JPH07104108A - Optical film - Google Patents
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、プリント基板作製時の
露光機に使用されるカバーフィルムや、写真製版のスキ
ャナによる色分解時に使用されるオーバレイフィルム
や、印画紙等の保護フィルム等に係わり、特に透明性が
要求される光学用フィルムに関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a cover film used for an exposure device when manufacturing a printed circuit board, an overlay film used for color separation by a scanner for photoengraving, a protective film for printing paper and the like. In particular, the present invention relates to an optical film for which transparency is required.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来から、プリント基板のパターンを作
製する際、図５に示すように、基板１の表裏にレジスト
２を塗布し、パターンを形成したフォトマスク３を介し
て露光することによりレジストを変化させ、現像、エッ
チングにより基板１にパターンを作製している。この時
の露光工程において、透明ガラス板４と透明フィルム５
で基板１及びフォトマスク３を挟持し、図示しない真空
装置により吸引して、フォトマスク３を基板１に密着さ
せフォトマスク３に形成されたパターンが基板１に正確
に露光されるようにしている。2. Description of the Related Art Conventionally, when a pattern of a printed circuit board is produced, as shown in FIG. 5, a resist 2 is applied on the front and back of a substrate 1 and exposed through a photomask 3 having a pattern formed thereon. Is changed, and a pattern is formed on the substrate 1 by developing and etching. In the exposure step at this time, the transparent glass plate 4 and the transparent film 5
The substrate 1 and the photomask 3 are sandwiched by and sucked by a vacuum device (not shown) to bring the photomask 3 into close contact with the substrate 1 so that the pattern formed on the photomask 3 is accurately exposed on the substrate 1. .
【０００３】このような真空引きを効率よく行うために
は、表面が凹凸面であると空気が抜け易くなるため、透
明フィルム５の表面に凹凸を有したものが使用されてい
る。また、写真製版の色分解に使用するスキャナ装置等
においては、原稿との密着により干渉縞が生じてしまう
こともあるため、原稿の表面に粗面化した透明なフィル
ムを被せて使用している。In order to efficiently perform such vacuuming, if the surface is uneven, it is easy for air to escape, so that the transparent film 5 having unevenness is used. Further, in a scanner device or the like used for color separation of photoengraving, interference fringes may occur due to close contact with the document, so the surface of the document is covered with a roughened transparent film for use. .
【０００４】また、ビデオプリンタ等による受像紙の表
面を保護するため、表面が粗面化された保護フィルムが
使用されているが、これらには透明性が要求されてい
る。Further, a protective film having a roughened surface is used in order to protect the surface of the image receiving paper by a video printer or the like, but these are required to have transparency.
【０００５】[0005]
【発明が解決しようとする課題】表面に凹凸を有する透
明フィルムは、表面をサンドブラスト等で粗したり、顔
料を分散した樹脂液を塗布したり、あるいは型押しされ
たエンボスフィルム等が使用されている。表面をサンド
ブラスト等で粗したり、顔料を分散した樹脂液を塗布し
たりしたものは透明性が充分とは言えず、エンボスフィ
ルムが好適に用いられている。The transparent film having irregularities on the surface is formed by roughening the surface by sandblasting, coating a resin liquid in which a pigment is dispersed, or embossed film which is embossed. There is. Those whose surface is roughened by sandblasting or which is coated with a resin liquid in which a pigment is dispersed do not have sufficient transparency, and an embossed film is preferably used.
【０００６】このエンボスフィルムを形成するには、フ
ィルムに形成する凹凸の逆パターンの金属製等のエンボ
スロールを作製し、この型を加熱しフィルムを押圧して
凹凸を形成している。しかしながら、エンボスロールを
作製するのは時間を要し、非常に高価であるためエンボ
スフィルムも高価になってしまう。また、型押しする
と、表裏一体となって凹凸に形成されるため、片面のみ
に凹凸を付与することは困難であった。In order to form this embossed film, an embossing roll made of metal or the like having an inverse pattern of the unevenness to be formed on the film is prepared, and this mold is heated to press the film to form the unevenness. However, it takes time to manufacture the embossing roll, and the embossing film is expensive because it is very expensive. Further, when embossed, the front and back are integrally formed into unevenness, so it is difficult to provide unevenness on only one side.
【０００７】本発明は、上記問題点を解消するためにな
されたものであって、簡単に、安価に所望の凹凸表面を
形成でき、しかも凹凸を片面のみに形成することもで
き、透明性の高い光学用フィルムを提供することを目的
とする。The present invention has been made in order to solve the above-mentioned problems, and it is possible to easily and inexpensively form a desired uneven surface, and it is also possible to form the uneven surface on only one side, and to improve transparency. It is intended to provide a high optical film.
【０００８】[0008]
【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
る本発明の光学用フィルムは、透明な支持体と、支持体
の少なくとも片面上に形成された凹凸パターン層とを備
え、凹凸パターン層は支持体上にシリコーンと樹脂液か
らなる塗布液を塗布しシリコーンを凝集させ対流を生じ
させることにより凹凸部が形成されてなるものである。The optical film of the present invention which achieves such an object comprises a transparent support and a concavo-convex pattern layer formed on at least one surface of the support, and the concavo-convex pattern layer is provided. Is a method in which an uneven portion is formed by applying a coating liquid composed of silicone and a resin liquid on a support and aggregating the silicone to generate convection.
【０００９】以下、本発明の光学用フィルムについて説
明する。図１に示すように、光学用フィルム６は支持体
７の片面上に凹凸パターン層８を備えた構造を有するも
のである。支持体７は支持体としての機能を有するもの
であり、少なくとも適用される光学機器に使用される光
線の波長域の光に対して透明なものからなる。材質とし
ては、支持体として形成できるものならば何れのもので
あってもよいが、ポリエチレンテレフタレート、ポリブ
チレンテレフタレート、ポリプロピレン、ポリエチレ
ン、ポリスチレン、セルローストリアセテート、ポリカ
ーボネート、塩化ビニル等が使用される。支持体の厚さ
はその用途にもよるが、通常４〜２５０μｍ、好ましく
は１２〜１８８μｍである。The optical film of the present invention will be described below. As shown in FIG. 1, the optical film 6 has a structure in which an uneven pattern layer 8 is provided on one surface of a support 7. The support 7 has a function as a support, and is made of a material that is transparent to at least the light in the wavelength range of the light used in the applied optical device. Any material may be used as long as it can be formed as a support, and polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polypropylene, polyethylene, polystyrene, cellulose triacetate, polycarbonate, vinyl chloride and the like are used. Although the thickness of the support depends on its use, it is usually 4 to 250 μm, preferably 12 to 188 μm.
【００１０】支持体７上に形成される凹凸パターン層８
は、少なくとも適用される光学機器に使用される光線の
波長域の光を透過させる組成物で形成され、表面に凹凸
のパターンを有するものである。凹凸パターン層を形成
するには、高分子量のシリコーンを樹脂溶液に分散させ
た塗布液を塗布して形成される。高分子量のシリコーン
は粘度が千〜数百万センチストークスのものであり、好
ましくは１万〜数十万センチストークスのものである。
千センチストークスより小さいと凹凸の形成が困難とな
り、数百万センチストークスを超えると樹脂溶液への分
散が困難となる。Concavo-convex pattern layer 8 formed on the support 7.
Is formed of a composition that transmits at least light in the wavelength range of the light used in the applied optical equipment, and has a pattern of irregularities on the surface. The concavo-convex pattern layer is formed by applying a coating liquid in which high molecular weight silicone is dispersed in a resin solution. The high molecular weight silicone has a viscosity of 1,000 to several million centistokes, preferably 10,000 to several hundreds of centistokes.
If it is less than 1,000 centistokes, it becomes difficult to form irregularities, and if it exceeds several million centistokes, it becomes difficult to disperse it in the resin solution.
【００１１】ここで、シリコーンを相溶性がない樹脂溶
液中に添加した場合、図２に示すように、シリコーンは
溶液１１中にシリコーン粒子１２となり、シリコーン粒
子１２には溶液の表面張力γa、シリコーンの表面張力
γb、シリコーン／溶液の界面張力γabの力が作用され
る。一方、シリコーン粒子の溶液に対する濡れ性Ｓは、 Ｓ＝γbｃｏｓθ1（＝γa−γabｃｏｓθ2） で示される。Here, when silicone is added to the incompatible resin solution, the silicone becomes the silicone particles 12 in the solution 11 as shown in FIG. 2, and the silicone particles 12 have the surface tension γa of the solution and the silicone. The surface tension γb and the silicone / solution interfacial tension γab are applied. On the other hand, the wettability S of the silicone particles with respect to the solution is represented by S = γbcos θ 1 (= γa−γabcos θ 2 ).
【００１２】シリコーンの表面張力γbが大きくなる
と、接触角θ1が大きくなり、濡れ性Ｓは小さくなる。
また、シリコーン／溶液の界面張力γabが、溶液の表面
張力γaより大きければ、溶液に対する濡れ性Ｓは小さ
くなり、シリコーン粒子は沈む方向に移動することにな
る。即ち、凹部を形成し顕著な対流を生じさせる。も
し、シリコーンの表面張力γbが小さければ、接触角θ1
が小さくなり、濡れ性Ｓは大きくなる。よって、シリコ
ーン粒子は溶液の表面に停滞するため、凹部を形成せず
顕著な対流が現れない。As the surface tension γb of silicone increases, the contact angle θ 1 increases and the wettability S decreases.
If the interfacial tension γab of the silicone / solution is larger than the surface tension γa of the solution, the wettability S with respect to the solution becomes small and the silicone particles move in the sinking direction. That is, a concave portion is formed to cause remarkable convection. If the surface tension γb of silicone is small, the contact angle θ 1
Becomes smaller and the wettability S becomes larger. Therefore, since the silicone particles stay on the surface of the solution, no convection is formed and no convection appears.
【００１３】上記のことからシリコーンを分散させる樹
脂としては、シリコーンと相溶性がなく、シリコーン粒
子が沈む方向に移動する樹脂から選択される。即ち、シ
リコーン／溶液の界面張力γabが溶液の表面張力γaよ
り大きいものから選択することができる。このような樹
脂としてはポリエステル、塩化ビニリデン系樹脂、塩化
ビニル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、アクリル樹脂、セル
ロース系樹脂等、シリコーンと反応しないものであれば
何れの樹脂であっても用いることができる。更に、シリ
コーン粒子を分散させた塗布液とした場合、支持体７と
の接着がよく、塗工性の優れたものが好ましい。これら
の樹脂はシリコーンが分散可能な溶剤、トルエン、キシ
レン、メチルエチルケトン等の溶剤に溶解して用いるこ
とができる。塗布方法は、バーコーティング、ロールコ
ーティング、キスコーティング、リバースコーティン
グ、グラビアコーティング等によることができる。From the above, the resin in which silicone is dispersed is selected from resins that are incompatible with silicone and move in the direction in which the silicone particles sink. That is, the interfacial tension γab of the silicone / solution can be selected from those larger than the surface tension γa of the solution. As such a resin, any resin can be used as long as it does not react with silicone, such as polyester, vinylidene chloride resin, vinyl chloride resin, vinyl acetate resin, acrylic resin, and cellulose resin. . Furthermore, when a coating liquid in which silicone particles are dispersed is used, it is preferable that it has good adhesion to the support 7 and excellent coatability. These resins can be used after being dissolved in a solvent in which silicone can be dispersed, or a solvent such as toluene, xylene, or methyl ethyl ketone. The coating method can be bar coating, roll coating, kiss coating, reverse coating, gravure coating, or the like.
【００１４】このようなシリコーン、溶剤及び樹脂成分
の凹凸パターン層はシリコーン、溶剤及び樹脂の塗布液
を支持体７上に塗布することにより形成される。塗布膜
１３は、図３に示すように、樹脂溶液１４に分散された
シリコーン粒子１２から構成され（ａ）、シリコーン粒
子１２は凝集して核１２ａを形成する（ｂ）。核１２ａ
はシリコーンとの濡れ性が悪い樹脂程形成されやすい。
形成された核１２ａは沈む方向に移動し（ｃ）、核１２
ａが沈む方向に移動することにより、図４（ａ）（正面
図）、（ｂ）（側面図）に示すように、核１２ａは塗布
膜１３中に凹部を形成し顕著な対流を生じさせ（図中の
矢印は樹脂溶液の移動方向を示す）、溶剤の蒸発により
塗布膜に凹部１５及び凸部１６が固定される。Such a concavo-convex pattern layer of silicone, solvent and resin component is formed by applying a coating solution of silicone, solvent and resin on the support 7. As shown in FIG. 3, the coating film 13 is composed of silicone particles 12 dispersed in a resin solution 14 (a), and the silicone particles 12 aggregate to form a nucleus 12a (b). Nucleus 12a
Is more likely to be formed when the resin has poor wettability with silicone.
The formed nucleus 12a moves in the sinking direction (c), and the nucleus 12a
As a moves in the sinking direction, as shown in FIGS. 4A (front view) and (b) (side view), the nucleus 12a forms a concave portion in the coating film 13 and causes remarkable convection. (The arrow in the figure indicates the moving direction of the resin solution), and the concave portion 15 and the convex portion 16 are fixed to the coating film by evaporation of the solvent.
【００１５】更に、塗膜中に凹凸を形成させるのは、表
面張力に加えて塗布液の流動性も関与する。塗布液は粘
弾性を有し、降伏値が大きいものが好ましい。塗布液が
粘弾性を有すると核の形成によって生じた凹凸が流れて
しまうことがなく、降伏値が大きければ乾燥工程におけ
る送風においても形成された凹凸が流動しにくい。ま
た、形成される凹凸形状は塗布液の粘度と塗布膜の厚さ
により変化させることができる。粘度が低く、塗布膜の
厚さが薄いと、凹凸は細かい形状となり、粘度が高く、
塗布膜の厚さが厚いと、凹凸は深くなる。このため、塗
布膜の粘度と塗布膜の厚さを変えることで、所望の凹凸
の深さのパターンを形成することが可能となる。Further, the formation of irregularities in the coating film involves not only the surface tension but also the fluidity of the coating solution. The coating liquid preferably has viscoelasticity and a large yield value. When the coating liquid has viscoelasticity, the irregularities caused by the formation of nuclei do not flow, and when the yield value is large, the irregularities formed are less likely to flow even when air is blown in the drying step. Further, the uneven shape to be formed can be changed by the viscosity of the coating liquid and the thickness of the coating film. When the viscosity is low and the thickness of the coating film is thin, the unevenness becomes a fine shape and the viscosity is high,
The thicker the coating film, the deeper the irregularities. Therefore, by changing the viscosity of the coating film and the thickness of the coating film, it becomes possible to form a pattern having a desired unevenness depth.
【００１６】更に、凹凸パターン層には支障を来さない
限り染料、顔料を加え、使用する光学機器の光線の所望
の波長域の光を選択して透過させるようにすることも簡
単に行うことができる。また、上記の支持体、凹凸パタ
ーン層には支障を来さない限り、帯電防止剤、易滑剤等
の添加剤を適宜添加することができる。Furthermore, it is also easy to add dyes and pigments to the uneven pattern layer so that light in a desired wavelength range of the optical equipment to be used is selectively transmitted so long as it does not cause any problems. You can Further, additives such as an antistatic agent and a slippery agent may be added as appropriate as long as they do not hinder the support and the uneven pattern layer.
【００１７】以上の説明は本発明の一実施例であって、
本発明はこれに限定されない。即ち、支持体の両面に凹
凸パターン層を設けたものであってもよい。また、使用
する光学機器に応じて、例えば、レジストを塗布した基
板を露光する場合、凹凸パターン層にレジスト付着防止
層等を積層してもよく、また、帯電防止剤、塗工性改良
のためのレベリング剤、消泡剤等を必要に応じて添加し
た層を積層して設けてもよい。The above description is an embodiment of the present invention.
The present invention is not limited to this. That is, it may be one in which an uneven pattern layer is provided on both surfaces of the support. In addition, depending on the optical equipment used, for example, when exposing a substrate coated with a resist, a resist adhesion preventing layer or the like may be laminated on the uneven pattern layer, and an antistatic agent, for improving coatability. The leveling agent, the defoaming agent, and the like may be added as required to form a layer.
【００１８】[0018]
【作用】本発明の光学用フィルムは、透明な支持体上に
シリコーンとの濡れ性の悪い樹脂溶液にシリコーンを分
散させ、所望の粘度の分散液を塗布することにより、塗
布膜中でシリコーン粒子を凝集させ、シリコーン粒子を
沈む方向に移動させることにより、凹凸を形成する。凹
凸の形状、深さは粘度、塗布膜厚を変化させることによ
り随意に形成することができる。また、凹凸は片面にの
み形成することもでき、染料、顔料を適宜選択して添加
することにより、使用する光に対して所望の波長を透過
させるようにすることができる。The optical film of the present invention comprises a transparent support on which silicone is dispersed in a resin solution having a poor wettability with silicone, and a dispersion having a desired viscosity is applied to the silicone film in the coating film. Are aggregated and the silicone particles are moved in the direction of sinking to form irregularities. The shape and depth of the unevenness can be arbitrarily formed by changing the viscosity and the coating film thickness. Further, the unevenness can be formed only on one surface, and by appropriately selecting and adding a dye and a pigment, it is possible to transmit a desired wavelength to the light used.
【００１９】[0019]
【実施例】厚さ１００μｍの透明ポリエステルフィルム
上に、表１に記載の樹脂を溶剤としてメチルエチルケト
ン／トルエンに溶解して作製した塗布液（固形分：２０
ｗｔ％）に、シリコーンとしてポリジメチルシロキサン
（粘度約１００００センチストークス）のキシレン１０
ｗｔ％溶液を全重量に対して１ｗｔ％添加し、バーコー
ター＃１０により塗布し、１００℃、２分で乾燥し、光
学用フィルムを得た。EXAMPLE A coating solution (solid content: 20) prepared by dissolving the resin shown in Table 1 in methyl ethyl ketone / toluene as a solvent on a transparent polyester film having a thickness of 100 μm.
wt%), xylene 10 of polydimethylsiloxane (viscosity about 10,000 centistokes) as silicone
A wt% solution was added at 1 wt% with respect to the total weight, coated with a bar coater # 10, and dried at 100 ° C. for 2 minutes to obtain an optical film.
【００２０】[0020]
【表１】 [Table 1]
【００２１】得られた光学用フィルムは全て表面の凹凸
がはっきりと現れていた。これらの光学用フィルムの全
光線透過率を測定した。結果を表１に示す。比較例とし
て、厚さ１００μｍの透明ポリエステルフィルムをエン
ボスロールで型押してエンボスフィルムを形成した光学
用フィルムの全光線透過率を測定した。結果を表１に示
す。The resulting optical films all had obvious surface irregularities. The total light transmittance of these optical films was measured. The results are shown in Table 1. As a comparative example, a total light transmittance of an optical film formed by embossing a transparent polyester film having a thickness of 100 μm with an embossing roll was measured. The results are shown in Table 1.
【００２２】結果からも明らかなように、実施例の光学
フィルムは透明性が非常に高いものが得られることがわ
かった。As is clear from the results, it was found that the optical films of the examples had extremely high transparency.
【００２３】[0023]
【発明の効果】本発明の光学用フィルムは、凹凸の深さ
を所望の深さに簡単に形成することができる。また、顔
料等の粗面化剤により凹凸を付しているのではないた
め、非常に高い透明性が得られる。更に、片面にのみ凹
凸を形成することができ、染料、顔料を適宜選択して添
加することにより、光学機器に使用される光に対して所
望の波長を透過させるようにすることもできる。凹凸形
成が簡単にできるため経済的である。INDUSTRIAL APPLICABILITY The optical film of the present invention can easily form irregularities to a desired depth. Further, since the surface-roughening agent such as a pigment is not used to provide the irregularities, very high transparency can be obtained. Further, the unevenness can be formed on only one surface, and by appropriately selecting and adding a dye or a pigment, it is possible to transmit a desired wavelength to the light used in the optical device. It is economical because irregularities can be easily formed.
【図１】本発明を適用した一実施例の断面図。FIG. 1 is a sectional view of an embodiment to which the present invention is applied.
【図２】分散液中のシリコーン粒子の状態を示す図。FIG. 2 is a view showing a state of silicone particles in a dispersion liquid.
【図３】凹凸パターン層の形成を示す説明図。FIG. 3 is an explanatory view showing the formation of an uneven pattern layer.
【図４】凹凸パターン層の形成を示す説明図。FIG. 4 is an explanatory view showing the formation of an uneven pattern layer.
【図５】プリント基板作製の露光時における使用状態を
示す図。FIG. 5 is a diagram showing a usage state at the time of exposure for manufacturing a printed circuit board.
６‥‥‥光学用フィルム ７‥‥‥支持体 ８‥‥‥凹凸パターン層 6 ... Optical film 7 ... Support 8 ... Uneven pattern layer
Claims (1)
片面上に形成された凹凸パターン層とを備え、前記凹凸
パターン層は前記支持体上にシリコーンと樹脂液からな
る塗布液を塗布し前記シリコーンを凝集させ対流を生じ
させることにより凹凸部が形成されてなることを特徴と
する光学用フィルム。1. A transparent support, and a concavo-convex pattern layer formed on at least one surface of the support, wherein the concavo-convex pattern layer is obtained by applying a coating liquid comprising silicone and a resin liquid onto the support. An optical film, wherein an uneven portion is formed by aggregating the silicone to generate convection.
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|---|---|---|---|
| JP24684793A JP3386528B2 (en) | 1993-10-01 | 1993-10-01 | Optical film |
Applications Claiming Priority (1)
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|---|---|---|---|
| JP24684793A JP3386528B2 (en) | 1993-10-01 | 1993-10-01 | Optical film |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
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| JP3386528B2 JP3386528B2 (en) | 2003-03-17 |
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Family Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP24684793A Expired - Fee Related JP3386528B2 (en) | 1993-10-01 | 1993-10-01 | Optical film |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3386528B2 (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009020288A (en) * | 2007-07-11 | 2009-01-29 | Sony Corp | Anti-glare film, production method thereof, polarizer and display device |
| US7776389B2 (en) | 2007-03-14 | 2010-08-17 | Sony Corporation | Method for producing anti-glare film |
-
1993
- 1993-10-01 JP JP24684793A patent/JP3386528B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7776389B2 (en) | 2007-03-14 | 2010-08-17 | Sony Corporation | Method for producing anti-glare film |
| US8420161B2 (en) | 2007-03-14 | 2013-04-16 | Sony Corporation | Method for producing anti-glare film |
| JP2009020288A (en) * | 2007-07-11 | 2009-01-29 | Sony Corp | Anti-glare film, production method thereof, polarizer and display device |
| US8081385B2 (en) | 2007-07-11 | 2011-12-20 | Sony Corporation | Antiglare film, method for manufacturing antiglare film, polarizer, and display device |
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|---|---|
| JP3386528B2 (en) | 2003-03-17 |
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