計3H）。

実施例９ペニシリンＧカリウム塩（5.59g、15.0mmol）を室温で
ジメチルホルムアミド（30ml）に分散させ、ビニルベン
ジルクロリド（メタ、パラ混合物）（2.08g、13.6mmo
l）を30分かけて滴下する。室温で２時間攪拌した後、
蒸留水（50ml）を加えて、塩化メチレン−ジエチルエー
テル（1:5）で抽出（４×50ml）し、蒸留水（２×20m
l）、５％しゅう酸水溶液（２×20ml）、蒸留水（20m
l）、５％炭酸水素ナトリウム（２×20ml）、蒸留水（2
0ml）、食塩水（２×20ml）で洗い、硫酸マグネシウム
で乾燥後、溶媒を減圧で除き去る。減圧乾燥すると、６
−（フェニルアセトアミノ）ペニシラン酸ビニルベンジ
ルエステルのメタ、パラ混合物がえられる。収量2.37g
（38.7％）。

〔α〕_D＝122（c1、塩化メチレン）。

IR:1780、1745、1670、1605cm^-1。¹ H-NMR(CDCl₃)：δ＝7.41−7.27（m,9H）、6.70（dd,1
H,J＝17.5,11.0Hz）、6.08（d,1H,9.2Hz）、5.77、6.76
（dd,dd,合計1H,共にＪ＝17.5,0.8Hz）、5.64、5.63（d
d,dd,合計1H,前者はＪ＝9.2,4.4,後者は9.2,4.1Hz）5.5
0、5.49（d,d,合計1H,前者はＪ＝4.4,後者は4.1Hz）、
5.28（d,1H,J＝11.0Hz）、5.15（d,2H,J＝6.2Hz）、4.4
0、4.39（s,s,合計1H）、3.63（s,2H）、1.40、1.39
（s,s,合計3H）、1.37、1.35ppm（s,s,合計3H）。

実施例10 実施例３で合成した６−アミノペニシラン酸ベンジルエ
ステル（0.400g、1.11mmol）とアゾビスイソブチロニト
リル（3.0mg、0.022mmol）を塩化メチレン（1ml）に溶
解し、ガラスアンプルに脱気封管する。35℃の水浴中で
高圧水銀灯光を７時間照射後、開封して塩化メチレンを
1ml加え、メタノール（120ml）中に注ぐ。析出物を濾取
し、減圧乾燥して、0.220g（55.0％）の樹脂を得る。

〔α〕_D＝178（c1、塩化メチレン）。

IR:1780、1745、1680cm^-1。

分子量（GPC、ポリスチレン換算）:Mn＝9760。Mw/Mn＝
1.81。

実施例11 実施例３で合成した６−アクリルアミノペニシラン酸ベ
ンジルエステル（0.420g、1.17mmol）とアゾビスイソブ
チロニトリル（3.0mg、0.022mmol）を塩化メチレン（1m
l）に溶解し、ガラスアンプルに脱気封管する。60℃の
油浴中で20時間加熱後、開封して塩化メチレンを1ml加
え、メタノール（100ml）中に注ぐ。析出物を濾取し、
減圧乾燥して、0.120g（28.6％）の樹脂を得る。

〔α〕_D＝192（c1、塩化メチレン）。

IR:1780、1745、1680cm^-1。

分子量（GPC、ポリスチレン換算）:Mn＝7000。Mw/Mn＝
1.62。

実施例12 実施例５で合成した６−アクリルアミノペニシラン酸ス
ルホキシドベンジルエステル（48mg、0.23mmol）とアゾ
ビスイソブチロニトリル（0.27mg、1.6μmol）を塩化メ
チレン（0.255ml）に溶解し、ガラスアンプルに脱気封
管する。50℃の油浴中で48時間加熱後、開封して塩化メ
チレンを2ml加え、不溶分を捨てた後、メタノール（50m
l）中に注ぐ。析出物を濾取し、減圧乾燥して、36mg（7
5％）の樹脂を得る。

〔α〕_D＝200（c1、塩化メチレン）。

IR:1785、1750、1670cm^-1。

分子量（GPC、ポリスチレン換算）:Mn＝6740。Mw/Mn＝
2.83。

実施例13 実施例６で合成した６−メタクリルアミノペニシラン酸
スルホキシドベンジルエステル（391mg、1.00mmol）と
アゾビスイソブチロニトリル（2.2mg、13mmol）を塩化
メチレン（2.0ml）に溶解し、ガラスアンプルに脱気封
管する。50℃の油浴中で48時間加熱後、開封して塩化メ
チレンを5ml加え、メタノール（50ml）中に注ぐ。析出
物を濾取し、減圧乾燥して、357mg（91.3％）の樹脂を
得る。

〔α〕_D＝217（c1、塩化メチレン）。

IR:1795、1750、1675cm^-1。

分子量（GPC、ポリスチレン換算）:Mn＝70300。Mw/Mn＝
2.63。

実施例14 実施例９で合成した６−（フェニルアセトアミノ）ペニ
シラン酸ビニルベンジルエステル（577mg、1.28mmol）
とアゾビスイソブチロニトリル（2.1mg、13μmol）を1,
4−ジオキサン（2.2ml）に溶解し、ガラスアンプルに脱
気封管する。70℃の油浴中で24時間加熱後、開封して1,
4−ジオキサン3ml加え、メタノール（200ml）中に注
ぐ。析出物を濾取し、減圧乾燥して、512mg（90.3％）
の樹脂を得る。

〔α〕_D＝150（c1、塩化メチレン）。

IR:1795、1725、1660、1605cm^-1。

分子量（GPC、ポリスチレン換算）：M_n＝16700。M_w／M_n
＝2.49。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号庁内整理番号ＦＩ技術表示箇所Ｃ０８Ｆ 20/60 ＭＮＨ 8619−4Ｊ 26/02 ＭＮＬ 30/08 ＭＮＵＣ０７Ｍ 7:00

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】下記の構造式で示される、光学活性なエチ
レン性不飽和単量体。（式中、Ａは、Ｓ、SOまたはSO₂を示し、ＸおよびＹは、それぞれ水素原子、アルキル基、および
アシル基のうちから選ばれる置換基を示し、それら置換
基は少なくとも一つのエチレン性不飽和結合を有してい
てもよく、あるいはＸとＹとは、相互に結合して、それぞれが結合
する窒素原子と共に環を形成していても、あるいは二重
結合によって該窒素原子と結合する単一の基であっても
よく、そしてＺは、アラルキルオキシ基、アルキルアミノ基、水酸
基、およびシリルオキシ基のうちから選ばれる置換基を
示し、それら置換基は少なくとも一つのエチレン性不飽
和結合を有していてもよく、但し、ＸおよびＺは、その少なくとも一方がエチレン性
不飽和結合を有するものである。）
【請求項２】Ｚがビニル基で置換されていてもよいフェ
ニルアルキルオキシ基である、特許請求の範囲第１項記
載の光学活性なエチレン性不飽和単量体。
【請求項３】Ｚがビニル基で置換されていてもよいベン
ジルオキシ基である、特許請求の範囲第１項記載の光学
活性なエチレン性不飽和単量体。