JPH0710895A - グリコシル化合物の製造方法 - Google Patents
グリコシル化合物の製造方法Info
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- JPH0710895A JPH0710895A JP5177461A JP17746193A JPH0710895A JP H0710895 A JPH0710895 A JP H0710895A JP 5177461 A JP5177461 A JP 5177461A JP 17746193 A JP17746193 A JP 17746193A JP H0710895 A JPH0710895 A JP H0710895A
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
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- Saccharide Compounds (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 調製の容易な１−ヒドロキシ糖を原料とし、
グリコシル化合物を従来の合成法と比較して簡易かつ緩
和な条件下、高収率で得る製造法を提供する。 【構成】 １位以外の官能基が保護された１−ヒドロキ
シ糖と、ヒドロキシ化合物またはメルカブト化合物を２
価スズ化合物とＮ−ハロイミド化合物の存在下に反応さ
せて、グリコシル化合物を製造する方法。具体例とし
て、式Ｉａの化合物から式IIIａの化合物を導く反応式
で示される方法が挙げられる。 （式中、Bnはベンジルを、ＮＣＳはＮ−クロロコハク酸
イミドを表す。）
グリコシル化合物を従来の合成法と比較して簡易かつ緩
和な条件下、高収率で得る製造法を提供する。 【構成】 １位以外の官能基が保護された１−ヒドロキ
シ糖と、ヒドロキシ化合物またはメルカブト化合物を２
価スズ化合物とＮ−ハロイミド化合物の存在下に反応さ
せて、グリコシル化合物を製造する方法。具体例とし
て、式Ｉａの化合物から式IIIａの化合物を導く反応式
で示される方法が挙げられる。 （式中、Bnはベンジルを、ＮＣＳはＮ−クロロコハク酸
イミドを表す。）
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は抗生物質や糖質関連化合
物の合成に有用な中間体であるグリコシル化合物の製造
法に関する。本発明のグリコシル化方法により合成され
る化合物は例えば抗生物質アンスラサイクリンの合成
［F. Arcamone, Doxorubicin Anticancer Antibiotics,
Academic Press, New York 1981、S. Terashima et a
l., Bull.Chem. Soc. Japan, 59, 423 (1986)］、糖鎖
誘導体ガングリオシドの合成［T.Ogawa et al., J. Or
g. Chem., 57, 1821 (1992) ］やＤＤＳ製剤の合成［T.
W. Doebber et al., J. Biol. Chem., 257, 2193 (198
2)］に用いることができる。
物の合成に有用な中間体であるグリコシル化合物の製造
法に関する。本発明のグリコシル化方法により合成され
る化合物は例えば抗生物質アンスラサイクリンの合成
［F. Arcamone, Doxorubicin Anticancer Antibiotics,
Academic Press, New York 1981、S. Terashima et a
l., Bull.Chem. Soc. Japan, 59, 423 (1986)］、糖鎖
誘導体ガングリオシドの合成［T.Ogawa et al., J. Or
g. Chem., 57, 1821 (1992) ］やＤＤＳ製剤の合成［T.
W. Doebber et al., J. Biol. Chem., 257, 2193 (198
2)］に用いることができる。
【０００２】
【従来の技術】グリコシル化合物は天然においては、例
えば生薬成分や抗生物質として広く存在している。また
近年、オリゴ糖、糖脂質、糖ペプチドなどの糖質関連化
合物が生体内で果たす役割が次々と明らかにされ，応用
という見地から、その類縁体、誘導体やグリコシル化合
物などの探索研究が盛んに行なわれている。また、これ
らの多様な糖質を合成するために合成研究も盛んに行わ
れており、特にグリコシル化反応は以下に示すような問
題点があり、より簡便で効率の良い反応が強く望まれて
いる。
えば生薬成分や抗生物質として広く存在している。また
近年、オリゴ糖、糖脂質、糖ペプチドなどの糖質関連化
合物が生体内で果たす役割が次々と明らかにされ，応用
という見地から、その類縁体、誘導体やグリコシル化合
物などの探索研究が盛んに行なわれている。また、これ
らの多様な糖質を合成するために合成研究も盛んに行わ
れており、特にグリコシル化反応は以下に示すような問
題点があり、より簡便で効率の良い反応が強く望まれて
いる。
【０００３】従来、アノメリック位が水酸基である１−
ヒドロキシ糖をグリコシル化する方法としては、例えば
酸触媒（鉱酸、Lewis 酸、陽イオン交換樹脂）の存在下
に大過剰の低級アルコールを反応せる方法(Fischer法)
が知られている。大過剰の低級アルコールを用いる理由
は１位どうしが縮合したトレハロース型化合物が副生し
ていたからである。しかしながらこの副反応を制御する
ことは一般に容易でなく、リボフラノース誘導体など限
られた基質に対して僅かに報告例があるのみである [向
山ら、 Chem. Lett., 1142 (1990) 、同431 (1991)、同
981 (1991)] 。従って、１−ヒドロキシ糖を直接グリコ
シル化することは困難とされており、通常アノメリック
位を水酸基から他の置換基に変換した後、種々の活性化
剤を用いてグリコシル化する方法が数多く報告されてい
る。例えば、活性基としては、-OAc、Cl、Br、F 、-SR
、-OPO(OR)2 (Rはアルキルやフェニルなど) が報告さ
れている[K. Suzuki, T. Nagasawa, 有機合成化学協会
誌, 50, 378 (1992)] 。
ヒドロキシ糖をグリコシル化する方法としては、例えば
酸触媒（鉱酸、Lewis 酸、陽イオン交換樹脂）の存在下
に大過剰の低級アルコールを反応せる方法(Fischer法)
が知られている。大過剰の低級アルコールを用いる理由
は１位どうしが縮合したトレハロース型化合物が副生し
ていたからである。しかしながらこの副反応を制御する
ことは一般に容易でなく、リボフラノース誘導体など限
られた基質に対して僅かに報告例があるのみである [向
山ら、 Chem. Lett., 1142 (1990) 、同431 (1991)、同
981 (1991)] 。従って、１−ヒドロキシ糖を直接グリコ
シル化することは困難とされており、通常アノメリック
位を水酸基から他の置換基に変換した後、種々の活性化
剤を用いてグリコシル化する方法が数多く報告されてい
る。例えば、活性基としては、-OAc、Cl、Br、F 、-SR
、-OPO(OR)2 (Rはアルキルやフェニルなど) が報告さ
れている[K. Suzuki, T. Nagasawa, 有機合成化学協会
誌, 50, 378 (1992)] 。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし、従来の方法で
は、反応の容易さ及び出発原料の調製を含め問題が数多
く存在している。例えば、酸触媒を用いて１−ヒドロキ
シ糖をグリコシル化する方法では、アルコールは低級の
ものに限られ、しかも大過剰量存在下、長時間反応させ
る必要がある。また上述した活性基を有する糖は、それ
らの調製も一般に簡便でなく、安定性にも問題がある場
合が多い。
は、反応の容易さ及び出発原料の調製を含め問題が数多
く存在している。例えば、酸触媒を用いて１−ヒドロキ
シ糖をグリコシル化する方法では、アルコールは低級の
ものに限られ、しかも大過剰量存在下、長時間反応させ
る必要がある。また上述した活性基を有する糖は、それ
らの調製も一般に簡便でなく、安定性にも問題がある場
合が多い。
【０００５】本発明の目的は、入手の容易な１−ヒドロ
キシ糖から、簡便かつ速やかに合成し、良好な収率で生
成物を得ることが可能な、グリコシル化合物の製造法を
提供することにある。
キシ糖から、簡便かつ速やかに合成し、良好な収率で生
成物を得ることが可能な、グリコシル化合物の製造法を
提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記目的
を達成するため鋭意検討を重ねた結果、種々の１−ヒド
ロキシ糖を出発物質とし、二価スズ化合物とＮ−ハロイ
ミド化合物の併用により、所期の目的が達成できること
を見出し本発明を完成するに至った。即ち、本発明のグ
リコシル化合物の製造法は、１位以外の官能基が保護さ
れた１−ヒドロキシ糖とヒドロキシ化合物またはメルカ
プト化合物を、２価スズ化合物とＮ−ハロイミド化合物
の存在下に反応させて、グリコシル化合物を製造する方
法に関する。
を達成するため鋭意検討を重ねた結果、種々の１−ヒド
ロキシ糖を出発物質とし、二価スズ化合物とＮ−ハロイ
ミド化合物の併用により、所期の目的が達成できること
を見出し本発明を完成するに至った。即ち、本発明のグ
リコシル化合物の製造法は、１位以外の官能基が保護さ
れた１−ヒドロキシ糖とヒドロキシ化合物またはメルカ
プト化合物を、２価スズ化合物とＮ−ハロイミド化合物
の存在下に反応させて、グリコシル化合物を製造する方
法に関する。
【０００７】以下、このグリコシル化合物の製造方法を
具体的に説明する。
具体的に説明する。
【０００８】本発明の原料である１位以外の官能基が保
護された１−ヒドロキシ糖に於いて、１−ヒドロキシ糖
としては例えばピラノ−ス誘導体、フラノ−ス誘導体等
の炭素数５〜６の糖類の１位が水酸基である還元糖を用
いることができ、また単糖だけでなく二糖や多糖も使用
できる。具体的には単糖としてグルコース、ガラクトー
ス、リボ−ス、二糖としてラクト−ス、多糖としてセロ
トリオ−ス等が挙げられる。本発明の製造方法にはこれ
らの糖の反応させるアノメリック位以外の水酸基を通常
の糖類合成に使用される保護基により保護したものを用
いることができる。さらに具体的には一般式〔Ｉ〕
護された１−ヒドロキシ糖に於いて、１−ヒドロキシ糖
としては例えばピラノ−ス誘導体、フラノ−ス誘導体等
の炭素数５〜６の糖類の１位が水酸基である還元糖を用
いることができ、また単糖だけでなく二糖や多糖も使用
できる。具体的には単糖としてグルコース、ガラクトー
ス、リボ−ス、二糖としてラクト−ス、多糖としてセロ
トリオ−ス等が挙げられる。本発明の製造方法にはこれ
らの糖の反応させるアノメリック位以外の水酸基を通常
の糖類合成に使用される保護基により保護したものを用
いることができる。さらに具体的には一般式〔Ｉ〕
【化１】 (式中、R1は水素原子、置換もしくは無置換の低級アル
コキシ基、フェニル環上に置換基を有していてもよいベ
ンジルオキシ基またはフェニル環上に置換基を有してい
てもよいベンジルアミノ基もしくはジベンジルアミノ基
を表す。R4は水素原子または -CH2OR5であり、R2、R3お
よびR5はそれぞれ独立して保護基、無置換もしくは置換
アルキル基または水酸基もしくはアミノ基を保護基によ
り保護した糖を表す。）や一般式〔ＩＩ〕
コキシ基、フェニル環上に置換基を有していてもよいベ
ンジルオキシ基またはフェニル環上に置換基を有してい
てもよいベンジルアミノ基もしくはジベンジルアミノ基
を表す。R4は水素原子または -CH2OR5であり、R2、R3お
よびR5はそれぞれ独立して保護基、無置換もしくは置換
アルキル基または水酸基もしくはアミノ基を保護基によ
り保護した糖を表す。）や一般式〔ＩＩ〕
【化２】 (式中、R1、R2およびR4は前記と同じ意味を表す。)で表
される化合物が挙げられる。
される化合物が挙げられる。
【０００９】R2、R3およびR5で表される基のうち水酸基
を保護基により保護した糖としては、前記の単糖、二
糖、多糖等の結合部位以外の水酸基を通常の糖類合成に
使用される保護基により保護したものを用いることがで
きる。
を保護基により保護した糖としては、前記の単糖、二
糖、多糖等の結合部位以外の水酸基を通常の糖類合成に
使用される保護基により保護したものを用いることがで
きる。
【００１０】ヒドロキシ化合物またはメルカプト化合物
としては、置換もしくは無置換のアルカノ−ル、置換も
しくは無置換のアルキルメルカプタン、置換もしくは無
置換のフェノールなどの芳香族ヒドロキシ化合物、置換
もしくは無置換のアリ−ルメルカプタンまたは反応する
水酸基以外の水酸基もしくはアミノ基を保護基により保
護した糖等が挙げられる。
としては、置換もしくは無置換のアルカノ−ル、置換も
しくは無置換のアルキルメルカプタン、置換もしくは無
置換のフェノールなどの芳香族ヒドロキシ化合物、置換
もしくは無置換のアリ−ルメルカプタンまたは反応する
水酸基以外の水酸基もしくはアミノ基を保護基により保
護した糖等が挙げられる。
【００１１】アルカノ−ル、アルキルメルカプタンのア
ルキル基としては、炭素数１ないし２０の分岐または環
状構造を有していてもよいアルキル基が挙げられ、反応
時の立体障害の少ない１級または２級のアルキル基が好
ましい。具体的には例えばメチル、エチル、プロピル、
イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、
ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デ
シル、ドデシル、ウンデシル、トリデシル、テトラデシ
ル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オク
タデシル、ノナデシル、エイコサニル、シクロヘキシル
等が挙げられる。アルキル基上には同一または異なって
一つ以上の置換基を有していてもよく、置換基としては
例えばニトロ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、アルケ
ニル基、アルキニル基、アルコキシ基、アシルオキシ
基、アルキルチオ基、アルキルアミノ基、ジアルキルア
ミノ基、アルキルカルバモイルオキシ基、ジアルキルカ
ルバモイルオキシ基、芳香族基、アルキルカルボニルオ
キシ基等が挙げられる。置換基が互いに結合して環状と
なってもよく、具体的にはラクトン、ラクタム環が挙げ
られ、さらに具体的には
ルキル基としては、炭素数１ないし２０の分岐または環
状構造を有していてもよいアルキル基が挙げられ、反応
時の立体障害の少ない１級または２級のアルキル基が好
ましい。具体的には例えばメチル、エチル、プロピル、
イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、
ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デ
シル、ドデシル、ウンデシル、トリデシル、テトラデシ
ル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オク
タデシル、ノナデシル、エイコサニル、シクロヘキシル
等が挙げられる。アルキル基上には同一または異なって
一つ以上の置換基を有していてもよく、置換基としては
例えばニトロ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、アルケ
ニル基、アルキニル基、アルコキシ基、アシルオキシ
基、アルキルチオ基、アルキルアミノ基、ジアルキルア
ミノ基、アルキルカルバモイルオキシ基、ジアルキルカ
ルバモイルオキシ基、芳香族基、アルキルカルボニルオ
キシ基等が挙げられる。置換基が互いに結合して環状と
なってもよく、具体的にはラクトン、ラクタム環が挙げ
られ、さらに具体的には
【化３】 が挙げられる。
【００１２】これらのアルカノ−ル、アルキルチオ−ル
は多価であってもよく、例えばグリセロール誘導体、セ
ラミドや
は多価であってもよく、例えばグリセロール誘導体、セ
ラミドや
【化４】 等が挙げられる。
【００１３】ヒドロキシ化合物またはメルカプト化合物
のうち反応する水酸基以外の水酸基もしくはアミノ基を
保護基により保護した糖とは、糖として単糖、二糖、多
糖等が挙げられ、具体的には単糖としてグルコース、ガ
ラクトース、リボ−ス、二糖としてラクト−ス、多糖と
してセロトリオ−ス等が挙げられる。本反応にはこれら
の糖の反応する水酸基以外の水酸基もしくはアミノ基を
通常の糖類合成に使用される保護基により保護したもの
を用いることができ、具体的には例えば
のうち反応する水酸基以外の水酸基もしくはアミノ基を
保護基により保護した糖とは、糖として単糖、二糖、多
糖等が挙げられ、具体的には単糖としてグルコース、ガ
ラクトース、リボ−ス、二糖としてラクト−ス、多糖と
してセロトリオ−ス等が挙げられる。本反応にはこれら
の糖の反応する水酸基以外の水酸基もしくはアミノ基を
通常の糖類合成に使用される保護基により保護したもの
を用いることができ、具体的には例えば
【化５】 （式中、Bnはベンジル基を表す。）等が挙げられる。
【００１４】本発明で使用する２価スズ化合物としては
第一スズ塩が挙げられ、第一スズ塩としてはハロゲン化
第一スズやカルボン酸、スルホン酸の第一スズ塩、第一
スズアルコキシドが挙げられる。更に具体的にはハロゲ
ン化第一スズとしてフッ化第一スズ (SnF2) 、塩化第一
スズ(SnCl2) 、臭化第一スズ(SnBr2) が、カルボン酸の
第一スズ塩としては酢酸第一スズ(Sn(OAc)2)が、スルホ
ン酸の第一スズ塩としてはトリフルオロメタンスルホン
酸第一スズ(Sn(OSO2CF3)2)等が挙げられる。
第一スズ塩が挙げられ、第一スズ塩としてはハロゲン化
第一スズやカルボン酸、スルホン酸の第一スズ塩、第一
スズアルコキシドが挙げられる。更に具体的にはハロゲ
ン化第一スズとしてフッ化第一スズ (SnF2) 、塩化第一
スズ(SnCl2) 、臭化第一スズ(SnBr2) が、カルボン酸の
第一スズ塩としては酢酸第一スズ(Sn(OAc)2)が、スルホ
ン酸の第一スズ塩としてはトリフルオロメタンスルホン
酸第一スズ(Sn(OSO2CF3)2)等が挙げられる。
【００１５】Ｎ−ハロイミド化合物とは窒素原子がハロ
ゲン化されたイミド化合物を意味し、イミド化合物とし
てはコハク酸イミドやフタルイミド等が挙げられる。
ゲン化されたイミド化合物を意味し、イミド化合物とし
てはコハク酸イミドやフタルイミド等が挙げられる。
【００１６】保護基としては、通常の糖類合成に使用さ
れる保護基が使用でき、酸性条件下で安定な保護基が望
ましい。具体的には例えばアシル基、無置換または置換
ベンジル基、パラメトキシフェニル基等が使用できる。
れる保護基が使用でき、酸性条件下で安定な保護基が望
ましい。具体的には例えばアシル基、無置換または置換
ベンジル基、パラメトキシフェニル基等が使用できる。
【００１７】本発明に於けるハロゲン原子としてはフッ
素、塩素、臭素、ヨウ素等が挙げられる。
素、塩素、臭素、ヨウ素等が挙げられる。
【００１８】アルケニル基としては例えば低級アルケニ
ル基が挙げられる。低級アルケニル基としては、炭素数
１〜７の直鎖又は分岐のアルケニル基が挙げられ、さら
に具体的にはアリル、クロチル等が挙げられる。
ル基が挙げられる。低級アルケニル基としては、炭素数
１〜７の直鎖又は分岐のアルケニル基が挙げられ、さら
に具体的にはアリル、クロチル等が挙げられる。
【００１９】アルキニル基としては例えば低級アルキニ
ル基が挙げられる。低級アルキニル基としては、炭素数
１〜７の直鎖又は分岐のアルキニル基が挙げられ、さら
に具体的にはエチニル、プロパルギル等が挙げられる。
ル基が挙げられる。低級アルキニル基としては、炭素数
１〜７の直鎖又は分岐のアルキニル基が挙げられ、さら
に具体的にはエチニル、プロパルギル等が挙げられる。
【００２０】アシル基としては、アルカノイル基やアロ
イル基が挙げられ、アルカノイル基としては低級アルカ
ノイル基が挙げられ、具体的にはアセチル基が挙げられ
る。アロイル基としては、ベンゾイル基等が挙げられ
る。
イル基が挙げられ、アルカノイル基としては低級アルカ
ノイル基が挙げられ、具体的にはアセチル基が挙げられ
る。アロイル基としては、ベンゾイル基等が挙げられ
る。
【００２１】アシルオキシ基とは、前記アシル基に酸素
原子が結合した基を表す。
原子が結合した基を表す。
【００２２】アルコキシ基、アルキルチオ基、アルキル
アミノ基、ジアルキルアミノ基、アルキルカルバモイル
オキシ基、ジアルキルカルバモイルオキシ基、アルキル
カルボニルオキシ基のアルキル部位としては例えば低級
アルキル基が挙げられる。
アミノ基、ジアルキルアミノ基、アルキルカルバモイル
オキシ基、ジアルキルカルバモイルオキシ基、アルキル
カルボニルオキシ基のアルキル部位としては例えば低級
アルキル基が挙げられる。
【００２３】芳香族ヒドロキシ化合物、アリールメルカ
プタンの芳香族基としては、炭素数６〜１０の単環また
は縮合した芳香族基が挙げられる。さらに具体的にはフ
ェニル、ナフチル等が挙げられる。
プタンの芳香族基としては、炭素数６〜１０の単環また
は縮合した芳香族基が挙げられる。さらに具体的にはフ
ェニル、ナフチル等が挙げられる。
【００２４】置換低級アルコキシ基、フェニル環上に置
換基を有していてもよいベンジルオキシ基、フェニル環
上に置換基を有していてもよいベンジルアミノ基もしく
はジベンジルアミノ基、置換芳香族ヒドロキシ化合物、
置換アリ−ルメルカプタン、置換ベンジル基の置換基と
しては、低級アルキル基、ニトロ基、ヒドロキシ基、ハ
ロゲン原子、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシ
基、アルキルチオ基、アルキルアミノ基、ジアルキルア
ミノ基、アルキルカルバモイルオキシ基、芳香族基、ア
ルキルカルボニルオキシ基等が挙げられる。
換基を有していてもよいベンジルオキシ基、フェニル環
上に置換基を有していてもよいベンジルアミノ基もしく
はジベンジルアミノ基、置換芳香族ヒドロキシ化合物、
置換アリ−ルメルカプタン、置換ベンジル基の置換基と
しては、低級アルキル基、ニトロ基、ヒドロキシ基、ハ
ロゲン原子、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシ
基、アルキルチオ基、アルキルアミノ基、ジアルキルア
ミノ基、アルキルカルバモイルオキシ基、芳香族基、ア
ルキルカルボニルオキシ基等が挙げられる。
【００２５】低級アルキル基としては、炭素数１〜７の
直鎖または分岐のアルキル基が挙げられ、さらに具体的
にはメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ペンチル、ヘキシ
ル、ヘプチル、シクロヘキシル等が挙げられる。
直鎖または分岐のアルキル基が挙げられ、さらに具体的
にはメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ペンチル、ヘキシ
ル、ヘプチル、シクロヘキシル等が挙げられる。
【００２６】反応は溶媒中で行うのが好ましく、溶媒と
しては、塩化メチレン、1,2-ジクロロエタン等のハロゲ
ン化炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジメトキシエタン、ジオキサン等のエーテル類、ト
ルエン等の芳香族炭化水素類、ヘキサン等の脂肪族炭化
水素類、アセトニトリル等が挙げられる。これらは単独
もしくは混合溶媒として使用される。
しては、塩化メチレン、1,2-ジクロロエタン等のハロゲ
ン化炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジメトキシエタン、ジオキサン等のエーテル類、ト
ルエン等の芳香族炭化水素類、ヘキサン等の脂肪族炭化
水素類、アセトニトリル等が挙げられる。これらは単独
もしくは混合溶媒として使用される。
【００２７】ヒドロキシ化合物またはメルカプト化合物
は、通常１位以外の官能基が保護された１−ヒドロキシ
糖に対して 0.9〜4.0 当量、好ましくは 1.1〜 2.0当量
の範囲で使用する。
は、通常１位以外の官能基が保護された１−ヒドロキシ
糖に対して 0.9〜4.0 当量、好ましくは 1.1〜 2.0当量
の範囲で使用する。
【００２８】２価スズ化合物およびＮ−ハロイミド化合
物の１位以外の官能基が保護された１−ヒドロキシ糖に
対する使用割合は 1 : 2〜 2 : 1（モル比）、好ましく
は 1: 1.2〜1.2 : 1 （モル比）の範囲にある。
物の１位以外の官能基が保護された１−ヒドロキシ糖に
対する使用割合は 1 : 2〜 2 : 1（モル比）、好ましく
は 1: 1.2〜1.2 : 1 （モル比）の範囲にある。
【００２９】反応は-30 ℃〜 50 ℃、好ましくは-10 ℃
〜室温の温度で数時間〜24時間程度行なわれる。この
際、反応操作及び反応は無水条件下で行なうのが好まし
い。
〜室温の温度で数時間〜24時間程度行なわれる。この
際、反応操作及び反応は無水条件下で行なうのが好まし
い。
【００３０】以上の様にして得られたグリコシル化合物
は、常法に従いシリカゲルカラムクロマトグラフィー等
により精製することができる。
は、常法に従いシリカゲルカラムクロマトグラフィー等
により精製することができる。
【００３１】本発明の原料である１−ヒドロキシ糖は公
知化合物または公知化合物から容易に誘導できる化合物
を出発原料として合成することができ、出発原料として
は例えば、アラビノース、グルコース、ガラクトース、
マンノース、フコース等の炭素数５〜６の糖類の１位が
水酸基である還元糖を用いることができ、単糖だけでな
く二糖や多糖等も用いることができる。これらの出発原
料のアノメリック位以外の他の炭素に結合した遊離の水
酸基もしくはアミノ基は、好ましくない反応を避けるた
めに、保護基で保護しておく。これらの化合物は例えば
還元末端と非還元末端を保護した化合物〔Ｖ〕の還元末
端のみを脱保護することにより得ることができる。
知化合物または公知化合物から容易に誘導できる化合物
を出発原料として合成することができ、出発原料として
は例えば、アラビノース、グルコース、ガラクトース、
マンノース、フコース等の炭素数５〜６の糖類の１位が
水酸基である還元糖を用いることができ、単糖だけでな
く二糖や多糖等も用いることができる。これらの出発原
料のアノメリック位以外の他の炭素に結合した遊離の水
酸基もしくはアミノ基は、好ましくない反応を避けるた
めに、保護基で保護しておく。これらの化合物は例えば
還元末端と非還元末端を保護した化合物〔Ｖ〕の還元末
端のみを脱保護することにより得ることができる。
【化６】 Ｒ''＝Ａｃの例：P. Sinay et al., Carbohydr. Res.,
132, C5 (1984) Ｒ''＝ＳｉＭｅ2 ｔＢｕの例：R. R. Schmidt et al.,
Justus Leibigs Ann. Chem., 1985, 1537 Ｒ''＝ＯＣＨ2 ＣＨ2 ＳｉＭｅ3 の例：J. Magnusson e
t al., J. Org. Chem.,53, 5629 (1988) Ｒ''＝オルトニトロベンジルの例：K. C. Nicolaou et
al., J. Am. Chem. Soc., 114, 3126 (1992) Ｒ''＝アリルの例：I. Hisanaka et al., J. Org. Che
m., 58, 774 (1993)
132, C5 (1984) Ｒ''＝ＳｉＭｅ2 ｔＢｕの例：R. R. Schmidt et al.,
Justus Leibigs Ann. Chem., 1985, 1537 Ｒ''＝ＯＣＨ2 ＣＨ2 ＳｉＭｅ3 の例：J. Magnusson e
t al., J. Org. Chem.,53, 5629 (1988) Ｒ''＝オルトニトロベンジルの例：K. C. Nicolaou et
al., J. Am. Chem. Soc., 114, 3126 (1992) Ｒ''＝アリルの例：I. Hisanaka et al., J. Org. Che
m., 58, 774 (1993)
【００３２】かかる方法により合成される１−ヒドロキ
シ糖としては、具体的には例えば次の様なものが挙げら
れる。
シ糖としては、具体的には例えば次の様なものが挙げら
れる。
【化７】 （式中、 Ac はアセチル基、 Bn はベンジル基を表
す。)
す。)
【００３３】ヒドロキシ化合物またはメルカプト化合物
は、市販の試薬や糖類の合成中間体（例えば第４版実験
化学講座、丸善株式会社、平成４年発行、第２６巻、26
7-354 頁に記載）などを用いることができる。反応する
水酸基以外の水酸基もしくはアミノ基を保護基により保
護した糖については、例えば水酸基の保護基のうち特定
のもののみを脱保護することにより合成することができ
る（第４版実験化学講座、丸善株式会社、平成４年発
行、第２６巻、267-354 頁、R. U. Lemieux et al., Ca
rbohydr. Res., 136, 285 (1985)）。
は、市販の試薬や糖類の合成中間体（例えば第４版実験
化学講座、丸善株式会社、平成４年発行、第２６巻、26
7-354 頁に記載）などを用いることができる。反応する
水酸基以外の水酸基もしくはアミノ基を保護基により保
護した糖については、例えば水酸基の保護基のうち特定
のもののみを脱保護することにより合成することができ
る（第４版実験化学講座、丸善株式会社、平成４年発
行、第２６巻、267-354 頁、R. U. Lemieux et al., Ca
rbohydr. Res., 136, 285 (1985)）。
【００３４】また、複数の水酸基を有する化合物につい
ては、水酸基の反応性の相違を利用して特定の水酸基を
反応させることができる。例えば糖の場合、Ｃ−６位の
第一級水酸基は他の水酸基と比べてはるかに反応性が高
い為、この水酸基のみが選択的に反応する。エクアトリ
アル水酸基がアキシアル水酸基より立体障害が小さいこ
とを利用してエクアトリアル水酸基を選択的に反応させ
る（例えばR. R. Schmidt, Angew. Chem. Int. Ed. Eng
l., 25, 212 (1986)に記載されている糖などを用いて）
こともできる。
ては、水酸基の反応性の相違を利用して特定の水酸基を
反応させることができる。例えば糖の場合、Ｃ−６位の
第一級水酸基は他の水酸基と比べてはるかに反応性が高
い為、この水酸基のみが選択的に反応する。エクアトリ
アル水酸基がアキシアル水酸基より立体障害が小さいこ
とを利用してエクアトリアル水酸基を選択的に反応させ
る（例えばR. R. Schmidt, Angew. Chem. Int. Ed. Eng
l., 25, 212 (1986)に記載されている糖などを用いて）
こともできる。
【００３５】本発明の製造方法により、対応するグリコ
シル化合物が製造できる。具体的には一般式〔ＩＩＩ〕
シル化合物が製造できる。具体的には一般式〔ＩＩＩ〕
【化８】 (式中、R1、R2、R3およびR4は前記と同じ意味を表し、
Ａは酸素原子または硫黄原子を表す。R6はヒドロキシ化
合物またはメルカプト化合物のヒドロキシ残基またはメ
ルカプト残基を表す。）や一般式〔ＩＶ〕
Ａは酸素原子または硫黄原子を表す。R6はヒドロキシ化
合物またはメルカプト化合物のヒドロキシ残基またはメ
ルカプト残基を表す。）や一般式〔ＩＶ〕
【化９】 (式中、R1、R2、R4、ＡおよびR6は前記と同じ意味を表
す。)で表される化合物が製造できる。
す。)で表される化合物が製造できる。
【００３６】
【発明の効果】本発明の製造法により、グリコシル化合
物を、調製の容易な１−ヒドロキシ糖を原料とし従来の
合成法と比較して簡易かつ緩和条件下で合成し、高い収
率で得ることが可能となる。
物を、調製の容易な１−ヒドロキシ糖を原料とし従来の
合成法と比較して簡易かつ緩和条件下で合成し、高い収
率で得ることが可能となる。
【００３７】
【実施例】以下、実施例によりこの発明をさらに詳細に
説明する。ただし、本発明は、その要旨を越えない限り
これら実施例により何ら制約を受けるものではない。
説明する。ただし、本発明は、その要旨を越えない限り
これら実施例により何ら制約を受けるものではない。
【００３８】実施例１ メチル２，３，４−トリ−Ｏ−ベンジル−α，β−フコ
ピラノシド〔ＩＩＩａ〕の合成
ピラノシド〔ＩＩＩａ〕の合成
【化１０】 Ｎ−クロロコハク酸イミド（ＮＣＳ）(31 mg，2.30×10
-4mol)を塩化メチレン（３ml）に懸濁し、SnCl2(44mg,
2.30×10-4mol)を加えた後、室温で30分間攪拌した。次
いで２，３，４−トリ−Ｏ−ベンジルフコース〔Ｉａ〕
（50mg, 1.15×10-4mol)とメタノール(9.3μｌ, 2.30×
10-4mol)の塩化メチレン溶液（３ml）を室温で滴下し、
３時間攪拌した。反応液を塩化メチレン（30ml）で希釈
し、飽和重曹水，飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥した。反応液を濾過後、溶媒を留去し、残
渣をプレパラティブＴＬＣ（ＰＴＬＣ）（ヘキサン：酢
酸エチル＝２：１）で分離・精製し、無色油状物（28m
g,54%) として目的物〔ＩＩＩａ〕を得た。 ＮＭＲ（CDCl3)δ(ppm) ： α：β比＝５：２ α体 1.11 (3H,d,J=6.8Hz), 3.35 (3H,s), 3.63-4.06 (3H,
m), 4.64 (1H,d,J=3.0Hz), 4.63-5.00 (7H,m), 7.24-7.
38 (15H,m) α体のピ−クはM. Dejter-Juszynski and H.M.Flowers,
Carbohydr. Res., 18, 219 (1971)記載のものと一致し
た。
-4mol)を塩化メチレン（３ml）に懸濁し、SnCl2(44mg,
2.30×10-4mol)を加えた後、室温で30分間攪拌した。次
いで２，３，４−トリ−Ｏ−ベンジルフコース〔Ｉａ〕
（50mg, 1.15×10-4mol)とメタノール(9.3μｌ, 2.30×
10-4mol)の塩化メチレン溶液（３ml）を室温で滴下し、
３時間攪拌した。反応液を塩化メチレン（30ml）で希釈
し、飽和重曹水，飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥した。反応液を濾過後、溶媒を留去し、残
渣をプレパラティブＴＬＣ（ＰＴＬＣ）（ヘキサン：酢
酸エチル＝２：１）で分離・精製し、無色油状物（28m
g,54%) として目的物〔ＩＩＩａ〕を得た。 ＮＭＲ（CDCl3)δ(ppm) ： α：β比＝５：２ α体 1.11 (3H,d,J=6.8Hz), 3.35 (3H,s), 3.63-4.06 (3H,
m), 4.64 (1H,d,J=3.0Hz), 4.63-5.00 (7H,m), 7.24-7.
38 (15H,m) α体のピ−クはM. Dejter-Juszynski and H.M.Flowers,
Carbohydr. Res., 18, 219 (1971)記載のものと一致し
た。
【００３９】実施例２ シクロヘキシル ２−デオキシ−３，４−Ｏ−アセチル
−α，β−フコピラノシド〔ＩＩＩｂ〕の合成
−α，β−フコピラノシド〔ＩＩＩｂ〕の合成
【化１１】 ＮＣＳ（58mg，4.30×10-4mol), SnCl2(82mg, 4.30×10
-4mol)及びシクロヘキシルアルコール (22.4μｌ, 4.30
×10-4mol)を用い、実施例１と同様の操作を行い、２−
デオキシ−３，４−ジ−Ｏ−アセチル−フコピラノシド
〔Ｉｂ〕（58mg，4.30×10-4mol)から無色油状物とし
て、目的物〔ＩＩＩｂ〕（44mg, 65%)を得た。 ＮＭＲ（CDCl3)δ(ppm) ： α：β＝３：１ α体 1.12 (3H,d,J=6.8Hz), 1.19-1.53 (6H,m), 1.72-2.00
(4H,m), 1.99, 2.00, 2.15, 2.16 (6H,each s), 3.54-
3.67 (3H,m), 4.14 (1H,dd,J=7.0,13.7Hz), 5.08(1H,d,
J=3.0Hz), 5.12 (1H,d,J=3.0Hz), 5.28-5.35 (1H,m)
-4mol)及びシクロヘキシルアルコール (22.4μｌ, 4.30
×10-4mol)を用い、実施例１と同様の操作を行い、２−
デオキシ−３，４−ジ−Ｏ−アセチル−フコピラノシド
〔Ｉｂ〕（58mg，4.30×10-4mol)から無色油状物とし
て、目的物〔ＩＩＩｂ〕（44mg, 65%)を得た。 ＮＭＲ（CDCl3)δ(ppm) ： α：β＝３：１ α体 1.12 (3H,d,J=6.8Hz), 1.19-1.53 (6H,m), 1.72-2.00
(4H,m), 1.99, 2.00, 2.15, 2.16 (6H,each s), 3.54-
3.67 (3H,m), 4.14 (1H,dd,J=7.0,13.7Hz), 5.08(1H,d,
J=3.0Hz), 5.12 (1H,d,J=3.0Hz), 5.28-5.35 (1H,m)
【００４０】実施例３ ベンジル ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−
α，β−ガラクトピラノシド〔ＩＩＩｃ〕の合成
α，β−ガラクトピラノシド〔ＩＩＩｃ〕の合成
【化１２】 ＮＣＳ（49mg，3.70×10-4mol), SnCl2(70mg, 3.70×10
-4mol)及びベンジルアルコール (19.1μｌ, 3.70×10-4
mol)を用い、実施例１と同様の操作を行い、２，３，
４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−ガラクトピラノシド
〔Ｉｃ〕(100mg，1.85×10-4mol)から無色油状物とし
て、目的物〔ＩＩＩｃ〕（133mg, 50%) を得た。 ＮＭＲ（CDCl3)δ(ppm) ： α：β＝１：４ β体 2.04-3.63 (2H,m), 4.42 (1H,d,J=7.8Hz), 3.86-4.97
(14H,m), 7.24-7.40 (25H,m)
-4mol)及びベンジルアルコール (19.1μｌ, 3.70×10-4
mol)を用い、実施例１と同様の操作を行い、２，３，
４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−ガラクトピラノシド
〔Ｉｃ〕(100mg，1.85×10-4mol)から無色油状物とし
て、目的物〔ＩＩＩｃ〕（133mg, 50%) を得た。 ＮＭＲ（CDCl3)δ(ppm) ： α：β＝１：４ β体 2.04-3.63 (2H,m), 4.42 (1H,d,J=7.8Hz), 3.86-4.97
(14H,m), 7.24-7.40 (25H,m)
【００４１】実施例４ 実施例１と同様の方法により、以下のグリコシル化合物
を得た。
を得た。
【００４２】
【化１３】
【００４３】
【化１４】
【００４４】
【化１５】
【００４５】
【化１６】
【００４６】
【化１７】
【００４７】
【化１８】
【００４８】
【化１９】
【００４９】実施例１ないし４のグリコシル化条件及び
収率を表１に記載する。
収率を表１に記載する。
【００５０】
【表１】 表中、C6H11OH はシクロヘキサノ−ルを、BnOHはベンジ
ルアルコ−ルを、Sn(OTf)2はトリフルオロメタンスルホ
ン酸第一スズを、p-MeOPhSH はパラメトキシチオフェノ
ールを表す。
ルアルコ−ルを、Sn(OTf)2はトリフルオロメタンスルホ
ン酸第一スズを、p-MeOPhSH はパラメトキシチオフェノ
ールを表す。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｈ 15/14 15/20 15/26 // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００
Claims (1)
- 【請求項１】 １位以外の官能基が保護された１−ヒド
ロキシ糖と、ヒドロキシ化合物またはメルカプト化合物
を２価スズ化合物とＮ−ハロイミド化合物の存在下に反
応させて、グリコシル化合物を製造する方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5177461A JPH0710895A (ja) | 1993-06-23 | 1993-06-23 | グリコシル化合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5177461A JPH0710895A (ja) | 1993-06-23 | 1993-06-23 | グリコシル化合物の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0710895A true JPH0710895A (ja) | 1995-01-13 |
Family
ID=16031344
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5177461A Pending JPH0710895A (ja) | 1993-06-23 | 1993-06-23 | グリコシル化合物の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0710895A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6818677B1 (en) | 2000-04-21 | 2004-11-16 | Toagosei Co., Ltd. | Process for producing water-soluble polymer |
-
1993
- 1993-06-23 JP JP5177461A patent/JPH0710895A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6818677B1 (en) | 2000-04-21 | 2004-11-16 | Toagosei Co., Ltd. | Process for producing water-soluble polymer |
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