JPH07109655B2 - 光学式ディスク基板及び該基板を用いた光学式情報記録媒体 - Google Patents
光学式ディスク基板及び該基板を用いた光学式情報記録媒体Info
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- JPH07109655B2 JPH07109655B2 JP2012510A JP1251090A JPH07109655B2 JP H07109655 B2 JPH07109655 B2 JP H07109655B2 JP 2012510 A JP2012510 A JP 2012510A JP 1251090 A JP1251090 A JP 1251090A JP H07109655 B2 JPH07109655 B2 JP H07109655B2
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- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、異物量を低減した光学式ディスク基板及び光
学式情報記録媒体に関し、特に粒系1.1μｍ以下の異物
の量を低減させた光学式ディスク基板及びこの光学式デ
ィスク基板を用いた光学式情報記録媒体に関する。
学式情報記録媒体に関し、特に粒系1.1μｍ以下の異物
の量を低減させた光学式ディスク基板及びこの光学式デ
ィスク基板を用いた光学式情報記録媒体に関する。
［従来の技術］ オーディオディスク、レーザディスク、光ディスクメモ
リあるいは光磁気ディスク等のレーザ光を利用して情報
の記録及び／または再生を行なう記録媒体たる光学式情
報記録媒体にあっては、ポリカーボネート、ポリメタク
リル酸メチル、ガラス等からなる透明基板、すなわち光
学式ディスク基板中に含まれる異物（塵埃や炭化物等）
が、情報の記録及び／または再生の信頼性に対して大き
な影響を与えることが知られている。
リあるいは光磁気ディスク等のレーザ光を利用して情報
の記録及び／または再生を行なう記録媒体たる光学式情
報記録媒体にあっては、ポリカーボネート、ポリメタク
リル酸メチル、ガラス等からなる透明基板、すなわち光
学式ディスク基板中に含まれる異物（塵埃や炭化物等）
が、情報の記録及び／または再生の信頼性に対して大き
な影響を与えることが知られている。
これに関し、原料中の異物を原料の精製過程や造粒過程
等においてフィルタで濾過するなどして異物の低減化を
図る技術が提案されている（特開昭61-90345号，特開昭
63-91231号等）。そして、これらにおいては、0.5μｍ
または１μｍ以上の粒径からなる異物の、原料1g当りに
占める個数が記録再生特性の性能、例えば、エラー率
（ビットエラー率:BER）に関係することが示されてい
る。
等においてフィルタで濾過するなどして異物の低減化を
図る技術が提案されている（特開昭61-90345号，特開昭
63-91231号等）。そして、これらにおいては、0.5μｍ
または１μｍ以上の粒径からなる異物の、原料1g当りに
占める個数が記録再生特性の性能、例えば、エラー率
（ビットエラー率:BER）に関係することが示されてい
る。
しかし、これらは異物の粒径との関係が不明瞭であり、
必ずしも適正な評価方法とはいえず、BERの低減を完全
に果たせるものではなかった。
必ずしも適正な評価方法とはいえず、BERの低減を完全
に果たせるものではなかった。
そこで、本出願人は、このような問題点を解決するもの
として、異物強度の概念を採用し、同異物強度を一定水
準以下とすることにより、光学式ディスク基板の評価を
実際に則して定量的に行なえるようにし、基板中の異物
に起因するBER等の記録再生特性の低下防止を図った光
学式ディスク基板、及びこの光学式ディスク基板を用い
た光学式情報記録媒体に関する出願を先に行なっている
（特願平1-9993号）。
として、異物強度の概念を採用し、同異物強度を一定水
準以下とすることにより、光学式ディスク基板の評価を
実際に則して定量的に行なえるようにし、基板中の異物
に起因するBER等の記録再生特性の低下防止を図った光
学式ディスク基板、及びこの光学式ディスク基板を用い
た光学式情報記録媒体に関する出願を先に行なっている
（特願平1-9993号）。
［発明が解決しようとする課題］ しかしながら、上述した従来の光学式ディスク基板及び
光学式情報記録媒体は、製造時におけるBERの低減等に
関しては十分な成果をあげているものの、高温高湿環境
下に長時間放置した場合におけるBERの低減については
改良の余地が残っていた。
光学式情報記録媒体は、製造時におけるBERの低減等に
関しては十分な成果をあげているものの、高温高湿環境
下に長時間放置した場合におけるBERの低減については
改良の余地が残っていた。
本発明は上記事情にかんがみてなされたもので、高温高
湿環境下に長時間放置されても、情報記録再生特性の低
下等を生ずることがなく、したがって、長時間（10年以
上）にわたって高い信頼性を維持する光学式ディスク基
板及び光学式情報記録媒体の提供を目的とする。
湿環境下に長時間放置されても、情報記録再生特性の低
下等を生ずることがなく、したがって、長時間（10年以
上）にわたって高い信頼性を維持する光学式ディスク基
板及び光学式情報記録媒体の提供を目的とする。
本発明者等は上記目的を達成するために鋭意研究を重ね
た結果、高温高湿環境下に長時間放置した際にBERの高
くなる原因が、ディスク基板中に存在するサブミクロン
サイズの異物が核となり、これらの異物が吸湿により加
水分解を引き起こし、数ミクロンから数十ミクロンサイ
ズの偏光性欠陥を発生させることにあることを見い出し
た。
た結果、高温高湿環境下に長時間放置した際にBERの高
くなる原因が、ディスク基板中に存在するサブミクロン
サイズの異物が核となり、これらの異物が吸湿により加
水分解を引き起こし、数ミクロンから数十ミクロンサイ
ズの偏光性欠陥を発生させることにあることを見い出し
た。
そして、光ディスク基板中の粒径1.1μｍ以下の異物の
異物強度を一定値以下とし、好ましくは同光ディスク基
板に脂肪酸モノグリセリド等の添加剤（滑剤）を含有さ
せると、高湿高温条件下における偏光性欠陥の発生を大
幅に抑制できることを知見し本発明を完成するに至っ
た。
異物強度を一定値以下とし、好ましくは同光ディスク基
板に脂肪酸モノグリセリド等の添加剤（滑剤）を含有さ
せると、高湿高温条件下における偏光性欠陥の発生を大
幅に抑制できることを知見し本発明を完成するに至っ
た。
［課題を解決するための手段］ すなわち、本発明の光学式ディスク基板は、粒径1.1μ
ｍ以下の異物の異物強度が10000μm2/g以下となる構成
としてあり、好ましくは、同光学式ディスク基板が粘度
平均分子量10000〜22000のポリカーボネート系樹脂から
なる構成としてあり、さらに好ましくは、同光学式ディ
スク基板が炭素数14〜30の脂肪酸のモノグリセリドまた
は蜜蝋を0.002〜５重量％含有する構成としてある。
ｍ以下の異物の異物強度が10000μm2/g以下となる構成
としてあり、好ましくは、同光学式ディスク基板が粘度
平均分子量10000〜22000のポリカーボネート系樹脂から
なる構成としてあり、さらに好ましくは、同光学式ディ
スク基板が炭素数14〜30の脂肪酸のモノグリセリドまた
は蜜蝋を0.002〜５重量％含有する構成としてある。
また、本発明の光学式情報記録媒体は、上述した光学式
ディスク基板のいずれか一に情報記録層を形成した構成
としてある。
ディスク基板のいずれか一に情報記録層を形成した構成
としてある。
本発明の光学式ディスク基板においては、同基板に含ま
れている異物量の評価方法として、異物強度なる概念を
採用している。
れている異物量の評価方法として、異物強度なる概念を
採用している。
ここで、「異物強度」とは、粒径が0.5μｍ以上の大き
さからなる単位重量当りの異物の、各々の粒径の平方と
個数との積の和である。異物は、評価すべき材料（原料
または基板等）を大過剰の有機溶媒（特に塩化メチレ
ン）に溶解した溶液中に検出されるものである。異物強
度は、式 Ｉ＝Σ｛［1/2（di＋di+1）］２ ×（ni−ni′）｝÷Ｗ で表わされる。
さからなる単位重量当りの異物の、各々の粒径の平方と
個数との積の和である。異物は、評価すべき材料（原料
または基板等）を大過剰の有機溶媒（特に塩化メチレ
ン）に溶解した溶液中に検出されるものである。異物強
度は、式 Ｉ＝Σ｛［1/2（di＋di+1）］２ ×（ni−ni′）｝÷Ｗ で表わされる。
式中、Ｉは異物強度であり、diは第ｉ番目の粒径区分値
（μｍ）であり、niは粒径di+1未満及び粒径di以上であ
って溶液中に検出される異物の個数であり、ni′は使用
前の溶液に含まれている異物の個数であり、そしてＷは
材料の重量（ｇ）である。
（μｍ）であり、niは粒径di+1未満及び粒径di以上であ
って溶液中に検出される異物の個数であり、ni′は使用
前の溶液に含まれている異物の個数であり、そしてＷは
材料の重量（ｇ）である。
粒径区分値設定の一例を示せば、次のとおりである。
d1＝0.5（μｍ） d6＝ 5.0（μｍ） d2＝0.6（μｍ） d7＝10.0（μｍ） d3＝0.7（μｍ） d8＝20.0（μｍ） d4＝1.1（μｍ） d9＝25.0（μｍ） d5＝2.5（μｍ） 粒径が25.0μｍを越える大きさの異物が検出される場合
には、適当な数値のd10、d11等を用いる。
には、適当な数値のd10、d11等を用いる。
上記粒径区分値設定例において、「1.1μｍ以下の異物
の異物強度」といった場合d1〜d4を用いて計算された異
物強度の値を示す。
の異物強度」といった場合d1〜d4を用いて計算された異
物強度の値を示す。
なお、各粒径区分における異物濃度の測定装置として
は、液体微粒子カウンター（HIAC-ROYCO社製）等が用い
られる。
は、液体微粒子カウンター（HIAC-ROYCO社製）等が用い
られる。
本明細書で「異物」とは、本来的には光学式ディスク基
板に種々の経由から入りこむ汚染物質、例えば不純物、
ダストまたは原料樹脂の炭化物等を意味する。また、塩
化メチレン不溶成分である“異物”から算出した前記の
異物強度を用いて光学式ディスク基板のビットエラー率
を正確に評価することができる。
板に種々の経由から入りこむ汚染物質、例えば不純物、
ダストまたは原料樹脂の炭化物等を意味する。また、塩
化メチレン不溶成分である“異物”から算出した前記の
異物強度を用いて光学式ディスク基板のビットエラー率
を正確に評価することができる。
本発明によれば、光学式情報記録媒体に用いるディスク
基板として十分信頼性を得るためには、粒径1.1μｍ以
下の異物の異物強度を10000μm2/g以下にする必要があ
る。粒径1.1μｍ以下の異物の異物強度が10000μm2/gを
越えると、そのディスク基板を含む情報記録媒体では、
異物が高温高湿条件下で吸湿により偏光性欠陥を発生さ
せビットエラーを引き起こし、光学式ディスク基板の信
頼性を低下させる。
基板として十分信頼性を得るためには、粒径1.1μｍ以
下の異物の異物強度を10000μm2/g以下にする必要があ
る。粒径1.1μｍ以下の異物の異物強度が10000μm2/gを
越えると、そのディスク基板を含む情報記録媒体では、
異物が高温高湿条件下で吸湿により偏光性欠陥を発生さ
せビットエラーを引き起こし、光学式ディスク基板の信
頼性を低下させる。
なお、粒径1.1μｍ以下の異物の異物強度は、9500μm2/
g以下とすることがより十分な信頼性を得るうえで好ま
しい。また、粒径0.5〜25μｍの異物の異物強度を１×1
05 μm2/g以下とすることが好ましい。
g以下とすることがより十分な信頼性を得るうえで好ま
しい。また、粒径0.5〜25μｍの異物の異物強度を１×1
05 μm2/g以下とすることが好ましい。
粒径0.5〜25μｍの異物の異物強度が１×105 μm2/gを
越えると、そのディスク基板を含む情報記録媒体では、
異物が確実にビットエラーを引き起こし光学式ディスク
基板の信頼性を低下させる。
越えると、そのディスク基板を含む情報記録媒体では、
異物が確実にビットエラーを引き起こし光学式ディスク
基板の信頼性を低下させる。
本発明の光学式ディスク基板に用いられる原料樹脂とし
ては、透明性等の光学特性及び成形性に優れた樹脂であ
れば、特に制限されることなく用いることができる。例
えば、ポリカーボネート樹脂、アクリル系樹脂、非晶性
ポリオレフィン等を用いることができる。耐熱性、強
度、およびコストの点からポリカーボネート系樹脂を用
いるのが好ましい。
ては、透明性等の光学特性及び成形性に優れた樹脂であ
れば、特に制限されることなく用いることができる。例
えば、ポリカーボネート樹脂、アクリル系樹脂、非晶性
ポリオレフィン等を用いることができる。耐熱性、強
度、およびコストの点からポリカーボネート系樹脂を用
いるのが好ましい。
ここでポリカーボネート系樹脂としては、特に制限はな
く、例えば、粘度平均分子量が10000〜22000、好ましく
は12000〜20000のものであり、二価フェノールとホスゲ
ンまたはジフェニルカーボネートのような炭酸エステル
との反応により製造されるものである。二価フェノール
類としては、ハイドロキノン、4,4′−ジオキシフェニ
ル、ビス（ヒドロキシフェニル）アルカン、ビス（ヒド
ロキシフェニル）シクロアルカン，ビス（ヒドロキシフ
ェニル）エーテル、ビス（ヒドロキシフェニル）ケト
ン、ビス（ヒドロキシフェニル）スルフィド、ビス（ヒ
ドロキシフェニル）スルホン、及びこれらの低級アルキ
ル、ハロゲン等の置換体をあげることができるが、2,
2′−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（以
下、ビスフェノールＡという）、1,1−ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）エタン、2,2−ビス（４−ヒドロキシ
フェニル）−ヘキサフルオロプロパン等を使用すること
が好ましい。
く、例えば、粘度平均分子量が10000〜22000、好ましく
は12000〜20000のものであり、二価フェノールとホスゲ
ンまたはジフェニルカーボネートのような炭酸エステル
との反応により製造されるものである。二価フェノール
類としては、ハイドロキノン、4,4′−ジオキシフェニ
ル、ビス（ヒドロキシフェニル）アルカン、ビス（ヒド
ロキシフェニル）シクロアルカン，ビス（ヒドロキシフ
ェニル）エーテル、ビス（ヒドロキシフェニル）ケト
ン、ビス（ヒドロキシフェニル）スルフィド、ビス（ヒ
ドロキシフェニル）スルホン、及びこれらの低級アルキ
ル、ハロゲン等の置換体をあげることができるが、2,
2′−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（以
下、ビスフェノールＡという）、1,1−ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）エタン、2,2−ビス（４−ヒドロキシ
フェニル）−ヘキサフルオロプロパン等を使用すること
が好ましい。
またこれらの二価フェノールは、単体で、あるいは混合
して使用することもできる。
して使用することもできる。
さらに本発明で使用されるポリカーボネートとしては、
一部分枝構造のものであってもよい。
一部分枝構造のものであってもよい。
粘度平均分子量10000〜22000の制御は、ポリカーボネー
トの製造時に、ｐ−ｔ−ブチルフェノールのような末端
停止剤の添加により行なうことができる。粘度平均分子
量が10000未満であるとディスク基板の強度が実用に耐
えられなくなり、22000を越えると成形性または光学的
特性の点で十分な性能を有するディスク基板を得られな
い。
トの製造時に、ｐ−ｔ−ブチルフェノールのような末端
停止剤の添加により行なうことができる。粘度平均分子
量が10000未満であるとディスク基板の強度が実用に耐
えられなくなり、22000を越えると成形性または光学的
特性の点で十分な性能を有するディスク基板を得られな
い。
なお、粘度平均分子量［Mv］は、20℃の塩化メチレン溶
液中のポリカーボネート樹脂の比粘度ηspを測定し、式 ηsp/C＝［η］（１＋0.28ηsp） ［ここでＣはポリカーボネート樹脂濃度（g/l）であ
る］ 及び ［η］＝1.23×10-5Mv 0.83 によって算出することができる。
液中のポリカーボネート樹脂の比粘度ηspを測定し、式 ηsp/C＝［η］（１＋0.28ηsp） ［ここでＣはポリカーボネート樹脂濃度（g/l）であ
る］ 及び ［η］＝1.23×10-5Mv 0.83 によって算出することができる。
射出成形に用いる原料ポリカーボネートは、従来公知の
方法により製造した後、溶液状態において濾過処理をし
たり、粒状の原料を、例えば加熱条件下でアセトンなど
の貧溶媒で洗浄したりして低分子量成分や未反応成分な
どの不純物や異物を除去することが好ましい。いずれに
しても、射出成形前の原料は、異物，不純物，溶媒など
の含有量を極力低くしておくことが必要である。
方法により製造した後、溶液状態において濾過処理をし
たり、粒状の原料を、例えば加熱条件下でアセトンなど
の貧溶媒で洗浄したりして低分子量成分や未反応成分な
どの不純物や異物を除去することが好ましい。いずれに
しても、射出成形前の原料は、異物，不純物，溶媒など
の含有量を極力低くしておくことが必要である。
また、必要により、例えばリン系等の酸化防止剤などの
添加剤を加えることも可能である。
添加剤を加えることも可能である。
ポリカーボネート系以外の樹脂としては、アクリル系樹
脂、例えばポリメタクリル酸メチル、メタクリル酸メチ
ルと他のメタクリル酸エステル，アクリル酸エステルま
たはスチレン系モノマーなどとの共重合体、あるいは非
晶性ポリオレフィン（例えば、エチレンとシクロオレフ
ィン類とのランダム共重合体）などを用いることができ
る。
脂、例えばポリメタクリル酸メチル、メタクリル酸メチ
ルと他のメタクリル酸エステル，アクリル酸エステルま
たはスチレン系モノマーなどとの共重合体、あるいは非
晶性ポリオレフィン（例えば、エチレンとシクロオレフ
ィン類とのランダム共重合体）などを用いることができ
る。
本発明の光学式ディスク基板においては、原料樹脂であ
るポリカーボネート樹脂中に、炭素数14〜30、好ましく
は炭素数16〜24の脂肪酸のモノグリセリドまたは蜜蝋を
0.002〜５重量％、より好ましくは0.005〜0.3重量％含
有すると、その理由は明らかではないが偏光性欠陥発生
が抑制される。
るポリカーボネート樹脂中に、炭素数14〜30、好ましく
は炭素数16〜24の脂肪酸のモノグリセリドまたは蜜蝋を
0.002〜５重量％、より好ましくは0.005〜0.3重量％含
有すると、その理由は明らかではないが偏光性欠陥発生
が抑制される。
上記脂肪酸モノグリセリドとしては、飽和一価脂肪酸モ
ノグリセリドで、ステアリン酸モノグリセリド、ベヘン
酸モノグリセリドなどや、これらの混合物を例示でき
る。
ノグリセリドで、ステアリン酸モノグリセリド、ベヘン
酸モノグリセリドなどや、これらの混合物を例示でき
る。
上記蜜蝋としては、紺印晒蜜蝋（日興ファインプロダク
ツ（株）社製）等が挙げられる。
ツ（株）社製）等が挙げられる。
なお、蜜蝋とは、蜜蜂の下腹部にある８本のろう線から
分泌されるもので、巣づくりの材料となるものである。
また、その主成分は脂肪酸のエステルである。
分泌されるもので、巣づくりの材料となるものである。
また、その主成分は脂肪酸のエステルである。
本発明の光学式ディスク基板は射出成形して製造するこ
とが好ましく、射出成形時における樹脂温度は300〜400
℃とし、金型温度は通常50〜140℃、好ましくは80〜130
℃とする。さらに、この射出成形時における金属成分の
混入が少なくなるような材質の選定等を行なうことが好
ましい。
とが好ましく、射出成形時における樹脂温度は300〜400
℃とし、金型温度は通常50〜140℃、好ましくは80〜130
℃とする。さらに、この射出成形時における金属成分の
混入が少なくなるような材質の選定等を行なうことが好
ましい。
なお、金型表面温度のみを高周波等を用いてガラス転移
温度以上に加熱し、樹脂射出後にディスク基板取出可能
温度まで冷却するようにしてもよい。このようにする
と、より光学的特性に優れた基板を得ることができる。
温度以上に加熱し、樹脂射出後にディスク基板取出可能
温度まで冷却するようにしてもよい。このようにする
と、より光学的特性に優れた基板を得ることができる。
次に本発明の光学式情報記録媒体は、上述した光学式デ
ィスク基板に公知の情報記録層等を形成することにより
得ることができる。
ィスク基板に公知の情報記録層等を形成することにより
得ることができる。
例えば、本発明の情報記録媒体の具体例を示せば第１図
（ａ），（ｂ）のようになる。
（ａ），（ｂ）のようになる。
ここで、第１図（ａ）は両面記録構造の情報記録媒体の
例を示すものであり、同図において、１はポリカーボネ
ート樹脂からなる光学式ディスク基板である。２は情報
記録層であり、Fe、Co等の遷移金属とTb、Gd、Nd、Dy等
の希土類を組み合わせてなる材料（例えばGd−Fe−C
o系、Tb−Fe−Co系の材料）が蒸着、スパッタリング等
の手段により通常300〜1000Å程度の厚みに形成され
る。３は記録層２を保護するための保護層であり、シリ
コン系セラミックス等を用いている。４は接着層であ
り、熱硬化性樹脂等を用い通常40〜60μｍ程度の厚みに
形成される。
例を示すものであり、同図において、１はポリカーボネ
ート樹脂からなる光学式ディスク基板である。２は情報
記録層であり、Fe、Co等の遷移金属とTb、Gd、Nd、Dy等
の希土類を組み合わせてなる材料（例えばGd−Fe−C
o系、Tb−Fe−Co系の材料）が蒸着、スパッタリング等
の手段により通常300〜1000Å程度の厚みに形成され
る。３は記録層２を保護するための保護層であり、シリ
コン系セラミックス等を用いている。４は接着層であ
り、熱硬化性樹脂等を用い通常40〜60μｍ程度の厚みに
形成される。
第１図（ｂ）は片面記録構造の情報記録媒体の例を示す
ものである。ここで、光学式ディスク基板1a、情報記録
層２、記録層２を保護するための保護層３は、第１図
（ａ）に示すものと同様である。４′はオーバーコート
層であり、紫外線硬化樹脂等を用い、通常10〜20μｍ程
度の厚みに形成される。
ものである。ここで、光学式ディスク基板1a、情報記録
層２、記録層２を保護するための保護層３は、第１図
（ａ）に示すものと同様である。４′はオーバーコート
層であり、紫外線硬化樹脂等を用い、通常10〜20μｍ程
度の厚みに形成される。
このようにして、光学式ディスク基板に情報記録層を形
成した光学式情報記録媒体は、主に追記型、書換え型と
して用いられる。
成した光学式情報記録媒体は、主に追記型、書換え型と
して用いられる。
なお、情報記録層としては、前記光磁気タイプのものに
限らず、レーザ光などにより記録可能なものであれば有
機系記録層（例えば、フタロシアニンやテトラカルボニ
ルシアニン）等であってもよい。
限らず、レーザ光などにより記録可能なものであれば有
機系記録層（例えば、フタロシアニンやテトラカルボニ
ルシアニン）等であってもよい。
［実施例］ 以下、実施例にもとづき本発明を詳細に説明するが、本
発明は、何らこれに限定されるものではない。
発明は、何らこれに限定されるものではない。
光学式ディスク基板の製造 第１表に示す粘度平均分子量［Mv］、異物強度を有する
ポリカーボネート樹脂に、同表に示す量の脂肪酸モノグ
リセリドまたは蜜蝋を添加したものを原料として用い
た。そして成形温度335℃、金型温度118℃で成形を行な
い、基板サイズ（直径）130mmφ、厚み1.2mmの光学式デ
ィスク基板を製造した（実施例１〜７及び比較例１〜
４）。
ポリカーボネート樹脂に、同表に示す量の脂肪酸モノグ
リセリドまたは蜜蝋を添加したものを原料として用い
た。そして成形温度335℃、金型温度118℃で成形を行な
い、基板サイズ（直径）130mmφ、厚み1.2mmの光学式デ
ィスク基板を製造した（実施例１〜７及び比較例１〜
４）。
なお、脂肪酸モノグリセリドとしては、ベヘン酸モノグ
リセリドを用い、蜜蝋としては、紺印晒蜜蝋（日興ファ
インプロダクツ（株）社製）を用いた。
リセリドを用い、蜜蝋としては、紺印晒蜜蝋（日興ファ
インプロダクツ（株）社製）を用いた。
加速劣化試験 温度80℃、湿度90％RHの高温高湿条件下に、上記実施例
１〜７及び比較例１〜４で得られた光学式ディスク基板
（各10枚）2000時間放置して、加速劣化試験を行なっ
た。
１〜７及び比較例１〜４で得られた光学式ディスク基板
（各10枚）2000時間放置して、加速劣化試験を行なっ
た。
次に、光学顕微鏡を透過偏光モードとし、かつクロスニ
コル状態として、光学式ディスク基板中の偏光性欠陥の
数を検出し、１枚当りの平均値を算出した。
コル状態として、光学式ディスク基板中の偏光性欠陥の
数を検出し、１枚当りの平均値を算出した。
その結果を第１表に示す。
光学式情報記録媒体の製造 上記した実施例１〜７及び比較例１〜４で得られたディ
スク基板に、スパッタリングにより、厚さ800ÅのTb−F
e−Co系層（記録層）、厚さ800Åのシリコン系セラミッ
クス層（保護層）、厚さ15μｍの紫外線硬化樹脂層（オ
ーバーコート層）を形成し、片面記録構造の光学式情報
記録媒体を製造した。
スク基板に、スパッタリングにより、厚さ800ÅのTb−F
e−Co系層（記録層）、厚さ800Åのシリコン系セラミッ
クス層（保護層）、厚さ15μｍの紫外線硬化樹脂層（オ
ーバーコート層）を形成し、片面記録構造の光学式情報
記録媒体を製造した。
加速劣化試験 上記で得られた光学式情報記録媒体のビットエラーレー
トの初期値BER0を測定した後、上述したディスク基板の
加速劣化試験と同一条件で加速劣化試験を2000時間行な
い、その後のビットエラーレートの値BER2000を測定し
た。その結果を第１表に示す。
トの初期値BER0を測定した後、上述したディスク基板の
加速劣化試験と同一条件で加速劣化試験を2000時間行な
い、その後のビットエラーレートの値BER2000を測定し
た。その結果を第１表に示す。
第１表から明らかなように、粒径1.1μｍ以下の異物の
異物強度が10000μm2/g以下の光学式ディスク基板及び
光学式情報記録媒体は、異物強度が10000μm2/gを越え
るものに比べ、偏光性欠陥の発生数が少なく、BERの増
加も低い。
異物強度が10000μm2/g以下の光学式ディスク基板及び
光学式情報記録媒体は、異物強度が10000μm2/gを越え
るものに比べ、偏光性欠陥の発生数が少なく、BERの増
加も低い。
また、脂肪酸モノグリセリドを添加したものまたは蜜蝋
を添加したものは、添加しないものに比べ偏光性欠陥の
発生数が少なくBERの増加も低い。
を添加したものは、添加しないものに比べ偏光性欠陥の
発生数が少なくBERの増加も低い。
なお、上記実施例においては、光学式ディスク基板等に
ついて説明したが、本発明にいう光学式ディスク基板及
び光学式情報記録媒体とは、レーザー光を利用して情報
の再生、追記、書換えを行なう基板及び記録媒体を意味
し、例えば光カード等も含まれる。
ついて説明したが、本発明にいう光学式ディスク基板及
び光学式情報記録媒体とは、レーザー光を利用して情報
の再生、追記、書換えを行なう基板及び記録媒体を意味
し、例えば光カード等も含まれる。
［発明の効果］ 以上説明したように、本発明によれば、粒径1.1μｍ以
下の異物の異物強度を10000μm2/g以下としたので、高
温高湿条件下にあっても偏光性欠陥を生ずることなく、
信頼性の高い光学式ディスク基板を得ることができる。
下の異物の異物強度を10000μm2/g以下としたので、高
温高湿条件下にあっても偏光性欠陥を生ずることなく、
信頼性の高い光学式ディスク基板を得ることができる。
また、高温高湿条件下にあっても偏光性欠陥を生ずるこ
とがないので、ビットエラー率（BER）の増加が抑制さ
れ、したがって耐高温高湿特性に優れ、耐用年数が長
く、信頼性の高い光学式情報記録媒体を得ることができ
る。
とがないので、ビットエラー率（BER）の増加が抑制さ
れ、したがって耐高温高湿特性に優れ、耐用年数が長
く、信頼性の高い光学式情報記録媒体を得ることができ
る。
第１図（ａ）は本発明の光学式情報記録媒体における両
面記録構造の一具体例を示す構成図、第１図（ｂ）は同
じく片面記録構造の一具体例を示す構成図である。 1:光学式ディスク基板、2:情報記録層 3:保護層 4:接着槽 ４′：オーバーコート層
面記録構造の一具体例を示す構成図、第１図（ｂ）は同
じく片面記録構造の一具体例を示す構成図である。 1:光学式ディスク基板、2:情報記録層 3:保護層 4:接着槽 ４′：オーバーコート層
Claims (4)
- 【請求項１】粒径1.1μｍ以下の異物の異物強度が、100
00μm2/g以下であることを特徴とした光学式ディスク基
板。 - 【請求項２】粘度平均分子量が、10000〜22000のポリカ
ーボネート系樹脂からなることを特徴とした請求項１記
載の光学式ディスク基板。 - 【請求項３】炭素数14〜30の脂肪酸のモノグリセリドま
たは蜜蝋を0.002〜５重量％含有することを特徴とした
請求項１または２記載の光学式ディスク基板。 - 【請求項４】請求項1,2または３記載の光学式ディスク
基板と、その上に担持された情報記録層とからなること
を特徴とする光学式情報記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2012510A JPH07109655B2 (ja) | 1990-01-24 | 1990-01-24 | 光学式ディスク基板及び該基板を用いた光学式情報記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2012510A JPH07109655B2 (ja) | 1990-01-24 | 1990-01-24 | 光学式ディスク基板及び該基板を用いた光学式情報記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03217801A JPH03217801A (ja) | 1991-09-25 |
| JPH07109655B2 true JPH07109655B2 (ja) | 1995-11-22 |
Family
ID=11807344
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2012510A Expired - Lifetime JPH07109655B2 (ja) | 1990-01-24 | 1990-01-24 | 光学式ディスク基板及び該基板を用いた光学式情報記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07109655B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19859050A1 (de) | 1998-12-21 | 2000-06-29 | Bayer Ag | Neue Polymergemische mit Entformungsmitteln |
| JP2008308606A (ja) * | 2007-06-15 | 2008-12-25 | Sumitomo Dow Ltd | 摺動性に優れたポリカーボネート樹脂組成物およびそれからなる成形品 |
-
1990
- 1990-01-24 JP JP2012510A patent/JPH07109655B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03217801A (ja) | 1991-09-25 |
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