JPH071072U - 単結晶引上装置 - Google Patents
単結晶引上装置Info
- Publication number
- JPH071072U JPH071072U JP004652U JP465294U JPH071072U JP H071072 U JPH071072 U JP H071072U JP 004652 U JP004652 U JP 004652U JP 465294 U JP465294 U JP 465294U JP H071072 U JPH071072 U JP H071072U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- single crystal
- cooling
- chamber
- crucible
- pulled
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Liquid Deposition Of Substances Of Which Semiconductor Devices Are Composed (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 引上げる単結晶の急冷する領域を制限するこ
とができ、かつ引上げる単結晶の径の大きさに応じて適
正な冷却効果を与えることができ、したがって単結晶の
品質を良好に保持できる単結晶引上装置を提供する。 【構成】 チョクラルスキー法によってルツボ4内の原
料融液6から単結晶9を引上げ成長させる単結晶引上装
置において、上記ルツボ4を収納したチャンバーは上下
に複数に分割可能とされ、該チャンバーのうち下チャン
バー2の上フランジ2aの上端面に、上記単結晶9を囲
んだ状態で冷却する冷却筒10が取付部11を介して着
脱自在に設けられたことを特徴とする。
とができ、かつ引上げる単結晶の径の大きさに応じて適
正な冷却効果を与えることができ、したがって単結晶の
品質を良好に保持できる単結晶引上装置を提供する。 【構成】 チョクラルスキー法によってルツボ4内の原
料融液6から単結晶9を引上げ成長させる単結晶引上装
置において、上記ルツボ4を収納したチャンバーは上下
に複数に分割可能とされ、該チャンバーのうち下チャン
バー2の上フランジ2aの上端面に、上記単結晶9を囲
んだ状態で冷却する冷却筒10が取付部11を介して着
脱自在に設けられたことを特徴とする。
Description
【0001】
本考案は、チョクラルスキー法によってルツボ内の原料融液から単結晶を引上 げ成長させる単結晶引上装置に関するものである。
【0002】
従来、この種の単結晶引上装置としては、例えば、特開昭57−205397 号公報、特開昭61−68389号公報に記載されたものが知られている。これ らの単結晶引上装置にあっては、黒鉛サセプタに保持された石英ルツボ内にシリ コン融液が収容され、この黒鉛サセプタの周囲にヒータ及び保温筒がそれぞれ設 けられ、かつ上記石英ルツボの上方に、この石英ルツボ内のシリコン融液から引 上げられた単結晶を冷却する冷却手段が設けられており、この冷却手段で引上げ 成長中の単結晶を強制的に冷却することにより、結晶欠陥が少なく、品質の良好 な単結晶を速やかに得るようにしている。
【0003】
ところで、従来の単結晶引上装置のうち前者のもの(特開昭57−20539 7号)においては、単結晶の周囲に配置する冷却手段の取付構造については明示 されていない。また、後者の単結晶引上装置(特開昭61−68389号)にあ っては、上記冷却手段が、上記石英ルツボ、黒鉛サセプタ、ヒータ及び保温筒等 を覆う水冷ジャケットの内壁に固定されているので、引き上げられる単結晶の径 の大小により該単結晶と冷却手段との間隔が変化するため、冷却条件が変わり、 冷却効果に相違が生じてしまうという問題点があった。
【0004】 本考案は上記の事情に鑑みてなされたものであって、引上げる単結晶の急冷す る領域を制限することができ、かつ引上げる単結晶の径の大きさに応じて適正な 冷却効果を与えることができ、したがって単結晶の品質を良好に保持できる単結 晶引上装置を提供することにある。
【0005】
上記課題を解決するために、本考案は次の様な単結晶引上装置を採用した。 すなわち、チョクラルスキー法によってルツボ内の原料融液から単結晶を引上 げ成長させる単結晶引上装置において、上記ルツボを収納したチャンバーは上下 に複数に分割可能とされ、該チャンバーのうち下チャンバーの上フランジの上端 面に、上記単結晶を囲んだ状態で冷却する冷却筒が取付部を介して着脱自在に設 けられたことを特徴としている。
【0006】
本考案の単結晶引上装置では、ルツボを収納するチャンバーを上下に複数に分 割可能とし、該チャンバーのうち下チャンバーの上フランジの上端面に、上記単 結晶を囲んだ状態で冷却する冷却筒を取付部を介して着脱自在に設けたことによ り、上記冷却筒は引上げる単結晶の急冷する領域に合わせて設置され、上記単結 晶の急冷する領域を制限する。また、冷却筒は下チャンバーの上フランジの上端 面に着脱自在であるから、引上げる単結晶の径の大きさに応じて適正な径の冷却 筒を選択配置し上記単結晶に適正な冷却効果を与える。これより、単結晶の品質 が良好に保持される。
【0007】
以下、本考案の一実施例の単結晶引上装置について図面に基づき説明する。 図1は、例えば、100mmの径の単結晶を引き上げる際に用いられる単結晶 引上装置を示す概略構成図であり、図において、1は炉本体であり、この炉本体 1は下チャンバー2、中チャンバー3及び上チャンバー(図示せず)から構成さ れ、それぞれの内部が水冷ジャケット構造とされている。そして、上記炉本体1 の内部のほぼ中央部には石英ルツボ4が設けられており、この石英ルツボ4は、 黒鉛サセプタ(図示せず)を介して昇降自在かつ回転自在な下軸5に取り付けら れている。また、上記石英ルツボ4の周囲には、上記石英ルツボ4内のシリコン 融液6を所定の温度に加熱・保持するヒータ7が設置され、このヒータ7と炉本 体1との間には保温筒8が配置されている。
【0008】 上記シリコン融液6から引き上げられる単結晶9の近傍には、該単結晶9の急 冷する領域を制限するために、該単結晶9を囲んだ状態で冷却する該単結晶9よ り僅かに大径の円筒状の冷却筒10が配置され、該冷却筒10の上端部には、水 平方向外方へ延びる取付部11が設けられ、該取付部11は下チャンバー2の上 フランジ部2aの上端面と中チャンバー3の下フランジ部3aの下端面とにより 挟持された状態で着脱自在に取り付けられている。そして、上記中チャンバー3 及び冷却筒10の中央部には、単結晶9を保持しつつ引き上げるワイヤ12が昇 降自在かつ回転自在に吊設されている。
【0009】 上記のように構成された単結晶引上装置を用いて単結晶を引き上げるには、ま ず、石英ルツボ4内にシリコン融液6となるシリコン片(原料)13を収納し、 引き上げようとする単結晶9の径に応じて冷却筒10を石英ルツボ4の中央部上 方に配置し、該冷却筒10の上端部に設けられた取付部11を下チャンバー2の 上フランジ部2aの上端面と中チャンバー3の下フランジ部3aの下端面とによ り挟持する。次いで、炉本体1内の空気をアルゴンガスで充分置換した後に、シ リコン片13をヒータ7により融解してシリコン融液6とし、該シリコン融液6 の温度を単結晶引き上げに適した温度に保持する。
【0010】 次いで、下軸5を所定の回転速度で回転させ、黒鉛サセプタと共に石英ルツボ 4を所定の回転速度で回転させる。この状態において、上方より、ワイヤ12の 下端にチャックを介して保持されている種結晶を下降させ、シリコン融液6に浸 漬する。そして、ワイヤ12を上記石英ルツボ4の回転方向と逆方向に所定の回 転速度で回転させながら上記種結晶を所定の速度で引き上げることにより、単結 晶9を成長させつつ引き上げる。
【0011】 この単結晶引上装置では、炉本体1を下チャンバー2、中チャンバー3及び上 チャンバーから構成し、下チャンバー2の上フランジ2aの上端面に冷却筒10 を取付部11を介して着脱自在に設けたことにより、引上げる単結晶9の径及び 急冷する領域に合わせて適正な冷却筒10を選択配置し、上記単結晶9の急冷す る領域を制限し、適正な冷却効果を与える。これより、引き上げる単結晶9の品 質が良好に保持される。
【0012】 以上説明した様に、この一実施例の単結晶引上装置によれば、炉本体1を下チ ャンバー2、中チャンバー3及び上チャンバーから構成し、下チャンバー2の上 フランジ2aの上端面に冷却筒10を取付部11を介して着脱自在に設けたので 、引上げる単結晶9の径及び該単結晶9の冷却プロファイルの急冷を必要とする 領域に合った冷却筒10を選択配置することができ、上記単結晶9の急冷する領 域を制限し、適正な冷却効果を与えることができる。したがって、引き上げる単 結晶9内に格子不整や格子欠陥等が発生するのを防止し該単結晶9の結晶の均一 性を向上させることができ、該単結晶9の品質を容易かつ良好に保持することが できる。しかも、この冷却筒10は短いので、上記単結晶9の急冷を必要とする 領域のみを有効に冷却することができる。
【0013】 また、取付部11を下チャンバー2の上フランジ部2aの上端面に取り付け及 び取り外しするだけで、チャンバーの大掛かりな分解を伴うことなく該冷却筒1 0の交換を容易に行うことができ、作業効率が向上する効果がある。
【0014】
以上説明した様に、本考案の単結晶引上装置によれば、ルツボを収納したチャ ンバーを上下に複数に分割可能とし、該チャンバーのうち下チャンバーの上フラ ンジの上端面に、上記単結晶を囲んだ状態で冷却する冷却筒を取付部を介して着 脱自在に設けたので、引上げる単結晶の径及び該単結晶の冷却プロファイルの急 冷を必要とする領域に合った冷却筒を選択配置することができ、上記単結晶の急 冷する領域を制限し、適正な冷却効果を与えることができる。したがって、引き 上げる単結晶内に格子不整や格子欠陥等が発生するのを防止し該単結晶の結晶の 均一性を向上させることができ、該単結晶の品質を容易かつ良好に保持すること ができる。
【0015】 また、取付部を下チャンバーの上フランジの上端面に取り付け及び取り外しす るだけで、チャンバーの大掛かりな分解を伴うことなく該冷却筒の交換を容易に 行うことができ、作業効率が向上する効果がある。
【図1】本考案の一実施例の単結晶引上装置を示す概略
構成図である。
構成図である。
2 下チャンバー 2a 上フランジ部 3 中チャンバー 3a 下フランジ部 4 石英ルツボ 6 シリコン融液 9 単結晶 10 冷却筒 11 取付部
Claims (1)
- 【請求項1】 チョクラルスキー法によってルツボ内の
原料融液から単結晶を引上げ成長させる単結晶引上装置
において、上記ルツボを収納したチャンバーは上下に複
数に分割可能とされ、該チャンバーのうち下チャンバー
の上フランジの上端面に、上記単結晶を囲んだ状態で冷
却する冷却筒が取付部を介して着脱自在に設けられたこ
とを特徴とする単結晶引上装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1994004652U JP2533864Y2 (ja) | 1994-04-28 | 1994-04-28 | 単結晶引上装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1994004652U JP2533864Y2 (ja) | 1994-04-28 | 1994-04-28 | 単結晶引上装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH071072U true JPH071072U (ja) | 1995-01-10 |
| JP2533864Y2 JP2533864Y2 (ja) | 1997-04-23 |
Family
ID=18527007
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1994004652U Expired - Lifetime JP2533864Y2 (ja) | 1994-04-28 | 1994-04-28 | 単結晶引上装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2533864Y2 (ja) |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5567597A (en) * | 1978-11-09 | 1980-05-21 | Chiyou Lsi Gijutsu Kenkyu Kumiai | Single crystal rod producing device |
| JPS579871B2 (ja) * | 1974-05-20 | 1982-02-23 | ||
| JPS5750759A (en) * | 1980-09-10 | 1982-03-25 | Hitachi Ltd | Charged particle irradiator |
| JPS6296389A (ja) * | 1985-10-18 | 1987-05-02 | Mitsubishi Metal Corp | 単結晶製造装置 |
| JPS62138385A (ja) * | 1985-12-11 | 1987-06-22 | Shin Etsu Handotai Co Ltd | 半導体単結晶の引上装置 |
-
1994
- 1994-04-28 JP JP1994004652U patent/JP2533864Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS579871B2 (ja) * | 1974-05-20 | 1982-02-23 | ||
| JPS5567597A (en) * | 1978-11-09 | 1980-05-21 | Chiyou Lsi Gijutsu Kenkyu Kumiai | Single crystal rod producing device |
| JPS5750759A (en) * | 1980-09-10 | 1982-03-25 | Hitachi Ltd | Charged particle irradiator |
| JPS6296389A (ja) * | 1985-10-18 | 1987-05-02 | Mitsubishi Metal Corp | 単結晶製造装置 |
| JPS62138385A (ja) * | 1985-12-11 | 1987-06-22 | Shin Etsu Handotai Co Ltd | 半導体単結晶の引上装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2533864Y2 (ja) | 1997-04-23 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US9217208B2 (en) | Apparatus for producing single crystal | |
| US5196173A (en) | Apparatus for process for growing crystals of semiconductor materials | |
| US4650540A (en) | Methods and apparatus for producing coherent or monolithic elements | |
| JPH0639351B2 (ja) | 単結晶棒の製造装置及び方法 | |
| JPS6168389A (ja) | 単結晶成長装置 | |
| JP2533864Y2 (ja) | 単結晶引上装置 | |
| US7195671B2 (en) | Thermal shield | |
| JPH0315550Y2 (ja) | ||
| WO2011067894A1 (ja) | 単結晶製造装置及び単結晶製造方法 | |
| KR102355248B1 (ko) | 실리콘 단결정 잉곳의 성장 장치 및 방법 | |
| JPH0523579Y2 (ja) | ||
| JP2001010890A (ja) | 単結晶引上装置 | |
| JPH05254988A (ja) | 単結晶の製造方法および装置 | |
| KR0157365B1 (ko) | 실리콘 단결정 성장노내의 가스 흐름을 원활하게 하기 위한 방법 및 이를 실현하기 위한 장치 | |
| JPH0297479A (ja) | 単結晶引上装置 | |
| JPH01100087A (ja) | 単結晶引上装置 | |
| JPH06247788A (ja) | シリコン単結晶の製造方法およびその装置 | |
| JP2884379B2 (ja) | 単結晶製造装置 | |
| JPH0660080B2 (ja) | 単結晶成長装置 | |
| JPS62167285A (ja) | ペデイスタル固定方法 | |
| JPH06340493A (ja) | 単結晶育成装置および育成方法 | |
| JP3151327B2 (ja) | 単結晶体製造装置 | |
| JPH0596073U (ja) | 単結晶引き上げ用熱遮蔽体 | |
| JPH0297480A (ja) | 単結晶引上装置 | |
| JPS63307187A (ja) | 単結晶引上装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19961210 |