JPH07106516B2 - 位置決めステージ - Google Patents
位置決めステージInfo
- Publication number
- JPH07106516B2 JPH07106516B2 JP3503189A JP50318991A JPH07106516B2 JP H07106516 B2 JPH07106516 B2 JP H07106516B2 JP 3503189 A JP3503189 A JP 3503189A JP 50318991 A JP50318991 A JP 50318991A JP H07106516 B2 JPH07106516 B2 JP H07106516B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- preload
- stage
- bearing
- drive
- pivot
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P72/00—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
- H10P72/50—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for positioning, orientation or alignment
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T74/00—Machine element or mechanism
- Y10T74/20—Control lever and linkage systems
- Y10T74/20207—Multiple controlling elements for single controlled element
Landscapes
- Details Of Measuring And Other Instruments (AREA)
- Machine Tool Units (AREA)
- Coke Industry (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 ［技術分野］ 本発明は、ワーク・ステージを２本の軸に沿って３つの
自由度でもって正確に位置決めするための駆動機構に関
する。
自由度でもって正確に位置決めするための駆動機構に関
する。
［関連出願に対するクロス・リファレンス］ 米国特許第5052844号。
米国特許出願517848（1990年４月30日出願） ［背景技術］ ハンセン（Hansen）の“Two Axis Drive for Stage"に
関する米国特許第4528490号は、ベース・プレートと、
ステージ・プレート及び中間プレート（20）として知ら
れている１対の付加的な積み重ねプレートを含む。各プ
レートは駆動機構によって駆動される。中間プレート
（20）は、駆動バー（42）によってベース・プレートに
関して直線方向に沿って駆動される。ステージ・プレー
ト用の駆動手段は、モータ駆動キャプスタンを含み、駆
動バー（66）は回転運動の自由度をもつ。すなわち、駆
動バーはステージ・プレート（12）の下にピボット回転
可能に取り付けられる。ステージ・プレート（12）は、
第２の経路に沿って自由に移動でき、また回転すること
ができる。
関する米国特許第4528490号は、ベース・プレートと、
ステージ・プレート及び中間プレート（20）として知ら
れている１対の付加的な積み重ねプレートを含む。各プ
レートは駆動機構によって駆動される。中間プレート
（20）は、駆動バー（42）によってベース・プレートに
関して直線方向に沿って駆動される。ステージ・プレー
ト用の駆動手段は、モータ駆動キャプスタンを含み、駆
動バー（66）は回転運動の自由度をもつ。すなわち、駆
動バーはステージ・プレート（12）の下にピボット回転
可能に取り付けられる。ステージ・プレート（12）は、
第２の経路に沿って自由に移動でき、また回転すること
ができる。
J.リード（Reed）等の論文“High Speed Precision X−
Y Stage"、J.Vac.Sci.Technol.B,Vol.3,No.1,pp.112以
降、（1985年１月/2月）は、通常の直線経路及びボール
・ベアリングを記述しているが、「サーボモータとＸ及
びＹステージ要素を結合するために、独特のキャプスタ
ン／スイング式駆動バー設計を取り入れている」。ステ
ージは、交差する直線ベアリングによって互いに結合さ
れた３枚の積み重ねたプレートを含む。下端プレートは
ベースに固定される。センタ・プレートは、予圧された
複式ベアリングを介して前記プレートの駆動バーに固定
される（第２図）。駆動バーは摩擦駆動キャプスタンを
介してサーボモータによって駆動される。
Y Stage"、J.Vac.Sci.Technol.B,Vol.3,No.1,pp.112以
降、（1985年１月/2月）は、通常の直線経路及びボール
・ベアリングを記述しているが、「サーボモータとＸ及
びＹステージ要素を結合するために、独特のキャプスタ
ン／スイング式駆動バー設計を取り入れている」。ステ
ージは、交差する直線ベアリングによって互いに結合さ
れた３枚の積み重ねたプレートを含む。下端プレートは
ベースに固定される。センタ・プレートは、予圧された
複式ベアリングを介して前記プレートの駆動バーに固定
される（第２図）。駆動バーは摩擦駆動キャプスタンを
介してサーボモータによって駆動される。
S.イド（Ido）等の論文“Precision X−Y Stage for El
ectron Beam Lithography System",pp.267−268,Bull.J
apan Soc.of Prec.Eng.,Vol.18,No.3（1984年９月）は
油圧ベアリングを用いる積み重ねたＸ−Ｙステージ構成
を記述している。
ectron Beam Lithography System",pp.267−268,Bull.J
apan Soc.of Prec.Eng.,Vol.18,No.3（1984年９月）は
油圧ベアリングを用いる積み重ねたＸ−Ｙステージ構成
を記述している。
カールマイヤー（Kallmayer）等の論文“Ｘ−Y Table",
IBM Technical Disclosure Bulletin,Vol.30,No.7（198
7年12月）,pp.376−377は、３つの固定して取り付けた
スピンドル駆動機構を示している。ステータ１、２、３
は、テーブル４に対してピボット回転しないように剛体
支持体に取り付けられ、したがってこの駆動機構のフレ
キシビリティはその固定取付けにより、テーブル４内の
スロット中のガイド10及び11によって許される限られた
運動の範囲に制限される。さらに、２つのスピンドル駆
動機構１及び２は互いに平行である。前記論文で５、
６、７として参照されたレーザ干渉計及びミラー８及び
９が、変位を測定するために使用されている。
IBM Technical Disclosure Bulletin,Vol.30,No.7（198
7年12月）,pp.376−377は、３つの固定して取り付けた
スピンドル駆動機構を示している。ステータ１、２、３
は、テーブル４に対してピボット回転しないように剛体
支持体に取り付けられ、したがってこの駆動機構のフレ
キシビリティはその固定取付けにより、テーブル４内の
スロット中のガイド10及び11によって許される限られた
運動の範囲に制限される。さらに、２つのスピンドル駆
動機構１及び２は互いに平行である。前記論文で５、
６、７として参照されたレーザ干渉計及びミラー８及び
９が、変位を測定するために使用されている。
ツユザキ等のJ.Vac.Sci.Technol.B,Vol.4,No.1,p.28X,
（1986年１月/2月）に所載の論文は、Ｘ−Ｙ運動の精度
がベース及び基板位置決めテーブル内の機械加工された
ガイド・スロットによって与えられる、プレート構造ま
たは「平面」ステージを記述している。Ｘ−Ｙクロス構
造が、これらのスロット内の上端テーブルとベースの間
に配置されている。PTFEなどの低摩擦高分子材料がベア
リング面として使用される。
（1986年１月/2月）に所載の論文は、Ｘ−Ｙ運動の精度
がベース及び基板位置決めテーブル内の機械加工された
ガイド・スロットによって与えられる、プレート構造ま
たは「平面」ステージを記述している。Ｘ−Ｙクロス構
造が、これらのスロット内の上端テーブルとベースの間
に配置されている。PTFEなどの低摩擦高分子材料がベア
リング面として使用される。
“Constant Download Friction Drive System",IBM Tec
hnical Disclosure Bulletin,Vol.32,No.8A,（1990年１
月）pp.120−121は、本明細書の第３図に示すように、
駆動バーを予圧することによって、駆動バー・システム
の端部によって引き起こされる下向き負荷の変動を打ち
消すための方法及び装置を記述している。
hnical Disclosure Bulletin,Vol.32,No.8A,（1990年１
月）pp.120−121は、本明細書の第３図に示すように、
駆動バーを予圧することによって、駆動バー・システム
の端部によって引き起こされる下向き負荷の変動を打ち
消すための方法及び装置を記述している。
動的予圧を有する玉継手ピボット 関連技術の考察 ボール型ピボット継手は、球形のボールの中心の周りで
多くの自由度をもたらす。これまで、玉継手には、以下
のものを含む２つの基本的タイプのものがあった。
多くの自由度をもたらす。これまで、玉継手には、以下
のものを含む２つの基本的タイプのものがあった。
１）ばね式継手 ２）球面ベアリング ばね式玉継手は、遊びをなくすためにボールに対して押
しつけられた、１対の円錐体またはソケットを含む。
しつけられた、１対の円錐体またはソケットを含む。
この方式の欠点は、高い直線剛性を得るために高い予圧
を使用するとき、ボールと円錐体またはソケットの間に
かなりの摩擦及び摩耗が生じることである。
を使用するとき、ボールと円錐体またはソケットの間に
かなりの摩擦及び摩耗が生じることである。
球面ベアリング式玉継手は、ぴったりはまる内側と外側
の球面ベアリング要素を使用する。このタイプの玉継手
は、高い線形剛性及び低い摩擦を有するが、その設計の
性質上、内側ベアリングと外側ベアリングの間の小さい
隙間で動作しなければならない。このような小さい隙間
が摩耗によって増大し、それに伴って遊びも増加する
と、微小位置決め応用例での使用が不適切になる。
の球面ベアリング要素を使用する。このタイプの玉継手
は、高い線形剛性及び低い摩擦を有するが、その設計の
性質上、内側ベアリングと外側ベアリングの間の小さい
隙間で動作しなければならない。このような小さい隙間
が摩耗によって増大し、それに伴って遊びも増加する
と、微小位置決め応用例での使用が不適切になる。
［発明の概要］ 本発明の１つの態様では、位置決めステージは、ａ）ベ
ースと、ｂ）前記ベース上にスライド可能に支持された
ステージ・プレートと、ｃ）少なくとも３つの直線駆動
手段とよりなり、前記直線駆動手段は直交するｘ軸及び
ｙ軸に沿って前記ステージ・プレートを移動させ、かつ
前記ベース上で前記ベースの表面に実質的に平行に前記
ステージ・プレートを回転させるために、前記ステージ
・プレートと回転可能に係合しかつ前記ベースと回転可
能に係合しており、前記直線駆動手段の各々は、動的予
圧調整を有するボール型ピボット継手と、前記継手用の
ボール内で成端する第１の要素と、それぞれが前記ボー
ルの１側面に対するベアリング面を有する１対の対向す
るベアリング要素と、少なくとも１つの前記ベアリング
要素に取り付けられた予圧センサと、前記予圧センサの
出力に接続された入力及び予圧アクチュエータに接続さ
れた出力を有するサーボ制御手段とを含み、少なくとも
１つの前記ベアリング要素が前記予圧アクチュエータに
接続されており、前記ボールが前記ベアリング要素の前
記ベアリング面の間に挟まれており、前記予圧アクチュ
エータが前記予圧センサに応答して前記サーボ制御手段
の動作によって動的に予圧される。
ースと、ｂ）前記ベース上にスライド可能に支持された
ステージ・プレートと、ｃ）少なくとも３つの直線駆動
手段とよりなり、前記直線駆動手段は直交するｘ軸及び
ｙ軸に沿って前記ステージ・プレートを移動させ、かつ
前記ベース上で前記ベースの表面に実質的に平行に前記
ステージ・プレートを回転させるために、前記ステージ
・プレートと回転可能に係合しかつ前記ベースと回転可
能に係合しており、前記直線駆動手段の各々は、動的予
圧調整を有するボール型ピボット継手と、前記継手用の
ボール内で成端する第１の要素と、それぞれが前記ボー
ルの１側面に対するベアリング面を有する１対の対向す
るベアリング要素と、少なくとも１つの前記ベアリング
要素に取り付けられた予圧センサと、前記予圧センサの
出力に接続された入力及び予圧アクチュエータに接続さ
れた出力を有するサーボ制御手段とを含み、少なくとも
１つの前記ベアリング要素が前記予圧アクチュエータに
接続されており、前記ボールが前記ベアリング要素の前
記ベアリング面の間に挟まれており、前記予圧アクチュ
エータが前記予圧センサに応答して前記サーボ制御手段
の動作によって動的に予圧される。
従来は、加工すべき工作物を支持するためのｘ、ｙ駆動
機構は、積み重ねられた、スタックの各レベルごとに１
個の、ｘ変位及びｙ変位用のステージの使用に制限され
ていた。各レベルごとにガイド・トラックが必要であ
る。このようなトラック位置決めとベアリング調整とい
う深刻な問題のために、このようなシステムの長期的精
度及び利用性が制限される。
機構は、積み重ねられた、スタックの各レベルごとに１
個の、ｘ変位及びｙ変位用のステージの使用に制限され
ていた。各レベルごとにガイド・トラックが必要であ
る。このようなトラック位置決めとベアリング調整とい
う深刻な問題のために、このようなシステムの長期的精
度及び利用性が制限される。
チップなどのサイズの縮小に伴って許容差が厳しくなる
ことの他に、熱膨張率による影響がますます制限的な因
子になっている。またステージを担持するベース表面上
での大きな角度θの回転も、これらのシステムにとって
問題である。このような回転は、従来技術のシステムの
レールまたはベアリングが位置ずれを生ずる場合に必要
となる。
ことの他に、熱膨張率による影響がますます制限的な因
子になっている。またステージを担持するベース表面上
での大きな角度θの回転も、これらのシステムにとって
問題である。このような回転は、従来技術のシステムの
レールまたはベアリングが位置ずれを生ずる場合に必要
となる。
好ましくは、前記ベアリング面が円錐形である。
また、好ましくは、前記ベアリング要素は相対的に固定
されたベアリング要素と相対的に可動な要素とを含み、
前記相対的に可動な要素はピボット端部を含み、前記ピ
ボット端部は前記相対的に固定されたベアリング要素と
前記ベアリング面を含む本体端部とに固定され、前記本
体端部は前記相対的に可動な要素のフレキシブル・セク
ションによって前記ピボット端部に接合され、前記フレ
キシブル・セクションは前記本体端部と前記ピボット端
部の間で前記相対的に可動な要素のたわみをもたらす。
されたベアリング要素と相対的に可動な要素とを含み、
前記相対的に可動な要素はピボット端部を含み、前記ピ
ボット端部は前記相対的に固定されたベアリング要素と
前記ベアリング面を含む本体端部とに固定され、前記本
体端部は前記相対的に可動な要素のフレキシブル・セク
ションによって前記ピボット端部に接合され、前記フレ
キシブル・セクションは前記本体端部と前記ピボット端
部の間で前記相対的に可動な要素のたわみをもたらす。
また、好ましくは、前記ベアリング要素は相対的に固定
されたベアリング要素と相対的に可動な要素とを含み、
前記相対的に可動な要素はピボット端部を含み、前記ピ
ボット端部は前記相対的に固定されたベアリング要素及
び前記ベアリング面を含む本体端部と一体であり、前記
本体端部は前記相対的に可動な要素のフレキシブル・セ
クションによって前記ピボット端部に接合され、前記フ
レキシブル・セクションは前記本体端部と前記ピボット
端部の間で前記相対的に可動な要素のたわみをもたら
す。
されたベアリング要素と相対的に可動な要素とを含み、
前記相対的に可動な要素はピボット端部を含み、前記ピ
ボット端部は前記相対的に固定されたベアリング要素及
び前記ベアリング面を含む本体端部と一体であり、前記
本体端部は前記相対的に可動な要素のフレキシブル・セ
クションによって前記ピボット端部に接合され、前記フ
レキシブル・セクションは前記本体端部と前記ピボット
端部の間で前記相対的に可動な要素のたわみをもたら
す。
［図面の簡単な説明］ 第１図は、ｘ、ｙ、θステージ・プレートと、摩擦駆動
機構によって駆動される駆動バー及びステージ・プレー
トの位置決め用の制御システムを含む複数の直線駆動機
構の斜視図である。
機構によって駆動される駆動バー及びステージ・プレー
トの位置決め用の制御システムを含む複数の直線駆動機
構の斜視図である。
第２図は、従来技術の駆動バー・システムの一例を示す
図である。
図である。
第３図は、第２図の駆動バー・システムに追加された予
圧ローラを示す図である。
圧ローラを示す図である。
第４図は、第１の対角線位置で駆動バーを駆動するキャ
プスタン及びピンチ・ローラの詳細平面図である。
プスタン及びピンチ・ローラの詳細平面図である。
第５図は、キャプスタン及びピンチ・ローラがキャプス
タンの軸の周りで回転した後の駆動バーを垂直位置で示
す、第４図の変形を示す図である。
タンの軸の周りで回転した後の駆動バーを垂直位置で示
す、第４図の変形を示す図である。
第６図は、駆動バーが反対の対角線位置まで回転され
た、第５図の駆動機構の別の変形を示す図である。
た、第５図の駆動機構の別の変形を示す図である。
第７図ないし第10図は、本発明による駆動バーを直線駆
動して、ステージ・プレートを支持するベース上の任意
の位置にステージ・プレートを配置する方法を示すため
の、単純化した第１図のステージの平面図である。第10
図は、ステージ・プレートの角度θの回転をも示す。
動して、ステージ・プレートを支持するベース上の任意
の位置にステージ・プレートを配置する方法を示すため
の、単純化した第１図のステージの平面図である。第10
図は、ステージ・プレートの角度θの回転をも示す。
第11図、第12図、及び第13図は、駆動バーの１つとステ
ージ・プレートとの間のリンケージに使用する円錐ベア
リングを有する、本発明による玉継手の３つの代替配置
を示す図である。
ージ・プレートとの間のリンケージに使用する円錐ベア
リングを有する、本発明による玉継手の３つの代替配置
を示す図である。
第11図は、玉継手に予圧するための自動制御されたアク
チュエータを有する、玉継手リンケージの部分断面図で
ある。
チュエータを有する、玉継手リンケージの部分断面図で
ある。
第12図は、第11図の玉継手リンケージの変更態様を示す
図である。
図である。
第13図は、継手内の円錐体とボールに力を加えるための
構造に変更を加えた、第12図と類似の玉継手リンケージ
の別の実施例を示す図である。
構造に変更を加えた、第12図と類似の玉継手リンケージ
の別の実施例を示す図である。
第14図は、第１図のステージを位置決めするために使用
される駆動機構用の制御システムの電気的概略図であ
る。
される駆動機構用の制御システムの電気的概略図であ
る。
第15A図ないし第15C図は、ステージのＹ運動及びθ運動
用の、第１図及び第２図に示した種類の１対の干渉計の
底面図、正面図、及び右側面図である。
用の、第１図及び第２図に示した種類の１対の干渉計の
底面図、正面図、及び右側面図である。
第16A図ないし第16C図は、第15A図ないし第15C図の干渉
計の変更態様を示す図である。
計の変更態様を示す図である。
第17A図ないし第17C図は、第15A図ないし第15C図の干渉
計のさらに別の変更態様を示す図である。
計のさらに別の変更態様を示す図である。
［発明の好ましい実施例］ 第１図を参照すると、ベース10は、ベース10の上面上で
移動できるようにスライド可能に支持された工作物８を
担持するように適合された、ステージ・プレート11を支
持する。このプレートは、ベース10の平坦な表面と実質
的に平行な、直線状のｘ軸及びｙ軸に沿って移動する。
ベース10は、花こう岩、セラミック、鋼鉄などの材料か
らなる極めて平坦などっしりと安定したテーブルである
ことが好ましく、Ｘ−Ｙステージ・プレート11を担持す
る、高度に研磨された極めて平坦な平面状の上面９を有
し、プレート11はその上面で工作物８を支持する。ステ
ージ・プレート11の下面は、PTFE（ポリテトラフルオロ
エチレン）などの低摩擦高分子材料からなる足12などの
低摩擦性支持体によってベース10の上面９でスライド可
能に支持される。あるいは別法として、足12の代りに、
空気ベアリングやローラ・ベアリングなどの等価な支持
ベアリングを使用することもできる。
移動できるようにスライド可能に支持された工作物８を
担持するように適合された、ステージ・プレート11を支
持する。このプレートは、ベース10の平坦な表面と実質
的に平行な、直線状のｘ軸及びｙ軸に沿って移動する。
ベース10は、花こう岩、セラミック、鋼鉄などの材料か
らなる極めて平坦などっしりと安定したテーブルである
ことが好ましく、Ｘ−Ｙステージ・プレート11を担持す
る、高度に研磨された極めて平坦な平面状の上面９を有
し、プレート11はその上面で工作物８を支持する。ステ
ージ・プレート11の下面は、PTFE（ポリテトラフルオロ
エチレン）などの低摩擦高分子材料からなる足12などの
低摩擦性支持体によってベース10の上面９でスライド可
能に支持される。あるいは別法として、足12の代りに、
空気ベアリングやローラ・ベアリングなどの等価な支持
ベアリングを使用することもできる。
Ｘ−Ｙステージ・プレート11には、３つの直線摩擦駆動
機構X1、Y1、Y2がピボット回転可能に固定されている。
駆動機構X1は、ベース10の１側面に沿った位置にある駆
動モータM1を含み、Y1及びY2は、ベース10の隣接側面に
沿って互いに十分隔置された位置にある駆動モータM2及
びM3を含み、ステージ・プレート11に３つの自由度を与
える。X1駆動バー16（セラミックまたは鋼材製）の１側
面への駆動機構X1の動力の伝達は、２つのピンチ・ロー
ラ13及び14と、モータM1によって駆動されるキャプスタ
ン15とによって実現される。X1駆動キャプスタン15は、
X1駆動バー16のピンチ・ローラ13及び14とは反対の側面
上に位置し、キャプスタン15及び２つのローラ13及び14
によって摩擦駆動がもたらされるようになっている。予
圧ローラ20が、X1駆動バー16の上端を下方に押す。ピン
チ・ローラ13及び14ならびに駆動キャプスタン15及びロ
ーラ20は、駆動機構X1のモータのシャフトの軸に沿って
ピボットP1の周りで回転できるように、キャリッジ18上
に取り付けられ、駆動バー16のピボット回転が可能にな
っている。１側面上のローラ13及び14と他の側面上のキ
ャプスタン15は、対向する力を働かせ、両者があいまっ
てキャプスタン15を駆動バー16と摩擦駆動係合させ、キ
ャプスタン15が回転するとき駆動バーを長手方向に往復
させると同時に、キャプスタン15のシャフト上に担持さ
れた駆動バー16及びキャリッジ18と、ローラ13及び14と
をキャプスタン15のシャフトの軸P1の周りでピボット回
転させ、それによってキャリッジ18及びキャプスタン15
のシャフト上での駆動バー16の回転が可能になる。駆動
バー16は、ピン19を含むリンケージに接続するその内側
端部17でオフセットされ、ピン19は、駆動バー16をステ
ージ・プレート11に固定するためにステージ・プレート
11に固定されている。
機構X1、Y1、Y2がピボット回転可能に固定されている。
駆動機構X1は、ベース10の１側面に沿った位置にある駆
動モータM1を含み、Y1及びY2は、ベース10の隣接側面に
沿って互いに十分隔置された位置にある駆動モータM2及
びM3を含み、ステージ・プレート11に３つの自由度を与
える。X1駆動バー16（セラミックまたは鋼材製）の１側
面への駆動機構X1の動力の伝達は、２つのピンチ・ロー
ラ13及び14と、モータM1によって駆動されるキャプスタ
ン15とによって実現される。X1駆動キャプスタン15は、
X1駆動バー16のピンチ・ローラ13及び14とは反対の側面
上に位置し、キャプスタン15及び２つのローラ13及び14
によって摩擦駆動がもたらされるようになっている。予
圧ローラ20が、X1駆動バー16の上端を下方に押す。ピン
チ・ローラ13及び14ならびに駆動キャプスタン15及びロ
ーラ20は、駆動機構X1のモータのシャフトの軸に沿って
ピボットP1の周りで回転できるように、キャリッジ18上
に取り付けられ、駆動バー16のピボット回転が可能にな
っている。１側面上のローラ13及び14と他の側面上のキ
ャプスタン15は、対向する力を働かせ、両者があいまっ
てキャプスタン15を駆動バー16と摩擦駆動係合させ、キ
ャプスタン15が回転するとき駆動バーを長手方向に往復
させると同時に、キャプスタン15のシャフト上に担持さ
れた駆動バー16及びキャリッジ18と、ローラ13及び14と
をキャプスタン15のシャフトの軸P1の周りでピボット回
転させ、それによってキャリッジ18及びキャプスタン15
のシャフト上での駆動バー16の回転が可能になる。駆動
バー16は、ピン19を含むリンケージに接続するその内側
端部17でオフセットされ、ピン19は、駆動バー16をステ
ージ・プレート11に固定するためにステージ・プレート
11に固定されている。
ステージ・プレート11の位置は、１対のバー50及び51を
備えたレーザ干渉計システムによって測定される。バー
50及び51は、プレート11の駆動機構X1ならびにY1及びY2
と反対側にある直交する２つの側面に固定されている。
バー50及び51は、それぞれステージ・プレート11のＸ軸
変位及びＹ軸変位を測定するための鏡面73及び52を有す
る。レーザ・ビーム76が干渉計79に供給されると、干渉
計79はビーム77、78、80、81を発生し、それらのビーム
が干渉計79からミラー52に向かって放出され、ミラー52
で反射して干渉計79に戻り、干渉計79が出力ビーム82及
び83を発生し、これらのビームが干渉計79から検出器84
及び85に達する。検出器84及び85ならびに検出器45は、
レーザ信号を電気信号に変換する光電変換器である。検
出器84、85、45はレンズを含み、このレンズがレーザ・
ビームをシリコン・フォトダイオードの能動チップ上に
合焦させる。各検出器（ヒューレット・パッカード1078
0A検出器などの市販製品でよい）は、光検出器、増幅
器、レベル変換回路、ライン・ドライバ、レベル・セン
サ（比較器）、及び電圧調整回路を含む。検出器84、85
及び45は、ドップラー・シフトされたレーザ光を、電子
システムで処理できる電気信号に変換する。これは、プ
レート11のY1及びY2駆動機構と反対の側面から測定し
た、Ｙ軸に沿ったミラー52の位置を決定するためであ
る。ビーム75は、干渉計110を通過してビーム111及び11
2を発生し、干渉計110はこれらのビームのミラー73から
干渉計110への反射によってミラー73上の点のＸ軸位置
を測定し、検出器45に向かう出力ビーム46を発生する。
備えたレーザ干渉計システムによって測定される。バー
50及び51は、プレート11の駆動機構X1ならびにY1及びY2
と反対側にある直交する２つの側面に固定されている。
バー50及び51は、それぞれステージ・プレート11のＸ軸
変位及びＹ軸変位を測定するための鏡面73及び52を有す
る。レーザ・ビーム76が干渉計79に供給されると、干渉
計79はビーム77、78、80、81を発生し、それらのビーム
が干渉計79からミラー52に向かって放出され、ミラー52
で反射して干渉計79に戻り、干渉計79が出力ビーム82及
び83を発生し、これらのビームが干渉計79から検出器84
及び85に達する。検出器84及び85ならびに検出器45は、
レーザ信号を電気信号に変換する光電変換器である。検
出器84、85、45はレンズを含み、このレンズがレーザ・
ビームをシリコン・フォトダイオードの能動チップ上に
合焦させる。各検出器（ヒューレット・パッカード1078
0A検出器などの市販製品でよい）は、光検出器、増幅
器、レベル変換回路、ライン・ドライバ、レベル・セン
サ（比較器）、及び電圧調整回路を含む。検出器84、85
及び45は、ドップラー・シフトされたレーザ光を、電子
システムで処理できる電気信号に変換する。これは、プ
レート11のY1及びY2駆動機構と反対の側面から測定し
た、Ｙ軸に沿ったミラー52の位置を決定するためであ
る。ビーム75は、干渉計110を通過してビーム111及び11
2を発生し、干渉計110はこれらのビームのミラー73から
干渉計110への反射によってミラー73上の点のＸ軸位置
を測定し、検出器45に向かう出力ビーム46を発生する。
θ角度測定装置 レーザ干渉計システムによるθ運動の測定に関して、VL
SI半導体チップ製造などの応用例に対して十分に小さい
角度の範囲内では、干渉計のアパーチャは、反射角度が
変化するときにビームを受け取るのに十分な幅がある。
回転角が大きい場合、このシステムは、駆動バー上のマ
ーキング・システムを使用して、駆動バーのその直線駆
動機構に対する絶対位置を示すことができる。
SI半導体チップ製造などの応用例に対して十分に小さい
角度の範囲内では、干渉計のアパーチャは、反射角度が
変化するときにビームを受け取るのに十分な幅がある。
回転角が大きい場合、このシステムは、駆動バー上のマ
ーキング・システムを使用して、駆動バーのその直線駆
動機構に対する絶対位置を示すことができる。
一定下向き負荷摩擦駆動システム 第２図及び第３図は、駆動バー16、26及び36の端部が加
える下向きの負荷の変動がどのようにして最小になるか
を示す。
える下向きの負荷の変動がどのようにして最小になるか
を示す。
摩擦駆動機構は、工作物などの部品の高精度位置決めの
ために機械システムにおいてしばしば使用される。この
ようなシステムの問題点は、駆動バーがその経路に沿っ
て片持ち式に延び出すにつれて、駆動される部品にかか
る駆動バーの下向き負荷が変動することである。
ために機械システムにおいてしばしば使用される。この
ようなシステムの問題点は、駆動バーがその経路に沿っ
て片持ち式に延び出すにつれて、駆動される部品にかか
る駆動バーの下向き負荷が変動することである。
第２図は、従来技術の駆動バー・システムの例を示す。
キャプスタン15′が駆動点で駆動バー16と接触した状態
で、長さＬ、重さＷの駆動バー16が摩擦駆動機構Ｘによ
って支持点から距離Ｂだけ延び出した場合、駆動バー16
は、駆動される物体、すなわちステージ・プレート11に
Ｗ（Ｂ−L/2）/Bの力を及ぼす。ステージ・プレート11
は、この例ではローラ12′上に支持されている。駆動バ
ー16の重心はL/2の所にあると仮定するが、これは必須
条件ではない。下向き荷重が変動すると、駆動される物
体の歪みまたはゆがみの変動が生ずる。物体が駆動され
て中心からずれた場合、縦ゆれモーメントも負荷に加わ
る。駆動バー16の端部における下向き荷重は、予圧とし
て使用できるので、必ずしも不利益ではないことに留意
されたい。問題を起こすのは、駆動バー16の延び出した
長さの関数としての下向き荷重の変動である。
キャプスタン15′が駆動点で駆動バー16と接触した状態
で、長さＬ、重さＷの駆動バー16が摩擦駆動機構Ｘによ
って支持点から距離Ｂだけ延び出した場合、駆動バー16
は、駆動される物体、すなわちステージ・プレート11に
Ｗ（Ｂ−L/2）/Bの力を及ぼす。ステージ・プレート11
は、この例ではローラ12′上に支持されている。駆動バ
ー16の重心はL/2の所にあると仮定するが、これは必須
条件ではない。下向き荷重が変動すると、駆動される物
体の歪みまたはゆがみの変動が生ずる。物体が駆動され
て中心からずれた場合、縦ゆれモーメントも負荷に加わ
る。駆動バー16の端部における下向き荷重は、予圧とし
て使用できるので、必ずしも不利益ではないことに留意
されたい。問題を起こすのは、駆動バー16の延び出した
長さの関数としての下向き荷重の変動である。
第３図は、第２図の駆動バー・システムに追加された予
圧ローラ20′を示す。バネ20″の力を受けた予圧ローラ
20′は、駆動点から距離Ｃの所で駆動バー16を予圧する
力Ｐを働かせ、駆動される物体に力PC/Bを及ぼす。（第
３図に示すようにバネ20″を使用することが好ましい
が、第１図の実施例では、バネは図示の都合上省略して
ある。）積PCがWL/2に等しい場合、駆動される物体、す
なわちステージ・プレート11に接続する駆動バー16の遠
端での下向き荷重は、駆動バー16が延び出し、また引っ
込むとき、実質的に変化しない。積PCは、駆動点の周り
にかかるトルクである。予圧ローラ20′以外の手段を使
って、このトルクを得ることもできる。
圧ローラ20′を示す。バネ20″の力を受けた予圧ローラ
20′は、駆動点から距離Ｃの所で駆動バー16を予圧する
力Ｐを働かせ、駆動される物体に力PC/Bを及ぼす。（第
３図に示すようにバネ20″を使用することが好ましい
が、第１図の実施例では、バネは図示の都合上省略して
ある。）積PCがWL/2に等しい場合、駆動される物体、す
なわちステージ・プレート11に接続する駆動バー16の遠
端での下向き荷重は、駆動バー16が延び出し、また引っ
込むとき、実質的に変化しない。積PCは、駆動点の周り
にかかるトルクである。予圧ローラ20′以外の手段を使
って、このトルクを得ることもできる。
第４図、第５図、及び第６図は、回転可能な駆動キャプ
スタン15、25、35の１つを示す、駆動バー16、26、36の
１つの直線運動を発生するように適合された摩擦駆動機
構の諸要素を担持する（第１図のキャリッジ18、28、38
に類似の）回転可能なキャリッジ28′の単純化した図で
ある。この場合、モータM2によって回転されるキャプス
タン25が、キャプスタン25の側面とピンチ・ローラ23及
び24の側面との間で駆動バー26を保持している。キャプ
スタン25は、キャリッジ28′内部にベアリングを有する
シャフト（図示せず）上で支持されている。予圧ローラ
30が図示しやすいように省略されている点で修正されて
いる。キャリッジ28′は、キャプスタン25を担持するシ
ャフトの周りで回転し、従って駆動バー26が、対角線方
向に回転した第４図の位置から、第５図の垂直位置に、
さらに第６図の逆対角線方向の位置に回転することがで
きる。X1駆動バー16については、第４図は第９図と、第
５図は第７図と、第６図は第８図と類似であることに留
意されたい。
スタン15、25、35の１つを示す、駆動バー16、26、36の
１つの直線運動を発生するように適合された摩擦駆動機
構の諸要素を担持する（第１図のキャリッジ18、28、38
に類似の）回転可能なキャリッジ28′の単純化した図で
ある。この場合、モータM2によって回転されるキャプス
タン25が、キャプスタン25の側面とピンチ・ローラ23及
び24の側面との間で駆動バー26を保持している。キャプ
スタン25は、キャリッジ28′内部にベアリングを有する
シャフト（図示せず）上で支持されている。予圧ローラ
30が図示しやすいように省略されている点で修正されて
いる。キャリッジ28′は、キャプスタン25を担持するシ
ャフトの周りで回転し、従って駆動バー26が、対角線方
向に回転した第４図の位置から、第５図の垂直位置に、
さらに第６図の逆対角線方向の位置に回転することがで
きる。X1駆動バー16については、第４図は第９図と、第
５図は第７図と、第６図は第８図と類似であることに留
意されたい。
Ｘ、Ｙ、θ、３重直線駆動バー・システム X1駆動バー16は一般に、第１図に示すようにＸ軸と平行
に往復運動し、P1軸の周りで回転すると、ｘ軸との平行
から離れ、ベース10の所定の境界内のどこででもピン19
及びステージ・プレート11を位置決めできる高い柔軟性
をもたらす。第７図ないし第10図を見るとわかるよう
に、ステージ・プレート11は、第１図の３つの駆動アセ
ンブリを共同で使用して、Ｘ軸及びＹ軸に対して（第10
図に示すように）角度θだけ回転することができる。こ
の場合、駆動バー26及び36の変位は等しくない。
に往復運動し、P1軸の周りで回転すると、ｘ軸との平行
から離れ、ベース10の所定の境界内のどこででもピン19
及びステージ・プレート11を位置決めできる高い柔軟性
をもたらす。第７図ないし第10図を見るとわかるよう
に、ステージ・プレート11は、第１図の３つの駆動アセ
ンブリを共同で使用して、Ｘ軸及びＹ軸に対して（第10
図に示すように）角度θだけ回転することができる。こ
の場合、駆動バー26及び36の変位は等しくない。
第７図ないし第10図は、第１図のステージの平面図を示
す。これらの平面図は、プレート11を支持するベース９
上のどこででもステージ・プレート11を位置決めできる
ように、本発明による駆動バー16、26、36を直線駆動す
る方法を例示する目的で単純化してある。
す。これらの平面図は、プレート11を支持するベース９
上のどこででもステージ・プレート11を位置決めできる
ように、本発明による駆動バー16、26、36を直線駆動す
る方法を例示する目的で単純化してある。
第７図ないし第９図は、ベース10上の４つの離れた位置
でステージ・プレート11を位置決めできる駆動機構の能
力を示している。第10図は、ステージ・プレート11の角
度θの回転を示す。
でステージ・プレート11を位置決めできる駆動機構の能
力を示している。第10図は、ステージ・プレート11の角
度θの回転を示す。
第７図ないし第10図は、第１図のテーブルの平面図を示
す。これらの平面図は、プレートを支持するベース10上
のどこででもステージ・プレート11を位置決めできるよ
うに、３本の駆動バー16、26、36を直線駆動する方法を
例示する目的で単純化してある。図の工作物８は、工作
物８上の正方形で示されるチップを有するウェーハを表
す。角度θの回転は第10図に示されている。
す。これらの平面図は、プレートを支持するベース10上
のどこででもステージ・プレート11を位置決めできるよ
うに、３本の駆動バー16、26、36を直線駆動する方法を
例示する目的で単純化してある。図の工作物８は、工作
物８上の正方形で示されるチップを有するウェーハを表
す。角度θの回転は第10図に示されている。
第７図では、駆動バー16、26、36はすべて、ほぼ半分ま
で延び出し、X1駆動バー16はＸ軸と平行な水平方向に向
き、Ｙ駆動バー26及び36はＹ軸と平行な垂直方向をとっ
ている。
で延び出し、X1駆動バー16はＸ軸と平行な水平方向に向
き、Ｙ駆動バー26及び36はＹ軸と平行な垂直方向をとっ
ている。
第８図及び第９図は、ベース10の対向する２つのコーナ
へのプレート11及び工作物８の移動を示しているが、駆
動バーの類似の動作によって他の２つのコーナーにも達
することができることは明らかである。プレート11を左
側に移動させるには、X1駆動バー16を左側に駆動する。
プレート11を右側に移動させるには、X1駆動バー16を右
側に駆動する。いずれの場合も、駆動バー26及び36はピ
ボットP2及びP3の周りでピボット回転する。
へのプレート11及び工作物８の移動を示しているが、駆
動バーの類似の動作によって他の２つのコーナーにも達
することができることは明らかである。プレート11を左
側に移動させるには、X1駆動バー16を左側に駆動する。
プレート11を右側に移動させるには、X1駆動バー16を右
側に駆動する。いずれの場合も、駆動バー26及び36はピ
ボットP2及びP3の周りでピボット回転する。
第８図では、駆動機構X1及び駆動バー16は時計回りに回
転している。駆動機構Y1及びY2ならびに駆動バー26及び
36は反時計回りに回転している。３本の駆動バー16、2
6、36はすべて一杯まで延び出して、ステージ・プレー
ト11を遠位置、すなわち３つの駆動機構X1、Y1、及びY2
から最も離れた地点に移動させた。
転している。駆動機構Y1及びY2ならびに駆動バー26及び
36は反時計回りに回転している。３本の駆動バー16、2
6、36はすべて一杯まで延び出して、ステージ・プレー
ト11を遠位置、すなわち３つの駆動機構X1、Y1、及びY2
から最も離れた地点に移動させた。
さらに、第８図に示すように、プレート11を左上に移動
させるには、駆動バー16を左に駆動し、駆動バー26及び
36を上向きに駆動し、駆動バー16を軸P1の周りで時計回
りに回転させ、駆動バー26及び36をピボットP2及びP3の
周りで反時計回りに回転させる。
させるには、駆動バー16を左に駆動し、駆動バー26及び
36を上向きに駆動し、駆動バー16を軸P1の周りで時計回
りに回転させ、駆動バー26及び36をピボットP2及びP3の
周りで反時計回りに回転させる。
第９図に示すように、プレート11をベース10の右下に移
動させるには、駆動バー26及び36をそれぞれ最低位置近
くまで下向きに引っ込め、駆動バー16を第７図及び第８
図のその位置から反時計回りに回転させ、駆動バー26及
び36をそれぞれその時計回りに遠位置に回転させる。ベ
ース10の左下に移動させるには、駆動バー26及び36をそ
れぞれ反時計回りに遠位置に回転させると同時に、駆動
バー16をＸ軸に沿って左に移動し、わずかに時計回りに
回転させて、プレート11をその近位置に移動させる。
動させるには、駆動バー26及び36をそれぞれ最低位置近
くまで下向きに引っ込め、駆動バー16を第７図及び第８
図のその位置から反時計回りに回転させ、駆動バー26及
び36をそれぞれその時計回りに遠位置に回転させる。ベ
ース10の左下に移動させるには、駆動バー26及び36をそ
れぞれ反時計回りに遠位置に回転させると同時に、駆動
バー16をＸ軸に沿って左に移動し、わずかに時計回りに
回転させて、プレート11をその近位置に移動させる。
第９図では、駆動機構X1及び駆動バー16が反時計回りに
回転している。駆動機構Y1及びY2ならびに駆動バー26及
び36は時計回りに回転している。３本の駆動バー16、2
6、及び36はすべて、その最短延長位置まで引っ込み、
ステージ・プレート11をその近位置、すなわち３つの駆
動機構X1、Y1、及びY2に最も近い位置に移動させた。
回転している。駆動機構Y1及びY2ならびに駆動バー26及
び36は時計回りに回転している。３本の駆動バー16、2
6、及び36はすべて、その最短延長位置まで引っ込み、
ステージ・プレート11をその近位置、すなわち３つの駆
動機構X1、Y1、及びY2に最も近い位置に移動させた。
第10図では、第１のＹ軸駆動バー26及びX1軸駆動バー16
を静止させたままで第２のＹ軸駆動バー36を下向きに駆
動することによって、第７図の位置からの回転が達成さ
れた。
を静止させたままで第２のＹ軸駆動バー36を下向きに駆
動することによって、第７図の位置からの回転が達成さ
れた。
ピンチ・ローラ23及び24は、キャプスタン25と協働し
て、駆動バー26と摩擦駆動係合する。駆動バー26は、内
部端部27でピン29に固定されており、このピン29は駆動
バー26をステージ・プレート11に接続する。ピンチ・ロ
ーラ23及び24ならびに駆動キャプスタン25及びローラ30
は、ピボットP2の周りで駆動機構Y2のモータM2のシャフ
トの軸に沿って回転できるように、キャリッジ28上に取
り付けられている。
て、駆動バー26と摩擦駆動係合する。駆動バー26は、内
部端部27でピン29に固定されており、このピン29は駆動
バー26をステージ・プレート11に接続する。ピンチ・ロ
ーラ23及び24ならびに駆動キャプスタン25及びローラ30
は、ピボットP2の周りで駆動機構Y2のモータM2のシャフ
トの軸に沿って回転できるように、キャリッジ28上に取
り付けられている。
ピンチ・ローラ33、34は、それぞれキャプスタン35と協
働して、駆動バー36と係合する。駆動バー36は、内側端
部37でピン39に固定されており、このピン39は駆動機構
Y2をステージ・プレート11に接続する。ピンチ・ローラ
33及び34ならびに駆動キャプスタン35及びローラ40は、
ピボットP3の周りで駆動機構Y2のモータM3のシャフトの
軸に沿って回転できるように、キャリッジ38上に取り付
けられている。
働して、駆動バー36と係合する。駆動バー36は、内側端
部37でピン39に固定されており、このピン39は駆動機構
Y2をステージ・プレート11に接続する。ピンチ・ローラ
33及び34ならびに駆動キャプスタン35及びローラ40は、
ピボットP3の周りで駆動機構Y2のモータM3のシャフトの
軸に沿って回転できるように、キャリッジ38上に取り付
けられている。
動的予圧を有する玉継手ピボット 本発明によるボール型ピボット継手は、玉継手の動的予
圧調整を使用する。玉継手は、これらは予圧アクチュエ
ータのサーボ（フィードバック）制御によって動的に予
圧される、ボール及び１対の円錐体を含む。代替設計
は、製造及び組立ての許容差ならびにベアリング面の摩
耗によって制限され、あるいは熱的変動によって変化し
やすい。
圧調整を使用する。玉継手は、これらは予圧アクチュエ
ータのサーボ（フィードバック）制御によって動的に予
圧される、ボール及び１対の円錐体を含む。代替設計
は、製造及び組立ての許容差ならびにベアリング面の摩
耗によって制限され、あるいは熱的変動によって変化し
やすい。
ボール型ピボット継手は、球形のボールの中心点の周り
で複数の自由度をもたらす。従来の玉継手には、ばね式
継手及び球面ベアリングを含む２つの基本的タイプがあ
った。
で複数の自由度をもたらす。従来の玉継手には、ばね式
継手及び球面ベアリングを含む２つの基本的タイプがあ
った。
ばね式玉継手は１対の円錐体またはソケットを含み、そ
の内部でばねで円錐体まはソケットをボールに押しつけ
て遊びをなくしている。この方式の欠点は、高い直線剛
性を得るために高い予圧を使用するとき、ボールと円錐
体またはソケットの間にかなりの摩擦及び摩耗が生じる
ことである。
の内部でばねで円錐体まはソケットをボールに押しつけ
て遊びをなくしている。この方式の欠点は、高い直線剛
性を得るために高い予圧を使用するとき、ボールと円錐
体またはソケットの間にかなりの摩擦及び摩耗が生じる
ことである。
球面ベアリング玉継手は、ぴったりはまる内側と外側の
球面ベアリング要素を使用する。このタイプの玉継手は
高い線形剛性及び低い摩擦を有するが、その設計の性質
上、内側ベアリングと外側ベアリングの間の小さい隙間
で動作しなければならない。このような小さい隙間が摩
耗によって増大し、それに伴って遊びも増加すると、微
小位置決め応用例には不適切になる。
球面ベアリング要素を使用する。このタイプの玉継手は
高い線形剛性及び低い摩擦を有するが、その設計の性質
上、内側ベアリングと外側ベアリングの間の小さい隙間
で動作しなければならない。このような小さい隙間が摩
耗によって増大し、それに伴って遊びも増加すると、微
小位置決め応用例には不適切になる。
本発明の好ましい実施例による継手は、円錐体とボール
の間の予圧を動的に所望のレベルに変更できる能力を提
供する。これは、Ｘ−Ｙステッパ・ステージなどの微小
位置決め応用例に使用する場合、きわめて重要な利点で
ある。ステージまたは他の装置の移動中は、予圧を減少
させて、摩擦及び摩耗を小さくすることができる。ステ
ージまたは他の装置が移動していないときは、予圧を増
加させて、遊びをゼロにし、高い剛性をもたらすことが
できる。
の間の予圧を動的に所望のレベルに変更できる能力を提
供する。これは、Ｘ−Ｙステッパ・ステージなどの微小
位置決め応用例に使用する場合、きわめて重要な利点で
ある。ステージまたは他の装置の移動中は、予圧を減少
させて、摩擦及び摩耗を小さくすることができる。ステ
ージまたは他の装置が移動していないときは、予圧を増
加させて、遊びをゼロにし、高い剛性をもたらすことが
できる。
これは、第11図ないし第13図に示した配置を使用して達
成される。第11図を参照すると、ボール・エンド50を有
する駆動ロッド51（端部では丸い断面を有する）が、固
定部材52内の円錐体またはソケット67と予圧バー53内の
円錐体またはソケット68の間に位置する。円錐体67は、
第11図の好ましい実施例では固定された円錐体67として
示されており、移動される物体に付着される。予圧円錐
体68は、予圧バー53の下面内に形成されている。予圧バ
ー53は、フランジ64、すなわちピボット端部64に接続さ
れている。バー53の対向する両端部は、ベース63に固定
されたフランジ64及び本体53であり、１対の長い横断ス
ロット154及び254の間に形成されたたわみストリップ54
によって互いにフレキシブルに接続されている。要約す
ると、たわみストリップ54は、立面図として見ると、本
体53と予圧バー53のピボット端部64を形成するフランジ
64との間に形成されたたわみ点をもたらす。
成される。第11図を参照すると、ボール・エンド50を有
する駆動ロッド51（端部では丸い断面を有する）が、固
定部材52内の円錐体またはソケット67と予圧バー53内の
円錐体またはソケット68の間に位置する。円錐体67は、
第11図の好ましい実施例では固定された円錐体67として
示されており、移動される物体に付着される。予圧円錐
体68は、予圧バー53の下面内に形成されている。予圧バ
ー53は、フランジ64、すなわちピボット端部64に接続さ
れている。バー53の対向する両端部は、ベース63に固定
されたフランジ64及び本体53であり、１対の長い横断ス
ロット154及び254の間に形成されたたわみストリップ54
によって互いにフレキシブルに接続されている。要約す
ると、たわみストリップ54は、立面図として見ると、本
体53と予圧バー53のピボット端部64を形成するフランジ
64との間に形成されたたわみ点をもたらす。
フランジ64は、ねじ込みファスナ65によって固定部材52
のベース63に付着される。ベース63は、孔を有する装着
用プレートであって、ねじ込み（図示せず）によってス
テージ・プレート11に固定される。たわみピボット54
は、部材53内の予圧円錐体をたわみピボット54の周りで
小さい角度で移動させる。予圧アクチュエータ55が、予
圧部材53及び予圧円錐体68を下方に押す圧縮予圧力をも
たらすために取り付けられている。予圧アクチュエータ
55は、圧電アクチュエータ、または空気式アクチュエー
タ、油圧式アクチュエータ、ボイス・コイル・アクチュ
エータなどの同等なアクチュエータからなる。
のベース63に付着される。ベース63は、孔を有する装着
用プレートであって、ねじ込み（図示せず）によってス
テージ・プレート11に固定される。たわみピボット54
は、部材53内の予圧円錐体をたわみピボット54の周りで
小さい角度で移動させる。予圧アクチュエータ55が、予
圧部材53及び予圧円錐体68を下方に押す圧縮予圧力をも
たらすために取り付けられている。予圧アクチュエータ
55は、圧電アクチュエータ、または空気式アクチュエー
タ、油圧式アクチュエータ、ボイス・コイル・アクチュ
エータなどの同等なアクチュエータからなる。
この圧縮予圧力は、予圧アクチュエータ55の中心にある
孔を通る予圧テンショニング・ロッド57と予圧テンショ
ニング・ナット59によって、円錐体67及び68及びボール
50に加えられた。さらに、ロッド57は、予圧要素53内の
孔70を貫通し、予圧円錐体68の中心を貫通し、ボール50
を貫通し、固定部材52及び固定円錐体67の中心を貫通
し、さらにフォース・ゲージなどのひずみゲージまたは
等価物を備えた予圧センサ56の中心の孔74を貫通する。
孔を通る予圧テンショニング・ロッド57と予圧テンショ
ニング・ナット59によって、円錐体67及び68及びボール
50に加えられた。さらに、ロッド57は、予圧要素53内の
孔70を貫通し、予圧円錐体68の中心を貫通し、ボール50
を貫通し、固定部材52及び固定円錐体67の中心を貫通
し、さらにフォース・ゲージなどのひずみゲージまたは
等価物を備えた予圧センサ56の中心の孔74を貫通する。
負荷センサ56が、テンショニング・ロッド57上の負荷を
検出するために取り付けられている。線62が、ひずみゲ
ージの出力を予圧サーボの入力部及び駆動電子回路58に
接続している。駆動電子回路の出力は、圧電式予圧アク
チュエータ55の入力部に接続されている。玉継手にかか
る予圧力を増加させるには、アクチュエータ55を延び出
させ、またはその厚さを増加させて玉継手を圧縮する。
予圧力を減少させるには、電子的にプログラミングされ
た所定のレベルを有するサーボによってアクチュエータ
を引っ込め、または薄くする。予圧力は、アクチュエー
タ55の帯域幅によってだけ制限される周波数で変更する
ことができる。サーボ58は、所望の予圧レベルを設定す
る目的で、システム・コントロールから別の入力61を受
け取る。
検出するために取り付けられている。線62が、ひずみゲ
ージの出力を予圧サーボの入力部及び駆動電子回路58に
接続している。駆動電子回路の出力は、圧電式予圧アク
チュエータ55の入力部に接続されている。玉継手にかか
る予圧力を増加させるには、アクチュエータ55を延び出
させ、またはその厚さを増加させて玉継手を圧縮する。
予圧力を減少させるには、電子的にプログラミングされ
た所定のレベルを有するサーボによってアクチュエータ
を引っ込め、または薄くする。予圧力は、アクチュエー
タ55の帯域幅によってだけ制限される周波数で変更する
ことができる。サーボ58は、所望の予圧レベルを設定す
る目的で、システム・コントロールから別の入力61を受
け取る。
第11図はテンショニング・ロッド57及び閉ループ・サー
ボ・システムを使用したシステムを示しているが、ボー
ル型ピボット継手に動的予圧調整力を提供するための他
の装置も使用できる。
ボ・システムを使用したシステムを示しているが、ボー
ル型ピボット継手に動的予圧調整力を提供するための他
の装置も使用できる。
第12図は、本発明のこの態様の変更された実施例を示
す。ボール・エンド50′を有する駆動ロッド51′が、固
定部材52′内の円錐体またはソケット67′とくさび形予
圧レバー53′内の円錐体またはソケット68′の間に位置
する。それら２つの円錐体は、第12図では固定部材52′
の上面内に形成された固定された円錐体67′として示さ
れており、移動される物体及び予圧円錐体68′に付着さ
れる。
す。ボール・エンド50′を有する駆動ロッド51′が、固
定部材52′内の円錐体またはソケット67′とくさび形予
圧レバー53′内の円錐体またはソケット68′の間に位置
する。それら２つの円錐体は、第12図では固定部材52′
の上面内に形成された固定された円錐体67′として示さ
れており、移動される物体及び予圧円錐体68′に付着さ
れる。
予圧円錐体68′は、たわみピボット54′を介してピボッ
ト端部64′に一体的に接続されたくさび形レバー53′の
一体部分である。ピボット端部64′はベース63′と一体
となっているので、ベース63′に固定された別の予圧バ
ーは不要である。たわみピボット54′は、レバー53′内
の予圧円錐体68′をたわみピボット54′の周りで小さい
角度で移動させる。
ト端部64′に一体的に接続されたくさび形レバー53′の
一体部分である。ピボット端部64′はベース63′と一体
となっているので、ベース63′に固定された別の予圧バ
ーは不要である。たわみピボット54′は、レバー53′内
の予圧円錐体68′をたわみピボット54′の周りで小さい
角度で移動させる。
予圧アクチュエータ55′が、予圧レバー53′を横方向に
押す予圧力をもたらすために取り付けられている。これ
は、予圧円錐体68′をボール・エンド50′に対して下向
きに駆動する。くさび形レバー53′は固定部材52′と一
体になっているので、圧縮予圧が、予圧テンショニング
・ロッド及びナット59を使用しないで実施される。予圧
センサ56′が、アクチュエータ55′からくさび形レバー
53′上の負荷を検出するために取り付けられている。線
62′が、ひずみゲージ56′からの電気出力を予圧サーボ
の入力部及び駆動電子回路58′に接続している。駆動電
子回路58′の電気出力信号は、圧電式予圧アクチュエー
タ55′の入力部に接続されている。
押す予圧力をもたらすために取り付けられている。これ
は、予圧円錐体68′をボール・エンド50′に対して下向
きに駆動する。くさび形レバー53′は固定部材52′と一
体になっているので、圧縮予圧が、予圧テンショニング
・ロッド及びナット59を使用しないで実施される。予圧
センサ56′が、アクチュエータ55′からくさび形レバー
53′上の負荷を検出するために取り付けられている。線
62′が、ひずみゲージ56′からの電気出力を予圧サーボ
の入力部及び駆動電子回路58′に接続している。駆動電
子回路58′の電気出力信号は、圧電式予圧アクチュエー
タ55′の入力部に接続されている。
玉継手にかかる予圧力を増加させるには、アクチュエー
タ55′を延び出させ、またはその厚さを増加させる。予
圧力を減少させるには、電子的にプログラミングされた
所定のレベルを有するサーボ58′によってアクチュエー
タを引っ込め、または薄くする。予圧力は、アクチュエ
ータ55′の帯域幅によってだけ制限される周波数で変更
することができる。サーボ58′は、所望の予圧レベルを
設定する目的で、システム・コントローラから別の入力
61′を受け取る。
タ55′を延び出させ、またはその厚さを増加させる。予
圧力を減少させるには、電子的にプログラミングされた
所定のレベルを有するサーボ58′によってアクチュエー
タを引っ込め、または薄くする。予圧力は、アクチュエ
ータ55′の帯域幅によってだけ制限される周波数で変更
することができる。サーボ58′は、所望の予圧レベルを
設定する目的で、システム・コントローラから別の入力
61′を受け取る。
第13図は、第12図と類似の別の実施例を示す。類似の要
素は類似の機能を有するが、円錐体及びボールに力を加
えるための構造が変更されている。
素は類似の機能を有するが、円錐体及びボールに力を加
えるための構造が変更されている。
この実施例では、駆動ロッド51″は、固定部材52″内の
円錐体またはソケット67″と予圧レバー53″内の円錐体
またはソケット68″の間に位置するボール・エンド50″
を有する。固定された円錐体67″は、移動される物体に
付着される固定部材52″の上面内に形成されている。予
圧円錐体68″は、たわみピボット54″を介してピボット
端部64″に一体的に接続された予圧バー53″の下面内に
形成される。ピボット端部64″はベース63″と一体とな
っているので、ベース63″に固定された別個の予圧バー
は不要である。たわみピボット54″は、部材53″内の予
圧円錐体68″をたわみピボット54″の周りで小さい角度
で移動させる。
円錐体またはソケット67″と予圧レバー53″内の円錐体
またはソケット68″の間に位置するボール・エンド50″
を有する。固定された円錐体67″は、移動される物体に
付着される固定部材52″の上面内に形成されている。予
圧円錐体68″は、たわみピボット54″を介してピボット
端部64″に一体的に接続された予圧バー53″の下面内に
形成される。ピボット端部64″はベース63″と一体とな
っているので、ベース63″に固定された別個の予圧バー
は不要である。たわみピボット54″は、部材53″内の予
圧円錐体68″をたわみピボット54″の周りで小さい角度
で移動させる。
予圧アクチュエータ55″が、予圧部材53″及び予圧円錐
体68″を下方に押す圧縮予圧力をもたらすために取り付
けられている。この圧縮予圧は、ベース63″と一体とな
った予圧テンショニング・アーム72″を使って実施され
る。予圧センサ56″が、アクチュエータ55″からバー5
3″上の負荷を検出するために取り付けられている。
体68″を下方に押す圧縮予圧力をもたらすために取り付
けられている。この圧縮予圧は、ベース63″と一体とな
った予圧テンショニング・アーム72″を使って実施され
る。予圧センサ56″が、アクチュエータ55″からバー5
3″上の負荷を検出するために取り付けられている。
線62″が、ひずみゲージ56″からの電気出力を予圧サー
ボの入力部及び駆動電子回路58″に接続している。駆動
電子回路58″の電気出力信号は、圧電式予圧アクチュエ
ータ55″の入力部に接続されている。ベアリングにかか
る予圧力を増加させるには、アクチュエータ55″を延び
出させ、またはその厚さを増加させる。予圧力を減少さ
せるには、電子的にプログラミングされた所定のレベル
を有するサーボ58″によってアクチュエータを引っ込
め、または薄くする。予圧力は、アクチュエータ55″の
帯域幅によってだけ制限される周波数で変更することが
できる。サーボ58″は、所望の予圧レベルを設定する目
的で、システム・コントローラから別の入力61″を受け
取る。
ボの入力部及び駆動電子回路58″に接続している。駆動
電子回路58″の電気出力信号は、圧電式予圧アクチュエ
ータ55″の入力部に接続されている。ベアリングにかか
る予圧力を増加させるには、アクチュエータ55″を延び
出させ、またはその厚さを増加させる。予圧力を減少さ
せるには、電子的にプログラミングされた所定のレベル
を有するサーボ58″によってアクチュエータを引っ込
め、または薄くする。予圧力は、アクチュエータ55″の
帯域幅によってだけ制限される周波数で変更することが
できる。サーボ58″は、所望の予圧レベルを設定する目
的で、システム・コントローラから別の入力61″を受け
取る。
第14図は、ステージ11用の制御システムの電気的概略図
を示す。第２図に示した３つの同じ速度サーボを使っ
て、３つのキャプスタン駆動機構M1、M2、M3を動かす。
を示す。第２図に示した３つの同じ速度サーボを使っ
て、３つのキャプスタン駆動機構M1、M2、M3を動かす。
サーボ制御電子回路86がホスト・コンピュータ105から
線103を介して新しい目標位置を受け取ると、一連の速
度値が第14図の速度サーボに送られて、ステージ11を所
定の新しい目標位置に移動させる。閉ループ位置決めサ
ーボ・ループの利得対周波数及びステージ速度、加速度
及び加速度変化率の最大値が、サーボ制御電子回路86内
に記憶されているパラメータ及びソフトウェアによって
制御される。
線103を介して新しい目標位置を受け取ると、一連の速
度値が第14図の速度サーボに送られて、ステージ11を所
定の新しい目標位置に移動させる。閉ループ位置決めサ
ーボ・ループの利得対周波数及びステージ速度、加速度
及び加速度変化率の最大値が、サーボ制御電子回路86内
に記憶されているパラメータ及びソフトウェアによって
制御される。
速度サーボは、ゲージング及び初期設定動作中にレーザ
・ビームが活動化されていないとき、位置サーボ・ルー
プを開いて動作することができる。また、θサーボでス
テージのθをほぼゼロに保持しながら、アナログ・ジョ
イ・スティックを使って、手動ステージ制御を行なうこ
とができる。
・ビームが活動化されていないとき、位置サーボ・ルー
プを開いて動作することができる。また、θサーボでス
テージのθをほぼゼロに保持しながら、アナログ・ジョ
イ・スティックを使って、手動ステージ制御を行なうこ
とができる。
位置及び角度のより高い（１μｍ及び１マイクロラジア
ンより小さい）精度が要求されるときは、３本の駆動バ
ー16、26、36のそれぞれに圧電変換器などの精密アクチ
ュエータを追加するとができる。これによって、粗動サ
ーボと微動サーボの組合せがもたらされる。微動サーボ
は、ステージの質量及び予圧だけを駆動するので、より
高い利得帯域幅をもつことができる。駆動バーの質量及
びモータM1、M2、M3の慣性は、微動位置決めサーボ・ル
ープの外側にある。
ンより小さい）精度が要求されるときは、３本の駆動バ
ー16、26、36のそれぞれに圧電変換器などの精密アクチ
ュエータを追加するとができる。これによって、粗動サ
ーボと微動サーボの組合せがもたらされる。微動サーボ
は、ステージの質量及び予圧だけを駆動するので、より
高い利得帯域幅をもつことができる。駆動バーの質量及
びモータM1、M2、M3の慣性は、微動位置決めサーボ・ル
ープの外側にある。
またＸ−Ｙジョイスティック107は、制御電子回路86に
ｘ−ｙ−θステージ11の位置の手動制御用の入力を供給
する。
ｘ−ｙ−θステージ11の位置の手動制御用の入力を供給
する。
レーザ位置決め変換器／サーボ制御電子回路86は、X1軸
検出器45の出力からケーブル104を介してＸ位置信号を
受け取る。また制御電子回路86は、ケーブル116を介し
てＹ軸検出器85の出力を受け取る。また電子回路86は、
ケーブル115を介してθ検出器84の出力を受け取る。干
渉計110は、第１図に詳細に示すように、目標の鏡73に
向かう１対の光線を使用する。検出器84及び85によるθ
及びＹ軸の測定のために、１対の干渉計が、第１図及び
第15A−Ｃ図に示す本発明による一体構造79内に格納さ
れている。レーザ・ビーム82及び83は、構造79内の干渉
計からそれぞれθ検出器84及びＹ軸検出器85に達する。
これらの干渉計は、第１図及び第15A図ないし第15C図に
関連して別のところで詳細に説明したように、目標の鏡
52と協働して動作する。第１図及び第15A図ないし第15C
図ではそれぞれ１対の光線が示してあるが、第14図では
図示の都合上それぞれ単一のビーム200及び201として示
してある。
検出器45の出力からケーブル104を介してＸ位置信号を
受け取る。また制御電子回路86は、ケーブル116を介し
てＹ軸検出器85の出力を受け取る。また電子回路86は、
ケーブル115を介してθ検出器84の出力を受け取る。干
渉計110は、第１図に詳細に示すように、目標の鏡73に
向かう１対の光線を使用する。検出器84及び85によるθ
及びＹ軸の測定のために、１対の干渉計が、第１図及び
第15A−Ｃ図に示す本発明による一体構造79内に格納さ
れている。レーザ・ビーム82及び83は、構造79内の干渉
計からそれぞれθ検出器84及びＹ軸検出器85に達する。
これらの干渉計は、第１図及び第15A図ないし第15C図に
関連して別のところで詳細に説明したように、目標の鏡
52と協働して動作する。第１図及び第15A図ないし第15C
図ではそれぞれ１対の光線が示してあるが、第14図では
図示の都合上それぞれ単一のビーム200及び201として示
してある。
電子回路86は、加算回路88の正入力部へのX1誤差出力87
を有する。加算回路88は、X1駆動増幅器90に、第１図に
示したモータM1を付勢する出力89を供給する。負のフィ
ードバックを提供するために加算回路88の負入力部に接
続されたタコメータ・フィードバック91が、線91上に示
されている。
を有する。加算回路88は、X1駆動増幅器90に、第１図に
示したモータM1を付勢する出力89を供給する。負のフィ
ードバックを提供するために加算回路88の負入力部に接
続されたタコメータ・フィードバック91が、線91上に示
されている。
また電子回路86は、加算回路99及び加算回路94の正入力
部へのＹ誤差出力92を有する。加算回路99は、Ｙ＋θ駆
動増幅器101に、第１図に示したモータM3を付勢する出
力100を供給する。線103上のタコメータ・フィードバッ
クが、負のフィードバックを提供するために加算回路99
の負入力部に接続されている。
部へのＹ誤差出力92を有する。加算回路99は、Ｙ＋θ駆
動増幅器101に、第１図に示したモータM3を付勢する出
力100を供給する。線103上のタコメータ・フィードバッ
クが、負のフィードバックを提供するために加算回路99
の負入力部に接続されている。
さらに電子回路86は、加算回路94の負入力部及び加算回
路99の正入力部へのθ誤差出力93を有する。加算回路94
は、第１図に示したモータM2を出力95を付勢するＹ−θ
駆動増幅器96に提供する。負のフィードバックを提供す
るために加算回路94の負入力部に接続されたタコメータ
・フィードバック98が、線98上に示されている。
路99の正入力部へのθ誤差出力93を有する。加算回路94
は、第１図に示したモータM2を出力95を付勢するＹ−θ
駆動増幅器96に提供する。負のフィードバックを提供す
るために加算回路94の負入力部に接続されたタコメータ
・フィードバック98が、線98上に示されている。
純粋なＸ運動が望まれるとき、ホスト・コンピュータは
新しい目標位置をロードする。ステージ位置誤差が新し
いＸ位置で０になるまで、ＸモータM1及び駆動バー16を
移動するために、一連のＸ速度コマンドが与えられる。
ステージがＸ軸方向に移動する間、Ｙ位置サーボはＹ位
置誤差を能動的に０付近に保つために、ＹモータM2及び
M3を駆動し続ける。また、Ｘ方向の移動中にθの擾乱が
起こるので、θサーボは移動中片揺れを０付近に保ち、
移動後片揺れを０付近に保持するために、ＹモータM2及
びM3を別々に能動的に駆動する。
新しい目標位置をロードする。ステージ位置誤差が新し
いＸ位置で０になるまで、ＸモータM1及び駆動バー16を
移動するために、一連のＸ速度コマンドが与えられる。
ステージがＸ軸方向に移動する間、Ｙ位置サーボはＹ位
置誤差を能動的に０付近に保つために、ＹモータM2及び
M3を駆動し続ける。また、Ｘ方向の移動中にθの擾乱が
起こるので、θサーボは移動中片揺れを０付近に保ち、
移動後片揺れを０付近に保持するために、ＹモータM2及
びM3を別々に能動的に駆動する。
θサーボは、加算ジャンクション94及び99でＹ速度コマ
ンド92に小さな速度補正93を電子的に重畳することによ
って、ステージのθ（片揺れ角）を０付近に維持する。
専用の閉ループθサーボが、増幅器96、101及びモータM
2、M3における小さな利得差、ステージ及び駆動バー2
6、36における慣性差、ならびにベアリング・パッドに
おける動摩擦差を絶えず補償する。また、θサーボは、
Ｘ駆動バー16によって引き起こされるθの擾乱を取り除
く。θの小さな値を維持する仕事は専用θサーボによっ
て実施されるので、Ｙ位置決めサーボのハードウェア及
びソフトウェアはＸ位置決めサーボと同じでよい。
ンド92に小さな速度補正93を電子的に重畳することによ
って、ステージのθ（片揺れ角）を０付近に維持する。
専用の閉ループθサーボが、増幅器96、101及びモータM
2、M3における小さな利得差、ステージ及び駆動バー2
6、36における慣性差、ならびにベアリング・パッドに
おける動摩擦差を絶えず補償する。また、θサーボは、
Ｘ駆動バー16によって引き起こされるθの擾乱を取り除
く。θの小さな値を維持する仕事は専用θサーボによっ
て実施されるので、Ｙ位置決めサーボのハードウェア及
びソフトウェアはＸ位置決めサーボと同じでよい。
０以外のθ値が望まれる場合、ホスト・コンピュータは
θ値を電子回路にロードすることができ、新しいθ値を
実現するために必要なように、モータM2及びM3によって
Ｙ駆動バー26及び36が押し出され、または引っ込められ
る。
θ値を電子回路にロードすることができ、新しいθ値を
実現するために必要なように、モータM2及びM3によって
Ｙ駆動バー26及び36が押し出され、または引っ込められ
る。
純粋なＹ運動は、新しいＹ方向の目標位置をロードし、
同じＸ位置を維持することによって実施できる。
同じＸ位置を維持することによって実施できる。
一体式平行複式平面鏡干渉計 第15A図ないし第15C図は、一体構造内に格納された１対
の干渉計を示す。これらの干渉計は、本発明による平行
複式または２軸平面鏡干渉計の実施例を組み込んでい
る。第１図及び第17A図ないし第17C図の干渉計の光学的
諸要素は、光学的に透明な立方形要素129″上に接着さ
れている。要素129″は、２枚の接着されたガラス要素
からなり、偏光ビーム分割面130が立方体要素129″の２
つの半体を接合している。言い換えると、要素129″は
一体構造内で干渉計の諸構成要素を接着担持している。
各種の光学的要素は、紫外線硬化性オプティカル・セメ
ントまたは等価物によって立方体要素129″に接着され
ている。
の干渉計を示す。これらの干渉計は、本発明による平行
複式または２軸平面鏡干渉計の実施例を組み込んでい
る。第１図及び第17A図ないし第17C図の干渉計の光学的
諸要素は、光学的に透明な立方形要素129″上に接着さ
れている。要素129″は、２枚の接着されたガラス要素
からなり、偏光ビーム分割面130が立方体要素129″の２
つの半体を接合している。言い換えると、要素129″は
一体構造内で干渉計の諸構成要素を接着担持している。
各種の光学的要素は、紫外線硬化性オプティカル・セメ
ントまたは等価物によって立方体要素129″に接着され
ている。
ビーム・スプリッタ120が、ビーム・ベンダ121の真下で
要素129″の外側に接着されている。垂直偏光成分f1と
水平偏光成分f2からなるレーザ・ビーム76が、レーザ・
ビームを半分に分割する1/2ビーム・スプリッタ120に送
られる。ビーム76の半分は、スプリッタ120から出てビ
ーム191になり、xyテーブルの１つの軸で使用される。
ビーム191は上に反射されて90度ビーム・ベンダ121に向
かい、ビーム・ベンダ121からビーム経路192に沿って透
明な要素129″の内部に入る。ビーム・ベンダ121からの
ビーム192のf1、f2成分が要素129″のビーム分割面130
に出会ったとき、垂直偏光部分f2は、引き続きf2ビーム
193として逆反射鏡である立方体コーナ124に進む。（水
平方向に移動する）f2ビーム193は、立方体コーナ124を
横切って直角に上向きと横向きに２回反射されて戻り、
立方体コーナ124の反対側から経路183に沿って戻って、
ビーム分割面130を通過して経路83に沿って直進し、要
素129″から出て出力ビーム83のf2成分として検出器85
に達する。ビーム・ベンダ121からのビーム192の垂直偏
光部分f2（ビーム193）が、要素129″の偏光ビーム分割
面130を通過すると同時に、たとえば、ビーム・ベンダ1
21からのビーム192の水平偏光部分f1が下向きに反射さ
れ（ビーム経路78に沿って）四分の一波長板123を通過
する。四分の一波長板は複屈折結晶材料の薄いシートよ
りなり、その厚さはそこを通る光の常光線成分と異常光
線成分の間の位相が1/4周期ずれるような厚さに選ばれ
ている。これは円偏光を平面偏光に、またはその逆に変
換する働きをする。この四分の一波長板123は、要素12
9″の下面に接着されている。ビーム78は、さらにビー
ム経路78に沿って下方に進んで、鏡52（第１図及び第14
図に図示）に達し、周波数f1±Δｆで鏡52に反射されて
上向きに戻り、同じビーム経路78に沿って四分の一波長
板123及びビーム分割面130を通過して立方体コーナ127
に達する。ここで（立方体コーナ127内で）ビームは右
と下向きに２回反射され、ビーム経路77（ビーム経路78
と平行）に沿って下向きに進み、ビームf1±Δｆとして
ビーム分割面130及び四分の一波長板123を通過して鏡52
上の隣接位置に達し、そこで再度ビームf1±２Δｆとし
て反射され上向きに戻り、四分の一波長板123を通過し
てビーム分割面130に達する。ここで、ビームは波長板1
23を２往復したために偏光が1/4波長ずつ４回変化した
ので、反射されてやはりビーム経路83に沿って外へ出、
２つのビームf2及びf1±２Δｆがビーム経路83に達す
る。ビーム経路83に沿って進む２本のビーム、すなわち
立方体コーナ124からの１本のビームとビーム分割面130
からの第２のビームは、相対的に位置が固定されている
干渉計要素79の位置に対するステージ11の相対位置の関
数として、互いに光学的に干渉する。
要素129″の外側に接着されている。垂直偏光成分f1と
水平偏光成分f2からなるレーザ・ビーム76が、レーザ・
ビームを半分に分割する1/2ビーム・スプリッタ120に送
られる。ビーム76の半分は、スプリッタ120から出てビ
ーム191になり、xyテーブルの１つの軸で使用される。
ビーム191は上に反射されて90度ビーム・ベンダ121に向
かい、ビーム・ベンダ121からビーム経路192に沿って透
明な要素129″の内部に入る。ビーム・ベンダ121からの
ビーム192のf1、f2成分が要素129″のビーム分割面130
に出会ったとき、垂直偏光部分f2は、引き続きf2ビーム
193として逆反射鏡である立方体コーナ124に進む。（水
平方向に移動する）f2ビーム193は、立方体コーナ124を
横切って直角に上向きと横向きに２回反射されて戻り、
立方体コーナ124の反対側から経路183に沿って戻って、
ビーム分割面130を通過して経路83に沿って直進し、要
素129″から出て出力ビーム83のf2成分として検出器85
に達する。ビーム・ベンダ121からのビーム192の垂直偏
光部分f2（ビーム193）が、要素129″の偏光ビーム分割
面130を通過すると同時に、たとえば、ビーム・ベンダ1
21からのビーム192の水平偏光部分f1が下向きに反射さ
れ（ビーム経路78に沿って）四分の一波長板123を通過
する。四分の一波長板は複屈折結晶材料の薄いシートよ
りなり、その厚さはそこを通る光の常光線成分と異常光
線成分の間の位相が1/4周期ずれるような厚さに選ばれ
ている。これは円偏光を平面偏光に、またはその逆に変
換する働きをする。この四分の一波長板123は、要素12
9″の下面に接着されている。ビーム78は、さらにビー
ム経路78に沿って下方に進んで、鏡52（第１図及び第14
図に図示）に達し、周波数f1±Δｆで鏡52に反射されて
上向きに戻り、同じビーム経路78に沿って四分の一波長
板123及びビーム分割面130を通過して立方体コーナ127
に達する。ここで（立方体コーナ127内で）ビームは右
と下向きに２回反射され、ビーム経路77（ビーム経路78
と平行）に沿って下向きに進み、ビームf1±Δｆとして
ビーム分割面130及び四分の一波長板123を通過して鏡52
上の隣接位置に達し、そこで再度ビームf1±２Δｆとし
て反射され上向きに戻り、四分の一波長板123を通過し
てビーム分割面130に達する。ここで、ビームは波長板1
23を２往復したために偏光が1/4波長ずつ４回変化した
ので、反射されてやはりビーム経路83に沿って外へ出、
２つのビームf2及びf1±２Δｆがビーム経路83に達す
る。ビーム経路83に沿って進む２本のビーム、すなわち
立方体コーナ124からの１本のビームとビーム分割面130
からの第２のビームは、相対的に位置が固定されている
干渉計要素79の位置に対するステージ11の相対位置の関
数として、互いに光学的に干渉する。
また、第２軸の位置測定用の、ビーム・スプリッタ120
からのやはり成分f1及びf2からなるビーム76の他の半分
は、ビーム経路176に沿って直接進み、ビームを偏光さ
せるビーム分割面130に達する。そこから、ビームの垂
直偏光部分f2は立方体コーナ125に向かう。立方体コー
ナ125で、ビーム176の垂直偏光部分は、上向きと横に２
回反射されて戻り、ビーム分割面130を通過し、ビーム
経路82に沿って外に出て、第１図及び第14図の検出器84
に達する。ビーム・スプリッタ120から第２軸用の経路1
76に沿って進むビームの残りの水平偏光部分は、ビーム
分割面130によって下向きに反射され、ビーム経路81に
沿って四分の一波長板122を通過する。ビームは経路81
に沿って進んで鏡52に達し、そこで上向きに反射されて
ビーム経路81を戻り、四分の一波長板122を再び通過
し、四分の一波長板122を２回通過した結果としてビー
ム分割面130を通過する。ビームは立方体コーナ126に進
み、そこで横と下向きに２回反射されて戻り、ビーム経
路80に沿って進み、再び四分の一波長板122を通過し、
さらにビーム経路80（ビーム経路81と平行）に沿って進
み鏡52に達する。ビームf1±２Δｆはビーム経路80に沿
って上向きに戻り、偏光ビーム分割面130に達する。こ
こで、四分の一波長板122の作用の結果としてビームは
反射され、ビーム経路82に沿って外へ出て検出器84に達
する。後者のビームは、立方体コーナ125からビーム経
路82へ向かう別のビーム経路を取ったビームと干渉す
る。
からのやはり成分f1及びf2からなるビーム76の他の半分
は、ビーム経路176に沿って直接進み、ビームを偏光さ
せるビーム分割面130に達する。そこから、ビームの垂
直偏光部分f2は立方体コーナ125に向かう。立方体コー
ナ125で、ビーム176の垂直偏光部分は、上向きと横に２
回反射されて戻り、ビーム分割面130を通過し、ビーム
経路82に沿って外に出て、第１図及び第14図の検出器84
に達する。ビーム・スプリッタ120から第２軸用の経路1
76に沿って進むビームの残りの水平偏光部分は、ビーム
分割面130によって下向きに反射され、ビーム経路81に
沿って四分の一波長板122を通過する。ビームは経路81
に沿って進んで鏡52に達し、そこで上向きに反射されて
ビーム経路81を戻り、四分の一波長板122を再び通過
し、四分の一波長板122を２回通過した結果としてビー
ム分割面130を通過する。ビームは立方体コーナ126に進
み、そこで横と下向きに２回反射されて戻り、ビーム経
路80に沿って進み、再び四分の一波長板122を通過し、
さらにビーム経路80（ビーム経路81と平行）に沿って進
み鏡52に達する。ビームf1±２Δｆはビーム経路80に沿
って上向きに戻り、偏光ビーム分割面130に達する。こ
こで、四分の一波長板122の作用の結果としてビームは
反射され、ビーム経路82に沿って外へ出て検出器84に達
する。後者のビームは、立方体コーナ125からビーム経
路82へ向かう別のビーム経路を取ったビームと干渉す
る。
第16A図ないし第16C図は、第15A図ないし第15C図の干渉
計の変更態様を示す。一般的に、1/2ビーム・スプリッ
タが経路82の出力部にまで移動されている点を除き動作
は同じである。経路82上のビームは、再結合された垂直
及び水平偏光成分を含む。上向きに反射されたビーム19
1は、半波長板128を通過して、合成ビームが90度回転さ
れ、そこから90度ビーム・ベンダ121に入る。ビーム・
ベンダ121は、第２の一体式干渉計を介してビーム191の
再結合されたf1成分とf2成分を送る。成分f1がビーム76
の基準成分であった場合は、それがビーム191の測定成
分になり、逆も同様である。これは、検出された移動の
符号を逆にする効果をもち、従って第１軸が＋dfだけ増
分されるとき、第２軸は−dfだけ減分されて合計が０に
なるので、第２軸を平行移動に対して感受性をもたない
ようにすることができる。これは、鏡が両軸について丁
度同じ量だけ移動することを前提にしている。そうでな
い場合は、合計が０にならず、従って異なる経路を生ず
るためにステージは回転していなければならない。した
がって、θに対する光学信号が得られる。
計の変更態様を示す。一般的に、1/2ビーム・スプリッ
タが経路82の出力部にまで移動されている点を除き動作
は同じである。経路82上のビームは、再結合された垂直
及び水平偏光成分を含む。上向きに反射されたビーム19
1は、半波長板128を通過して、合成ビームが90度回転さ
れ、そこから90度ビーム・ベンダ121に入る。ビーム・
ベンダ121は、第２の一体式干渉計を介してビーム191の
再結合されたf1成分とf2成分を送る。成分f1がビーム76
の基準成分であった場合は、それがビーム191の測定成
分になり、逆も同様である。これは、検出された移動の
符号を逆にする効果をもち、従って第１軸が＋dfだけ増
分されるとき、第２軸は−dfだけ減分されて合計が０に
なるので、第２軸を平行移動に対して感受性をもたない
ようにすることができる。これは、鏡が両軸について丁
度同じ量だけ移動することを前提にしている。そうでな
い場合は、合計が０にならず、従って異なる経路を生ず
るためにステージは回転していなければならない。した
がって、θに対する光学信号が得られる。
第17A図ないし第17C図は、第15A図ないし第15C図の干渉
計のさらに別の変更態様を示す。この場合、1/3ビーム
・スプリッタ140が1/2ビーム・スプリッタ120の前にあ
る。追加の立方体コーナ154、155、及び追加の90度ビー
ム・ベンダ150、ならびに四分の一波長板162があり、こ
れらすべてがあいまって、縦揺れを測定し、従来のシス
テムによって位置と片揺れを測定する。
計のさらに別の変更態様を示す。この場合、1/3ビーム
・スプリッタ140が1/2ビーム・スプリッタ120の前にあ
る。追加の立方体コーナ154、155、及び追加の90度ビー
ム・ベンダ150、ならびに四分の一波長板162があり、こ
れらすべてがあいまって、縦揺れを測定し、従来のシス
テムによって位置と片揺れを測定する。
［産業上の応用］ このｘ−ｙ位置決めシステムは、半導体製造業界で電子
線システムまたは類似の種類のシステムの製造業者及び
使用者が使用するのに適している。このｘ−ｙテーブル
位置決めシステムは、半導体製造に使用されるリソグラ
フィ・マスクの露光に使用される電子線システムととも
に使用されるように設計されている。これらの駆動テー
ブルは、従来可能であったまたは必要であった許容差よ
りもずっと低い、改良された製造許容差を提供する。
線システムまたは類似の種類のシステムの製造業者及び
使用者が使用するのに適している。このｘ−ｙテーブル
位置決めシステムは、半導体製造に使用されるリソグラ
フィ・マスクの露光に使用される電子線システムととも
に使用されるように設計されている。これらの駆動テー
ブルは、従来可能であったまたは必要であった許容差よ
りもずっと低い、改良された製造許容差を提供する。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/68 Ｋ (56)参考文献 特開 昭56−107861（ＪＰ，Ａ) 米国特許4528490（ＵＳ，Ａ) 米国特許4883357（ＵＳ，Ａ)
Claims (6)
- 【請求項１】ａ）ベースと、 ｂ）前記ベース上にスライド可能に支持されたステージ
・プレートと、 ｃ）少なくとも３つの直線駆動手段と、 よりなり、 前記直線駆動手段は直交するｘ軸及びｙ軸に沿って前記
ステージ・プレートを移動させ、かつ前記ベース上で前
記ベースの表面に実質的に平行に前記ステージ・プレー
トを回転させるために、前記ステージ・プレートと回転
可能に係合しかつ前記ベースと回転可能に係合してお
り、 前記直線駆動手段の各々は、動的予圧調整を有するボー
ル型ピボット継手と、前記継手用のボール内で成端する
第１の要素と、それぞれが前記ボールの１側面に対する
ベアリング面を有する１対の対向するベアリング要素
と、少なくとも１つの前記ベアリング要素に取り付けら
れた予圧センサと、前記予圧センサの出力に接続された
入力及び予圧アクチュエータに接続された出力を有する
サーボ制御手段とを含み、 少なくとも１つの前記ベアリング要素が前記予圧アクチ
ュエータに接続されており、 前記ボールが前記ベアリング要素の前記ベアリング面の
間で挟まれてており、 前記予圧アクチュエータが前記予圧センサに応答して前
記サーボ制御手段の動作によって動的に予圧される、位
置決めステージ。 - 【請求項２】前記ベアリング面が円錐形である、請求項
１に記載のステージ。 - 【請求項３】前記ベアリング要素は相対的に固定された
ベアリング要素と相対的に可動な要素とを含み、 前記相対的に可動な要素はピボット端部を含み、 前記ピボット端部は前記相対的に固定されたベアリング
要素と前記ベアリング面を含む本体端部とに固定され、 前記本体端部は前記相対的に可動な要素のフレキシブル
・セクションによって前記ピボット端部に接合され、 前記フレキシブル・セクションは前記本体端部と前記ピ
ボット端部の間で前記相対的に可動な要素のたわみをも
たらす、請求項１に記載の位置決めステージ。 - 【請求項４】前記ベアリング面が円錐形である、請求項
３に記載のステージ。 - 【請求項５】前記ベアリング要素は相対的に固定された
ベアリング要素と相対的に可動な要素とを含み、 前記相対的に可動な要素はピボット端部を含み、 前記ピボット端部は前記相対的に固定されたベアリング
要素及び前記ベアリング面を含む本体端部と一体であ
り、 前記本体端部は前記相対的に可動な要素のフレキシブル
・セクションによって前記ピボット端部に接合され、前
記フレキシブル・セクションは前記本体端部と前記ピボ
ット端部の間で前記相対的に可動な要素のたわみをもた
らす、請求項１に記載の位置決めステージ。 - 【請求項６】前記ベアリング面が円錐形である、請求項
５に記載のステージ。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US07/516,844 US5140242A (en) | 1990-04-30 | 1990-04-30 | Servo guided stage system |
| US516,844 | 1990-04-30 | ||
| PCT/US1990/005877 WO1991017564A1 (en) | 1990-04-30 | 1990-10-12 | Servo guided stage system |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05504731A JPH05504731A (ja) | 1993-07-22 |
| JPH07106516B2 true JPH07106516B2 (ja) | 1995-11-15 |
Family
ID=24057321
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3503189A Expired - Fee Related JPH07106516B2 (ja) | 1990-04-30 | 1990-10-12 | 位置決めステージ |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5140242A (ja) |
| EP (1) | EP0527739B1 (ja) |
| JP (1) | JPH07106516B2 (ja) |
| DE (1) | DE69027335T2 (ja) |
| WO (1) | WO1991017564A1 (ja) |
Families Citing this family (43)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5180955A (en) * | 1990-10-11 | 1993-01-19 | International Business Machines Corporation | Positioning apparatus |
| DE4123323C2 (de) * | 1991-07-13 | 1994-02-10 | Andreas Ehlerding | Werkzeugträger |
| EP0668606B1 (en) * | 1994-02-07 | 1997-09-17 | Ushiodenki Kabushiki Kaisha | Carrier device |
| US7365513B1 (en) | 1994-04-01 | 2008-04-29 | Nikon Corporation | Positioning device having dynamically isolated frame, and lithographic device provided with such a positioning device |
| US5528118A (en) * | 1994-04-01 | 1996-06-18 | Nikon Precision, Inc. | Guideless stage with isolated reaction stage |
| US5874820A (en) | 1995-04-04 | 1999-02-23 | Nikon Corporation | Window frame-guided stage mechanism |
| US6989647B1 (en) * | 1994-04-01 | 2006-01-24 | Nikon Corporation | Positioning device having dynamically isolated frame, and lithographic device provided with such a positioning device |
| US5739654A (en) * | 1994-12-19 | 1998-04-14 | International Business Machines Corporation | Precision tool control system for a workpiece positioning apparatus |
| US5548195A (en) * | 1994-12-22 | 1996-08-20 | International Business Machines Corporation | Compensated servo control stage positioning apparatus |
| TW318255B (ja) | 1995-05-30 | 1997-10-21 | Philips Electronics Nv | |
| WO1997038357A1 (en) * | 1996-04-11 | 1997-10-16 | Mrs Technology, Inc. | Lithography system using dual substrate stages |
| US5757160A (en) * | 1996-12-23 | 1998-05-26 | Svg Lithography Systems, Inc. | Moving interferometer wafer stage |
| US6346710B1 (en) * | 1998-08-31 | 2002-02-12 | Olympus Optical Co., Ltd. | Stage apparatus including displacement amplifying mechanism |
| US6324933B1 (en) * | 1999-10-06 | 2001-12-04 | Agere Systems Guardian Corp. | Planar movable stage mechanism |
| US6355994B1 (en) * | 1999-11-05 | 2002-03-12 | Multibeam Systems, Inc. | Precision stage |
| US6466324B1 (en) * | 2000-06-30 | 2002-10-15 | International Business Machines Corporation | Servo guided stage system with yaw sensor |
| US6666611B2 (en) | 2000-08-18 | 2003-12-23 | Nikon Corporation | Three degree of freedom joint |
| US6814096B2 (en) * | 2000-12-15 | 2004-11-09 | Nor-Cal Products, Inc. | Pressure controller and method |
| US20030017446A1 (en) * | 2001-07-20 | 2003-01-23 | Ardais Corporation | Instruments and methods for creating a tissue microarray |
| GB2381947B (en) * | 2001-11-09 | 2004-01-07 | Leica Microsys Lithography Ltd | Electron beam lithography machine |
| US6840886B2 (en) * | 2002-03-29 | 2005-01-11 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method and apparatus for a low cost, high speed, and compact nanometer precision motion stage using friction drive and flexure hinge |
| DE10236239B4 (de) * | 2002-08-07 | 2012-05-16 | Vistec Semiconductor Systems Gmbh | Koordinaten-Messtisch |
| US7151981B2 (en) * | 2003-02-20 | 2006-12-19 | Applied Materials, Inc. | Methods and apparatus for positioning a substrate relative to a support stage |
| US7499767B2 (en) * | 2003-02-20 | 2009-03-03 | Applied Materials, Inc. | Methods and apparatus for positioning a substrate relative to a support stage |
| EP1457834A3 (en) * | 2003-03-14 | 2008-10-29 | Canon Kabushiki Kaisha | Positioning apparatus, exposure apparatus and method for producing device |
| US7665946B2 (en) * | 2003-11-04 | 2010-02-23 | Advanced Display Process Engineering Co., Ltd. | Transfer chamber for flat display device manufacturing apparatus |
| DE10359273A1 (de) | 2003-12-17 | 2005-07-21 | Erich Thallner | Justiervorrichtung |
| US7239107B1 (en) * | 2006-02-24 | 2007-07-03 | The Board Of Trustees Of The University Of Illinois | Flexure stage |
| JP4884050B2 (ja) * | 2006-03-30 | 2012-02-22 | 富士フイルム株式会社 | 駆動装置 |
| GB2443644B (en) * | 2006-11-09 | 2010-01-20 | Vistec Lithography Ltd | Component mounting in movement sensitive equipment |
| US7898204B2 (en) * | 2007-01-05 | 2011-03-01 | Active Precision, Inc. | High-speed substrate manipulator |
| WO2008151107A2 (en) * | 2007-06-01 | 2008-12-11 | Massachusetts Institute Of Technology | High-resolution flexural stage for in-plane position and out-of-plane pitch/roll alignment |
| US7579721B2 (en) * | 2007-07-13 | 2009-08-25 | Hiwin Mikrosystem Corp. | Chain support structure for a planar motor |
| US8310128B2 (en) * | 2008-05-07 | 2012-11-13 | The Board Of Trustees Of The University Of Illinois | High precision silicon-on-insulator MEMS parallel kinematic stages |
| US8051699B2 (en) * | 2008-11-14 | 2011-11-08 | Linares Medical Devices, Llc | Abrasive wear testing machine with cycle programmability and variable force application |
| DE102008058306B4 (de) * | 2008-11-17 | 2012-03-08 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Aerostatisch geführtes Tischsystem für die Vakuumanwendung |
| US8467126B2 (en) | 2010-05-27 | 2013-06-18 | Valley Precision, Inc. | Stage driver for movable stages |
| US8575791B2 (en) * | 2010-12-17 | 2013-11-05 | National Formosa University | Manufacturing-process equipment |
| JP2013157369A (ja) * | 2012-01-27 | 2013-08-15 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | ステージ移動装置 |
| EP3660889A1 (en) * | 2014-07-03 | 2020-06-03 | Newport Corporation | Multi-axis positioning device |
| US9703086B1 (en) * | 2015-12-30 | 2017-07-11 | Orangetek Corporation | Beam splitter |
| DE202022106067U1 (de) | 2022-10-28 | 2024-02-05 | IDEEMA GmbH | Positioniertisch zum Positionieren eines Objekts |
| DE102022128608B4 (de) | 2022-10-28 | 2024-09-12 | IDEEMA GmbH | Positioniertisch und Verfahren zum Positionieren eines Objekts |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4528490A (en) | 1982-08-11 | 1985-07-09 | Hughes Aircraft Company | Two axis drive for stage |
| US4883357A (en) | 1989-03-01 | 1989-11-28 | Zygo Corporation | Dual high stability interferometer |
Family Cites Families (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3466514A (en) * | 1967-06-26 | 1969-09-09 | Ibm | Method and apparatus for positioning objects in preselected orientations |
| FR1587573A (ja) * | 1968-10-25 | 1970-03-20 | ||
| US3786332A (en) * | 1969-03-19 | 1974-01-15 | Thomson Houston Comp Francaise | Micro positioning apparatus |
| US3889164A (en) * | 1973-01-24 | 1975-06-10 | Handotai Kenkyu Shinkokai | Position control system using magnetic forces for correcting the inclination of a controlled member including a torsional mounting |
| US4019109A (en) * | 1974-05-13 | 1977-04-19 | Hughes Aircraft Company | Alignment system and method with micromovement stage |
| JPS51123565A (en) * | 1975-04-21 | 1976-10-28 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Three-dimention-position differential adjustment of processing article |
| US4203064A (en) * | 1977-04-05 | 1980-05-13 | Tokyo Shibaura Electric Co., Ltd. | Method for automatically controlling the position of small objects |
| US4191916A (en) * | 1977-11-23 | 1980-03-04 | Fujitsu Limited | Table positioning system including optical reference position measuring transducer |
| US4187051A (en) * | 1978-05-26 | 1980-02-05 | Jerry Kirsch | Rotary video article centering, orienting and transfer device for computerized electronic operating systems |
| CH633740A5 (fr) * | 1980-01-25 | 1982-12-31 | Charmilles Sa Ateliers | Machine-outil comprenant une table mobile. |
| JPS6012550A (ja) * | 1983-07-04 | 1985-01-22 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | 露光転写装置用マスク供給装置 |
| US4654571A (en) * | 1985-09-16 | 1987-03-31 | Hinds Walter E | Single plane orthogonally movable drive system |
| US4742286A (en) * | 1985-10-29 | 1988-05-03 | Micro-Stage, Inc. | Gas bearing X-Y-θ stage assembly |
| NL8601095A (nl) * | 1986-04-29 | 1987-11-16 | Philips Nv | Positioneerinrichting. |
| US4812725A (en) * | 1987-10-16 | 1989-03-14 | Anwar Chitayat | Positioning device with dual linear motor |
| US4972574A (en) * | 1988-06-08 | 1990-11-27 | Mamiya Denshi Co., Ltd. | Table driving apparatus |
-
1990
- 1990-04-30 US US07/516,844 patent/US5140242A/en not_active Expired - Lifetime
- 1990-10-12 WO PCT/US1990/005877 patent/WO1991017564A1/en not_active Ceased
- 1990-10-12 JP JP3503189A patent/JPH07106516B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1990-10-12 EP EP91902842A patent/EP0527739B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1990-10-12 DE DE69027335T patent/DE69027335T2/de not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4528490A (en) | 1982-08-11 | 1985-07-09 | Hughes Aircraft Company | Two axis drive for stage |
| US4883357A (en) | 1989-03-01 | 1989-11-28 | Zygo Corporation | Dual high stability interferometer |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| WO1991017564A1 (en) | 1991-11-14 |
| DE69027335T2 (de) | 1996-12-12 |
| EP0527739A1 (en) | 1993-02-24 |
| US5140242A (en) | 1992-08-18 |
| DE69027335D1 (de) | 1996-07-11 |
| EP0527739B1 (en) | 1996-06-05 |
| JPH05504731A (ja) | 1993-07-22 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH07106516B2 (ja) | 位置決めステージ | |
| US7271879B2 (en) | Decoupled planar positioning system | |
| JP4384664B2 (ja) | 試料検査および処理用の高精度動的位置合わせ機構 | |
| JP3184825B2 (ja) | 光学装置の角度位置を正確に調整するための装置および方法 | |
| US7243571B2 (en) | Ultra-precision positioning system | |
| JP2001126977A (ja) | ステージ装置および露光装置ならびに回路デバイス製造方法 | |
| US6860020B2 (en) | Ultra-precision feeding apparatus | |
| Deng et al. | A macro–micro compensation method for straightness motion error and positioning error of an improved linear stage | |
| US7078848B2 (en) | Multi-axes, sub-micron positioner | |
| US6466324B1 (en) | Servo guided stage system with yaw sensor | |
| JP2001116867A (ja) | Ｘｙステージ | |
| JP2773777B2 (ja) | アクチュエータユニットおよびそれを用いたレベル調整のできるステージ装置 | |
| JP2780817B2 (ja) | 精密ステージ装置 | |
| JP2803440B2 (ja) | Ｘｙ微動ステージ | |
| JPH0434166B2 (ja) | ||
| JPH09211337A (ja) | 載物台 | |
| EP0296192A1 (en) | X-Y-$g(U)-Z POSITIONING STAGE | |
| JP2000142600A (ja) | 揺動駆動装置 | |
| JP2920332B2 (ja) | ボールネジ付精密位置決め装置 | |
| JPS59101834A (ja) | 精密平面移動装置 | |
| US6307284B1 (en) | Positioning apparatus, information recording/reproducing apparatus, and inspection apparatus | |
| KR100302179B1 (ko) | 3축 운동 스테이지 장치 | |
| JP2000110909A (ja) | 直線案内装置 | |
| JP2002032129A (ja) | 制御用センサと補正用センサを用いた移動ステージ機構と制御方法および制御装置 | |
| JPH09216137A (ja) | 位置決め装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |